CN101499102A - 一种版图设计方法和装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种版图设计方法和装置，所述方法包括以下步骤：根据第一设计规则，获取系统版图中所有图形之间的距离规则；将所述距离规则转换成与版图边框相关的第二设计规则；根据所述第一设计规则和所述第二设计规则，设计系统版图中的每个子版图；对所述子版图进行设计规则检查。通过使用本发明，可以在单个子版图的设计阶段，进行版图拼接设计规则检查，节约了对版图进行组合拼接检查的过程，大大提高了版图设计的效率；同时，也有效地避免了由版图拼接引起的设计规则错误，彻底保证了版图的可靠性。

Description

一种版图设计方法和装置

技术领域

本发明涉及版图设计领域，尤其涉及一种版图设计方法和装置。

背景技术

在版图(Layout)设计时，需要遵守工艺厂商提供的设计规则，设计规则是根据工艺产品在正常工作条件下的实际工艺水平和成品率要求，设置的一组同一工艺层及不同工艺层之间集合尺寸的限制。

版图设计完成后，需要对版图进行设计规则检查(DRC，Design RulesCheck)。在对系统版图中的单个子版图进行设计规则检查时，只需按照工艺厂商提供的设计规则进行检查，即可以保证该子版图中不存在设计规则错误。然而，当把多个没有设计规则错误的子版图拼接在一起时，却无法保证整个系统版图是否存在设计规则错误。

由于版图存在设计规则错误会严重影响产品的性能和成品率，因此，如何提供一种避免由版图拼接而引起的版图中存在设计规则错误的方法，成为亟待解决的问题。

现有技术中存在一种通过组合拼接对版图进行设计规则检查的方法，如图1所示，首先，按照工艺厂商提供的设计规则对系统版图中所有子版图进行设计规则检查；对子版图检查完成后，把所有子版图按照任意随机的方向和组合拼接在一起，再进行设计规则检查。在对子版图进行组合拼接时，需要尽量包含所有可能的组合拼接情况，以保证任意两个子版图拼接在一起都不会引起设计规则错误。

上述版图设计规则检查方法存在以下缺点：(1)随着系统版图中子版图数量的增加，子版图之间的组合数量可能会非常庞大，组合拼接检查的方法将会非常费时，降低了版图设计的效率；(2)在进行子版图组合拼接时，难免出现遗漏的情况，不能严格保证所有子版图在任何拼接情况下都不会产生设计规则错误，无法保证版图设计的可靠性。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例的目的在于提供一种版图设计方法和装置，以解决由拼接版图而引起的版图中存在设计规则错误的问题。

