CN101285977A - 液晶显示装置及其阵列基板 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了液晶显示装置及其阵列基板。根据本发明，阵列基板包括多条扫描线、多条数据线以及由这些扫描线与数据线交叉排列所限定的像素。像素包括：第一子像素电极；第二子像素电极，与第一子像素电极电性隔离；第一开关元件，用于对第一子像素电极进行控制；和第二开关元件，用于对第二子像素电极进行控制。阵列基板被构造成使得：在第一开关元件对第一子像素电极进行的控制不能正常进行时，第二开关元件能够代替第一开关元件控制第一子像素电极的至少一部分。根据本发明，能够对像素的点缺陷进行完全的修补，可以大大提高液晶显示装置及阵列基板的成品率，而几乎不会增加生产成本。

Description

液晶显示装置及其阵列基板
技术领域
本发明涉及液晶显示装置以及液晶显示装置的阵列基板。
背景技术
液晶显示装置(LCD)具有轻、薄、低耗电等优点，被广泛应用于计算机、移动电话及个人数字助理等现代化信息设备。为了在液晶显示装置中实现广视角，现已开发出了多种技术，例如带有广视角膜(wideviewing film)的扭转向列型液晶(TN)显示器、共平面切换式(IPS)液晶显示器、边际电场切换式(FFS)液晶显示器以及多域垂直配向式(MVA)液晶显示器等。
多域垂直配向式液晶显示器在彩色滤光基板或薄膜晶体管阵列基板上设有配向凸起物或狭缝，它们可以使得液晶分子呈多方向排列，得到多个不同的配向域(Domain)。因此多域垂直配向式液晶显示器有利于实现广视角显示。
美国专利No.6,922,183公开了一种多域垂直配向式液晶显示器，图1为这种多域垂直配向式液晶显示器的像素结构。注意，为了清楚地描述该结构，图中省略了彩色滤光片基板。如图1所示，在这种液晶显示器的像素结构中，一个像素被分成两个子像素，一个像素的像素电极P(m，n)也被分成两个子像素电极，即第一子像素电极SP1(m，n)和第二子像素电极SP2(m，n)，两个子像素电极SP1(m，n)与SP2(m，n)之间由狭缝124电性隔离。第一子像素电极SP1(m，n)和第二子像素电极SP2(m，n)由两个开关元件分别进行控制，这两个开关元件例如第一薄膜晶体管(TFT)S1(m，n)及第二薄膜晶体管S2(m，n)。第一薄膜晶体管S1(m，n)及第二薄膜晶体管S2(m，n)的栅极分别与扫描线SL(m)及SL(m+1)电性连接，第一薄膜晶体管S1(m，n)及第二薄膜晶体管S2(m，n)的源极分别和数据线DL1(n)及DL2(n)电性连接，第一薄膜晶体管S1(m，n)及第二薄膜晶体管S2(m，n)的漏极分别与第一子像素电极SP1(m，n)及第二子像素电极SP2(m，n)连接。
图2为图1的像素结构沿剖面线I-I’所取的剖面图。如图2所示，该像素结构包括第一基板102、第二基板122及液晶分子126。黑矩阵104及彩色滤光层106形成于第一基板102的一个表面上，第一绝缘层108覆盖了黑矩阵104及彩色滤光层106。公共电极110形成于第一绝缘层108上，在公共电极110上设有多个凸起131，配向膜112覆盖了公共电极110及这些凸起131。
另外，扫描线SL(m)及SL(m+1)形成于第二基板122与公共电极110相对的那个表面上，栅极绝缘层120覆盖扫描线SL(m)及SL(m+1)，数据线DL(n)(图2中未示出)形成于栅极绝缘层120上，钝化层118覆盖数据线DL(n)。第一子像素电极SP1(m，n)及第二子像素电极SP2(m，n)形成于钝化层118上，在扫描线SL(m)及SL(m+1)上方相应地设有多个间隙130，用于分隔相邻两个像素的像素电极，且第一子像素电极SP1(m，n)及第二子像素电极SP2(m，n)之间还设有狭缝124，用于将第一子像素电极及第二子像素电极电性隔离。配向膜116覆盖第一子像素电极SP1(m，n)及第二子像素电极SP2(m，n)。液晶分子126被密封于第一基板102及第二基板122之间。
