CN101403868B - 一种掩膜版显影液恒温装置 - Google Patents
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Abstract
本发明适用于显影液恒温技术领域，提供了一种掩膜版显影液恒温方法，设置一第一次热交换系统和一第二次热交换系统，所述第一次热交换系统通过热交换的方式将用于放置显影槽之水域槽中的循环水制冷，随后进入第二次热交换系统；所述第二次热交换系统将制冷后的循环水与置于所述显影槽中的显影液进行热交换，如此反复循环，使显影液稳定在所需的某一温度；还提供了一种上述恒温方法所采用的恒温装置，包括一第一次热交换系统和一第二次热交换系统。本发明所采用的掩膜版显影液恒温方法及恒温装置，解决了掩膜版显影液温度不稳定的问题，同时也解决了显影液中杂质过多造成掩膜版品质异常的问题，从而提高了掩膜版的精度和品质。
Description
技术领域
本发明属于显影液恒温技术领域，尤其涉及一种掩膜版显影液恒温方法及恒温装置。
背景技术
掩膜版是一种记载图形、文字信息的载体，通过曝光、显影等过程，可以将这些图形的信息传递到芯片上。掩膜版曝光完毕后，在显影、停显、定影制作过程中，由于显影液的温度变化较大，会影响显影液的均匀性及净化度，从而造成掩膜版线缝精度(即掩膜版图形的线缝设计值与实际测量值的偏差)超标，还会造成杂质过多使掩膜版产生霉点、黑点等缺陷。
发明内容
本发明的目的在于提供一种掩膜版显影液恒温装置，旨在解决现有技术中的掩膜版显影液温度变化较大的问题。
本发明是这样实现的，一种恒温装置，
包括一第一次热交换系统、一第二次热交换系统和杂质过滤系统，
所述第一次热交换系统包括温控器、热交换器和循环水液泵，所述热交换器分别与所述温控器和循环水液泵连通；
所述第二次热交换系统包括装有循环水的水域槽和装有显影液的显影槽，所述水域槽分别与所述热交换器和循环水液泵连通，所述显影槽置于所述水域槽内；
所述杂质过滤系统包括一级过滤系统、二级过滤系统和显影液循环泵，所述一级过滤系统分别与所述显影槽和二级过滤系统连通，所述显影液循环泵分 别与所述二级过滤系统和显影槽连通。
本发明所采用的掩膜版显影恒温装置，解决了掩膜版显影液温度不稳定的问题，同时也解决了显影液中杂质过多造成掩膜版品质异常的问题，从而提高了掩膜版的精度和品质。
附图说明
图1是本发明实施例提供的掩膜版显影液恒温装置的设备流程图；
图2是本发明实施例提供的掩膜版显影液恒温装置中的水域槽和显影槽的俯视图。
具体实施方式
为了使本发明要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
参阅图1所示，本发明实施例所提供的一种掩膜版显影液恒温装置，包括一第一次热交换系统和一第二次热交换系统，所述第一次热交换系统包括温控器3(温度控制在15～30±0.1℃)、热交换器4(流量控制在500～5000ml/m)和循环水液泵5，所述热交换器4分别与所述温控器3和循环水液泵5连通；所述第二次热交换系统包括装有循环水的水域槽2和装有显影液的显影槽1，所述水域槽2分别与所述热交换器4和循环水液泵5连通，所述显影槽1置于水域槽2内。
进行恒温操作时，关闭排液阀门7，打开循环控制阀门6，所述第一次热交换系统通过循环水液泵5将水域槽2内的水抽向热交换器4，与经过温控器3制冷并进入热交换器4中的制冷水进行热交换，制冷后的循环水随后进入水域槽2，所述第二次热交换系统通过制冷后的循环水与显影槽1中的显影液热交换，如此反复循环，即可使显影液稳定在所需的某一温度，保证了掩膜版的显 影质量。
通过设定温控系统3的温度，经过上述恒温装置的二次热交换，可以使显影槽1中的显影液的温度调节范围很大，可在6～50℃之间调节，且显影液的温度恒定不易突变，温度控制精度很高，可控制在±0.2℃内。
进一步地，所述显影槽1由不锈钢导热抗腐蚀材料制成，可以有效地防止显影液对显影槽1的腐蚀，延长了显影槽1的寿命。
所述恒温装置还包括杂质过滤系统，所述杂质过滤系统包括一级过滤系统17、二级过滤系统18和显影液循环泵13，所述一级过滤系统17分别与所述显影槽1和二级过滤系统18连通，所述显影液循环泵13分别与所述二级过滤系统18和显影槽1连通。杂质过滤操作时，关闭废液排放阀门15，打开过虑控制阀门16，所述显影液循环泵13将显影槽中的显影液抽向一级过滤系统17，过滤后再流向二级过滤系统18再过滤，然后流入显影槽，如此反复循环。所述一级过滤系统17能过滤1微米以上的杂质，所述二级过滤系统18能过滤0.5微米以上的杂质，通过上述过滤系统，有效地去除了显影液中的杂质，解决了显影液中杂质过多造成掩膜版品质异常的问题。
另外，该恒温方法所采用的恒温装置还包括温度显示系统，所述温度显示系统包括循环水温显器9和显影液温显器10，所述循环水温显器9与置于所述水域槽2中的循环水热传感器11连接，所述显影液温显器10与置于所述显影槽1中的显影液热传感器12连接。所述循环水温显器9通过循环水热传感器11将循环水的温度显示出来，所述显影液温显器10通过显影液热传感器12将显影液的温度显示出来。这样，可以即时观测到实际循环水的温度值和显影液的温度值，监控温度可以精确到±0.1℃；当显影液的温度变化超过所要求的范围时，与所述温控系统3连接的置于显影液中的温度传感器19自动将温度变化信号传给温控系统3，温控系统3自动调节其中的制冷水的温度，然后经过恒温装置的第一次热交换系统和第二次热交换系统，将显影液的温度控制在所要求的范围内。
