CN101506583B - 烹调装置 - Google Patents

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Abstract

为了提供一种烹调装置,该烹调装置具有通过高效地利用烹调装置的后部空间而具有高度和宽度增加的烹调腔。本发明公开了一种烹调装置,包括:烹调腔;以及部件室,位于烹调腔的后侧并设置有用于烹调腔内的烹调处理的多个部件。通过此结构,烹调装置具有高度和宽度增加的扩展烹调腔。尽管常规烹调装置的烹调腔的更改受其中的圆形转盘的限制,但利用搁物架或盘子代替所述转盘可消除这种限制。

Description

烹调装置
技术领域
本发明总体涉及一种烹调装置,更具体而言,涉及一种使用磁控管和加热器、并通过将多个部件安装于烹调腔的后部空间而具有在高度和宽度上扩展的烹调腔的烹调装置。
背景技术
韩国专利申请公开No.2005-0083504公开了一种烹调装置的典型实例,该烹调装置具有设置于烹调腔一侧的主要部件,包括:磁控管、高压变压器、高压电容器以及冷却风扇。韩国专利申请公开No.2006-0037003公开了一种烹调装置,该烹调装置具有安装于烹调腔上侧的主要部件、并将对流加热器组件容纳于该烹调腔的后壁,这些主要部件包括:磁控管、高压变压器以及高压电容器。韩国实用新型申请公开No.1999-0010444公开了一种烹调装置,该烹调装置具有设置于烹调腔下面的主要部件和操作板,这些主要部件包括:磁控管、高压变压器、高压电容器以及冷却风扇。
另外,韩国实用新型申请公开No.1998-0016489公开了一种烹调装置,该烹调装置具有安装于烹调腔侧壁的主要部件,并设置有从该烹调腔的顶壁开始直到其横向侧的冷却流道,这些主要部件包括磁控管、高压变压器以及冷却风扇。
韩国专利申请公开No.1998-0053939公开了作为烹调装置典型实例的微波炉的门,其中,该门设置有用于阻挡微波的门框以及环绕该门框的阻流盖。
韩国专利申请公开No.1995-0003729公开了一种烹调装置,该烹调装置具有从烹调腔的横向侧开始、经过烹调腔的底侧而到达门的烹调流道。
韩国专利申请公开No.2004-0108050公开了烹调装置中所使用的操作面板的示例,其中,该操作面板设置有使用静电的玻璃触摸键盘。
发明内容
技术问题
本发明的一个目的是提供一种烹调装置,通过有效地利用该烹调装置的后部空间,该烹调装置具有高度和宽度增加的烹调腔。
本发明的另一目的是提供一种烹调装置,该烹调装置使得能有效利用容纳对流加热器组件的烹调装置后部空间。
本发明的另一目的是提供一种烹调装置,该烹调装置具有安装于该烹调装置后部空间的诸如磁控管、高压变压器以及高压电容器之类的加热元件,并具备有效地对这些加热元件进行冷却的能力。
本发明的又一目的是提供一种烹调装置,该烹调装置具有安装于该烹调装置后部空间的下部的冷却风扇,借此产生冷却流道,并且该烹调装置具有安装在上述用于冷却的冷却流道上的主要部件。
本发明的又一目的是提供一种烹调装置,该烹调装置利用搁物架或盘子代替转盘,并充分利用烹调装置的后部空间,以便能调节烹调腔的高度、宽度以及深度。
技术方案
为了实现上述目的和优点,提供了一种烹调装置,包括:烹调腔;部件室,所述部件室位于烹调腔的后侧并设置有用于烹调腔内的烹调处理的多个部件;以及冷却风扇,所述冷却风扇位于部件室内,以冷却多个部件并产生多个分开的强制流,用于冷却多个部件中的至少两个部件。通过此结构,所述烹调装置具有高度和宽度增加的扩展烹调腔。尽管常规烹调装置的烹调腔的更改受其中的圆形转盘的限制,但利用搁物架或盘子代替转盘可消除这种限制。并且通过此结构,可对因体积很大而被分散定位的需要冷却处理的各部件进行有效、高效以及选择性的冷却。
在本发明的另一方面中,所述冷却风扇位于部件室的下侧,以冷却多个部件中的至少部分部件。通过此结构,位于烹调腔后面的多个部件能被更有效地冷却。