相反极性的数据信号分别通过第一薄膜晶体管S1(m，n)及第二薄膜晶体管S2(m，n)，输入至第一子像素电极SP1(m，n)及第二子像素电极SP2(m，n)，可驱动整个像素。施加于公共电极110上的电压作为公共电压Vcom，大于公共电压Vcom的电压定义为正极性电压，且小于公共电压Vcom的电压定义为负极性电压。在选择了该像素，并且第一薄膜晶体管S1(m，n)及第二薄膜晶体管S2(m，n)导通时，具有正极性电压+V及负极性电压-V的数据信号分别被输入至第一子像素电极SP1(m，n)及第二子像素电极SP2(m，n)中。另外，正极性电压+V及公共电压Vcom之间的电压差和负极性电压-V及公共电压Vcom之间的电压差大体相等，从而在两个子像素中显示相同的灰阶值(grey level)。
当具有不同极性的电压被施加于第一子像素电极SP1(m，n)及第二子像素电极SP2(m，n)上时，由于间隙130、狭缝124以及凸起131的作用，液晶分子126形成两个具有相反视觉特性的显示域，从而得到了具有广视角的多域垂直配向式液晶显示器。
在液晶显示装置的制作过程中，经常发生因TFT失效、短路等原因引起的点缺陷。上述像素由两个子像素组成，当其中一个子像素因为例如TFT失效、短路等原因而发生点缺陷时，由于另外一个子像素仍然可以正常工作，所以不至于整个像素完全失效，或者说，点缺陷可以得到一定程度的“部分修复”。但是在此情况下，整个像素不能起到正常显示作用，因此这种“修复”无法对点缺陷进行完全的修补。除了此处所述的MVA液晶显示器之外，像素由多个子像素组成的其他类型液晶显示器也具有类似缺陷。
发明内容
本发明提供了一种液晶显示装置的阵列基板，包括多条扫描线、多条数据线以及由这些扫描线与数据线交叉排列所限定的像素。像素包括：第一子像素电极；第二子像素电极，与第一子像素电极电性隔离；第一开关元件，用于对第一子像素电极进行控制；和第二开关元件，用于对第二子像素电极进行控制。阵列基板被构造成使得：在第一开关元件对第一子像素电极进行的控制不能正常进行时，第二开关元件能够代替第一开关元件控制第一子像素电极的至少一部分。
本发明还提供了一种液晶显示装置，包括上述阵列基板。
本发明还提供了一种对液晶显示装置的缺陷进行修补的方法。液晶显示装置包括阵列基板，阵列基板包括多条扫描线、多条数据线以及由这些扫描线与数据线交叉排列所限定的像素。像素包括：第一子像素电极；第二子像素电极，与第一子像素电极电性隔离；第一开关元件，用于对第一子像素电极进行控制；和第二开关元件，用于对第二子像素电极进行控制。所述方法包括：在第一开关元件对第一子像素电极进行的控制不能正常进行时，同时地或以任意顺序地执行下述步骤：a)使第一开关元件不能控制第一子像素电极的至少一部分；以及b)使第二开关元件能够控制第一子像素电极的所述至少一部分。
根据本发明，因为能够对像素的点缺陷进行完全的修补，所以可以大大提高液晶显示装置及阵列基板的成品率，同时几乎不会给生产成本造成任何增加。
附图说明
图1示出了现有技术的多域垂直配向式液晶显示器的像素结构。
图2为图1的像素结构沿剖面线I-I’所取的剖面图。
图3示出了根据本发明一种实施例的像素结构示意图。
图4A-B为图3中薄膜晶体管的局部放大图。
图5为图3中沿II-II′线的剖视图。
图6示出了在根据本发明实施例的像素结构中，对子像素的缺陷进行修补的一种示例性方案。
图7为图6中沿III-III′线的剖视图。
图8示出了利用根据本发明实施例的像素结构来修补点缺陷的另一种方案。
图9示出了根据本发明另一种实施例的像素结构示意图。
图10示出了根据本发明另一种实施例的像素结构示意图。
