CN101512229A - 烹调装置 - Google Patents

Abstract

为了提供一种能有效冷却烹调装置的后部空间的烹调装置，本发明公开了一种烹调装置，包括：烹调腔；后部空间，位于所述烹调腔后方；以及冷却流径，位于所述后部空间并从所述后部空间的下部延伸至所述后部空间的上部，以冷却所述后部空间。通过此构造，使得通过从所述后部空间的下部运动至其上部的流来冷却所述烹调装置的所述后部空间成为可能。

Description

烹调装置

技术领域

本发明总体涉及一种烹调装置，更具体而言，涉及一种能有效冷却烹调装置的后部空间的烹调装置，在该烹调装置中，安置有诸如对流加热器组件、磁控管、高压变压器、高压电容器之类的加热元件。

背景技术

韩国专利申请公开No.2005-0083504公开了一种烹调装置的典型实例，该烹调装置具有设置于烹调腔一侧的主要部件，包括：磁控管、高压变压器、高压电容器以及冷却风扇。韩国专利申请公开No.2006-0037003公开了一种烹调装置，该烹调装置具有安装于烹调腔上侧的主要部件、并将对流加热器组件容纳于该烹调腔的后壁，这些主要部件包括：磁控管、高压变压器以及高压电容器。韩国实用新型申请公开No.1999-0010444公开了一种烹调装置，该烹调装置具有设置于烹调腔下侧的主要部件和操作板，这些主要部件包括：磁控管、高压变压器以及冷却风扇。

另外，韩国实用新型申请公开No.1998-0016489公开了一种烹调装置，该烹调装置具有安装于烹调腔侧壁的主要部件，并设置有从该烹调腔的顶壁开始而到达其侧面的冷却流径，这些主要部件包括磁控管、高压变压器以及冷却风扇。

韩国专利申请公开No.1998-0053939公开了作为烹调装置典型实例的微波炉的门，其中，该门设置有用于阻挡微波的门框以及环绕该门框的阻流盖。

韩国专利申请公开No.1995-0003729公开了一种烹调装置，该烹调装置具有从烹调腔的侧面开始、经过烹调腔的底侧而到达门的烹调流径。

韩国专利申请公开No.2004-0108050公开了烹调装置中所使用的操作面板的示例，其中，该操作面板设置有使用静电的玻璃触摸键盘。

发明内容

技术问题

本发明的一个目的是提供一种烹调装置，该烹调装置能有效冷却其后部空间。

本发明的另一目的是提供一种烹调装置，该烹调装置能冷却其后部空间和上部空间。

本发明的又一目的是提供一种烹调装置，该烹调装置能有效冷却其后部空间、上部空间和门。

本发明的又一目的是提供一种烹调装置，该烹调装置通过从下部到上部的冷却气流来冷却其后部空间。

本发明的又一目的是提供一种烹调装置，该烹调装置能利用在其后部空间内所形成的冷却流径的流将烹调腔内所产生的热量和气味除去。

本发明的又一目的是提供一种烹调装置，该烹调装置能更高效地利用主要留给对流加热器组件的后部空间，并能通过冷却流径有效冷却该后部空间。

本发明的又一目的是提供一种烹调装置，该烹调装置配备有布置在后部空间内的诸如磁控管、高压变压器、高压电容器等等之类的加热元件，并能有效冷却这些加热元件。

本发明的又一目的是提供一种烹调装置，该烹调装置配备有安置于后部空间下部的冷却风扇，并能通过沿着由该冷却风扇所形成的冷却流径而布置主要部件来对这些主要部件进行冷却。

本发明的又一目的是提供一种烹调装置，该烹调装置通过利用其后部空间而具有高度和宽度增加的更大烹调腔，并能有效冷却该后部空间。

本发明的又一目的是提供一种烹调装置，该烹调装置通过利用盘子代替转盘、并通过利用烹调装置的后部空间而具有高度、宽度和深度可调的烹调腔。

技术方案

为了实现上述目的和优点，提供了一种烹调装置，包括；烹调腔；后部空间，位于烹调腔后方；以及冷却流径，位于后部空间并从后部空间的下部延伸至后部空间的上部，以冷却该后部空间。通过此构造，使得通过从后部空间的下部运动至其上部的流来冷却烹调装置的后部空间成为可能。

