CN101389992B - 光系统及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种光系统，使得在光波导路斜着互相交叉的多个芯部分与连接于个个芯部分的多个光纤之间，能够实现高精度的定位。本发明的光合分波器(1)具有基板(2)、形成在基板(2)上且光学地连接光纤(6a，6b，6c)的光波导路(4)。光波导路(4)具有斜着互相交叉的直线的多个芯部分(12a，12b，12c)。基板(2)具有将与多个芯部分(12a，12b，12c)的2个以上光学地连接的多个光纤(6a，6b，6c)进行定位和支撑的V形槽(28a，28c)。V形槽(28a，28c)支撑多个光纤(6a，6b，6c)时，多个芯部分(12a，12b，12c)和与它们连接的多个光纤(6a，6b，6c)之间的中心偏差为5μm。

Description

光系统及其制造方法

技术领域

本发明涉及光系统及其制造方法，更详细地，涉及在基板之上定位光纤的光系统。

背景技术

已知有搭载光纤、光波导路、光收发机等光元件的光系统。作为涉及的光系统的一个例子，有形成光波导路的光合分波器，所述光波导路具有互相斜着交叉的芯部分(例如，参照专利文献1～3)。

图15是作为专利文献1中公开的光系统的光合分波器的概略图。

该光合分波器200具有在光传播方向A上延伸的光波导路201，光波导路201具有互相斜着交叉的直线的芯部分202a、202b。为了将各芯部分202a、202b与配置在光传播方向A上的光纤203a、203b、203c光学地连接，光波导路具有连接于芯部分而形成的且弯曲的延长部分204a、204b、204c。该光合分波器200适合的情形为：光纤203a、203b、203c以光纤阵列205a、205b的方式连接于延长部分204a、204b、204c。光纤203a、203b、203c通过V字形断面的V形槽206，能够相对延长部分204a、204b、204c进行高精度地定位和支撑，所述V字形断面的V形槽206是通过各向异性蚀刻在光纤阵列205a、205b上形成的。

图16是作为专利文献2中公开的光系统的光收发器的概略图。

该光收发器210具有在光传播方向A上延伸的基板211、在基板211上层叠的光波导路212。光波导路212具有在交叉部213上互相斜着交叉的直线的芯部分214a、214b，交叉部213上配置滤光器215。一个芯部分214a的一个端部上光学地连接光纤216，另一个端部上光学地连接光接收器217。在另一个芯部分214b上光学地连接光发射器218。基板211由具有晶轴的材料来形成，晶轴的方向与光纤216的光轴216a一致。光纤216通过V字形断面的V形槽219，能够相对芯部分214a进行高精度地定位和支撑，所述V字形断面的V形槽219是通过各向异性蚀刻沿晶轴方向形成于基板211上。

图17是作为专利文献3中公开的光系统的光合分波器的概略图。

该光合分波器230具有在光传播方向A上延伸的基板231、在基板231上定位且固定的光波导路232。基板231与光波导路232是分别分开地制造的。光波导路232具有在交叉部233上互相斜着交叉的直线的芯部分234a、234b，交叉部233上配置滤光器235。一个芯部分234b的两端部上光学地连接光纤236a、236b，另一个芯部分234a的一个端部上也光学地连接着光纤236c。光纤236a、236b、236c被形成在基板231上的矩形断面的凹部237定位和支撑。

专利文献1：日本特开平10-332992号公报

专利文献2：日本特开2002-90560号公报

专利文献3：日本实开昭62-35308号公报

发明内容

专利文献1中公开的光系统中，全部的光纤相对于延长部分以高精度被定位，但是，由于具有弯曲的延长部，因此，光系统的光传播方向长度加长，光损耗增大。

与此相对，专利文献2中公开的光系统中，光纤、光发射器以及光接收器被连接于互相斜着交叉的直线的芯部分，因此，可以缩短光系统的光传播方向长度。但是，第2光纤不能替代光发射器以高精度连接在芯部分上。详细来说，由于基板的晶轴的方向与光纤(第1光纤)的光轴一致，因此，第2光纤相对于晶轴方向被斜着配置。因而，不能通过在晶轴方向上形成槽的上述各向异性蚀刻，形成与基板的晶轴方向不一致的第2光纤用的槽，因此，在专利文献2中公开的光系统中，不能在基板上形成用于定位第2光纤的槽。其结果为，不能将第2光纤以高精度连接于芯部分。

专利文献3中公开的光系统中，具有互相斜着交叉的光轴的光纤连接于互相斜着交叉的芯部分，能够缩短光系统的光传播方向的长度。但是，为了定位光纤，使用分别分开地制作的光波导路与基板，因此，难以将搭载在基板的凹部的光纤相对于光波导路的芯部分以高精度来定位。

因此，本发明的第1目的是提供一种在光波导路的斜着交叉的多个芯部分与连接于各个芯部分的多个光纤之间，能实现高精度的定位的光系统。

另外，本发明的第2目的是提供一种光系统，该光系统能分别将多个光纤以其光轴互相斜着交叉的状态，以高精度光学地连接于斜着互相交叉的多个芯部分，可以缩短光系统的光传播方向长度。

另外，本发发明的第3目的是提供一种相对于基板晶轴能够斜着高精度地定位光纤的光系统，以及提供一种制造光系统的方法，该光系统具有相对于基板的晶轴能斜着高精度地定位光纤的槽。

为了实现上述第1目的，本发明的光系统的特征为，具有基板和在基板上形成的且光学地连接光纤的光波导路，光波导路具有斜着互相交叉的直线的多个芯部分，基板具有用于将与多个芯部分的2个以上光学地连接的多个光纤进行定位的定位部，定位部具有支撑各光纤的槽，槽支撑多个光纤时，多个芯部分与光学地连接于它们的多个光纤之间的中心偏差为5μm以下。

这样构成的光系统中，斜着互相交叉的直线的多个芯部分，与分别连接于多个芯部分的多个光纤之间的中心偏差为5μm以下。详细来讲，在以往技术中，具有光学地连接于斜着互相交叉的直线的多个芯部分的多个光纤的情形中，通过使与一个芯部分对应的光纤的光轴与基板的晶轴方向一致、采用由各向异性蚀刻形成在晶轴方向的V形槽来支撑光纤，能够使一个芯部分和与其对应的的光纤的中心偏差为5μm以下。但是，连接于其他的芯部分的光纤相对于基板的晶轴斜着配置，因此，不能使用由上述各向异性蚀刻形成的V形槽，不能使对应于其他的芯部分的光纤的中心偏差为5μm以下。与此相对，本发明的光系统通过采用后述的实施方式，能够使多个芯部分和与其对应的多个光纤之间的中心偏差都为5μm以下，优选为0.3～1.0μm。即，在光波导路斜着互相交叉的多个芯部分与连接于各个芯部分的多个光纤之间，能够实现高精度的定位。此外，由于光纤连接于互相斜着交叉的直线的芯部分，因此，能够缩短光系统的传播方向长度，也能够实现上述第2目的。