图11示出了根据本发明另一种实施例的像素结构示意图。
图12示出了根据本发明另一种实施例的像素结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在附图中，用相同的标号来表示相同的部件。
图3示出了根据本发明一种实施例，液晶显示装置的阵列基板上的像素结构示意图。阵列基板包括多条扫描线和数据线，例如图3中示例性示出的扫描线21a、21b和数据线22a、22b。扫描线21a、21b与数据线22a、22b交叉排列(例如垂直地交叉)并在阵列基板上限定了称为“像素”的区域。每个像素进一步分为第一子像素和第二子像素，第一子像素电极26a形成于称为“第一子像素”的区域中，第二子像素电极26b形成于称为“第二子像素”的区域中。第一子像素电极26a与第二子像素电极26b之间通过狭缝31而彼此电性隔离。第一子像素电极26a上设有多个开口28a，第二子像素电极26b上亦设有多个开口28b。优选地，狭缝31和开口28a，28b可以设置为彼此平行。存储电容电极23与像素电极构成存储电容；具体而言，存储电容电极23与第一子像素电极26a构成第一子存储电容，存储电容电极23与第二子像素电极26b构成第二子存储电容。优选地，为增大存储电容，在存储电容电极23与第一子像素电极26a、第二子像素电极26b之间可以分别设有辅助金属层29a、29b，辅助金属层29a、29b分别通过通孔27c、27d与第一子像素电极26a、第二子像素电极26b电性相连(可参见图5)。存储电容的作用和工作方式是本领域公知的，因此本申请中将不再对其进行详细说明。另外，图3的俯视图中由对角交叉线表示的通孔27a沿垂直于阵列基板表面方向的结构可以在图5中看到，其他附图中由对角交叉线表示的通孔也具有类似结构。
通过两个开关元件来分别控制第一子像素电极26a及第二子像素电极26b，这两个开关元件例如是第一薄膜晶体管24及第二薄膜晶体管25。
图4A为图3中第一薄膜晶体管24的局部放大图。如图4A所示，第一薄膜晶体管24由栅极、半导体层241、源极242及漏极243组成，第一薄膜晶体管24的栅极与扫描线21a电性连接(在图4A的示例中，栅极是扫描线21a的一部分)，源极242与数据线22a电性连接，漏极243通过通孔27a与第一子像素电极26a电性连接。第一薄膜晶体管24的漏极243具有延伸部分243′，该延伸部分243′延伸到与第二子像素电极26b在图3所示的区域A重叠。
图4B为图3中第二薄膜晶体管25的局部放大图。如图4B所示，第二薄膜晶体管25由栅极、半导体层251、源极252及漏极253组成，第二薄膜晶体管25的栅极与扫描线21b电性连接(在图4B的示例中，栅极是扫描线21b的一部分)，源极252与数据线22b电性连接，漏极253通过通孔27b与第二子像素电极26b电性连接。第二薄膜晶体管25的漏极253具有延伸部分253′，该延伸部分253′延伸到与第一子像素电极26a在图3所示的区域B重叠。
在本实施例中，第一薄膜晶体管24的栅极与第二薄膜晶体25的栅极分别是扫描线21a、21b的一部分，即二者分别连接到不同的扫描线21a、21b；并且，第一薄膜晶体管24的源极242与第二薄膜晶体管25的源极252分别连接到不同的数据线22a和22b。但是，第一薄膜晶体管24与第二薄膜晶体管25的栅极也可以连接到同一扫描线。或者，二者的源极也可以连接到同一数据线。例如，可以将第二薄膜晶体管25设置在图3中A区域上方的扫描线21a处。也可以将第二薄膜晶体管25设置在图3中B区域的下方，使第一薄膜晶体管24和第二薄膜晶体管25的源极均与数据线22a相连。