在本发明的另一方面中,所述冷却风扇位于部件室的下侧,以冷却多个部件,所述冷却风扇被定位于上述多个部件下面。通过此结构,位于烹调腔后面的多个部件能被有效地冷却。
在本发明的另一方面中,所述多个部件包括磁控管,且烹调腔在所述烹调腔的上表面处设置有与磁控管连通的端口。通过此结构,能有效地将微波供应至利用盘子代替转盘的烹调装置,且因安装了多个部件而导致备用室有限的后部空间也能被有效利用。
在本发明的另一方面中,所述多个部件包括对流加热器组件、磁控管、高压变压器以及高压电容器中的至少两个。通过此结构,能将大体积部件布置于烹调腔的后面,借此使得烹调装置具有高度和宽度增加的扩展烹调腔。
在本发明的另一方面中,所述冷却风扇沿着部件室的宽度方向定位,以冷却多个部件。通过此结构,位于烹调腔后面的多个部件能被有效地冷却。
在本发明的另一方面中,所述烹调装置还包括气流入口以及气流导向件,所述气流入口设置在所述烹调装置的横向侧,所述气流导向件将由冷却风扇产生的流导向至气流入口。通过此结构,能通过利用位于烹调腔后侧处的风扇而更有效地将气流导入所述烹调腔。
在本发明的另一方面中,气流导向件从所述部件室朝着气流入口延伸。
在本发明的另一方面中,所述多个部件包括磁控管以及以下部件中的至少一个部件:对流加热器组件、高压变压器和高压电容器,并且所述冷却风扇位于部件室的下侧,以冷却所述多个部件中的至少部分部件并产生流,所述烹调装置还包括流导向件,所述流导向件将所述流导向至磁控管。通过此结构,磁控管能被有效地冷却。
在本发明的另一方面中,所述冷却风扇沿着烹调腔的宽度方向定位于所述烹调腔的后面。通过此结构,沿着烹调腔的宽度方向而定位的多个部件能被有效地冷却。
在本发明的另一方面中,所述多个部件包括对流加热器组件、磁控管、高压变压器以及高压电容器中的至少两个部件。
在本发明的另一方面中,所述烹调装置还包括位于所述烹调腔上方的上部空间;覆盖所述烹调腔和上部空间的门,其中所述冷却风扇位于后部空间的下侧。通过此结构,将在烹调腔中的烹调处理所必需的部件布置在上部空间和后部空间内、并有效地冷却这些部件是可能的。
在本发明的另一方面中,上述门设置有通过前框架的开口与上部空间连通的开口。通过此结构,能利用冷却风扇对所述门进行冷却。
在本发明的另一方面中,所述烹调装置还包括加热器,所述加热器设置于上部空间内并加热烹调腔。通过此结构,有效地利用上部空间、并由冷却风扇有效地冷却所述上部空间是可能的。
在本发明的另一方面中,所述烹调装置还包括:位于所述烹调腔上方的上部空间;覆盖所述烹调腔和上部空间的门;以及控制面板,位于门的覆盖上部空间的区域。由于控制面板安装于上述门处,而必需的部件定位于上部空间和后部空间内,因此烹调腔能在高度和宽度上扩展。
在本发明的另一方面中,所述烹调装置还包括形成跨过后部空间的分隔壁,所述分隔壁与所述分隔壁的上方的后部空间连通,并防止流从分隔壁上方的后部空间运动到冷却风扇。通过此结构,形成朝向后部空间、上部空间和/或上述门的气流是可能的。这里要注意的一件事是这种分隔壁可具有能阻挡至少部分反向流动的结构。
在本发明的另一方面中,所述烹调装置还包括设置于上部空间并与控制面板协作的中继衬底(relay substrate)。通过此结构,能有效地将具有大体积和低高度的中继衬底安装在某个位置处,而并非具有限制空间的门和具有许多部件的后部空间处。
在本发明的另一方面中,所述烹调装置还包括:分别位于后部空间的对流加热器组件、磁控管、高压变压器和冷却风扇,以及分别位于上部空间周围的第一加热器、第二加热器和端口,第一加热器位于烹调腔内部,第二加热器位于烹调腔外部,而所述端口被定位为使得烹调腔与磁控管连通。此结构是本发明的一个优选实施例。
在本发明的另一方面中,所述烹调装置还包括:位于所述烹调腔上方的上部空间;位于烹调腔两侧上的侧部空间;以及后部框架,所述后部框架附接至烹调腔的后面,并设置有位于所述后部框架的下侧的所述冷却风扇以及与上部空间连通的开口。