在上述光系统的实施方式中，优选方式为：基板具有晶轴，至少一个光纤对于晶轴斜着定位，槽由沿着在晶轴方向上延伸的多个轴线而形成的多个槽来构成，多个槽沿着相对于晶轴斜着定位的光纤的光轴，在与晶轴方向对应的横向上被逐渐错开连续地配置。

在这样结构的光系统中，采用由各向异性蚀刻而在晶轴方向形成的多个槽，将光纤相对于晶轴方向斜着支撑来定位，从而，相对于芯部分能够以高精度来定位光纤，可以使多个芯部分和与其对应的多个光纤之间的中心偏差都为5μm以下，优选为0.3～1.0μm。

在该光系统的实施方式中，更优选的方式为：采用与定位于槽的光纤的光轴平行地延伸、并且具有互相相对的直线轮廓的掩模，通过各向异性蚀刻同时形成多个槽。

另外，在上述光系统的实施方式中，优选的方式为：通过使用金属模具的模压成型，沿着被槽支撑的光纤的光轴来形成槽。

在这样的结构的光系统中，通过玻璃基板或树脂基板与模压成型的组合，能够沿着被槽支撑的光纤的光轴高精度地形成槽，使多个芯部分和与其对应的多个光纤之间的中心偏差都为5μm以下，优选为0.3～1.0μm。

在该光系统的实施方式中，更优选的方式为：基板为玻璃基板或树脂基板。

另外，为了实现上述第1目的，本发明的光系统的特征为，具有基板、在基板上形成且光学地连接光纤的光波导路，光波导路具有斜着互相交叉的直线的多个芯部分，基板具有晶轴，还具有用于将与多个芯部分的2个以上光学地连接的多个光纤进行定位的定位部，定位部具有支撑各光纤的槽，至少一个光纤对于晶轴被斜着定位，为了用至少2个位点支撑斜着定位的光纤，而设置至少2个槽，沿着在晶轴方向上延伸的轴线形成至少2个槽，并且，所述至少2个槽在晶轴方向及其垂直方向上被互相错开配置，基板具有凹部，用于防止在至少2个槽上定位的光纤在上述至少2个槽之间与基板连接。

这样结构的光系统中，采用由各向异性蚀刻在晶轴方向形成的至少2个槽，用至少2个位点来支撑光纤，将其对于晶轴方向斜着定位。此外，通过槽与槽之间的凹部，能够防止在其间光纤与基板连接。这样，相对于芯部分能够以高精度定位光纤。此外，由于光纤连接于互相斜着交叉的直线的芯部分，因此，能够缩短光系统的光传播方向长度，也能够实现上述第2目的。

在该光系统的实施方式中，优选的方式为：凹部的深度比槽的深度深。

在该光系统的实施方式中，优选的方式为：槽支撑多个光纤之时，多个芯部分和与其光学地连接的多个光纤之间的中心偏差为0.3～1.0μm。

另外，为了实现上述第2目的，本发明的光系统的特征为，具有带有晶轴的基板、在基板上形成且光学地连接光纤的光波导路，光波导路具有端面、由端面延伸的直线的多个芯部分，使得对于光传播方向成交叉角度θ斜着延伸且互相交叉，基板具有用于将与多个芯部分的2个以上光学地连接的多个光纤进行定位的定位部，定位部具有支撑各光纤的槽，光波导路的端面与芯部分互相交叉的位点之间的光传播方向的距离即折回长度为a～2amm，a是以角度θ斜着切割光纤顶端时，由式(1)算出，垂直地切割光纤顶端时，由式(2)算出，这里，d是光纤的外径。

a＝d/2×1/sinθ......式(1)

a＝d/2×1/sinθ-d×sinθ......式(2)

这样结构的光系统中，分别将多个光纤以其光轴互相斜着交叉的状态光学地连接于斜着互相交叉的多个芯部分，使光波导路的端面与芯部分互相交叉的位点之间的光传播方向的距离即折回长度为上述a～2a。详细来说，在以往技术中，光学地连接于斜着互相交叉的多个芯部分的多个光纤，在某些情形中，采用由各向异性而在晶轴方向上形成的V形槽，能够以高精度实现1个芯部分和与其对应的光纤的光学的连接。但是，连接于其他的芯部分的光纤的光轴对于基板的晶轴被斜着配置，因此，不能使用由上述各向异性蚀刻所形成的V形槽，不能使其他的芯部分与光纤以高精度光学地连接。与此相对，本发明的光系统通过采用后述的实施方式，分别将多个光纤以其光轴互相斜着交叉的状态高精度地光学地连接于斜着互相交叉的多个芯部分，可以使折回长度为上述a～2a。这样，可以缩短光系统的光传播方向的尺寸。

在该光系统的实施方式中，优选的方式为：基板具有晶轴，至少一个光纤相对于晶轴斜着定位，为了用至少2个位点来支撑斜着定位的光纤而设置至少2个槽，沿着在晶轴方向延伸的轴线来形成至少2个槽、并且其所述至少2个槽在晶轴方向及其垂直方向上被互相错开配置，基板具有凹部，用于防止定位于至少2个槽的光纤在上述至少2个槽之间与基板连接。

在这样结构的光系统中，采用由各向异性蚀刻在晶轴方向上形成的至少2个槽，用至少2个位点来支撑光纤，使其对于晶轴方向斜着定位，从而，分别将多个光纤以其光轴互相斜着交叉的状态高精度地光学地连接于斜着互相交叉的多个芯部分，可以使折回长度为上述a～2a。

在该光系统的实施方式中，更优选的方式为：凹部的深度比槽的深度深。

在上述光系统的实施方式中，优选的方式为：基板具有晶轴，至少一个光纤相对于晶轴被斜着定位，槽由沿着在晶轴方向延伸的多个轴线而形成的多个槽来构成，多个槽沿着相对于晶轴被斜着定位的光纤的光轴，在与晶轴方向对应的横向上被逐渐错开连续配置。

在这样结构的光系统中，采用由各向异性在晶轴方向上形成的多个V形槽，将光纤相对于晶轴方向斜着支撑来定位，从而，分别将多个光纤以其光轴互相斜着交叉的状态高精度地光学地连接于斜着互相交叉的多个芯部分，可以使折回长度为上述a～2a。

在该光系统的实施方式中，更优选的方式为：采用与定位于槽的光纤的光轴平行地延伸、并且具有互相相对的直线轮廓的掩模，由各向异性蚀刻在晶轴方向上同时形成多个槽。

在上述光系统的实施方式中，优选的方式为：通过使用金属模具的模压成型，沿着被槽支撑的光纤的光轴来形成槽。

在这样的结构的光系统中，通过基板与模压成型的组合，能够使槽沿着被其支撑的光纤的光轴高精度地形成，分别将多个光纤以其光轴互相斜着交叉的状态高精度地光学地连接于斜着互相交叉的多个芯部分，可以使折回长度为上述a～2a。