在本发明的另一方面中，该烹调装置还包括：加热构件，包括位于后部空间的对流加热器组件、磁控管、高压变压器、以及高压电容器中的至少两个。通过此构造，能有效利用、并通过冷却流径有效冷却主要设计用于对流加热器组件的后部空间。

在本发明的另一方面中，冷却流径由分别用于冷却至少两个加热构件的至少两个单独的子通道组成。通过此构造，就空间利用而言，将需要冷却的加热构件有效地布置在后部空间内，并对这些加热构件进行有效冷却。

在本发明的另一方面中，该烹调装置还包括：位于后部空间的下部的冷却风扇，用于产生流以形成冷却流径。通过此构造，可将冷却风扇布置于后部空间，并能够有效地冷却后部空间。

在本发明的另一方面中，该烹调装置还包括：位于冷却流径上的分隔件，用于防止冷却风扇上方的流回流到冷却风扇下方。但是，本技术领域的普通技术人员应当理解，用以阻挡反方向上的全部流的分隔壁不是必需的。

在本发明的另一方面中，加热构件包括磁控管，而烹调装置包括位于冷却流径上、用于将流导向至磁控管的流导向件。通过此构造，选择性并有效地冷却磁控管是可能的。

在本发明的另一方面中，该烹调装置还包括：设置于烹调腔的一侧的入口；以及位于冷却流径上的流导向件，用于将流导向至入口。通过此构造，能有效地将后部空间内所形成的冷却流径的流导向至烹调腔。

在本发明的另一方面中，该烹调装置还包括：入口，设置于烹调腔的一侧；以及流导向件，用于将从磁控管流出的流导向至入口。通过此构造，能同时执行磁控管上的冷却操作和烹调腔上的冷却操作，并能有效地将流导向至烹调腔。

在本发明的另一方面中，提供了一种烹调装置，包括：烹调腔；位于烹调腔上方的上部空间；位于烹调腔后方的后部空间；以及从后部空间延伸至上部空间的冷却流径。通过此构造，能有效冷却烹调装置的后部空间和上部空间。

在本发明的另一方面中，该烹调装置还包括：冷却风扇，位于后部空间的下部并产生流以形成冷却流径。

在本发明的另一方面中，该烹调装置还包括：第一加热构件，位于后部空间；以及第二加热构件，位于上部空间并比第一加热构件产生更多的热量。通过此构造，烹调装置能通过冷却流径有效地进行冷却操作。第一加热构件的示例包括磁控管、高压变压器、高压电容器等等，而第二加热构件的示例包括卤素加热器等等。

在本发明的另一方面中，该烹调装置还包括：加热构件，位于后部空间并包括对流加热器组件、磁控管、高压变压器以及高压电容器中的至少一个；以及位于上部空间的加热器。

在本发明的另一方面中，提供了一种烹调装置，包括：烹调腔；门，位于烹调腔的前部并包括控制面板；后部空间，位于烹调空间后方；以及冷却流径，从后部空间的下部延伸至后部空间的上部，以冷却后部空间。

在本发明的另一方面中，该烹调装置还包括位于烹调腔上方的上部空间，且设置门用以覆盖上部空间和烹调腔的前表面。

在本发明的另一方面中，该烹调装置还包括：中继衬底，位于上部空间内并与控制面板协作。通过此构造，使得中继衬底与上述门的控制面板协作，同时将中继衬底安装在冷却流径上是可能的。

在本发明的另一方面中，冷却流径从后部空间延伸至上述门。

在本发明的另一方面中，该烹调装置还包括：环绕后部空间的盖子，冷却流径的入口形成在该盖子处。

在本发明的另一方面中，该烹调装置还包括：下部空间，位于烹调腔下方；以及底座，该底座形成下部空间的下表面和后部空间的下表面。

本发明的额外和/或其它方面和优点将部分地在随后的描述中阐述，并且部分地从该描述将是显而易见的，或可以通过本发明的实践习得。

附图说明

通过参照附图描述本发明的某些实施例，本发明的上述方面和特征将更明显，在附图中：

图1是根据本发明烹调装置的主结构的分解示意图；

图2示意性地示出了根据本发明烹调装置的后部空间的示例；

图3和图4示意性地示出了根据本发明烹调装置的后部空间的其它示例；以及

图5和图6示意性地示出了根据本发明的冷却流径。

具体实施方式

下文将参照附图详细描述本发明。

图1是根据本发明烹调装置的主结构的分解示意图，其示出了烹调腔100、门200、位于烹调腔100上方的上部空间300、位于烹调腔100后方的后部空间400、位于烹调腔100两侧上的侧部空间500、以及位于烹调腔100下方的下部空间600。