图5为图3中沿II-II′线的剖视图。如图5所示，在玻璃基板201上设有扫描线21a(栅极)、21b以及存储电容电极23，栅极绝缘层202覆盖在扫描线和存储电容电极上方，半导体层241设置在栅极绝缘层202上方，在半导体层241上方形成有第一薄膜晶体管24的源极242和漏极243，辅助金属层29a以及第二薄膜晶体管25的漏极延伸部分253′设置在与源极242、漏极243相同的层中，钝化层203覆盖在源漏极及辅助金属层上方，钝化层上方形成有第一子像素电极26a，第一子像素电极26a通过通孔27a、27c分别与漏极243、辅助金属层29a电性连接，同时在第一子像素电极26a上还形成有开口28a及狭缝31。如图5所示，存储电容电极23与辅助金属层29a构成第一存储电容，第一子像素电极26a与第二薄膜晶体管25的漏极延伸部分253′在区域B处于上下重叠关系。
图6示出了在依据本发明的像素结构中，当一个子像素出现缺陷时，即薄膜晶体管对相应的子像素电极进行的控制不能正常进行(例如第一子像素中的第一薄膜晶体管24由于短路等原因而失效，因而不能对第一子像素电极26a进行正常控制)时的修补方案。在第一薄膜晶体管24的漏极与半导体层不重叠的位置C1处用例如激光切断第一薄膜晶体管24的漏极与第一子像素电极26a的连接，使得第一薄膜晶体管24的漏极与第一子像素电极26a电性隔离。此处需要说明的是，第一薄膜晶体管24的漏极经过激光切割后被分为两部分，第一部分位于半导体层上方，与半导体层重叠，第二部分与半导体层不重叠并依旧通过通孔27a与第一子像素电极26a电性连接(参见下文中图7的剖视图可以更清楚地看到)。由于该第二部分实质上已经从薄膜晶体管的漏极部分分离出来，因此在本申请中，该第二部分不再称之为“漏极”。另外，在第一薄膜晶体管24的漏极延伸部分243′与第二子像素电极26b的重叠区域A通过例如激光熔融的方式将第一薄膜晶体管24的漏极延伸部分243′与第二子像素电极26b电性连接。还可以在第二薄膜晶体管25的漏极延伸部分253′与第一子像素电极26a的重叠区域B通过例如激光熔融的方式将第二薄膜晶体管25的漏极延伸部分253′与第一子像素电极26a电性连接。上述这些步骤是不分先后的，即，既可以先执行使漏极与第一子像素电极26a电性隔离的步骤，也可以先执行将第一薄膜晶体管24的漏极延伸部分243′与第二子像素电极26b电性连接和/或将第二薄膜晶体管25的漏极延伸部分253′与第一子像素电极26a电性连接的步骤，还可以同时执行这些步骤。
图7为图6中沿III-III′线的剖视图。与图5所示的情况相比，图7所示第二薄膜晶体管25的漏极延伸部分253′与第一子像素电极26a经过修补后处于电性连接关系，同时，第一薄膜晶体管24的漏极在与半导体层不重叠的位置C1处被切断。
经过上述修补，第一子像素电极26a可借助于第一薄膜晶体管24的漏极延伸部分243′以及第二薄膜晶体管25的漏极延伸部分253′来与第二子像素电极26b实现电性连接，从而可以由第二薄膜晶体管25代替第一薄膜晶体管24来控制第一子像素电极26a。这样，第一子像素将与第二子像素进行相同的显示。由此，第一子像素的像素点缺陷得到了修补，从而可以正常显示整个像素。
在本实施例中，漏极延伸部分243′和/或253′作为连接部件，在第一薄膜晶体管24对第一子像素电极26a进行的控制因第一薄膜晶体管24的故障而不能正常进行时，第二薄膜晶体管25的漏极253通过漏极延伸部分253′与第一子像素电极26a电性连接，第二子像素电极26b通过漏极延伸部分243′与第一子像素电极26a电性连接。本领域的技术人员可以理解，只要给两个薄膜晶体管24、25之一设置漏极延伸部分243′或253′，使两个薄膜晶体管24、25之一的漏极延伸部分243′或253′与对应于另一薄膜晶体管的子像素电极在区域A或区域B中的一处电性连接，就可以对有缺陷的子像素实现修补。但是优选地如本实施例中那样在两个区域A、B都进行这种电性连接，以获得最佳的修补效果。