在该光系统的实施方式中，更优选的方式为：基板是玻璃基板或树脂基板。

在上述光系统的实施方式中，更优选的方式为：形成槽，使得芯部分的中心线的延长线与光学地连接于芯部分的光纤的中心线一致。在该实施方式中，优选的方式为：槽支撑多个光纤时，多个芯部分和与其光学地连接的光纤之间的中心偏差为5μm以下，中心偏差更优选为0.3～1.0μm。

另外，在上述全部的实施方式中，优选的方式为：槽具有V字形或倒梯形的断面。这里，所说的倒梯形是指上底比下底长的梯形。

为了实现上述第3目的，本发明的光系统具有带有晶轴的基板、搭载在基板上的光元件，为了将第1光纤与光元件光学地连接，基板具有将第1光纤相对于晶轴方向斜着定位于基板上的第1定位部，第1定位部具有用于在至少2个位点支撑第1光纤的至少2个第1槽，至少2个第1槽沿着在晶轴方向上延伸的轴线来形成，并且，所述2个第1槽在晶轴方向及其垂直方向上被互相错开配置，基板具有第1凹部，用于防止在至少2个第1槽上定位的第1光纤在上述至少2个第1槽之间与基板连接。

采用这样结构的本发明的光系统，即使在第1光纤相对于基板的晶轴方向被斜着定位的情形中，也能将第1光纤相对于光元件以高精度来定位。详细来讲，在以往技术中，采用由各向异性蚀刻来形成的V形槽高精度地定位光纤的情形中，只能将光纤定位于晶轴方向或其垂直方向上。与此相对，在本发明的光系统中，采用由各向异性蚀刻在晶轴方向上形成的至少2个第1槽，用至少2个位点来支撑第1光纤，从而，能够将相对于基板的晶轴斜着定位的第1光纤相对于光元件以高精度来进行定位。用语“第1”是为了区别于后述的优选的实施方式的用语“第2”而使用的，在本发明中，例如，第2光纤可以不存在。

在这些光系统的实施方式中，优选的方式为：第1凹部的深度比第1槽的深度深。

另外，在上述光系统的实施方式中，优选的方式为：第1槽具有V字形或倒梯形的断面。这里，所说的倒梯形是指上底比下底长的梯形。

另外，在上述光系统的实施方式中，优选的方式为：进一步具有将光学地连接光元件的第2光纤定位于基板上的第2定位部，第2定位部具有支撑第2光纤的第2槽，使得第2光纤的光轴与通过第1定位部定位的第1光纤的光轴的各延长线互相斜着交叉。

在这样结构的光系统中，即使在第1光纤的光轴与第2光纤的光轴互相交叉的情形中，也能将第1光纤与第2光纤以高精度定位于光元件。此时，连接第1光纤的光元件与连接第2光纤的光元件可以相同，也可以不同。详细来讲，在以往技术中，第1光纤的光轴与第2光纤的光轴互相交叉的情形中，采用由各向异性蚀刻在晶轴方向上形成的V形槽，能够将一个光纤沿着晶轴高精度地配置，但是其他的光纤光轴相对于晶轴方向是斜的，因此，不能采用由上述各向异性蚀刻形成的V形槽来定位。与此相对，在本发明的光系统中，如上所述，能够使相对于基板的晶轴斜着定位的光纤相对于光元件以高精度来定位。

在上述实施方式中，更优选的方式为，为了用至少2个位点来支撑第2光纤而设置至少2个第2槽，沿着在晶轴方向延伸的轴线来形成至少2个第2槽，并且其所述2个第2槽在晶轴方向及其垂直方向上被互相错开配置，基板具有第2凹部，用于防止在至少2个第2槽上定位的第2光纤在上述至少2个第2槽之间与基板连接。

在这样结构的光系统中，即使第1光纤以及第2光纤这两者的光轴相对于基板的晶轴方向是斜的，也能够将第1光纤以及第2光纤相对于光元件高精度地定位。

在该光系统的实施方式中，优选的方式为：第2凹部的深度比第2槽的深度深。

另外，在上述光系统中，优选的方式为：光元件是在基板上层叠的光波导路或者透镜。

另外，在定位第1光纤以及第2光纤的上述实施方式中，优选的方式为：光元件为在基板上层叠的光波导路，光波导路具有光学地连接于第1光纤的第1芯部分和光学地连接于第2光纤的第2芯部分，在第1芯部分与第2芯部分的交叉部上，设有用于设置滤光器的滤光器设置装置。

另外，在该实施方式中，优选的方式为：形成第1槽，使得第1芯部分的中心线的延长线与光学地连接于第1芯部分的第1光纤的中心线相一致，并且，形成第2槽，使得第2芯部分的中心线的延长线与光学地连接于第2芯部分的第2光纤的中心线相一致。

另外，为了实现上述第3目的，本发明的方法制造具有槽的光系统，所述槽用于将光学地连接于基板上的光元件的光纤定位于基板上，本发明的方法的特征为，具有准备带有晶轴的基板的步骤、在基板上搭载光元件的步骤、为了将光纤与光元件光学地连接而由各向异性蚀刻形成用于将光纤相对于晶轴方向斜着定位于基板上的槽的步骤；由各向异性蚀刻形成槽的上述步骤由如下步骤构成：采用与光纤平行地延伸且具有互相相对的直线轮廓的掩模、以及为了减小被蚀刻的基板的各结晶面的加工速度的差别而制备的蚀刻溶液，形成具有与光纤同方向上延伸的侧面的槽。

这样构成的本发明的方法，不同于由各向异性蚀刻在晶轴方向上形成槽的以往的方法，可以由各向异性蚀刻在相对于晶轴的斜向上高精度地形成槽。详细来讲，以往的各向异性蚀刻利用在被蚀刻的基板的各结晶面上，被蚀刻的加工速度显著不同的特点。所说的前述的各结晶面是指含有单晶结构的结晶晶胞的立方体的对角线的各个面。因而，在相对于晶轴的斜向上形成光纤用的槽的情形中，如果用以往的方法，则不能沿着与在光纤同方向上延伸的面进行蚀刻，在各结晶面上以不同的加工速度进行蚀刻，其结果为，在沿着晶轴方向的形状上形成槽。例如，使用与光纤平行地延伸且具有互相相对的直线的轮廓的掩模时，产生侧面蚀刻，在与光纤同向上延伸。即，不能形成相对于晶轴斜着延伸的槽。本发明的申请人采用与光纤平行地延伸且具有互相相对的直线轮廓的掩模、以及为了减小被蚀刻的基板的各结晶面的加工速度的差而制备的蚀刻溶液，进行蚀刻，从而减少过剩的侧面蚀刻，即，能够抑制侧面蚀刻，高精度地形成相对于晶轴在斜向上延伸的槽。其结果为，通过在该槽中设置光纤，能够将光纤高精度地定位于基板上。

