CN101576625A - 匀光薄膜及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明是一种匀光薄膜及其制作方法，其是在一透明基材上，形成胶体层，再利用表面具有凸纹/凹纹的模板对胶体层进行滚压，以使胶体层表面具有凹纹/凸纹，最后利用固化过程使胶体层硬化，以形成一表面具有凹纹/凸纹的粗糙层，来使匀光薄膜能达到聚光与匀光效果并减少光线的散逸。再者，利用模板压纹更可使凹纹/凸纹粗糙层的膜厚与纹路达到可再现性，有利于量产。
Description
技术领域
本发明涉及一种匀光薄膜及其制作方法，特别是指一种无须使用散射粒子的匀光薄膜及其制作方法。
背景技术
匀光薄膜的功用是用来使通过的光线形成漫射来达到光线的均匀分布。现有的匀光薄膜结构是如同图1所示，主要是在透明基材10上涂布一添加有散射粒子12的树脂层，并可利用滚筒对树脂层进行滚压，以形成特定凸纹，接续再通过烘烤使树脂层挥发或者硬化，以形成一粗糙层14。光线在经过匀光薄膜时，会在粗糙层14内不断地在散射粒子与树脂间的两个折射率不同的介质中进行许多次折射、反射与散射，来产生光线均匀分布的效果。但是流质状态的树脂层物质与固态物质的散射粒子在混炼过程上，固态物质在流质状态中分布的单位密度控制极为不易，此外，涂布过程的取料、流质的流动状态、速度等都会影响散射粒子的分布状态，因此使得整个匀光薄膜的不可预测因素过多，造成整体厚度不均匀，与散射粒子分布不均，造成光线在粗糙层14中折射、反射与散射的匀光效果不易控制，因此形成量产上与使用上的瓶颈。
此外，现有的匀光薄膜的粗糙层都为凸纹，这样的虽可增加匀光薄膜表面的粗糙度，但却无法提高光线的聚光能力，而造成光线亮度上的损耗。
有鉴于此，本发明遂针对上述现有技术的缺失，提出一种匀光薄膜及其制作方法，以有效克服上述的所述的问题。
发明内容
本发明的一个主要目的在提供一种匀光薄膜及其制作方法，其是在匀光薄膜的粗糙层表面上形成规则或不规则排列的凹纹，如此达到聚光以及增加表面粗糙度的功效。
本发明的另一目的在提供一种匀光薄膜及其制作方法，其无须使用散射粒子。
本发明的再一目的在提供一种匀光薄膜及其制作方法，其利用模板压纹的方式来形成规则或不规则排列的凹纹/凸纹粗糙层，以达到可维持凹纹/凸纹粗糙度性能的再现性，而可进行量产。
本发明的又一目的在提供一种匀光薄膜及其制作方法，其是在匀光薄膜的入光、出光粗糙层表面上各形成规则或不规则排列的凹纹、凸纹，如此达到聚光以及增加表面粗糙度的功效。
为实现上述目的，本发明采用的技术方案包括：
一种匀光薄膜，其特征包含：
一透明基材；以及
一粗糙层，其位于所述的透明基材的表面上，所述的粗糙层的表面具有凹纹。
其中：所述的透明基材的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯。
其中：所述的凹纹粗糙层的材质为热固型树脂。
其中：所述的凹纹粗糙层的凹纹是利用一表面具有凸纹的模板压印而成。
其中：所述的模板上的凸纹是利用粒子堆叠而成。
其中：所述的模板上的凸纹和粗糙层的凹纹的尺寸为微米或纳米级。
其中：所述的透明基材的另一表面上还设有另一粗糙层，所述的粗糙层的表面具有凸纹。
为实现上述目的，本发明采用的技术方案还包括：
一种匀光薄膜的制作方法，其特征是包含下列步骤：
提供一透明基材；
在所述的透明基材上形成胶体层；
利用一表面具有凸纹的模板对所述的胶体层进行滚压，以使所述的胶体层的表面形成凹纹；以及
对所述的胶体层进行固化，以形成粗糙层。
其中：所述的透明基材的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯。
其中：所述的胶体层的材质为热固型树脂。
其中：所述的模板上的凸纹是利用粒子堆叠而成。
其中：所述的模板上的凸纹的尺寸为微米或纳米级。
为实现上述目的，本发明采用的技术方案还包括：
一种匀光薄膜，其特征是包含有：
一透明基材；
一凹纹粗糙层，其是位于所述的透明基材的上表面上；以及
一凸纹粗糙层，其是位于所述的透明基材的下表面上。
其中：所述的凹纹粗糙层是利用一表面具有凸纹的模板压印而成。
其中：所述的凸纹粗糙层是利用一表面具有凹纹的模板压印而成。
其中：所述的模板的凸纹是利用粒子堆叠而成。
其中：所述的透明基材的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯。