烹调腔100为用于烹饪食物的空间，并由内壳110限定。加热器120设置于烹调腔100内部的上部处，盘子或搁物架130安置在烹调腔100内。内壳110包括形成在侧面上的入口(未示出)和出口111，用于形成气流路径，以除去烹调腔100内的热量和气味。加热器120的示例为护套加热器(sheath heater)。利用盘子130代替圆形转盘会使得烹调腔100的宽度和长度(深度)发生改变，该烹调腔的更改受到转盘的限制。烹调腔100的一侧设置有用于引导盘了130的导向件140。另外，烹调腔100的前侧和后侧分别设置有前框架150和后框架160。前框架150具有用于在上部空间300和门200之间形成流径的开口151。后框架160也具有形成于上侧、用于与后部空间400连通的开口161。

门200的下部被铰接至烹调腔100，使得门200能打开和关闭烹调腔100。门200形成为用以覆盖烹调腔100和上部空间200。门200由把手210、前板220、输入感测单元230、门板240、控制面板250、中板260、支架270、门框280以及阻流盖290组成。

把手210为用户打开或关闭门200所使用的部分，并能由螺钉(未示出)固定至前板220。合乎需要地，把手210具有至少一个通道(未示出)，该通道以与外部连通的方式沿把手210的纵向而形成于其内部，从而减小总重量，也能最小化在烹饪期间从烹调腔100传递到用户的热量。

前板220理想地由透明玻璃制成，以使得用户能看到烹调腔100的内部，并且包括按钮的显示单元(未示出)可附接或涂布到该前板220上，这些按钮用于用户选择烹调过程，或用于指示烹调装置的运行状态。

输入感测单元230为识别用户选择了哪个按钮的部分。输入感测单元230在位于由玻璃制成的前板220后方的情况下能由玻璃触摸单元组成，并能被用作静电传感器。可使用带材将玻璃触摸单元附接至前板220。输入感测单元230位于门200的面向烹调腔100的上部空间300的上部区域，且此结构确保更宽敞的烹调腔，并协助用户无障碍地轻易看到烹调腔100的内部。

门板240为固定门200的其它部件220、250等的部分，并具有用于用户查看烹调腔100内部的开口241。此外，门板240在其下侧具有出口(未示出)，沿着经由上部空间300从冷却风扇420(将对其进行描述)延伸至门200的冷却流径运动的流通过该出口被排出。

控制面板250为用于根据用户输入来控制烹调装置的总体操作的部分。为此，控制面板250与输入感测单元230以及中继衬底350(将对其进行描述)协作，并从输入感测单元230的后侧固定到门板240。合乎需要地，控制面板250设置有诸如LED(发光二极管)之类的发光源，并将从该发光源发出的光照射到显示单元(未示出)。

中板260为被固定到门板240的部分，同时分别从前板220和门框280间隔开。中板260的基本功能为阻挡热量从烹调腔100传递到前框架220和把手210。合乎需要地，中板260安装于门板240处，从而由冷却风扇420(将对其进行描述)产生的流经由后部空间400和上部空间300进入门200，随后在支架270(将对其进行描述)引导下在中板260和前板220之间运动。上述流通过门板240的出口(未示出)排出。

支架270从控制面板250的后侧固定至门板240。支架270用于保护各自包括电子部件的输入感测单元230和控制面板250，以使它们免受来自烹调腔100的热量和微波、以及由冷却风扇420吹送的流的破坏，并引导流而使得流在门板240和前板220之间运动。

门框280容纳于门板240内，并被用以阻挡微波泄漏到烹调装置外面。

阻流盖290为用于朝着烹调腔100定位的门200的盖子，并具有形成在其上侧、与前框架150的开口151对应的开口291。开口291优选地由微孔组成，从而在门200被打开的同时防止食物或杂质进入门200。