在本发明的另一方面中,所述烹调装置还包括:位于所述烹调腔上方的上部空间;位于烹调腔两侧的侧部空间;以及后部框架,所述后部框架附接至烹调腔的后面,并设置有位于所述后部框架的下侧的所述冷却风扇以及与侧部空间连通的开口。
本发明的额外和/或其它方面和优点将部分地在随后的描述中阐述,并且从该描述将是显而易见的,或可以通过本发明的实践习得。
附图说明
通过参照附图描述本发明的某些实施例,本发明的上述方面和特征将更明显,在附图中:
图1是根据本发明烹调装置的主结构的分解示意图;
图2示意性示出了根据本发明烹调装置的后部空间的示例;以及
图3和图4示意性示出了根据本发明烹调装置的后部空间的其它示例。
具体实施方式
下文将参照附图详细描述本发明。
图1是根据本发明烹调装置的主结构的分解示意图,其示出了烹调腔100、门200、位于烹调腔100上方的上部空间300、位于烹调腔100后方的后部空间400、位于烹调腔100两侧上的侧部空间500、以及位于烹调腔100下面的下部空间600。
烹调腔100为用于烹饪食物的空间,并由内壳110限定。加热器120设置于烹调腔100内部的上部处,盘子或搁物架130安置在烹调腔100内。内壳110包括形成在侧面上的入口(未示出)和出口111,用于形成气流通道,以除去烹调腔100内的热量和气味。加热器120的示例为护套加热器(sheath heater)。利用盘子130代替圆形转盘会使得烹调腔100的宽度和长度(深度)发生改变,该烹调腔的更改受到转盘的限制。烹调腔100的一侧面设置有用于引导盘子130的导向件140。另外,烹调腔100的前面和后面分别设置有前框架150和后框架160。前框架150具有用于在上部空间300和门200之间形成流道的开口151。后框架160也具有形成于上侧、用于与后部空间400连通的开口161。
门200的下部被铰接至烹调腔100,从而门200能打开和关闭烹调腔100。门200形成用以覆盖烹调腔100和上部空间300。门200由把手210、前板220、输入感测单元230、门板240、控制面板250、中板260、支架270、门框280以及阻流盖290组成。
把手210为用户打开或关闭门200所使用的部分,并能由螺钉(未示出)被固定至前板220。合乎需要地,把手210具有至少一个通道(未示出),该通道以与外部连通的方式沿把手210的纵向而形成于其内部,从而减小总重量,也能最小化在烹饪期间从烹调腔100传递到用户的热量。
前板220理想地由透明玻璃制成,以使用户能看到烹调腔100的内部,并且包括按钮的显示单元(未示出)可附接或涂布到该前板220上,这些按钮用于用户选择烹调过程,或用于指示烹调装置的运行状态。
输入感测单元230为识别用户选择了哪个按钮的部分。输入感测单元230在位于由玻璃制成的前板220后面的情况下能由玻璃触摸单元组成,并能被用作静电传感器。可使用带材将玻璃触摸单元附接至前板220。输入感测单元230位于面向烹调腔100的上部空间300的门200的上部区域,且此结构确保更宽敞的烹调腔,并协助用户无障碍地轻易看到烹调腔100的内部。
门板240为固定门200的其它部件220、250等的部分,并具有用于用户查看烹调腔100内部的开口241。此外,门板240在其下面具有出口(未示出),沿着经由上部空间300从冷却风扇420(将对其进行描述)延伸至门200的冷却流道运动的流通过该出口被排出。
控制面板250为用于根据用户输入来控制烹调装置的总体操作的部分。为此,控制面板250与输入感测单元230以及中继衬底350(将对其进行描述)进行协作,并从输入感测单元230的后面固定到门板240。合乎需要地,控制面板250设置有诸如LED(发光二极管)之类的发光源,并将从该发光源发出的光照射到显示单元(未示出)。