为达到上述目的，一方面，本发明实施例提供一种版图设计方法，包括设计子版图和对所述子版图进行设计规则检查的步骤，包括：

根据第一设计规则，获取系统版图中所有图形之间的距离规则；

将所述距离规则转换成与版图边框相关的第二设计规则；

根据所述第一设计规则和所述第二设计规则，设计系统版图中的每个子版图；

对所述子版图进行设计规则检查。

所述第一设计规则为工艺厂商提供的设计规则。

所述距离规则是对所有可拼接的两个子版图中的图形之间的距离约束，所述图形位于版图的相同图层或不同图层上。

所述第二设计规则为：

将所述图形与版图边框之间的距离设置为不小于所述第一设计规则要求的距离的一半。

所述第二设计规则与第一设计规则格式相同。

根据所述第一设计规则和所述第二设计规则，设计系统版图中的每个子版图的方法具体为：

根据所述第二设计规则，在规定的图层中设计所述子版图的边框；

在具有所述边框的子版图上，根据所述第一设计规则设计所述子版图。

对所述子版图进行设计规则检查的方法具体为：

对所述子版图进行第一设计规则检查后，再进行第二设计规则检查；或

对所述子版图进行所述第二设计规则检查后，再进行所述第一设计规则检查；或

利用所述第一设计规则与所述第二设计规则合并后得到的第三设计规则，对所述子版图进行设计规则检查。

另一方面，本发明实施例还提供一种版图设计装置，包括：

获取模块，用于根据第一设计规则，获取系统版图中所有图形之间的距离规则；

转换模块，用于将所述距离规则转换成与版图边框相关的第二设计规则；

设计模块，用于根据所述第一设计规则和所述第二设计规则，设计系统版图中的每个子版图；

检查模块，用于对所述子版图进行设计规则检查。

所述第一设计规则为工艺厂商提供的设计规则。

所述距离规则是对所有可拼接的两个子版图中的图形之间的距离约束，所述图形位于版图的相同图层或不同图层上。

所述第二设计规则为：

将所述图形与版图边框之间的距离设置为不小于所述第一设计规则要求的距离的一半。

所述第二设计规则与第一设计规则格式相同。

所述设计模块进一步包括：

第一设计单元，用于根据所述第二设计规则，在规定的图层中设计所述子版图的边框；

第二设计单元，用于在具有所述边框的子版图上，根据所述第一设计规则设计所述子版图。

所述检查模块进一步包括：

第一检查单元，用于对所述子版图进行第一设计规则检查后，再进行第二设计规则检查；或

第二检查单元，用于对所述子版图进行第二设计规则检查后，再进行第一设计规则检查；或

第三检查单元，用于利用所述第一设计规则与所述第二设计规则合并后得到的第三设计规则，对所述子版图进行设计规则检查。

与现有技术相比，本发明的实施例具有以下优点：

根据工艺厂商提供的设计规则，设置与版图边框相关的版图拼接设计规则，可以在单个子版图的设计阶段，进行版图拼接设计规则检查，节约了对版图进行组合拼接检查的过程，大大提高了版图设计的效率；同时，也有效地避免了由版图拼接引起的设计规则错误，彻底保证了版图的可靠性。

附图说明

图1为现有技术中通过组合拼接对版图进行设计规则检查的方法流程示意图；

图2为本发明实施例的一种版图设计方法流程示意图；

图3为本发明实施例的一种版图设计方法具体场景示意图；

图4为本发明实施例的一种版图设计装置示意图。

具体实施方式

本发明实施例提供一种版图设计方法和装置，在进行系统版图设计时，首先根据工艺厂商提供的设计规则，设置与版图边框相关的版图拼接设计规则，可以在单个子版图设计阶段，使用工艺厂商提供的设计规则以及版图拼接设计规则对可能由版图拼接而引起的设计规则错误进行检查，属于主动纠错。

下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。

本发明实施例的一种版图设计方法如图2所示，具体步骤如下：

步骤21，根据工艺厂商提供的第一设计规则，设置第二设计规则，并组合成第二设计规则文件。

第二设计规则即为版图拼接的设计规则，与第一设计规则的格式相同。

该步骤具体包括：

步骤21A，根据工艺厂商提供的第一设计规则，获取系统版图中所有图形之间的距离规则。

所述距离规则是对所有可拼接的两个子版图中的图形(位于相同图层或不同图层上)之间的距离约束。

如图3所示为本发明实施例的版图设计方法具体场景示意图，图3中，版图1和版图2为系统版图中的任意两个可拼接的子版图，边框1为版图1的边框，边框2为版图2的边框，边框3为版图1和版图2拼接时重合的边框。

在进行版图设计时，一般都会首先设计一个边框，用来表示版图的形状，并作为版图拼接的基准。在进行版图拼接时，为了节省面积，通常都会把需要拼接的两个子版图的边框连接在一起，即两个子版图拼接后存在重合的边框(如图3中边框3)。当然，根据需要，在进行版图拼接时，两个子版图的边框也可以不连接。因此，对于单个子版图来说，边框不仅定义了该版图的形状，还表示了与相邻子版图的位置关系。

边框1和边框2所在的图层为边框层。边框层是用来定义版图形状的标记层，在具体工艺实现中并没有物理对应，所以在工艺厂商提供的第一设计规则中没有与边框层相关的设计规则。

图形1为版图1中的版图图形，图形2为版图2中的版图图形，图形1和图形2所使用的图层均为图层1。

间距1为图形1与边框3之间的距离，间距2为图形2与边框3之间的距离，间距3为图形1和图形2之间的距离，图3中，间距3等于间距1与间距2的和。

当然，版图1和版图2也可能不连接，此时，间距3大于间距1与间距2之和。

如上所述，距离规则是对两个图形(相同图层或不同图层上)之间距离的约束，表现在图3中，即是对图形1和图形2之间的距离(即间距3)的约束。假设，工艺厂商提供的第一设计规则为“图层1中的任意两个图形之间的距离不小于d”，则根据第一设计规则，获取到的距离规则为“间距3大于等于d”。

由于获取的距离规则包含所有图形之间的距离约束，因此可以避免所有可能由版图拼接引起的设计规则错误。

步骤21B，将获取到的距离规则转换成与边框相关的第二设计规则。

如图3所示，由于间距3大于或等于间距1和间距2的和，因此，可以将对间距3的约束，转换成各个图层中的图形与边框之间的约束，即对间距1和间距2的约束，形成第二设计规则。