上部空间300为位于烹调腔100的上方、由外壳310限定的空间，并包括加热器320、导波器330、绝缘顶板340以及中继衬底350。可选地，也可设置用于照亮烹调腔100的灯(未示出)。

外壳310具有以一间距包围烹调腔100的顶侧和两侧的形状，并被连接至前框架150和后框架160。根据需要，外壳310可具有出口311，从而已运动到烹调腔100周围和安装于烹调装置内的加热元件周围的流可被排到外界。

加热器320的示例为卤素加热器。由于上述加热器320会受微波的影响，因此，与由护套加热器形成的加热器120不同，将加热器320安装于内壳110的上侧，从而将热量从上向下供应至烹调腔100内。

导波器330从后部空间400延伸至上部空间300，并被用以将从磁控管(未示出)产生的微波供应至烹调腔100。为达到此目的，烹调腔100的上表面处设置有端口331(参见图2)。

绝缘顶板340防止由容纳在内壳110中的加热器120所产生的热量传递到上部空间300，并具有覆盖除加热器320和导波器330之外的烹调腔100上部的形状。

中继衬底350从上部空间300的一侧安装在绝缘顶板340上，并与控制面板250互相配合以运行包括安置于后部空间400的磁控管(将对其进行描述)的部件。

图2示意性示出了根据本发明烹调装置的后部空间的示例。参照图1和图2，后部空间400为位于烹调腔100的后方、由盖子410限定的空间，并包括共同组成烹调装置的部件室的冷却风扇420、对流加热器组件430、以及诸如磁控管440、高压变压器450和高压电容器460之类的加热元件。

盖子410被连接至后框架160或外壳310，以覆盖上部空间300和后部空间400，且盖子410的下部被连接至底座610。盖子410或底座610的下部处设置有用于空气进入冷却风扇420的入口411。

冷却风扇420沿着后部空间400的宽度方向而定位于后部空间400的下部，并包括两侧上用以冷却安装于上侧的部件的流产生单元421和422。由于后部空间400、上部空间300和门200以连通的方式被构造，因此，能通过冷却风扇420冷却烹调装置的整个区域。另外，冷却风扇420设置有分隔壁423，该分隔壁用于防止由冷却风扇420所产生的流回流至冷却风扇420。分隔壁423具有以使得流流向后部空间400上部的方式形成在两侧上的开口424和425。流产生单元421和422之间的空间426处设置有马达(未示出)，该马达用于驱动流产生单元421和422。

图3和图4示意性示出了根据本发明烹调装置的后部空间的其它应用示例。参照图1-4，除了图2所示的结构，后部空间还设置有用于将气流导向磁控管440的流导向件441，以及用于将从磁控管440出来的气流引导至入口112的流导向件442，入口112形成在烹调腔100的侧面上。此结构，尤其是流导向件442，使得稳定并高效地将冷却风扇420所产生的气流导入烹调腔100、并有效冷却作为其中一个核心部件的磁控管成为可能。

对流加热器组件430包括风扇431、加热器432、内加热器盖433、外加热器盖434以及马达435。合乎需要地，将绝热材料(未示出)安置在内加热器盖433和外加热器盖434之间。上述对流加热器组件430必须具有马达435。由于马达435从后部空间400向后突出而安装，因此后部空间400必须具有足够深以至少容纳马达435的腔室。基于对此空间的关注，可将烹调装置的运行过程中所使用的主要部件中的大体积部件440、450和/或460安置在后部空间400内。这样，即便损失了烹调腔100在纵向上的部分，但烹调腔100也能在侧向和垂直方向上扩展。此外，通过利用盘子代替转盘，根据本发明的烹调装置能改变烹调腔100的高度、宽度和深度。而且，通过将冷却风扇420安置于后部空间400的下部，根据本发明的烹调装置能利用后部空间400，而且还能冷却加热元件440、450和/或460。并且，通过将冷却风扇420设置于后部空间400的下部，并使得后部空间400、上部空间300、门200、烹调腔100以及侧部空间500彼此连通，根据本发明的烹调装置的整个部分能由冷却风扇420有效冷却。另外，由于冷却风扇420沿着后部空间400的宽度方向而安装，因此设置在后部空间400内的诸如对流加热器组件430、磁控管440、高压变压器450和高压电容器460之类的加热元件能被有效冷却，且流能运动至上部空间300、侧部空间500和烹调腔100，并通过形成在烹调腔100下部处的底座上的出口611排出。同样，通过设置分隔壁423和开口424、425，根据本发明的烹调装置能形成流径和流，并有效地和选择性地冷却加热元件。此外，后框架160还可包括用于与侧部空间500连通的开口162。开口162使得从后部空间400至侧部空间500的直接气流成为可能，并产生至后部空间400两侧的气流，借此促进冷却处理并将气流推动至后部空间400的两侧上。

