CN112485941B - 一种液晶显示面板及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本申请公开了一种液晶显示面板及其制备方法，所述液晶显示面板包括阵列基板；液晶层，设于所述阵列基板上；彩膜基板，设于所述液晶层上；所述阵列基板远离所述液晶层的一侧具有雾化层状结构。雾化层状结构包括二维或三维的粒子层和/或一层凹坑结构，粒子层和凹坑结构能够破坏所述阵列基板表面的单一反射效果，改变出光路径，实现光线均匀打散，从而达到雾化效果，阵列基板在恶劣环境下不易发生变形，品质比雾化光学膜片好，能够实现提升背光模组的品质。

Description

一种液晶显示面板及其制备方法
技术领域
本申请涉及显示面板领域，尤其地涉及一种液晶显示面板及其制备方法。
背景技术
在液晶显示面板的背光模组中，雾化光学膜片具有雾化光线，改善光学品质的功能，但由于雾化光学膜片的厚度比较薄，在恶劣环境或长久使用后，膜片品质会大幅降低，对整机的显示功能产生不良影响。同时，雾化光学膜片作为液晶显示面板的一个重要组成部材，自身成本也比较高。
请参阅图1，图1为现有技术中液晶显示面板的结构示意图，液晶显示面板100包括依次设置地背光模组1、下偏光片3、阵列基板4、液晶层5、彩膜基板6和上偏光片7。雾化光学膜片位于背光模组1中。
因此，确有必要来开发一种新型的液晶显示面板，以克服现有技术的缺陷。
发明内容
本发明的一个目的是提供一种液晶显示面板，其能够解决现有技术中雾化光学膜片的厚度比较薄，在恶劣环境或长久使用后，膜片品质会大幅降低的问题。
为实现上述目的，本发明提供一种液晶显示面板，包括阵列基板；液晶层，设于所述阵列基板上；彩膜基板，设于所述液晶层上；所述阵列基板远离所述液晶层的一侧具有雾化层状结构。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述雾化层状结构包括二维或三维的粒子层和/或一层凹坑结构。
粒子层和凹坑结构能够破坏所述阵列基板表面的单一反射效果，改变出光路径，实现光线均匀打散，从而达到雾化效果。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述凹坑结构的形状为球型或半球型，所述凹坑的深度为1um-10um。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述粒子层的厚度范围为1-50um；所述粒子层包括若干粒子，所述粒子的材料采用油墨、聚甲基丙烯酸丁酯、聚酰胺、聚氨基甲酸酯的一种或几种；其中所述粒子层中的所述粒子直径相同，所述粒子的直径范围为1-50um。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述粒子层中的所述粒子直径不同，粒子主要功能是散射光线，使光线达到均匀分布，直径不同的所述粒子能够达到更好的雾化效果。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述阵列基板包括玻璃基板；功能层，设于所述玻璃基板的一面，所述功能层朝向所述彩膜基板；所述凹坑结构设于所述玻璃基板远离所述彩膜基板的一侧的表面；所述粒子层设于所述玻璃基板远离所述彩膜基板的一侧的表面。
进一步的，在其他实施方式中，其中还包括第一偏光片，设所述阵列基板和所述液晶层之间；第二偏光片，设于所述彩膜基板上。
进一步的，在其他实施方式中，其中还包括背光模组，设于所述凹坑或粒子层远离所述液晶层的一侧。背光模组中不设置雾化光学膜片，雾化层状结构可以替代背光模组中的雾化光学膜片，能够降低成本。
为实现上述目的，本发明还提供一种制备方法，用以制备本发明涉及的所述的液晶显示面板，所述制备方法包括以下步骤：提供一阵列基板和彩膜基板；相对贴合所述阵列基板和所述彩膜基板；将液晶注入所述阵列基板和所述彩膜基板之间形成液晶层；在提供阵列基板步骤中或者在形成液晶层步骤之后，制备雾化层状结构在所述阵列基板远离所述液晶层的一侧表面。
进一步的，在其他实施方式中，其中在提供一阵列基板步骤和彩膜基板的步骤后，在贴合所述阵列基板和所述彩膜基板前，包括以下步骤：制备第一偏光片于所述阵列基板的一侧；制备第二偏光片于所述彩膜基板的一侧；其中在相对贴合所述阵列基板和所述彩膜基板的步骤中，包括将所述阵列基板具有所述第一偏光片的一侧和所述彩膜基板远离所述第二偏光片的一侧相贴合。