中板260为被固定到门板240的部分,同时分别从前板220和门框280间隔开。中板260的基本功能为阻挡热量从烹调腔100传递到前板220和把手210。合乎需要地,中板260安装于门板240处,以便从冷却风扇420(将对其进行描述)产生的流经由后部空间400和上部空间300进入门200,随后在支架270(将对其进行描述)的引导下在中板260和前板220之间运动。上述流通过门板240的出口(未示出)排出。
支架270从控制面板250的后侧固定至门板240。支架270用于保护各自包括电子部件的输入感测单元230和控制面板250,以使它们免受来自烹调腔100的热量和微波、以及由冷却风扇420吹送的流的破坏,并引导流而使得流在门板240和前板220之间运动。
门框280容纳于门板240内,并被用以阻挡微波泄漏到烹调装置外面。
阻流盖290为用于朝着烹调腔100定位的门200的盖子,并具有形成在其上面、与前框架150的开口151对应的开口291。开口291优选地由微孔组成,从而在门200被打开的同时防止食物或杂质进入门200。
上部空间300为位于烹调腔100的上方、由外壳310限定的空间,并包括加热器320、导波器330、绝缘顶板340以及中继衬底350。可选地,也可设置用于照亮烹调腔100的灯(未示出)。
外壳310具有以一间距而包围烹调腔100的顶侧和两侧的形状,并被连接至前框架150和后框架160。根据需要,外壳310可具有出口311,从而已运动到烹调腔100周围和安装于烹调装置内的加热元件周围的流可被排到外界。
加热器320的示例为卤素加热器。由于上述加热器320会受微波的影响,因此,与由护套加热器形成的加热器120不同,将加热器320安装于内壳110的上侧,从而将热量从上向下供应至烹调腔100内。
导波器330从后部空间400延伸至上部空间300,并被用以将所产生的微波从磁控管(未示出)供应至烹调腔100。为达到此目的,烹调腔100的上表面处设置有端口331(参见图2)。
绝缘顶板340防止由容纳在内壳110中的加热器120所产生的热量传递到上部空间300,并具有覆盖除加热器320和导波器330之外的烹调腔100上部的形状。
中继衬底350从上部空间300的一侧安装在绝缘顶板340上,并与控制面板250互相配合以运行包括安置于后部空间400的磁控管(将对其进行描述)的部件。
图2示意性示出了根据本发明烹调装置的后部空间的示例。参照图1和图2,后部空间400为在烹调腔100的后方由盖子410限定的空间,并包括共同组成烹调装置的部件室的冷却风扇420、对流加热器组件430、以及诸如磁控管440、高压变压器450和高压电容器460之类的加热元件。
盖子410被连接至后框架160或外壳310,以覆盖上部空间300和后部空间400,且盖子410的下部被连接至底座610。盖子410或底座610的下部处设置有用于空气进入冷却风扇420的入口411。
冷却风扇420沿着后部空间400的宽度方向而定位于后部空间400的下部,并包括两侧上用以冷却安装于上侧的部件的流产生单元421和422。由于后部空间400、上部空间300和门200以连通的方式被装入,因此,能通过冷却风扇420冷却烹调装置的整个区域。另外,冷却风扇420设置有分隔壁423,该分隔壁用于防止由冷却风扇420产生的流回流至冷却风扇420。分隔壁423具有以使得流流向后部空间400上部的方式形成在两侧上的开口424和425。流产生单元421和422之间的空间426处设置有马达(未示出),该马达用于驱动流产生单元421和422。
图3和图4示意性示出了根据本发明烹调装置的后部空间的其它应用示例。参照图1-4,除了图2所示的结构,后部空间还设置有用于将气流导向磁控管440的流导向件441,以及用于将从磁控管440出来的气流引导至入口112的流导向件442,该入口112形成在烹调腔100的侧面上。此结构,尤其是流导向件442,使得稳定并高效地将冷却风扇420所产生的气流导入烹调腔100、并有效地冷却作为其中一个核心部件的磁控管成为可能。