如上所述，获取到的距离规则为“间距3大于等于d”，则将其转换成与边框相关的第二设计规则为“图层1中的图形与边框3的距离不小于d/2”，即“间距1大于等于d/2，以及间距2大于等于d/2”。

因此，可以将第二设计规则描述为：将各个图层中的图形与版图边框的距离设置为不小于第一设计规则要求的距离的一半。这样设置既可以保证版图设计的可靠性，又可以最大限度地节省版图的面积。

第二设计规则具有稳定性，对于一个工艺产品来说，只要工艺厂商提供的第一设计规则不变，第二设计规则也不会改变，对于后续开发提供了更大的便利。

步骤21C，将所有第二设计规则组合，生成第二设计规则文件。

第二设计规则文件与工艺厂商提供的第一设计规则文件格式相同。

步骤22，根据所述第一设计规则以及所述第二设计规则，设计系统版图中的每个子版图。

对于所有的子版图，首先根据第二设计规则，在规定的图层中设计版图的边框，该版图边框与图形的距离为不小于第一设计规则要求的距离的一半。

在设计完边框的版图上，再按照第一设计规则进行版图设计。

步骤23，对设计好的子版图进行设计规则检查。

使用设计规则检查工具，根据工艺厂商提供的第一设计规则和第二设计规则，对每个设计好的子版图进行设计规则检查。

可以首先对版图进行第一设计规则检查，再进行第二设计规则检查；也可以首先对版图进行第二设计规则检查，再进行第一设计规则检查。

由于第二设计规则与工艺厂商提供的第一设计规则格式相同，因此，在进行检查时还可以把两种设计规则合并到一起，得到第三设计规则，然后对子版图进行第三设计规则检查，这样可以进一步提高版图设计规则检查的效率。

如上所述，原本需要完成版图组合拼接后才会检查出的设计规则错误，本发明实施例中，在对单个子版图的设计规则检查中就可以发现，减少了对版图进行大量、多次组合拼接检查的过程，提高了版图设计的效率。

步骤24，判断子版图是否存在设计规则错误，如果存在，返回步骤22，否则完成子版图设计。

完成设计规则检查后的子版图必须既符合第一设计规则的要求又符合第二设计规则的要求。

通过以上实施例提供的方法，可以在单个子版图的设计阶段，进行版图拼接设计规则检查，省去了对版图进行组合拼接检查的过程，大大提高了版图设计的效率；同时，也有效地避免了由版图拼接引起的设计规则错误，彻底保证了版图的可靠性。

本发明实施例的一种版图设计装置如图4所示，包括：

获取模块10，用于根据工艺厂商提供的第一设计规则，获取系统版图中所有图形之间的距离规则，并传送给转换模块20。

所述距离规则是对所有可拼接的两个子版图中的图形(位于相同图层或不同图层上)之间的距离约束。

转换模块20，用于将获取模块10传送的距离规则转换成与版图边框相关的第二设计规则，并传送给设计模块30。

第二设计规则与第一设计规则格式相同。将上述得到的第二设计规则组合成第二设计规则文件。

可以将第二设计规则描述为：将各个图层中的图形与版图边框的距离设置为不小于第一设计规则要求的距离的一半。

由于获取的距离规则包含所有图形之间的距离约束，因此可以避免所有可能由版图拼接引起的设计规则错误。

设计模块30，用于根据工艺厂商提供的第一设计规则和转换模块20传送的第二设计规则，设计系统版图中的每个子版图，并将设计好的子版图传送给检查模块40。

检查模块40，用于对设计模块30设计好的子版图进行设计规则检查。

完成设计规则检查后的子版图既符合第一设计规则又符合第二设计规则的要求。

设计模块30进一步包括：

第一设计单元31，用于根据第二设计规则，在规定的图层中设计子版图的边框。

第二设计单元32，用于在具有边框的子版图上，根据第一设计规则设计子版图。

检查模块40可以进一步包括：

第一检查单元，用于对子版图进行第一设计规则检查后，再进行第二设计规则检查；或

第二检查单元，用于对子版图进行第二设计规则检查后，再进行第一设计规则检查；或

第三检查单元，用于利用第一设计规则与第二设计规则合并后得到的第三设计规则，对子版图进行设计规则检查。

由于第二设计规则与工艺厂商提供的第一设计规则格式相同，因此，在进行检查时还可以把两种设计规则合并到一起，得到第三设计规则，然后对子版图进行第三设计规则检查，这样可以进一步提高版图设计规则检查的效率。