进一步的，在其他实施方式中，其中在提供一阵列基板步骤中，包括提供一玻璃基板以及制备各个功能层于所述玻璃基板的一面；在相对贴合所述阵列基板和所述彩膜基板步骤中，包括将所述功能层朝向所述彩膜基板；在制备雾化层状结构步骤中，包括在所述玻璃基板远离所述彩膜基板的一面激光打点制作凹坑结构，以形成所述的雾化层状结构。
进一步的，在其他实施方式中，其中在提供一阵列基板步骤中，包括提供一玻璃基板以及制备各个功能层于所述玻璃基板的一面；在相对贴合所述阵列基板和所述彩膜基板步骤中，包括将所述功能层朝向所述彩膜基板；在制备雾化层状结构步骤中，包括在所述玻璃基板远离所述彩膜基板的一面热压成型或油墨印刷制作二维或三维的粒子层，以形成所述的雾化层状结构。
进一步的，在其他实施方式中，其中在提供一阵列基板步骤中，包括提供一玻璃基板以及制备各个功能层于所述玻璃基板的一面；
在相对贴合所述阵列基板和所述彩膜基板步骤中，包括将所述功能层朝向所述彩膜基板；在制备雾化层状结构步骤中，包括在所述玻璃基板远离所述彩膜基板的一面激光打点制作凹坑结构；在所述玻璃基板具有凹坑结构的一面热压成型或油墨印刷制作二维或三维的粒子层，所述凹坑结构和所述粒子层形成所述的雾化层状结构。
相对于现有技术，本发明的有益效果在于：本发明提供一种液晶显示面板及其制备方法，在阵列基板远离液晶层的一侧设置雾化层状结构，雾化层状结构包括二维或三维的粒子层和/或一层凹坑结构，粒子层和凹坑结构能够破坏所述阵列基板表面的单一反射效果，改变出光路径，实现光线均匀打散，从而达到雾化效果，阵列基板在恶劣环境下不易发生变形，品质比雾化光学膜片好，能够实现提升背光模组的品质，同时雾化层状结构可以替代背光模组中的雾化光学膜片，能够降低成本。
附图说明
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为现有技术提供的液晶显示面板的结构示意图；
图2为本发明实施例1提供的液晶显示面板的结构示意图；
图3为本发明实施例1提供的液晶显示面板的制备方法的流程图；
图4为本发明实施例2提供的液晶显示面板的结构示意图；
图5为本发明实施例3提供的液晶显示面板的结构示意图。
背景技术中的附图说明：
液晶显示面板-100； 背光模组-1；
下偏光片-3； 阵列基板-4；
液晶层-5； 彩膜基板-6；
上偏光片-7；
附图说明：
液晶显示面板-100；
背光模组-1； 阵列基板-2；
玻璃基板-21； 功能层-22；
第一偏光片-3； 液晶层-4；
彩膜基板-5； 第二偏光片-6；
雾化层状结构-7； 粒子层-71；
凹坑结构-72。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
实施例1
为实现上述目的，本发明提供一种液晶显示面板请参阅图2，图2所示为本发明实施例提供的液晶显示面板100的结构示意图，液晶显示面板100包括背光模组1、阵列基板2、第一偏光片3、液晶层4、彩膜基板5和第二偏光片 6。
液晶层4设于阵列基板2和彩膜基板5之间，背光模组1设于所述阵列基板远离所述液晶层的一侧，第一偏光片3设阵列基板2和液晶层4之间，第二偏光片6设于彩膜基板远离液晶层4的一侧。
阵列基板2包括玻璃基板21和功能层22。玻璃基板21设于阵列基板2朝向背光模组1的一面，功能层22设于阵列基板2朝向彩膜基板5的一面。
阵列基板2远离液晶层4的一侧具有雾化层状结构7，雾化层状结构7为一层凹坑结构72。凹坑结构72设于玻璃基板21远离彩膜基板5的一侧的表面。
在本实施例中，凹坑结构72的形状为半球型，凹坑的深度为1um-10um。在其他实施方式中，凹坑结构72的形状也可以为球型。
半球型的凹坑结构72能够破坏阵列基板2表面的单一反射效果，改变出光路径，实现光线均匀打散，从而达到雾化效果。
背光模组1中不设置雾化光学膜片，雾化层状结构7可以替代背光模组1 中的雾化光学膜片，能够降低成本。
本发明实施例还提供一种制备方法，用以制备本发明实施例涉及的液晶显示面板100，请参阅图3，图3为本实施例提供的液晶显示面板100的制备方法的流程图，制备方法包括步骤1-步骤7。