对流加热器组件430包括风扇431、加热器432、内加热器盖433、外加热器盖434以及马达435。合乎需要地,将绝热材料(未示出)安置在内加热器盖433和外加热器盖434之间。上述对流加热器组件430必须具有马达435。由于马达435从后部空间400向后突出而安装,因此后部空间400必须具有足够深以至少容纳马达435的腔室。基于对此空间的关注,可将烹调装置的运行过程中所使用的主要部件中的大体积部件440、450和/或460安置在后部空间400内。这样,即便损失了烹调腔100在纵向上的部分,但烹调腔100也能在侧向和垂直方向上扩展。此外,通过利用盘子代替转盘,根据本发明的烹调装置能改变烹调腔100的高度、宽度和深度。而且,通过将冷却风扇420安置于后部空间400的下部处,根据本发明的烹调装置能利用后部空间400,而且还能冷却加热元件440、450和/或460。并且,通过将冷却风扇420设置于后部空间400的下部,并使得后部空间400、上部空间300、门200、烹调腔100以及侧部空间500彼此连通,根据本发明的烹调装置的整个部分能够由冷却风扇420有效地冷却。另外,由于冷却风扇420沿着后部空间400的宽度方向而安装,因此设置在后部空间400内的诸如对流加热器组件430、磁控管440、高压变压器450和高压电容器460之类的加热元件能得以有效冷却,且流能运动至上部空间300、侧部空间500和烹调腔100,并通过形成在烹调腔100下部处的底座上的出口611排出。同样,通过设置分隔壁423和开口424、425,根据本发明的烹调装置能形成流道和流,并有效地和选择性地冷却加热元件。此外,后框架160还可包括用于与侧部空间500连通的开口162。开口162使得从后部空间400至侧部空间500的直接气流成为可能,并产生至后部空间400两侧的气流,借此促进冷却处理并将气流推动至后部空间400的两侧上。
磁控管440、高压变压器450以及高压电容器460为用于烹调装置的运行的主要部件,它们各自产生大量热量。磁控管440安置在开口424的上方,而高压变压器450和高压电容器460安置在开口425的上方。可改变这些加热元件的布置。
侧部空间500为位于烹调腔100两侧上、由外壳310限定的空间,且侧部空间500合乎需要地与上部空间300、后部空间400以及下部空间600连通,并通过入口112和出口111与烹调腔100连通。从冷却风扇420产生的流从后部空间400、上部空间300、烹调腔100、侧部空间500运动而最终到达下部空间600。此时,在上部空间300内运动并朝向侧部空间500的流能将通过出口111从烹调腔100出来的流导向至下部空间600。
下部空间600为位于烹调腔100下面、由底座610限定的空间。底座610被连接至前框架150和后框架160以支承烹调装置,底座610包括出口611,从而将来源于冷却风扇420的流以及烹调腔100内产生的气味和热量排出。尽管下部空间600由后框架160从后面限定,但还是将底座610连接至后框架160上方的盖子410。因此,底座610还可用作限制后部空间400的下部的构件。出口611的位置并不特限于此,因此,出口611可位于出口111的侧面上,或优选地位于底座610的中心,以形成足够长的流道。由于热空气流通过出口611排出,因此不应将烹调装置安置在热敏厨房用具上。为了防止上述厨房用具受到过热空气的破坏,可以一定距离将盘子(未示出)连接至底座610,以便在横向上排出热量。
如到现在为止所说明的,根据本发明的烹调装置,能通过利用该烹调装置的后部空间而扩展烹调腔的高度和宽度。
此外,根据本发明的烹调装置,能有效地利用设置有对流加热器组件的后部空间。
而且,根据本发明的烹调装置,将诸如磁控管、高压变压器以及高压电容器之类的加热元件布置在后部空间内,并有效地对它们进行冷却是可能的。