其中：所述的凹纹粗糙层的材质为热固型树脂。
其中：所述的模板上的凹纹的尺寸为微米或纳米级。
其中：所述的模板上的凸纹的尺寸为微米或纳米级。
其中：所述的凹纹粗糙层是匀光薄膜的入光面，所述的凸纹粗糙层是匀光薄膜的出光面。
为实现上述目的，本发明采用的技术方案还包括：
一种匀光薄膜的制作方法，其特征是包含有下列步骤：
提供一透明基材；
在所述的透明基材上、下表面上分别形成第一胶体层、第二胶体层；
利用一表面具有凸纹的模板与一表面具有凹纹的模板分别对所述的第一胶体层与所述的第二胶体层进行滚压，以使所述的第一胶体层的表面形成凹纹，所述的第二胶体层的表面形成凸纹；以及
对所述的第一与所述的第二胶体层进行固化，以形成一凹纹粗糙层与一凸纹粗糙层。
其中：所述的透明基材的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯。
其中：所述的第一与第二胶体层的材质为热固型树脂。
其中：所述的模板上的凸纹是利用粒子堆叠而成。
其中：所述的模板上的凸纹和凹纹的尺寸为微米或纳米级。
为实现上述目的，本发明采用的技术方案还包括：
一种匀光薄膜的制作方法，其特征是包含有下列步骤：
提供一透明基材；
在所述的透明基材上形成一胶体层；
利用一表面具有凹纹的模板对所述的胶体层进行滚压，以使所述的胶体层的表面形成凸纹；以及
对所述的胶体层进行固化，以形成一凸纹粗糙层。
其中：所述的透明基材的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯。
其中：所述的胶体层的材质为热固型树脂。
与现有技术相比较，本发明具有的有益效果是：
1.本发明是一种无须使用散射粒子的匀光薄膜及其制作方法，其是利用一表面具有粒子凸纹的模板，对一承载在一透明基板上的胶体层进行加压，以形成一表面具有凹纹粗糙层的匀光薄膜，以达到聚光与增加匀光薄膜表面粗糙度的需求，而无须凭借使用散射粒子来达到表面粗糙度与匀光性。
2.本发明更是一种匀光薄膜及其制作方法，其是利用一表面具有粒子凸纹的模板与一表面具有凹纹的模板来分别对承载在透明基板上、下两侧的胶体层进行滚压，以在透明基板上、下两侧分别形成凹纹与凸纹的粗糙层，以达到聚光与增加匀光薄膜表面粗糙度的需求。本发明尚揭示另一种无须使用散射粒子的匀光薄膜的制作方法，其是利用一表面具有凹纹的模板，对承载在透明基板上的胶体层进行加压，以形成一表面具有凸纹粗糙层的匀光薄膜，以达到增加匀光薄膜表面粗糙度的需求，以可作为匀光薄膜的出光面。
附图说明
图1是现有技术的匀光薄膜的结构示意图；
图2是本发明的匀光薄膜的一实施例结构示意图；
图3是本发明的匀光薄膜的一实施例步骤流程图；
图4是本发明的匀光薄膜的另一实施例步骤流程图；
图5是本发明的图4所示步骤所制得的匀光薄膜结构示意图；
图6是本发明的匀光薄膜的又一实施例结构示意图；
图7是本发明的图6的匀光薄膜的步骤流程图。
附图标记说明：10-透明基材；12-散射粒子；14-粗糙层；20-匀光薄膜；22-透明基材；24-粗糙层；26-粗糙层；30-匀光薄膜；32-透明基材；34-第一粗糙层；36-第二粗糙层。
具体实施方式
请参阅图2，其是本发明的匀光薄膜的一实施例结构示意图。如图所示，本发明的匀光薄膜20包含有一透明基材22，以及一位于透明基材22上的粗糙层24，所述的透明基材22可以是聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)，所述的粗糙层24的表面为规则或不规则排列的凹纹，以增加表面的粗糙度与抗反射与增加聚光度，减少光的散逸，且使匀光效果更为优异。
上述的实施例的制作方法，是如图3所示，首先，如步骤S1所述，提供一模板，其表面上具有凸纹，凸纹可以是利用晶粒结构堆叠形成的粒子；接续，如步骤S2所述，提供一表面形成有一胶体层的透明基材，其中所述的胶体层的材料可以是热固型树脂；再如步骤S3所述，利用表面上具有凸纹的模板对胶体层进行加压，以使所述的胶体层的表面形成凹纹；最后如步骤S4所述，对胶体层进行固化，以形成表面具有凹纹的粗糙层。
其中，模板上凸纹的尺寸为微米或纳米级。
利用本发明的制作方法，可以凭借控制模板上的粒子凸纹与滚压时的压力，来达到粗糙层的膜厚控制与凹压纹的纹路再现性，而使得匀光薄膜的品质与特性一致，可量产化。
