CN101468044A - 一种治疗皮肤病的霜剂的配制方法 - Google Patents
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Abstract
本发明开公了一种治疗皮肤病的霜剂的配制方法,它是以马来酸氯笨那敏片、醋酸地塞米松片、蛇油抗皲嫩肤霜为原料,按一定比例配制而成。该发明霜剂为外用药,对多种皮肤病有疗效,对皮肤不仅无毒副作用、无刺激作用,而且能滋润、保养皮肤,起到美容效果。
Description
技术领域 本发明涉及一种治疗皮肤病的霜剂的配制方法。
背景技术 皮肤病是人类常见的一种疾病,病情多种多样,尤其是以皮肤搔痒类的疾患较多,在治疗过程中,有些皮肤病难以彻底治愈,容易复发,给人们的生活和工作带来很多不便。现今市场上用于治疗皮肤病的药品也相对较多,品种多样,各有千秋,但其治疗效果和作用都有相对的局限性,一种药一般只对几种特有的皮肤病有疗效。有些乳膏或药水类的皮肤病药,涂在皮肤表面,特别是脸部皮肤,有油滑的感觉,使有些皮肤病患者在用药后,日常出行受到影响。
发明内容 本发明的目的在于提供一种制作简单、安全可靠、经济实用、能有效治疗皮肤病的霜剂的配制方法。
本发明霜剂是由下列组分制成的(用量为重量份):
马来酸氯笨那敏片 68~120
醋酸地塞米松片 13~23
蛇油抗皲嫩肤霜 26000~30000
本发明霜剂的配方优选重量(份)配比范围是:
马来酸氯笨那敏片 80~110
醋酸地塞米松片 16~20
蛇油抗皲嫩肤霜 27000~29000
本发明霜剂的最佳重量(份)配比是:
马来酸氯笨那敏片 100
醋酸地塞米松片 19
蛇油抗皲嫩肤霜 28000
将上述各组分配制成本发明霜剂的方法是:将马来酸氯笨那敏片和醋酸地塞米松片研成粉末,拌入蛇油抗皲嫩肤霜中充分搅匀即可。
本发明具有如下优点:本发明人经过20多年来对皮肤病的潜心研究和临床应用,多次调整药物配方比例,使其达到最佳治疗效果,经临床验证,该发明霜剂对多种皮肤病有疗效,特别是对湿疹、荨麻疹药疹、皮肤搔痒症、神经性皮炎、虫咬症、日光性皮炎、疥疮和牛皮癣患以及男女性病等皮肤病等有显著疗效。该发明为外用药,由于用蛇油抗皲嫩肤霜作为调和乳剂,对皮肤不仅无毒副作用、无刺激作用,而且能滋润、保养皮肤,起到美容效果。
下面将本发明药物各组分的功能和药效作一简要分析。马来酸氯笨那敏片作为组织胺H,受体拮抗剂,本品能对抗过敏反应(组胺)所致的毛细血管扩张,降低毛细血管的通透性,本品抗组胺作用较持久,能增加麻醉药、镇痛药、催眠药和局麻经的作用。醋酸地塞米松片有抗炎和免疫抑制作用。而蛇油抗皲嫩肤霜作为调和乳剂,能高效保湿,使药效持久渗入皮肤,起到更直接的治疗作用。
本发明人多年来一直从事皮肤病的临床,该发明霜剂临床应用已有二十余年,经统计,治愈的病例达到33000余例,治愈率达71%以上,下面列表对治愈的情况作进一步的分析:
具体实施方式
按下述配比称取原料:马来酸氯笨那敏片100克,醋酸地塞米松片19克,蛇油抗皲嫩肤霜28000克,再将马来酸氯笨那敏片和醋酸地塞米松片研成粉末,拌入蛇油抗皲嫩肤霜中充分搅匀。
Claims (3)
1、一种治疗皮肤病的霜剂的配制方法,其特征在于它是由下述重量配比的原料制成的霜剂:
马来酸氯笨那敏片 68~120
醋酸地塞米松片 13~23
蛇油抗皲嫩肤霜 26000~30000
将上述各组分配制成本发明霜剂的方法是:将马来酸氯笨那敏片和醋酸地塞米松片研成粉末,拌入蛇油抗皲嫩肤霜中充分搅匀即可。
2、根据权利要求1所述的治疗皮肤病的霜剂的配制方法,其中各原料的配比是:
马来酸氯笨那敏片 80~110
醋酸地塞米松片 16~20
蛇油抗皲嫩肤霜 27000~29000。
3、根据权利要求1所述的治疗皮肤病的霜剂的配制方法,其中各原料的配比是:
马来酸氯笨那敏片 100
醋酸地塞米松片 19
蛇油抗皲嫩肤霜 28000。
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CNA2007103034870A CN101468044A (zh) | 2007-12-28 | 2007-12-28 | 一种治疗皮肤病的霜剂的配制方法 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106237004A (zh) * | 2016-08-22 | 2016-12-21 | 闫倩 | 一种治疗慢性单纯性苔藓的中西药结合制剂及制备方法 |
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2007
- 2007-12-28 CN CNA2007103034870A patent/CN101468044A/zh active Pending
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C12 | Rejection of a patent application after its publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
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