磁控管440、高压变压器450以及高压电容器460为用在烹调装置的运行中的主要部件，它们各自产生大量热量。磁控管440安置在开口424的上方，而高压变压器450和高压电容器460安置在开口425的上方。可改变这些加热元件的布置。

侧部空间500为位于烹调腔100两侧上、由外壳310限定的空间，且侧部空间500合乎需要地与上部空间300、后部空间400以及下部空间600连通，并通过入口112和出口111与烹调腔100连通。由冷却风扇420产生的流从后部空间400、上部空间300、烹调腔100、侧部空间500运动而最终到达下部空间600。此时，在上部空间300内运动并朝向侧部空间500的流能将通过出口111从烹调腔100出来的流导向至下部空间600。

下部空间600为位于烹调腔100下方、由底座610限定的空间。底座610被连接至前框架150和后框架160以支承烹调装置，底座610包括出口611，从而将来源于冷却风扇420的流、以及烹调腔100内产生的气味和热量排出。尽管下部空间600由后框架160从后侧限定，但还是将底座610连接至后框架160上方的盖子410。因此，底座610还可用作限制后部空间400的下部的构件。出口611的位置并不特限于此，因此，出口611可位于出口111的侧面上，或优选地位于底座610的中心，以形成足够长的流径。由于热空气流通过出口611排出，因此不应将烹调装置安置在热敏厨房用具上。为了防止上述厨房用具受到过热空气的破坏，可以以一定距离将板(未示出)连接至底座610，以便在横向方向上排出热量。

图5和图6示意性地示出了根据本发明的冷却流径。如附图所示，从后部空间400产生的流经由上部空间300运动至形成在烹调腔100的两侧上的侧部空间500，而流的一部分从开口151流出，并流向门200。同时，流的另一部分可通过形成在后框架160中的开口162而流向侧部空间。到达上部空间400的流冷却加热器320和中继衬底350。合乎需要地，沿着流的方向将中继衬底350设置到绝缘顶板340，从而最小化对流的阻碍。经过侧部空间500的流转向下部空间600，并通过形成于底座610中心处的出口611(参看图1)排出。尽管对出口610的位置没有特殊限制，但优选地将出口610定位在底座610的中心周围，这是因为随着流尽可能长时间地在烹调装置内部运动或循环，会进行足量的热交换。此时，为了保护安置烹调装置的底表面，可以以一定距离将保护板612连接至底座610，以便可在横向上排出流。另外，经过侧部空间500的流将通过烹调腔100的出口111排出的流导向至下部空间600。同时，经过阻流盖290的开口291的气流由支架270引导而在前板220和中板260之间运动，并通过形成在门板240的底面上的出口242排出。因而，由支架270覆盖的输入感测单元230(参见图1)和控制面板250(参见图1)能免受热量和气流的损害，中板260的一侧通过气流来阻挡热量(尽管气流被支架270阻挡，但该气流还是可用于阻挡热量传递至输入感测单元230和控制面板240。)，而中板260的另一侧通过停滞空气层来阻挡热量。结果，从烹调腔100产生的热量被阻挡，且不会被传递至门200或把手210(参见图1)的外面。

