CN101396646A - 超临界流体处理装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种适于批量制备包括纳米级化合物的超细粉体和凝胶材料干燥的超临界流体处理装置,由釜体、端盖、温控器、介质引入口及其压力调节阀、压力表、排气口及其控制阀所组成,其釜体设有与落地支架转动连接的径向撑轴,釜体部分表面设有环釜体的电热层,电热层的电热元件连接于温控器输出端,釜体的端盖至少设有2个排气口,各排气口的气体导管经由制冷设备的冷凝器连接于介质回收容器。本装置的加热结构使介质及物料升温快且均匀。高压釜体的径向撑轴可使其侧向转动,便于成品物料卸出。多个排气口和冷凝器的设置,可以加快工艺过程并迅速回收介质流体。经生产实践证明本装置可用于二氧化碳、乙醇、丙酮、异丙醇等介质形成超临界流体。
Description
技术领域
本发明属于高压化工设备,特别是涉及一种适用于批量制备包括纳米级化合物的超细粉体和凝胶材料干燥的超临界流体处理装置。
背景技术
公告号CN2737460的实用新型《一种多功能超临界流体装置》,含有釜体部分、油槽冷热循环部件及智能控制显示部分;釜体部分包括压力源、压力表、高压釜、压力调节针阀、高压釜体夹套、悬挂式电加热炉;油槽冷热循环部件包括加热油槽、冷却油槽、油泵;智能控制显示部分设置有温度和压力的数据显示及控制表盘、声光报警装置,并与设置在高压釜体中的压力传感器、温度传感器电连接;油槽冷热循环部件与釜体部分相连接。
上述超临界流体装置通过油槽和悬挂式电加热炉两种方式为釜内介质加热,因此其结构较复杂。
发明内容
本发明是为了解决上述超临界流体装置结构较复杂的技术问题,而提出一种结构简单、操作方便、适用于批量制备包括纳米级化合物的超细粉体和凝胶材料干燥的超临界流体处理装置。
本发明为解决上述超临界流体装置结构较复杂的技术问题采取以下技术方案:本处理装置由高压釜体及其端盖、温控器及其温度传感器、高压釜体端盖的介质引入口及其压力调节阀、压力表、排气口及其控制阀所组成,其特征在于:高压釜体设有与落地支架转动连接的径向撑轴,高压釜体部分表面设有环釜体的电热层,电热层的电热元件连接于温控器输出端,高压釜体的端盖至少设有2个排气口,各排气口的气体导管经由制冷设备的冷凝器连接于介质回收容器。
本发明还可以采取以下技术措施:
所述的高压釜体的端盖设有2-4个带有控制阀的排气口。
所述的环釜体的电热层设置于高压釜体的下部,其电热元件是电热丝,电热层表面设有支撑于高压釜体的护罩。
所述的落地支架设有吊挂高压釜体端盖的悬架,吊挂机构由省力滑轮组和钢索构成。
本发明的有益效果和优点在于:本装置采用复合于高压釜体电热层的加热结构,使介质和物料升温快且均匀。高压釜体的径向撑轴可使其侧向转动,便于成品物料卸出。本装置的多个排气口和冷凝器的设置,可以加快工艺过程并迅速回收介质流体。本装置的气压和温度控制方式经生产实践证明可用于二氧化碳、乙醇、丙酮、异丙醇等介质形成超临界流体。本发明具有结构简单、操作方便、适用于批量制备包括纳米级化合物超细粉体和凝胶材料干燥的突出优点。
附图说明
附图1是本发明实施例结构局部剖面示意图。
附图2是图1端盖部分放大示意图。
图中标号:1 高压釜体,1-1 电热层,1-2 护罩,1-3 端盖,1-4螺栓,1-5 带控制阀的排气口,1-6 带压力调节阀的介质引入口,1-7 径向撑轴,2 落地支架,3 温控器,4 温度传感器,5 钢索,6介质回收容器,7 冷凝器,8 定滑轮,9 悬架,10 气体导管,11滑轮座,12 压力表。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步说明。
如图1、2所示实施例,本处理装置的高压釜体1和螺栓1-4紧定的端盖1-3构成高压密封容器,高压釜体1上端部的径向撑轴1-7支撑于落地支架2的轴承,使高压釜体1可以侧向转动。
高压釜体1的下部表面设有环釜体的电热层1-1,电热层的电热元件是电热丝,其两端连接于温控器3输出端。高压釜体1设有电热层1-1的护罩1-2,护罩与电热层之间设有间隔,该间隔可以填充保温耐热材料。
温控器3的温度传感器4是电热偶,电热偶支撑于高压釜体1的端盖1-3。温控器3选用市售产品,其面板设有反映高压釜体内部温度的温度表及温度设定钮,温度控制精度为±3℃。
高压釜体的端盖1-3设有带压力调节阀的介质引入口1-6,压力调节阀选用调节精度较高的针阀,端盖1-3设有压力表12。
高压釜体的端盖1-3设有带控制阀的排气口1-5,共4个,各排气口1-5围绕端盖1-3中心的滑轮座11对称分布。
落地支架2的一侧设有位于高压釜体上方的悬架9,安装于悬架的定滑轮8及其钢索5与支撑在滑轮座11的动滑轮构成高压釜体端盖的吊挂机构,钢索5设有现有技术中的锁止机构(附图未示出)。
悬架9同时也吊挂各排气口1-5的气体导管10,各气体导管经由制冷设备的冷凝器7中的回旋管连接于介质回收容器6。