上述的表面为凹纹的匀光薄膜实施例是可利用其聚光性的特性，而作为入光面。接续，本发明尚提供另一种表面为凸纹的匀光薄膜的制作方法，其步骤如图4所示，首先，如步骤S5所述，提供一模板，其表面上具有凹纹；接续，如步骤S6所述，提供一表面形成有一胶体层的透明基材，其中胶体层的材料可以是热固型树脂；再如步骤S7所述，利用表面上具有凹纹的模板对胶体层进行加压，以使胶体层的表面形成凸纹；最后如步骤S8所述，对胶体层进行固化，以形成如图5所示的表面具有凸纹的粗糙层26，此种凸纹可以作为匀光薄膜的出光面。
再者，请参阅图6，其是本发明的另一实施例示意图。如图所示，本发明的匀光薄膜30包含有一透明基材32，透明基材32可以是PET；一位于透明基材32的入光面上的第一粗糙层34，此第一粗糙层34的表面为规则或不规则的凹面压纹，以增加粗糙度、抗反射与增加聚光度；以及一位于透明基材32的出光面上的第二粗糙层36，其表面为规则或不规则分布的凸面压纹，以增加粗糙度，达到匀光的效果。
上述的实施例的制作方法，是如图7所示，首先，如步骤S9所述，提供一第一模板与一第二模板，其中第一模板的表面上具有利用如晶粒结构所堆叠形成的粒子凸纹，而第二模板的表面上具有凹纹；接续，如步骤S10所述，提供上、下表面都形成有一胶体层的透明基材，其中胶体层可以是热固型树脂；再如步骤S11所述，利用第一模板对上表面的胶体层进行加压与利用第二模板对下表面的胶体层进行加压，以在上表面的胶体层表面形成具有规则或不规则的凹纹，与下表面的胶体层表面形成具有规则或不规则的凸纹；最后如步骤S12所述，对上、下表面的胶体层进行固化，以形成一凹纹粗糙层与一凸纹粗糙层。
当然上述的制程方式仅是一具体实施方式，并不能局限本发明的实施步骤，本领域技术人员当知，许多制程步骤上些微的改变或者等效的替换，当仍属本发明的精神范畴所在。
综上所述，本发明是揭示一种无须使用散射粒子的匀光薄膜及其制作方法，其是利用一表面具有粒子凸纹的模板，对一承载在一透明基板上的胶体层进行加压，以形成一表面具有凹纹粗糙层的匀光薄膜，以达到聚光与增加匀光薄膜表面粗糙度的需求，而无须凭借使用散射粒子来达到表面粗糙度与匀光性。再者，本发明更揭示另一种匀光薄膜及其制作方法，其是利用一表面具有粒子凸纹的模板与一表面具有凹纹的模板来分别对承载在透明基板上、下两侧的胶体层进行滚压，以在透明基板上、下两侧分别形成凹纹与凸纹的粗糙层，以达到聚光与增加匀光薄膜表面粗糙度的需求。本发明尚揭示另一种无须使用散射粒子的匀光薄膜的制作方法，其是利用一表面具有凹纹的模板，对一承载在一透明基板上的胶体层进行加压，以形成一表面具有凸纹粗糙层的匀光薄膜，以达到增加匀光薄膜表面粗糙度的需求，以可作为匀光薄膜的出光面。
以上说明对本发明而言只是说明性的，而非限制性的，本领域普通技术人员理解，在不脱离权利要求所限定的精神和范围的情况下，可作出许多修改、变化或等效，但都将落入本发明的保护范围之内。
Claims (29)
1.一种匀光薄膜，其特征在于包含：
一透明基材；以及
一粗糙层，其位于所述的透明基材的表面上，所述的粗糙层的表面具有凹纹。
2.根据权利要求1所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的透明基材的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯。
3.根据权利要求1所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的凹纹粗糙层的材质为热固型树脂。
4.根据权利要求1所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的凹纹粗糙层的凹纹是利用一表面具有凸纹的模板压印而成。
5.根据权利要求4所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的模板上的凸纹是利用粒子堆叠而成。
6.根据权利要求4所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的模板上的凸纹和粗糙层的凹纹的尺寸为微米或纳米级。
7.根据权利要求1所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的透明基材的另一表面上还设有另一粗糙层，所述的粗糙层的表面具有凸纹。
8.一种匀光薄膜的制作方法，其特征是包含有下列步骤：
提供一透明基材；
在所述的透明基材上形成一胶体层；