步骤1：提供一阵列基板2和彩膜基板5；其中阵列基板包括玻璃基板21 和功能层22。
步骤2：制备第一偏光片3于阵列基板2的一侧；具体地，第一偏光片3 于功能层的一侧。
步骤3：制备第二偏光片6于彩膜基板5的一侧；
步骤4：相对贴合阵列基板2和彩膜基板5；具体地，将阵列基板2具有第一偏光片3的一侧和彩膜基板5远离第二偏光片6的一侧相贴合。
步骤5：将液晶注入阵列基板2和彩膜基板5之间形成液晶层4；
步骤6：制备雾化层状结构7在阵列基板2远离液晶层4的一侧表面；具体地，雾化层状结构7在玻璃基板21远离液晶层4的一侧表面。
在其他实施方式中，也可以在阵列基板2步骤中制备雾化层状结构7在阵列基板2远离液晶层4的一侧表面。
在本实施例中，采用激光打点的方式制作凹坑结构72，以形成的雾化层状结构7。
步骤7：制备背光模组1于雾化层状结构7远离液晶层4的一侧。
实施例2
本实施例中的液晶显示面板100，也具有雾化层状结构，其与实施例1中的对应结构大致相同，其相同的结构可参照实施例1中的对应描述，此处不再赘述。其中两者的主要不同之处在于，雾化层状结构7为三维的粒子层71，请参阅图4，图4为本实施例提供的液晶显示面板的结构示意图。
在其他实施方式中，雾化层状结构7也可以为二维的粒子层，在此不做限定。
粒子层71的厚度范围为1-50um；粒子层71包括若干粒子，粒子的材料采用油墨、聚甲基丙烯酸丁酯、聚酰胺、聚氨基甲酸酯的一种或几种。
在本实施例中，粒子层71中的粒子直径相同，粒子的直径范围为1-50um。
在其他实施方式中，粒子层71中的粒子直径不同，粒子主要功能是散射光线，使光线达到均匀分布，直径不同的粒子能够达到更好的雾化效果。
粒子层71能够破坏阵列基板2下表面的单一反射效果，改变出光路径，实现光线均匀打散，从而达到雾化效果。
本实施例中的液晶显示面板的制备方法，其与实施例1中的对应的制备方法大致相同，其相同的结构可参照实施例1中的对应描述，此处不再赘述。其中两者的主要不同之处在于步骤6，在制备雾化层状结构7步骤时，包括在玻璃基板21远离彩膜基板5的一面制作二维或三维的粒子层71，以形成雾化层状结构7。
其中，采用热压成型或油墨印刷的方式制作二维或三维的粒子层71。
实施例3
本实施例中的液晶显示面板100，也具有雾化层状结构，其与实施例1中的对应结构大致相同，其相同的结构可参照实施例1中的对应描述，此处不再赘述。其中两者的主要不同之处在于，雾化层状结构7为凹坑结构72和粒子层 71，请参阅图5，图5为本实施例提供的液晶显示面板的结构示意图。
在其他实施方式中，粒子层71可以为二维的粒子层或三维的粒子层，在此不做限定。
粒子层71的厚度范围为1-50um；粒子层71包括若干粒子，粒子的材料采用油墨、聚甲基丙烯酸丁酯、聚酰胺、聚氨基甲酸酯的一种或几种。
在本实施例中，粒子层71中的粒子直径相同，粒子的直径范围为1-50um。
在其他实施方式中，粒子层71中的粒子直径不同，粒子主要功能是散射光线，使光线达到均匀分布，直径不同的粒子能够达到更好的雾化效果。
凹坑结构72和粒子层71能够破坏阵列基板2下表面的单一反射效果，改变出光路径，实现光线均匀打散，从而达到雾化效果。
本实施例中的液晶显示面板的制备方法，其与实施例1中的对应的制备方法大致相同，其相同的结构可参照实施例1中的对应描述，此处不再赘述。其中两者的主要不同之处在于步骤6，在制备雾化层状结构7步骤中，包括在玻璃基板21远离彩膜基板5的一面制作凹坑结构72，在凹坑结构72远离彩膜基板5的一面制作二维或三维的粒子层71，以形成雾化层状结构7。
其中，采用激光打点制作凹坑结构72；采用热压成型或油墨印刷的方式制作二维或三维的粒子层71。
本发明的有益效果在于：本发明提供一种液晶显示面板及其制备方法，在阵列基板远离液晶层的一侧设置雾化层状结构，雾化层状结构包括二维或三维的粒子层和/或一层凹坑结构，粒子层和凹坑结构能够破坏阵列基板表面的单一反射效果，改变出光路径，实现光线均匀打散，从而达到雾化效果，阵列基板在恶劣环境下不易发生变形，品质比雾化光学膜片好，能够实现提升背光模组的品质，同时雾化层状结构可以替代背光模组中的雾化光学膜片，能够降低成本。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例所提供的一种液晶显示面板及其制备方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (8)