本实施例高压釜体容积为50立升,最高加热温度360℃,最大压力18Mpa。
以下简述本装置的工作过程:压力源的介质经介质引入口1-6输入于装有待加工物料的高压釜体1中,通过吊挂机构将端盖1-3吻合于高压釜体1,旋紧各螺栓1-4使端盖与高压釜体密封接合。启动温控器3电热层1-1得电加热,分别通过介质引入口1-6的压力调节阀和温控器调节高压釜体的温度和压力,当温度和压力达到介质的超临界状态时产生超临界流体,对待加工物料进行脱溶、逆向结晶、干燥、超临界化学反应等多种工艺处理。处理毕,高压釜体降温、降压。之后,通过各排气口1-5及气体导管10排出汽化介质,并同时经冷凝器7使之结露成液态由介质回收容器6回收。通过吊挂机构提升端盖1-3,侧向转动高压釜体1,使处理后物料快速卸出。
Claims (4)
1、超临界流体处理装置,由高压釜体及其端盖、温控器及其温度传感器、高压釜体端盖的介质引入口及其压力调节阀、压力表、排气口及其控制阀所组成,其特征在于:高压釜体设有与落地支架转动连接的径向撑轴,高压釜体部分表面设有环釜体的电热层,电热层的电热元件连接于温控器输出端,高压釜体的端盖至少设有2个排气口,各排气口的气体导管经由制冷设备的冷凝器连接于介质回收容器。
2、根据权利要求1所述的处理装置,其特征在于:所述的高压釜体的端盖设有2-4个带有控制阀的排气口。
3、根据权利要求1所述的处理装置,其特征在于:所述的环釜体的电热层设置于高压釜体的下部,其电热元件是电热丝,电热层表面设有支撑于高压釜体的护罩。
4、根据权利要求1所述的处理装置,其特征在于:所述的落地支架设有吊挂高压釜体端盖的悬架,吊挂机构由省力滑轮组和钢索构成。
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---|---|---|---|
CNA200710061214XA CN101396646A (zh) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | 超临界流体处理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CNA200710061214XA CN101396646A (zh) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | 超临界流体处理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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CN101396646A true CN101396646A (zh) | 2009-04-01 |
Family
ID=40515634
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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CNA200710061214XA Pending CN101396646A (zh) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | 超临界流体处理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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CN (1) | CN101396646A (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103363783A (zh) * | 2013-07-15 | 2013-10-23 | 哈尔滨工业大学 | 一种超临界流体干燥装置及使用方法 |
CN110914684A (zh) * | 2017-09-15 | 2020-03-24 | 株式会社岛津制作所 | 超临界流体装置 |
-
2007
- 2007-09-28 CN CNA200710061214XA patent/CN101396646A/zh active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103363783A (zh) * | 2013-07-15 | 2013-10-23 | 哈尔滨工业大学 | 一种超临界流体干燥装置及使用方法 |
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Date | Code | Title | Description |
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Open date: 20090401 |