如到现在为止所说明的，本发明的烹调装置能有效冷却该烹调装置的后部空间。

此外，本发明的烹调装置也能冷却该烹调装置的后部空间和上部空间。

而且，本发明的烹调装置能有效冷却该烹调装置的后部空间、上部空间和门。

另外，本发明的烹调装置能通过从后部空间下部运动到后部空间上部的流来冷却该烹调装置的后部空间。

并且，本发明的烹调装置能利用后部空间内所形成的冷却流径的流来除去烹调腔内所产生的热量和气味。

同样，本发明的烹调装置能有效冷却由于将对流加热器组件安装在烹调腔后方而必然形成的后部空间，并能通过所形成的冷却流径有效地冷却该后部空间。

而且，根据本发明的烹调装置，可将诸如磁控管、高压变压器以及高压电容器等等之类的加热元件布置于后部空间，并能对它们进行有效地冷却。

此外，根据本发明的烹调装置，可将冷却风扇安置于烹调装置的后部空间的下部，以便能有效地冷却沿着冷却风扇所形成的冷却流径而布置主要部件。

而且，本发明的烹调装置能通过利用后部空间而增加烹调腔的高度和宽度，并能有效冷却该后部空间。

另外，本发明的烹调装置能通过利用盘子代替转盘、并通过利用烹调装置的后部空间而调节烹调腔的高度、宽度和深度。

尽管已描述了本发明的优选实施例，但本技术领域的技术人员将了解到本发明不应限于所描述的优选实施例，而且在由所附权利要求所限定的本发明精神和范围内可作各种变更和改型。

Claims (18)

1.一种烹调装置，包括：

烹调腔；

位于所述烹调腔后方的后部空间；以及

冷却流径，所述冷却流径位于所述后部空间并从所述后部空间的下部延伸至所述后部空间的上部，以冷却所述后部空间。

2.如权利要求1所述的烹调装置，还包括：

加热构件，所述加热构件包括位于所述后部空间的对流加热器组件、磁控管、高压变压器、以及高压电容器中的至少两个。

3.如权利要求2所述的烹调装置，其中所述冷却流径由至少两个单独的子路径组成，所述子路径分别用于冷却所述多个加热构件中的至少两个。

4.如权利要求1所述的烹调装置，还包括：

位于所述后部空间的下部的冷却风扇，用于产生流以形成所述冷却流径。

5.如权利要求4所述的烹调装置，还包括：

位于所述冷却流径上的分隔件，用于防止所述冷却风扇上方的流回流到所述冷却风扇下方。

6.如权利要求2所述的烹调装置，其中所述加热构件包括磁控管，而所述烹调装置包括位于所述冷却流径上的用于将流导向至所述磁控管的流导向件。

7.如权利要求1所述的烹调装置，还包括：

设置于所述烹调腔一侧的入口；以及

位于所述冷却流径上的流导向件，用于将流导向至所述入口。

8.如权利要求6所述的烹调装置，还包括：

设置于所述烹调腔的一侧的入口；以及

流导向件，用于将从所述磁控管流出的流导向至所述入口。

9.一种烹调装置，包括：

烹调腔；

位于所述烹调腔上方的上部空间；

位于所述烹调腔后方的后部空间；以及

从所述后部空间延伸至所述上部空间的冷却流径。

10.如权利要求9所述的烹调装置，还包括：

冷却风扇，所述冷却风扇位于所述后部空间的下部并产生流以形成所述冷却流径。

11.如权利要求9所述的烹调装置，还包括：

位于所述后部空间的第一加热构件；以及

位于所述上部空间的第二加热构件，第二加热构件比所述第一加热构件产生更多的热量。

12.如权利要求9所述的烹调装置，还包括：

加热构件，所述加热构件位于所述后部空间并包括对流加热器组件、磁控管、高压变压器以及高压电容器中的至少一个；以及

位于所述上部空间的加热器。

13.一种烹调装置，包括：

烹调腔；

位于所述烹调腔的前方的门，包括控制面板；

位于所述烹调空间的后方的后部空间；以及

冷却流径，所述冷却流径从所述后部空间的下部延伸至所述后部空间的上部，以冷却所述后部空间。

14.如权利要求13所述的烹调装置，还包括：

位于所述烹调腔上方的上部空间；以及

其中所述门定位为覆盖所述上部空间和所述烹调腔的前表面。

15.如权利要求14所述的烹调装置，还包括：

中继衬底，所述中继衬底位于所述上部空间并与所述控制面板协作。

16.如权利要求13所述的烹调装置，其中所述冷却流径从所述后部空间延伸至所述门。

17.如权利要求1所述的烹调装置，还包括：

环绕所述后部空间的盖子，所述冷却流径的入口形成在所述盖子处。

18.如权利要求1所述的烹调装置，还包括：

位于所述烹调腔下方的下部空间；以及

底座，所述底座形成所述下部空间的下表面和所述后部空间的下表面。

Images