该恒温方法所采用的恒温装置还包括废液排放系统，所述废液排放系统包括循环水排放系统和显影液排放系统，所述循环水排放系统包括一循环水液泵5和一排污槽8，所述循环水液泵5分别与所述排污槽8和水域槽2连通；所述显影液排放系统包括一显影液循环泵13和一废液回收槽14，所述显影液循环泵13分别与所述废液回收槽14和显影槽1连通。废液排放时，关闭循环控制阀门6，打开排液阀门7，所述循环水排放系统通过循环水液泵5将循环水抽向排污槽8；关闭过滤控制阀门16，打开废液排放阀门15，所述显影液排放系统通过显影液循环泵13将显影液抽向废液回收槽14，避免了直接排放显影液对环境产生污染。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (3)
1.一种恒温装置，其特征在于：包括一第一次热交换系统、一第二次热交换系统和杂质过滤系统，
所述第一次热交换系统包括温控器、热交换器和循环水液泵，所述热交换器分别与所述温控器和循环水液泵连通；
所述第二次热交换系统包括装有循环水的水域槽和装有显影液的显影槽，所述水域槽分别与所述热交换器和循环水液泵连通，所述显影槽置于所述水域槽内；
所述杂质过滤系统包括一级过滤系统、二级过滤系统和显影液循环泵，所述一级过滤系统分别与所述显影槽和二级过滤系统连通，所述显影液循环泵分别与所述二级过滤系统和显影槽连通。
2.如权利要求1所述的恒温装置，其特征在于：还包括温度显示系统，所述温度显示系统包括循环水温显器和显影液温显器，所述循环水温显器与置于所述水域槽中的循环水热传感器连接，所述显影液温显器与置于所述显影槽中的显影液热传感器连接。
3.如权利要求1所述的恒温装置，其特征在于：还包括废液排放系统，所述废液排放系统包括循环水排放系统和显影液排放系统，所述循环水排放系统包括一循环水液泵和一排污槽，所述循环水液泵分别与所述排污槽和水域槽连通；所述显影液排放系统包括一显影液循环泵和一废液回收槽，所述显影液循环泵分别与所述废液回收槽和显影槽连通。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2008102172986A CN101403868B (zh) | 2008-11-07 | 2008-11-07 | 一种掩膜版显影液恒温装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2008102172986A CN101403868B (zh) | 2008-11-07 | 2008-11-07 | 一种掩膜版显影液恒温装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101403868A CN101403868A (zh) | 2009-04-08 |
| CN101403868B true CN101403868B (zh) | 2011-10-05 |
Family
ID=40537918
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2008102172986A Active CN101403868B (zh) | 2008-11-07 | 2008-11-07 | 一种掩膜版显影液恒温装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN101403868B (zh) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101655672B (zh) * | 2009-09-11 | 2012-05-23 | 虎丘影像科技（苏州）有限公司 | 一种药液循环管路 |
| CN105319872B (zh) * | 2014-07-15 | 2020-02-07 | 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 | 一种显影液恒温保持管路系统 |
| CN105573067B (zh) * | 2016-01-28 | 2020-03-17 | 信利（惠州）智能显示有限公司 | 一种显影液的温度控制装置 |
| CN106773153B (zh) * | 2016-11-10 | 2019-10-25 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种蚀刻液的保温装置 |
| CN113960897B (zh) * | 2021-11-03 | 2023-09-19 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种显影装置及方法 |
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-
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|---|---|
| CN101403868A (zh) | 2009-04-08 |
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| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| GR01 | Patent grant | ||
| C56 | Change in the name or address of the patentee |
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