利用表面具有凸纹的模板对所述的胶体层进行滚压，以使所述的胶体层的表面形成凹纹；以及
对所述的胶体层进行固化，以形成一粗糙层。
9.根据权利要求8所述的匀光薄膜的制作方法，其特征在于：所述的透明基材的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯。
10根据权利要求8所述的匀光薄膜的制作方法，其特征在于：所述的胶体层的材质为热固型树脂。
11.根据权利要求8所述的匀光薄膜的制作方法，其特征在于：所述的模板上的凸纹是利用粒子堆叠而成。
12.根据权利要求8所述的匀光薄膜的制作方法，其特征在于：所述的模板上的凸纹的尺寸为微米或纳米级。
13.一种匀光薄膜，其特征是包含有：
一透明基材；
一凹纹粗糙层，其是位于所述的透明基材的上表面上；以及
一凸纹粗糙层，其是位于所述的透明基材的下表面上。
14.根据权利要求13所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的凹纹粗糙层是利用一表面具有凸纹的模板压印而成。
15.根据权利要求13所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的凸纹粗糙层是利用一表面具有凹纹的模板压印而成。
16.根据权利要求14所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的模板的凸纹是利用粒子堆叠而成。
17.根据权利要求13所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的透明基材的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯。
18.根据权利要求13所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的凹纹粗糙层的材质为热固型树脂。
19.根据权利要求15所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的模板上的凹纹的尺寸为微米或纳米级。
20.根据权利要求16所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的模板上的凸纹的尺寸为微米或纳米级。
21.根据权利要求13所述的匀光薄膜，其特征在于：所述的凹纹粗糙层是匀光薄膜的入光面，所述的凸纹粗糙层是匀光薄膜的出光面。
22.一种匀光薄膜的制作方法，其特征是包含有下列步骤：
提供一透明基材；
在所述的透明基材上、下表面上分别形成第一胶体层、第二胶体层；
利用一表面具有凸纹的模板与一表面具有凹纹的模板分别对所述的第一胶体层与所述的第二胶体层进行滚压，以使所述的第一胶体层的表面形成凹纹，所述的第二胶体层的表面形成凸纹；以及
对所述的第一与所述的第二胶体层进行固化，以形成一凹纹粗糙层与一凸纹粗糙层。
23.根据权利要求22所述的匀光薄膜的制作方法，其特征在于：所述的透明基材的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯。
24.根据权利要求22所述的匀光薄膜的制作方法，其特征在于：所述的第一与第二胶体层的材质为热固型树脂。
25.根据权利要求22所述的匀光薄膜的制作方法，其特征在于：所述的模板上的凸纹是利用粒子堆叠而成。
26.根据权利要求22所述的匀光薄膜的制作方法，其特征在于：所述的模板上的凸纹和凹纹的尺寸为微米或纳米级。
27.一种匀光薄膜的制作方法，其特征是包含有下列步骤：
提供一透明基材；
在所述的透明基材上形成一胶体层；
利用一表面具有凹纹的模板对所述的胶体层进行滚压，以使所述的胶体层的表面形成凸纹；以及
对所述的胶体层进行固化，以形成一凸纹粗糙层。
28.根据权利要求27所述的匀光薄膜的制作方法，其特征在于：所述的透明基材的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯。
29.根据权利要求27所述的匀光薄膜的制作方法，其特征在于：所述的胶体层的材质为热固型树脂。
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2008
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