如以上说明所示，通过本发明的光系统，在光波导路斜着互相交叉的多个芯部分与连接于各芯部分的多个光纤之间，能够实现高精度的定位。

另外，通过本发明的光系统，分别将多个光纤以其光轴互相斜着交叉的状态以高精度光学地连接于斜着互相交叉的多个芯部分，可以缩短光系统的光传播方向长度。

另外，通过本发明的光系统以及光系统制造方法，能够相对于基板的晶轴斜着将光纤高精度地定位。

附图说明

图1是作为本发明的第1实施方式的光合分波器的平面图。

图2是图1所示的光合分波器的正面图。

图3a是图1的线3a-3a的断面图。

图3b是图1的线3b-3b的断面图。

图3c是图1的线3c-3c的断面图。

图3d是图1的线3d-3d的断面图。

图3e是图1的线3e-3e的断面图。

图3f是图1的线3f-3f的断面图。

图4是作为本发明的第2实施方式的光合分波器的平面图。

图5是图4所示的光合分波器的正面图。

图6a是图4的线6a-6a的断面图。

图6b是图4的线6b-6b的断面图。

图7是作为本发明的第3实施方式的光合分波器的平面图。

图8是图7所示的光合分波器的正面图。

图9a是图7的线9a-9a的断面图。

图9b是图7的线9b-9b的断面图。

图10是表示用于形成图7所示的光合分波器的基板的图。

图11是作为本发明的第4实施方式的光合分波器的平面图。

图12是图11所示的光合分波器的正面图。

图13是最小折回长度的说明图。

图14是最小折回长度的说明图。

图15是以往技术的光合分波器的概略图。

图16是以往技术的光收发器的概略图。

图17是以往技术的光合分波器的概略图。

符号说明

1、50、70、90光合分波器

2、71基板

6a、6b、6c光纤

4光波导路

4a、4c端面

10a、10b、10c定位部

12a、12b、12c芯部分

12d交叉部

16槽(滤光器设置装置)

22a、22b、22c光轴

26a、26c槽

26b凹部

28a、28c V形槽

30a、30c轴线

52a、52b、52c定位部

54a、54b......V形槽

60a、60b......轴线

72a、72b、72c定位部

74V形槽

92a、92b、92c透镜

A光传播方向

具体实施方式

以下，参照附图，对本发明的光系统的实施方式进行说明。

首先，参照图1、图2以及图3a～图3f，对作为本发明的光系统的第1实施方式的光合分波器进行说明。图1是作为本发明的第1实施方式的光合分波器的平面图，图2是图1所示的光合分波器的正面图。另外，图3a～图3f分别是图1的线3a-3a～3f-3f的断面图。

如图1和图2所示，作为本发明的第1实施方式的光合分波器1具有基板2、作为搭载在基板2上的光元件的光波导路4、连接于光波导路4的3根光纤6a，6b，6c、在光波导路4中间部4b配置的滤光器8。具体来讲，光波导路4被层叠在基板2上。

基板2在光传播方向A上延伸，光波导路4层叠在基板2的中间部2b上，在基板2的两端部2a、2c上具有分别支撑光纤6a、6b、6c的光纤支撑部10a、10b、10c。另外，基板2在与光传播方向垂直的方向或宽方向b上延伸。基板2由具有晶轴的材料，例如用硅等无机材料形成，以便能够进行各向异性蚀刻。光合分波器1中，基板2的晶轴方向与光传播方向A一致。

光波导路4具有芯部12和包层14，芯部12具有在交叉部12d上互相斜着交叉的多个芯部分12a、12b、12c。具体来讲，光合分波器1中设置有第1芯部分12a、第2芯部分12b和第3芯部分12c，其中，第1芯部分12a从光波导路4的一个端面4a至中间部4b相对于光传播方向A以交叉角度θ斜着笔直地延伸；第2芯部分12b从中间部4b至光波导路4的另一端面4c与第1芯部分对齐笔直地延伸；第3芯部分12c从中间部4b至另一端面4c相对于光传播方向A以交叉角度θ斜着笔直地延伸，使得与第1芯部分12a以及第2芯部分12b斜着交叉。

基板2以及光波导路4中，形成滤光器设置槽16，该滤光器设置槽16是用于设置横穿光波导路4的中间部4b而延伸的滤光器8的滤光器设置装置，滤光器8用粘接剂固定于滤光器设置槽16中。滤光器8例如是透过第1波长λ1(例如，1310nm)和波长λ2(例如，1490nm)的光、反射第3波长λ3(例如，1550nm)的光的电介质多层膜滤光器。

光纤6a、6b、6c是单模光纤，分别光学地连接于光波导路4的芯部分12a、12b、12c，具有芯部18a、18b、18c、包层20以及光轴或中心线22a、22b、22c。光合分波器1中，光轴22a与光轴22b一致。光纤6a、6b、6c的外径典型情况为125μm。

支撑光纤6a的光纤支撑部10a具有：互相在光传播方向A上间隔地配置的V形槽支撑部24a、24c，以及在V形槽支撑部24a、24c之间配置的间隔部24b，间隔部24b使得基板2与光纤6a隔开。另外，在V形槽支撑部24a与间隔部24b之间、间隔部24b与V形槽支撑部24c之间以及V形槽支撑部24c与光波导路4之间，分别形成在宽方向B上延伸的槽26a、26b、26c。

详细来讲，如图3a～图3c所示，V形槽支撑部24a、24c中，分别形成V字形断面的V形槽28a、28c，所述V形槽28a、28c是利用各向异性蚀刻在晶轴方向上形成的。V形槽28a、28c分别具有在晶轴方向即光传播方向上延伸的轴线30a、30c。确定V形槽28a、28c的位置、宽以及深度，应使定位于其上的光纤6a的光轴22a与光波导路4的第1芯部分12a的中心线及其延长线以亚微米的精度对齐。因而，V形槽28a的位置与V形槽28c的位置在宽方向B上不同，光纤6a的光轴22a与V形槽28a、28c的轴线30a、30c被互相斜着配置。另外，间隔部24b如图3b所示，具有利用各向异性蚀刻形成为倒梯形断面的凹部28b。这样，通过该凹部28b以及槽26a、26b构成凹部，用于防止定位于2个V形槽28a、28c的光纤6a在槽26a与槽26b之间与基板2连接。

凹部28b深度DS以及槽26a、26b的深度DG优选比V形槽的深度DV深(参照图2和图3)。通过使前者比后者深，能够减小光波导路4的芯部分12a与光纤6a的芯部分18a之间的中心偏差。