1.一种液晶显示面板，其特征在于，包括
阵列基板；
液晶层，设于所述阵列基板上；
彩膜基板，设于所述液晶层上；
背光模组，设于所述阵列基板远离所述液晶层的一侧；
第一偏光片，设于所述阵列基板与所述液晶层之间；
第二偏光片，设于所述彩膜基板远离所述液晶层的一侧；
所述阵列基板远离所述液晶层的一侧具有雾化层状结构，所述雾化层状结构包括二维或三维的粒子层和/或一层凹坑结构。
2.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述凹坑结构的形状为球型或半球型，所述凹坑的深度为1um-10um。
3.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述粒子层的厚度范围为1-50um；所述粒子层包括若干粒子，所述粒子层中的所述粒子直径相同或不同，所述粒子的材料采用油墨、聚甲基丙烯酸丁酯、聚酰胺、聚氨基甲酸酯的一种或几种，所述粒子的直径范围为1-50um。
4.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括
玻璃基板，
功能层，设于所述玻璃基板的一面，所述功能层朝向所述彩膜基板；
所述凹坑结构设于所述玻璃基板远离所述彩膜基板的一侧的表面；
所述粒子层设于所述玻璃基板远离所述彩膜基板的一侧的表面。
5.一种制备方法，用以制备如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：
提供一阵列基板和彩膜基板；
相对贴合所述阵列基板和所述彩膜基板；
将液晶注入所述阵列基板和所述彩膜基板之间形成液晶层；
制备背光模组于所述阵列基板远离所述液晶层的一侧；
制备第一偏光片于所述阵列基板与所述液晶层之间；
制备第二偏光片于所述彩膜基板远离所述液晶层的一侧；
在提供阵列基板步骤中或者在形成液晶层步骤之后，在所述阵列基板远离所述彩膜基板的一面激光打点制作凹坑结构，以形成所述的雾化层状结构；或在所述阵列基板远离所述彩膜基板的一面热压成型或油墨印刷制作二维或三维的粒子层，以形成所述的雾化层状结构；或在所述阵列基板远离所述彩膜基板的一面激光打点制作凹坑结构，在所述阵列基板具有凹坑结构的一面热压成型或油墨印刷制作二维或三维的粒子层，所述凹坑结构和所述粒子层形成所述的雾化层状结构。
6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，
在提供一阵列基板步骤中，包括提供一玻璃基板以及制备各个功能层于所述玻璃基板的一面；
在相对贴合所述阵列基板和所述彩膜基板步骤中，包括将所述功能层朝向所述彩膜基板；
在制备雾化层状结构步骤中，包括在所述玻璃基板远离所述彩膜基板的一面激光打点制作凹坑结构，以形成所述的雾化层状结构。
7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，
在提供一阵列基板步骤中，包括提供一玻璃基板以及制备各个功能层于所述玻璃基板的一面；
在相对贴合所述阵列基板和所述彩膜基板步骤中，包括将所述功能层朝向所述彩膜基板；
在制备雾化层状结构步骤中，包括在所述玻璃基板远离所述彩膜基板的一面热压成型或油墨印刷制作二维或三维的粒子层，以形成所述的雾化层状结构。
8.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，
在提供一阵列基板步骤中，包括提供一玻璃基板以及制备各个功能层于所述玻璃基板的一面；
在相对贴合所述阵列基板和所述彩膜基板步骤中，包括将所述功能层朝向所述彩膜基板；
在制备雾化层状结构步骤中，包括
在所述玻璃基板远离所述彩膜基板的一面激光打点制作凹坑结构；
在所述玻璃基板具有凹坑结构的一面热压成型或油墨印刷制作二维或三维的粒子层，所述凹坑结构和所述粒子层形成所述的雾化层状结构。
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