另外,根据本发明的烹调装置,冷却风扇被设置于该烹调装置后部空间的下部,并能通过将主要部件安置在由冷却风扇产生的冷却流道上而对这些主要部件进行冷却。
同样,根据本发明的烹调装置,通过利用搁物架或盘子代替转盘、并利用该烹调装置的后部空间而使得调节烹调腔的高度、宽度和深度成为可能。
尽管已描述了本发明的优选实施例,但本技术领域的技术人员将了解到本发明不应限于所描述的优选实施例,而且在由所附权利要求所限定的本发明精神和范围内可作各种变更和改型。

Claims (16)

1.一种烹调装置,包括:
烹调腔;
部件室,所述部件室位于所述烹调腔的后侧并设置有用于所述烹调腔内的烹调处理的多个部件,其中所述多个部件包括磁控管以及以下部件中的至少一个部件:对流加热器组件、高压变压器和高压电容器;以及
冷却风扇,所述冷却风扇位于所述部件室内,以通过产生气流冷却所述多个部件;
分隔壁,所述分隔壁形成为跨过所述部件室,并定位成使所述冷却风扇与所述多个部件分开,其中所述分隔壁包括形成于其中的第一开口和第二开口,其中所述磁控管定位在所述第一开口的上方,所述高压变压器以及高压电容器定位在所述第二开口的上方。
2.如权利要求1所述的烹调装置,其中:
所述冷却风扇位于所述部件室的下侧,以冷却所述多个部件中的至少部分部件。
3.如权利要求1所述的烹调装置,其中:
所述冷却风扇位于所述部件室的下侧,以冷却所述多个部件,所述冷却风扇被定位于所述多个部件下面。
4.如权利要求1所述的烹调装置,其中所述烹调腔在所述烹调腔的上表面处设置有与所述磁控管连通的端口。
5.如权利要求1所述的烹调装置,其中:
所述冷却风扇沿着所述部件室的宽度方向定位,以冷却所述多个部件。
6.如权利要求1至5中的任一项所述的烹调装置,还包括气流入口以及气流导向件,所述气流入口设置在所述烹调腔的横向侧,所述气流导向件将由所述冷却风扇产生的气流导向至所述气流入口。
7.如权利要求6所述的烹调装置,其中所述气流导向件从所述部件室朝着所述气流入口延伸。
8.如权利要求1所述的烹调装置,其中所述烹调装置还包括流导向件,所述流导向件将所述气流导向至所述磁控管。
9.如权利要求1所述的烹调装置,还包括:位于所述烹调腔上方的上部空间;覆盖所述烹调腔和所述上部空间的门,其中所述冷却风扇位于所述部件室的下侧。
10.如权利要求9所述的烹调装置,其中所述门设置有通过前框架的开口与所述上部空间连通的开口。
11.如权利要求9所述的烹调装置,还包括:
加热器,所述加热器设置于所述上部空间内并加热所述烹调腔。
12.如权利要求1所述的烹调装置,还包括:
位于所述烹调腔上方的上部空间;
覆盖所述烹调腔和所述上部空间的门;以及
控制面板,位于所述门的覆盖所述上部空间的区域。
13.如权利要求12所述的烹调装置,还包括:
设置于所述上部空间并与所述控制面板协作的中继衬底。
14.如权利要求12所述的烹调装置,还包括:
分别位于所述上部空间周围的第一加热器、第二加热器和端口,所述第一加热器位于所述烹调腔内部,所述第二加热器位于所述烹调腔外部,而所述端口被定位为使得所述烹调腔与所述磁控管连通。
15.如权利要求1至5中的任一项所述的烹调装置,还包括:
位于所述烹调腔上方的上部空间;
位于所述烹调腔两侧的侧部空间;以及
后部框架,所述后部框架附接至所述烹调腔的后面,并设置有位于所述后部框架的下侧的所述冷却风扇以及与所述上部空间连通的开口。
16.如权利要求1至5中的任一项所述的烹调装置,还包括:
位于所述烹调腔上方的上部空间;
位于所述烹调腔两侧的侧部空间;以及
后部框架,所述后部框架附接至所述烹调腔的后面,并设置有位于所述后部框架的下侧的所述冷却风扇以及与所述侧部空间连通的开口。
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