例如，光传播方向A的V形槽支撑部24a、24c的长度LV、间隔部24b的长度LS以及槽26a、26b、26c的长度LG，分别是20～400μm、100～1200μm、50～250μm(参照图2)。

作为具体例子，在使交叉角度为8°、V形槽支撑部24a，24c的V形槽幅度WV为150μm、从基板2至光纤6a，6b，6c的中心的高度H为11μm时(参照图3)，V形槽支撑部24a、24c的光传播方向长度LV(参照图2)是82μm。此外，传播方向A的间隔部24b的长度LS以及槽26a、26b的长度LG之和(参照图2)，是由交叉角度θ＝8°的V形槽支撑部24a与24c之间的垂直方向B的槽中心间隔WC(参照图1)和V形槽支撑部24a、24c的光传播方向长度LV来决定的。槽中心间隔WC为150μm的情形中，间隔部24b的长度LS与槽26a、26b的长度LG之和，用150/tanθ-82来计算，其值为985μm。此外，当使槽26a、26b、26c的长度LG为150μm时，间隔部24b的长度LS用985-150×2计算，其值为685μm。

分别支撑光纤6b、6c的光纤支撑部10b、10c具有与光纤支撑部10a同样的结构。因而，在图1和图3d～图3f中，对同样的结构元件标记相同的参照符号，省略它们的说明。

接着，对本发明的光波导路结构体的制造方法的一例进行说明。

按照由光刻制成的抗蚀图案实施各向异性蚀刻，从而，在由硅等无机材料等制作的基板2上形成V形槽28a、28c以及凹部28b。各向异性蚀刻使用强碱水溶液来进行，使得V形槽28a、28c以及凹部28b沿着晶轴方向来形成。

接着，在基板2的中间部2b上形成光波导路4。具体来讲，在用氟化聚酰亚胺等高分子材料形成光波导路4的情形中，通过旋涂或铸型等形成包层后，用折射率不同的氟化聚酰亚胺等在其上形成芯层。接着，通过光刻、反应性离子蚀刻等工艺加工或阴模压制等机械加工，将芯层形成具有矩形断面的想要的图案的芯部10。接着，通过与上述同样的方法形成包层来覆盖芯部10，从而，形成光波导路4。另外，用石英形成光波导路4的情形中，通过火焰沉积法或CVD法等在基板2上形成石英层，通过干式蚀刻等工艺加工制成矩形的石英芯部10之后，形成用于覆盖芯部10的包层，从而形成光波导路4。

实施V形槽28a、28c以及凹部28b的形成工序以及光波导路4的形成工序，使得在将光纤6a、6b、6c置于V形槽28a、28c上时，使光纤6a、6b、6c和光波导路4的的芯部分12a、12b、12c分别以亚微米的精度被定位。

接着，为了除去由各向异性蚀刻生成的不必要的倾斜面，通过切割加工等形成槽26a、26b、26c。另外，形成滤光器设置槽16。

优选在一个基板上，对多个光合分波器1同时进行以上加工后，切成单片形状。

接着，通过将光纤6a、6b、6c置于V形槽28a、28c中，使其顶端与光波导路4连接，相对于光波导路4的芯部分12a、12b、12c来定位光纤6a、6b、6c，利用粘接剂等进行固定。即，能够实现光纤6a、6b、6c的被动实装。接着，利用粘接剂将滤光器8固定于滤光器设置槽16。

接着，对作为本发明的第1实施方式光合分波器的工作模式进行说明。

当向光纤6b中入射第1波长λ2的光时，透过滤光器8，向光纤6a中传播。当向光纤6a中传播第1波长λ1的光时，透过滤光器8，向光纤6b中传播。另外，当向光纤6b中入射第3波长λ3的光时，由滤光器8进行反射，向光纤6c中传播。此外，当向光纤6b中入射第2波长λ2的光时，透过滤光器8，向光纤6a中传播。

接着，参照图4、图5、图6a以及图6b，对作为本发明的光系统的第2实施方式的光合分波器进行说明。图4是作为本发明的第2实施方式的光合分波器的平面图，图5是图4所示的光合分波器的正面图，图6a和图6b分别是图4的线6a-6a、6b-6b的断面图。

作为本发明的第2实施方式的光合分波器50中，除了光纤支撑部10a、10b、10c不同以外，具有与作为第1实施方式的光合分波器1同样的结构。因而，共同的结构元件标记相同的参照符号，省略其说明，以下，对不同部分进行说明。

如图4和图5所示，基板2的两端部2a、2c上具有分别支撑光纤6a、6b、6c的光纤支撑部52a、52b、52c。

支撑光纤6a的光纤支撑部52a，具有形成V字形断面的V形槽54的V形槽支撑部56、在V形槽支撑部56与光波导路4之间沿宽方向延伸的槽58。详细地讲，如图4和图6a所示，V形槽54由沿晶轴方向的、即在光传播方向延伸的多个轴线60a、60b...通过各向异性蚀刻形成的多个V形槽54a、54b...构成，多个V形槽54a、54b沿着相对于光传播方向A斜着定位的光纤6a的光轴22a，在横向B上被逐渐错开地连续配置。确定V形槽54a、54b...的位置、宽以及深度，应使得定位于其上的光纤6a与光波导路4的第1芯部分12a以微米的精度对齐。因而，光纤6a的光轴22a与V形槽54a、54b...的轴线60a、60b...被互相斜着配置。例如，V形槽54a、54b...的光传播方向长度LV是1μm以下。该长度LV可以采用放大倍数100倍的金属显微镜来进行确认。

分别支撑光纤6b、6c的光纤支撑部52b、52c具有与光纤支撑部52a同样的结构。因而，在图4和图6b中，对同样的结构远见标记相同的符号，省略对它们进行说明。

作为第2实施方式的光合分波器50的制造方法和工作模式，由于与作为第1实施方式的光合分波器1相同，因此，省略对它们进行说明。各向异性蚀刻可以使用氢氧化钾、氢氧化钠、乙撑二胺、四甲基氢氧化铵等碱溶液(蚀刻溶液)来进行，使得V形槽54a、54b...沿着晶轴方向来形成。通过光刻形成V形槽54a、54b...时的掩模，可以具有与V形槽54a、54b...相同阶梯状的轮廓，也可以具有与定位于V形槽54a、54b...的光纤的光轴22a等平行地延伸且互相相对的直线的轮廓。采用后者的掩模进行各项异性蚀刻时，由于光纤的光轴22a的方向与晶轴的方向斜着交叉，因此，不进行沿着掩模的直线轮廓的蚀刻，就能完成图4所示的阶梯状的轮廓的蚀刻。

