CN101491799A - 一种涂装工艺 - Google Patents

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刘艳玲
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Abstract

一种涂装工艺,首先对工件表面进行清洁处理,然后喷涂底漆、面漆;喷完面漆后,再喷涂一层由面漆与罩光清漆充分混合均匀的混合物,该混合物中的面漆可以消除上一步骤喷涂的面漆表面的缺陷;喷涂完毕后烘干。它可以在工件表面形成质量较高的涂层,通过喷涂面漆、罩光清漆的混合物,实现对面漆表面缺陷的有效遮盖,且不影响面漆层原本的效果。大大提高喷涂的一次合格率,从而有效降低涂装成本。该工艺还具有方法简单、操作容易、成本低廉的特点。

Description

一种涂装工艺
技术领域
本发明涉及涂装技术领域,具体是一种涂装工艺。
背景技术
降低涂装成本、提高涂装质量、减少涂装公害一直是涂装技术发展的主题。
在目前的流水线式生产中,涂装一次下线合格率一直是困扰生产企业的重要问题。在涂装流水线施工中,喷涂完面漆后,在面漆表面存在的坑眼、气泡、扫痕等瑕疵。再经过喷涂罩光清漆,烘烤下线后,因涂装缺陷即面漆表面的瑕疵存在在表面罩光清漆层下,无法通过抛光等返修手段消除缺陷,达不到表面质量要求而需重新返工,使得生产效率大大降低,生产成本增加。这在当今行业竞争激烈的大环境下,与业界所追求的高效率低成本要求相反。
因此,如何提高涂装产品的合格率,尽量减少因返修返工造成的损失,降低成本,成为各企业所不断努力的方向。
发明内容
为了克服上述现有技术存在的缺点,本发明的目的在于提供一种涂装工艺,它大大提高涂装的一次合格率,从而有效降低涂装成本。
本发明的技术方案是:该涂装工艺,包括以下步骤:
a)首先对工件表面进行清洁处理,除去工件表面的异物,包括尘埃、颗粒、油分、水分;
b)然后在工件表面喷涂底漆;
c)根据实际生产要求,再喷涂需要使用的面漆;
d)喷完面漆后,再喷涂一层由面漆与罩光清漆充分混合均匀的混合物,混合所用的面漆为步骤c中所用的面漆;所述混合物中的面漆可以消除步骤c喷涂的面漆表面的缺陷;
e)喷涂完毕后烘干。
作为本发明的进一步的技术方案:
该涂装工艺,步骤d中的所述混合物中的面漆、罩光清漆的体系相同。
该涂装工艺,喷涂完混合物后,根据对涂层表面亮度的要求,可再喷涂一层罩光清漆,然后再烘干。
本发明的有益效果是:它可以在工件表面形成质量较高的涂层,通过喷涂面漆、罩光清漆的混合物,实现对面漆表面缺陷的有效遮盖,且不影响面漆层原本的效果。大大提高喷涂的一次合格率,从而有效降低涂装成本。该工艺还具有方法简单、操作容易、成本低廉的特点。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明做进一步的说明:
图1为本发明的工艺流程框图。
具体实施方式
如图1所示,该涂装工艺包括以下步骤:
a)首先对需要喷漆的工件表面进行清洁处理,除去工件表面的异物,包括尘埃、颗粒、油分、水分等。操作时可先用粘布擦拭工件表面,再用静电除尘枪吹工件表面,进行静电除尘。
b)然后在工件表面进行喷涂底漆;可增强对底材即工件的保护作用,而且在工件表面增设一层附着层,提高工件表面的附着力,为后续喷涂的面漆准备,此外也遮盖工件表面的细微缺陷,使工件表面更加平整,能得到更好的表面涂层,保证面漆喷完后涂层颜色的均匀性。
c)然后,再根据实际生产要求,喷涂需要使用的面漆。该面漆是一种实色面漆。
d)喷完面漆后,再喷涂一层由面漆与罩光清漆充分混合均匀的混合物,混合所用的面漆与步骤c中所用的面漆为同种面漆。该混合物中的面漆可以消除步骤c喷涂的面漆表面的缺陷。
该混合物中面漆、罩光清漆的比例根据工作要求及需要自行调整,混合物中的面漆的基质、罩光清漆的体系相同。喷涂该混合物层对面漆表面缺陷的有效遮盖的同时,不影响面漆层原本的效果。
喷涂完混合物后,根据对涂层表面亮度的要求,可再喷涂一层罩光清漆。喷涂罩光清漆,可使得到的涂层具有更好的装饰性。
如果对装饰性要求不是很高的工件,可以省去此一步骤,不用再喷涂罩光清漆。
e)喷涂完毕后烘干,即可得到高质量的涂层,保证一次成功率。
未述技术同现有技术。

Claims (3)

1、一种涂装工艺,其特征是包括以下步骤:
a)首先对工件表面进行清洁处理,除去工件表面的异物,包括尘埃、颗粒、油分、水分;
b)然后在工件表面喷涂底漆;
c)根据实际生产要求,再喷涂需要使用的面漆;
d)喷完面漆后,再喷涂一层由面漆与罩光清漆充分混合均匀的混合物,混合所用的面漆为步骤c中所用的面漆;所述混合物中的面漆可以消除步骤c喷涂的面漆表面的缺陷;
e)喷涂完毕后烘干。
2、根据权利要求1所述的一种涂装工艺,其特征是:步骤d中的所述混合物中的面漆的基质、罩光清漆的体系相同。
3、根据权利要求1或2所述的一种涂装工艺,其特征是:喷涂完混合物后,根据对涂层表面亮度的要求,可再喷涂一层罩光清漆,然后再烘干。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
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WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Open date: 20090729