如上所述，原本需要完成版图组合拼接后才会检查出的设计规则错误，本发明实施例中，在对单个子版图的设计规则检查中就可以发现，省去了对版图进行大量、多次组合拼接检查的过程，提高了版图设计的效率。

利用检查模块40对子版图进行设计规则检查时，还需要判断是否存在设计规则错误，如果子版图存在错误的设计规则，则通知设计模块20，重新进行版图设计。

通过以上实施例提供的装置，可以在单个子版图的设计阶段，进行版图拼接设计规则检查，省去了对版图进行组合拼接检查的过程，大大提高了版图设计的效率；同时，也有效地避免了由版图拼接引起的设计规则错误，彻底保证了版图的可靠性。

通过以上的实施方式的描述，本领域的技术人员可以清楚地了解到本发明可借助软件加必需的通用硬件平台的方式来实现，当然也可以通过硬件，但很多情况下前者是更佳的实施方式。基于这样的理解，本发明的技术方案本质上或者说对现有技术做出贡献的部分可以以软件产品的形式体现出来，该获取机软件产品存储在一个存储介质中，包括若干指令用以使得一台终端设备执行本发明各个实施例所述的方法。

以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (14)

1.一种版图设计方法，包括设计子版图和对所述子版图进行设计规则检查的步骤，其特征在于，包括：

根据第一设计规则，获取系统版图中所有图形之间的距离规则；

将所述距离规则转换成与版图边框相关的第二设计规则；

根据所述第一设计规则和所述第二设计规则，设计系统版图中的每个子版图；

对所述子版图进行设计规则检查。

2.根据权利要求1所述版图设计方法，其特征在于，所述第一设计规则为工艺厂商提供的设计规则。

3.根据权利要求1所述版图设计方法，其特征在于，所述距离规则是对所有可拼接的两个子版图中的图形之间的距离约束，所述图形位于版图的相同图层或不同图层上。

4.根据权利要求1或3所述版图设计方法，其特征在于，所述第二设计规则为：

将所述图形与版图边框之间的距离设置为不小于所述第一设计规则要求的距离的一半。

5.根据权利要求1所述版图设计方法，其特征在于，所述第二设计规则与第一设计规则格式相同。

6.根据权利要求1所述版图设计方法，其特征在于，根据所述第一设计规则和所述第二设计规则，设计系统版图中的每个子版图的方法具体为：

根据所述第二设计规则，在规定的图层中设计所述子版图的边框；

在具有所述边框的子版图上，根据所述第一设计规则设计所述子版图。

7.根据权利要求1所述版图设计方法，其特征在于，对所述子版图进行设计规则检查的方法具体为：

对所述子版图进行第一设计规则检查后，再进行第二设计规则检查；或

对所述子版图进行所述第二设计规则检查后，再进行所述第一设计规则检查；或

利用所述第一设计规则与所述第二设计规则合并后得到的第三设计规则，对所述子版图进行设计规则检查。

8.一种版图设计装置，其特征在于，包括：

获取模块，用于根据第一设计规则，获取系统版图中所有图形之间的距离规则；

转换模块，用于将所述距离规则转换成与版图边框相关的第二设计规则；

设计模块，用于根据所述第一设计规则和所述第二设计规则，设计系统版图中的每个子版图；

检查模块，用于对所述子版图进行设计规则检查。

9.根据权利要求8所述版图设计装置，其特征在于，所述第一设计规则为工艺厂商提供的设计规则。

10.根据权利要求8所述版图设计装置，其特征在于，所述距离规则是对所有可拼接的两个子版图中的图形之间的距离约束，所述图形位于版图的相同图层或不同图层上。

11.根据权利要求8或10所述版图设计装置，其特征在于，所述第二设计规则为：

将所述图形与版图边框之间的距离设置为不小于所述第一设计规则要求的距离的一半。

12.根据权利要求8所述版图设计装置，其特征在于，所述第二设计规则与第一设计规则格式相同。

13.根据权利要求8所述版图设计装置，其特征在于，所述设计模块进一步包括：

第一设计单元，用于根据所述第二设计规则，在规定的图层中设计所述子版图的边框；

第二设计单元，用于在具有所述边框的子版图上，根据所述第一设计规则设计所述子版图。

14.根据权利要求8所述版图设计装置，其特征在于，所述检查模块进一步包括：

第一检查单元，用于对所述子版图进行第一设计规则检查后，再进行第二设计规则检查；或

第二检查单元，用于对所述子版图进行第二设计规则检查后，再进行第一设计规则检查；或

第三检查单元，用于利用所述第一设计规则与所述第二设计规则合并后得到的第三设计规则，对所述子版图进行设计规则检查。

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