接着，参照图7、图8、图9a和图9b，对作为本发明的光系统的第3实施方式的光合分波器进行说明。图7是作为本发明的第3实施方式的光合分波器的平面图，图8是图7所示的光合分波器的正面图，图9a和图9b分别是图7的线9a-9a、9b-9b的断面图。

作为本发明的第3实施方式的光合分波器70，除了基板2、光纤支撑部10a、10b、10c不同以外，具有与作为第1实施方式的光合分波器1相同的结构。因而，共同的构成元件标有相同的参照符号，省略对其说明，以下，对不同部分进行说明。

如图7和图8所示，作为本发明的第1实施方式的光合分波器70具有基板71、在基板71上层叠的光波导路4、连接于光波导路4的3根光纤6a，6b，6c、在光波导路4的中间部4b上配置的滤光器8。

基板71在光传播方向A上延伸，光波导路4层叠在基板71的中间部71b上，基板71的两端部71a、71c上具有分别支撑光纤6a，6b，6c的光纤支撑部72a，72b，72c。基板71是由玻璃基板或用环氧树脂等树脂制成的树脂基板或者用硅等无机材料制成的基板来构成的。

支撑光纤6a的光纤支撑部72a具有形成V字形断面的V形槽74的V形槽支撑部76、在V形槽支撑部76与光波导路4之间沿宽方向B延伸的槽78。详细来讲，如图7和图9a所示，V形槽74沿着光纤6a的轴线22a来形成。确定V形槽74的位置、宽和深度，应使得定位于其上的光纤6a与光波导路4的第1芯部分12a以亚微米的精度对齐。

分别支撑光纤6b、6c的光纤支撑部72b、72c具有与光纤支撑部72a同样的结构。因而，在图7和图9b中，对同样的构成元件标记相同的参照符号，省略对它们进行说明。

接着，参照图10，对作为本发明的第3实施方式的光合分波器的制造方法的第1例子进行说明。图10是表示形成V形槽74之后的玻璃基板或树脂基板的图。

如图10所示，通过精密加工金属模具，将玻璃基板或树脂基板80进行模压成型，形成V形槽74以及其后用于形成光波导路4的定位用V形槽82。

其后的工序除了使其吻合于定位用V形槽82以外，与第1实施方式的制造方法相同，因此省略对其进行说明。

接着，对作为本发明的第3实施方式的光合分波器的制造方法的第2例子进行说明。此时，图10是表示具有形成V形槽74之后的晶轴的基板，例如硅基板等的图。

作为第3实施方式的光合分波器的制造方法的第2例子，除了蚀刻溶液不同以外，与作为第2实施方式的光合分波器50的制造方法相同。因而，对于第2例子所特有的蚀刻溶液进行说明，省略除此以外的说明。此处使用的蚀刻溶液，是为了减小被蚀刻的基板的各结晶面的加工速度的差而制备的蚀刻溶液，优选为添加醇的碱溶液，即，向氢氧化钾、氢氧化钠、乙撑二胺、四甲基氢氧化铵等碱溶液中添加醇的蚀刻溶液。通过使用这些蚀刻溶液，能够减小在利用强碱溶液的蚀刻中侧面蚀刻率在各结晶面显著不同的加工速度差，因此，能够减少对掩模的过剩的侧面蚀刻，以往由强碱溶液进行0.5μm/分钟左右的侧面蚀刻率变为0.05～0.2μm。因此，通过选择适当的蚀刻用掩模和适当的蚀刻时间，能够高精度地形成相对于晶轴倾斜方向上延伸的V形槽74。蚀刻用掩模优选具有与定位于V形槽74的光纤的光轴平行且互相相对的直线的轮廓。

另外，作为第3实施方式的光合分波器70的工作模式，与作为第1实施方式的光合分波器相同，因此省略对其进行说明。

接着，作为蚀刻液，使用添加异丙醇的氢氧化钾水溶液(使异丙醇在氢氧化钾水溶液中进行混合，调制成过饱和状态，侧面蚀刻率为0.1μm/分钟)，在70℃下进行蚀刻，采用由上述第2例子的方法形成V形槽的硅基板，制作光合分波器，对测定其光学特性的结果进行说明。作为光学特性，使1310nm的光入射进光纤6a，测定对光纤6b和光纤6c传播的光量。另外，向光纤6b中入射波长1490nm的光，测定对光纤6a和光纤6c传播的光量。此外，向光纤6b入射波长1550nm的光，测定对光纤6c和光纤6a传输的光量。光源如果是1490nm、1310nm的光，就使用法布里-珀罗激光(Fabry-Perot laser)，如果是波长1550nm的光，就使用DFB激光。此时的插入损耗、交调失真表示于表1中。插入损耗是波长1310nm时对光纤6b传播的光量、波长1490nm时对光纤6a传播的光量、波长1550nm时对光纤6c传播的光量。交调失真是对剩余的光纤传播的光量。插入损耗、交调失真如表1所示为良好的特性。

[表1]

项目	波长1310nm	波长1490nm	波长1550nm
				插入损耗(dB)	0.5	0.6	0.6
交调失真(dB)	-46	-32	-33

接着，参照图11和图12，对作为本发明的光系统的第4实施方式的光合分波器进行说明。图11是作为本发明的第4实施方式的光合分波器的平面图，图12是图4所示的光合分波器的正面图。

作为本发明第4实施方式的光合分波器50，除了光波导路部4不同以外，具有与作为第1实施方式的光合分波器1相同的结构。因而，在共同的构成元件中标记相同的参照符号，省略对其进行说明，以下，对不同部分进行说明。

如图11和图12所示，作为本发明的第4实施方式的光合分波器90具有基板2、在基板2上搭载的作为光元件的3个透镜92a，92b，92c、分别光学地连接于透镜92a，92b，92c的3根光纤6a，6b，6c、在透镜92a和透镜92b、92c中间配置的滤光器8。被层叠在基板2上。

基板2在光传播方向A上延伸，在基板2的中间部2b上，用例如与第1实施方式的光合分波器1的光波导路的包层14相同的材料层叠透镜92a，92b，92c，在基板2的两端部2a、2c上具有分别支撑光纤6a，6b，6c的光纤支撑部10a，10b，10c。另外，基板2在与光传播方向A垂直的垂直方向或宽方向B上延伸，具有在光传播方向A和宽方向B上延伸的顶面2d。基板2用具有晶轴的材料、例如硅等无机材料来形成，使得能够进行各向异性蚀刻。在光合分波器1中，基板2的晶轴的方向与光传播方向A一致。

透镜92a被配置在基板2的中间部2b的一侧上，透镜92b、92c被配置在另一侧上。透镜92a、92b、92c分别具有光轴94a、94b、94c。光轴94a与光轴94b是同轴，相对于光传播方向A以交叉角度θ斜着笔直地延伸。光轴94c相对于光轴94a和光轴94b斜着交叉，并且，相对于光传播方向A以交叉角度θ斜着笔直地延伸。透镜92b被设计成相对于光轴94a、94b、94c交叉的点94d，与透镜92a点对称。另外，透镜93c被设计成相对于通过点94d在宽方向B上延伸的线94e，与透镜92a线对称。

在基板2的中间部2b上，形成滤光器设置槽16，该槽16是用于设置横穿中间部来延伸的滤光器8的滤光器设置装置，滤光器8用粘接剂固定在滤光器设置槽16上。滤光器8例如是透过第1波长λ1(例如，1310nm)与波长λ2(例如，1490nm)的光、反射第3波长λ3(例如，1550nm)的光的电介质多层膜滤光器。

配置光纤6a，使其光轴22a与透镜92a的光轴94a同轴。透镜92a含有光轴94a，并且相对于与顶面2d垂直的平面是对称的凸透镜，形成透镜，使得透镜92a的焦点位于光纤6a的顶端或其附近。在本实施方式中，透镜92a的4个侧面96是与基板2的顶面2d大致垂直的面。

透镜92b、透镜92c具有与透镜92a相同的结构，因此，省略它们的说明。

接着，对作为本发明的第4实施方式的光合分波器的工作模式进行说明。

当向光纤6a入射第1波长λ1的光时，光从光纤6a的顶端扩散，入射进透镜92a，从透镜92a出射时为平行光。该平行光透过滤光器8，入射进透镜92b，从透镜92b出射后，集中于作为焦点的光纤6b的顶端，传播于光纤6b中。另外，当向光纤6b入射第3波长λ3的光时，从光纤6b的顶端扩散，入射进透镜92b，从透镜92b出射时为平行光。该平行光用滤光器8反射，入射进透镜92c，从透镜92c出射后，集中于作为焦点的光纤6c的顶端，传播于光纤6c中。此外，当向光纤6b入射第2波长λ2时，光从光纤6b的顶端扩散，入射进透镜92b，从透镜92b出射时为平行光。该平行光透过滤光器8，入射进透镜92a，从透镜92a出射后，集中于作为焦点的光纤6a的顶端，传播于光纤6a中。

用第4实施方式的光合分波器90，能够降低发射、接收光时的光损耗。特别是滤光器8的透过带宽是1nm以下的窄带的情形中，如果不使透过光的束径为大约100μm位，透光时的光损耗就会增大。与此相对，光合分波器90通过使光在水平方向上扩大，能够减小光透过滤光器时的光损耗，其结果为，可以降低发射、接收光时的光损耗。

接着，对作为本发明的第4实施方式的光合分波器的制造方法的一个例子进行说明。

作为第4实施方式的光合分波器90的制造方法，除了形成透镜92a、92b、92c来代替光波导路4以外，与作为第1实施方式的光合分波器1的制造方法相同。因而，只说明不同的部分，省略共同部分的说明。

形成V形槽28a、28c以及凹部28b后，在基板2的中间部2b形成透镜92a、92b、92c。具体来讲，用氟化聚酰亚胺等高分子材料形成透镜92a、92b、92c时，通过旋涂或铸型等形成包层。接着，通过光刻、反应性离子蚀刻等工艺加工、或阴模压制等机械加工，从包层除去透镜部分，形成想要的形态的透镜92a、92b、92c。

进行V形槽28a、28c以及凹部28b的形成工序以及透镜92a、92b、92c。的形成工序，使得将光纤6a、6b、6c置于V形槽28a、28c时，使光纤6a、6b、6c与透镜92a、92b、92c的光轴以亚微米的精度定位。以下的工序与作为第1实施方式的光合分波器1的制造方法相同。

接着，参照图13和图14，对折回长度进行说明。图13和图14是光合分波器1、50、70的最小折回长度的说明图。如图13和图14所示，光合分波器1、50、70的折回长度L/2是从交叉部12d至光波导路的端面4a或4c的光传播方向的长度。换言之，折回长度L/2是光纤6a、6b、6c间的光传播方向A的最短距离的一半的长度。在上述实施方式中，光纤6b与6c在物理接触之前可以互相接近，光纤6b与6c接触时的折回长度L为最小值。

如图13所示，光纤6a、6b、6c的端面7相对于光轴22a、22b、22c为斜面的情形中，最小折回长度L/2用式(1)表示。

a＝d/2×1/sinθ......式(1)

这里，d是光纤6a、6b、6c的直径。

另外，如图14所示，光纤6a、6b、6c的端面7相对于光轴22a、22b、22c垂直的情形中，最小折回长度L/2用式(2)表示。

a＝d/2×1/sinθ-d×sinθ......式(2)

例如，如果使光纤6a、6b、6c的外径d为125μm、交叉角度θ为8°的话，最小折回长度L/2为0.432mm。

在图10所示的以往技术的光合分波器200中，当使光纤6b、6c间的间距P为500μm、延长部204b、204c的曲率半径为15mm、对于光传播方向A的芯部分204b，204c的角度θ为8°时，折回长度L/2为2.856mm。因而，本发明的光合分波器1、50、70能够缩短其传播方向的长度。

在第4实施方式的光合分波器90中，如图11所示，折回长度L/2是从交叉部94d至基板2的中间部2b的端面2e或2f的光传播方向长度。其最小折回长度L/2的计算与上述第1～第3的实施方式的光合分波器1、50、70的情形相同，因此，省略对其进行说明。

接着，对芯部分与光纤之间的中心偏差进行说明。上述实施方式中，可以使芯部分12a、12b、12c与光纤6a、6b、6c之间的各中心偏差全部为0.3～1.0μm。图17所示的光合分波器230的中心偏差被推定为10～50μm。因而，本发明的光合分波器1、50、70、90，在光波导路4的斜着互相交叉的多个芯部分12a、12b、12c或透镜92a、92b、92c与光学地连接于各芯部分12a、12b、12c或透镜92a、92b、92c的多个光纤6a、6b、6c之间，能够实现高精度的定位。

中心偏差按如下方法测定。如果以第1实施方式的光合分波器1作为例子进行说明的话，首先，通过对芯部分12a和光纤6a的光轴22a在垂直方向上进行切割，将含有光纤6a的端面和光波导路4的端面的部分切下。接着，采用金属显微镜(视野倍率100倍)，测量切下的部分的芯部分12a和光纤6a的中心位置。具体来讲，对切下的部分从上方进行同轴反射照明的同时，从下方进行透射照明，使这些照明方向与光纤6a的光轴22a重合。这样，能够在同一图像上看见光纤6a的中心和光波导路4的芯部分12a的中心。从该金属显微镜得到的图象上，进行光纤与光波导路的芯中心位置的测定。

以上，说明了本发明的实施方式，但是本发明并不限于以上的实施方式，可以在权利要求中记载的发明的范围内进行各种变更，当然，它们也被包含于本发明的范围内。

在上述光合分波器的实施方式中，以将滤光器安装于滤光器设置装置的状态进行说明，但并不局限于此，即使是实际上作为商品流通的、从光合分波器上取下滤光器的光系统，如果不安装滤光器，作为本发明的光合分波器也在本发明的范围内。

在上述实施方式中，光元件是光波导路或透镜，但并不局限于此，可以是光发射器、光接收器等。

在上述第1～第3实施方式中，光波导路4的芯部分12的数和光纤6a、6b、6c的数为3，但如果有相对于晶轴被斜着配置的光纤，这些数可以是1或2，也可以是4以上。

在上述实施方式中，作为支撑光纤的槽，采用V形槽28a、28c，但是，例如交叉角度θ大的情形中，也可采用与凹部28b的断面类似的、上底比下底长的倒梯形断面的槽。

上述第4实施方式的光系统90中，将第1实施方式的光系统1的光波导路4置换为透镜92a、92b、92c，但是，也可以将第2实施方式的光系统50或第3实施方式的光系统70的光波导路4置换为透镜92a、92b、92c。

另外，在上述第1实施方式的光系统1以及第4实施方式的光系统90中，优选凹部28b深度DS以及槽26a、26b的深度DG比V形槽的深度DV深，但是，只要光波导路4的芯部分12a与光纤6a的芯部分18a之间的中心偏差在允许的范围内，DV与DS以及DG可以相同，DV也可以比DS以及DG深。

Claims (18)

1.一种光系统，其特征在于，

具有基板和在所述基板上形成的且光学地连接光纤的光波导路，

所述光波导路具有端面、由所述端面延伸的直线的多个芯部分，使得对于光传播方向成交叉角度θ斜着延伸且互相交叉，

所述基板具有用于将与所述多个芯部分的2个以上光学地连接的多个光纤进行定位的定位部，所述定位部具有支撑各光纤的槽，

所述光波导路的端面与芯部分互相交叉的位点之间的光传播方向的距离即折回长度为a～2amm，a是以角度θ斜着切割光纤顶端时，由式(1)算出，垂直地切割光纤顶端时，由式(2)算出，这里，d是光纤的外径，

a＝d/2×1/sinθ......式(1)

a＝d/2×1/sinθ-d×sinθ......式(2)。

2.根据权利要求1所述的光系统，其特征在于，

所述基板具有晶轴，至少一个光纤相对于所述晶轴被斜着定位，

为了用至少2个位点来支撑所述斜着定位的光纤，设置至少2个所述槽，沿着在晶轴方向上延伸的轴线形成所述至少2个槽，并且，所述至少2个槽在晶轴方向及其垂直方向上被互相错开地配置，

所述基板具有凹部，用于防止在所述至少2个槽上定位的光纤在所述至少2个槽之间与所述基板连接。

3.根据权利要求2所述的光系统，其特征在于，所述凹部的深度比所述槽的深度深。

4.根据权利要求1所述的光系统，其特征在于，

所述基板具有晶轴，至少一个光纤相对于所述晶轴被斜着定位，所述槽由沿着在晶轴方向上延伸的多个轴线而形成的多个槽来构成，所述多个槽沿着相对于所述晶轴斜着定位的光纤的光轴，在与晶轴方向对应的横向上被逐渐错开地连续配置。

5.根据权利要求4所述的光系统，其特征在于，采用掩模，通过各向异性蚀刻同时形成多个所述槽，所述掩模与定位于槽的光纤的光轴平行地延伸并且具有互相相对的直线轮廓。

6.根据权利要求1所述的光系统，其特征在于，通过使用金属模具的模压成型，沿着被槽所支撑的光纤的光轴来形成所述槽。

7.根据权利要求6所述的光系统，其特征在于，所述基板为玻璃基板或树脂基板。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的光系统，其特征在于，形成所述槽，使得所述芯部分的中心线的延长线与光学地连接于所述芯部分的光纤的中心线一致。

9.根据权利要求8所述的光系统，其特征在于，在所述槽支撑多个光纤时，所述多个芯部分与光学地连接于它们的多个光纤之间的中心偏差为5μm以下。

10.根据权利要求9所述的光系统，其特征在于，所述中心偏差为0.3～1.0μm。

11.根据权利要求1所述的光系统，其特征在于，所述槽具有V字形或倒梯形的断面。

12.一种光系统，其特征在于，

具有带有晶轴的基板和搭载在所述基板上的光元件，

为了将第1光纤与所述光元件光学地连接，所述基板具有将第1光纤相对于晶轴方向斜着定位于所述基板上的第1定位部，

所述第1定位部具有用至少2个位点来支撑第1光纤的至少2个第1槽，所述至少2个第1槽沿着在晶轴方向上延伸的轴线来形成，并且，所述至少2个第1槽在晶轴方向及其垂直方向上被互相错开地配置，

所述基板具有第1凹部，用于防止在所述至少2个第1槽上定位的第1光纤在所述至少2个第1槽之间与所述基板连接，

进一步具有将光学地连接于光元件的第2光纤定位于所述基板上的第2定位部，

所述第2定位部具有支撑第2光纤的第2槽，使得第2光纤的光轴与通过所述第1定位部定位的第1光纤的光轴的各自延长线互相斜着交叉，

为了用至少2个位点来支撑第2光纤而设置至少2个所述第2槽，沿着在晶轴方向延伸的轴线来形成所述至少2个第2槽，并且所述至少2个第2槽在晶轴方向及其垂直方向上被互相错开地配置，

所述基板具有第2凹部，用于防止在所述至少2个第2槽上定位的第2光纤在所述至少2个第2槽之间与所述基板连接。

13.根据权利要求12所述的光系统，其特征在于，所述第1凹部的深度比所述第1槽的深度深。

14.根据权利要求12或13所述的光系统，其特征在于，所述第1槽具有V字形或倒梯形的断面。

15.根据权利要求12所述的光系统，其特征在于，所述第2凹部的深度比所述第2槽的深度深。

16.根据权利要求12所述的光系统，其特征在于，所述光元件是在所述基板上层叠的光波导路或透镜。

17.根据权利要求12所述的光系统，其特征在于，

所述光元件是在所述基板上层叠的光波导路，

所述光波导路具有光学地连接第1光纤的第1芯部分和光学地连接第2光纤的第2芯部分，

在所述第1芯部分与所述第2芯部分的交叉部，设置有用于设置滤光器的滤光器设置装置。

18.根据权利要求17所述的光系统，其特征在于，形成所述第1槽，使得所述第1芯部分的中心线的延长线与光学地连接所述第1芯部分的第1光纤的中心线相一致，并且，形成所述第2槽，使得所述第2芯部分的中心线的延长线与光学地连接所述第2芯部分的第2光纤的中心线相一致。

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