在第二子像素中的第二薄膜晶体管25由于短路等原因而失效，因而不能对第二子像素电极26b进行正常控制的时候，可以通过与上述类似的方式进行修补。在进行这种修补时，第二薄膜晶体管25的漏极与第二子像素电极26b的连接被切断，使得该漏极与第二子像素电极26b电性隔离。还将第一薄膜晶体管24的漏极延伸部分243′与第二子像素电极26b电性连接和/或将第二薄膜晶体管25的漏极延伸部分253′与第一子像素电极26a电性连接。
图8示出了利用根据本发明实施例的像素结构来修补点缺陷的另一种方式。如图8所示，当第一子像素电极26a与存储电容电极23在位置D发生短路缺陷的时候，第一薄膜晶体管24对第一子像素电极26a进行的控制也不能正常进行，此时可以依照如下方式进行修补。例如用激光方式在存储电容电极两侧的位置C2、C3处切断第一子像素电极26a，使得第一子像素电极26a中与存储电容电极23短路的部分(称为“第一部分”)和其余部分(称为“第二部分”)电性隔离；在第一薄膜晶体管24的漏极与半导体层不重叠的位置C4处用例如激光切断第一薄膜晶体管24的漏极与第一子像素电极26a的连接，使得该漏极与第一子像素电极26a电性隔离；在第一薄膜晶体管24的漏极延伸部分243′与第二子像素电极26b的重叠区域A通过例如激光熔融等方式将第一薄膜晶体管24的漏极延伸部分243′与第二子像素电极26b电性连接；另外，在第二薄膜晶体管25的漏极延伸部分253′与第一子像素电极26a的重叠区域B通过例如激光熔融等方式将第二薄膜晶体管25的漏极延伸部分253′与第一子像素电极26a电性连接。这样，第二薄膜晶体管25可以代替第一薄膜晶体管24来控制第一子像素电极26a中处于位置C2上方的那部分以及处于位置C3下方的那部分。这样，像素缺陷可以得到修补。
在上文的示例性实施例中，第一薄膜晶体管24的漏极延伸部分243′延伸至与第二子像素电极26b隔着绝缘的钝化层203重叠，第二薄膜晶体管25的漏极延伸部分253′延伸至与第一子像素电极26a隔着钝化层203重叠，因此，只需在区域A中的一个位置处进行激光熔融，即可使漏极延伸部分243′与第二子像素电极26b电性连接；只需在区域B中的一个位置处进行激光熔融，即可使漏极延伸部分253′与第一子像素电极26a电性连接，从而可以方便地进行修补。
本发明也可以通过另外设置连接部件来实施，而不一定要使第一薄膜晶体管24的漏极延伸部分243′和/或第二薄膜晶体管25的漏极延伸部分253′延伸至与第二、第一子像素电极26b、26a重叠的位置。下文中给出了几种示例性实施方式。
例如，在图9的俯视图所示的实施例中，设有单独的导体连接部件32。在类似于图5的剖视图中，导体连接部件32可以位于与扫描线21a、21b(栅极)相同的层(也称为“第一金属层”)中或与源极242、漏极243相同的层(也称为“第二金属层”)中。第一子像素电极26a与导体连接部件32的一部分隔着绝缘层重叠，而第二子像素电极26b与导体连接部件32的另一部分隔着绝缘层重叠。在修补时，例如通过激光熔融的方式使第一子像素电极26a和第二子像素电极26b分别与导体连接部件32的这两个不同部分电性连接，从而以间接方式实现第一子像素电极26a与第二子像素电极26b的电性连接。
在图10所示的实施例中，设置导体连接部件33，使第一薄膜晶体管24的漏极延伸部分243″延伸到与导体连接部件33的一部分隔着绝缘层重叠，而第二子像素电极26b与导体连接部件33的另一部分隔着绝缘层重叠，但第一薄膜晶体管24的漏极延伸部分243″本身与第二子像素电极26b并不重叠。在修补时，例如通过激光熔融的方式使第一薄膜晶体管24的漏极延伸部分243″和第二子像素电极26b分别与导体连接部件33的这两个不同部分电性连接，从而使第一子像素电极26a经过第一薄膜晶体管24的漏极243、漏极延伸部分243″以及导体连接部件33而与第二子像素电极26b电性连接。
在图11所示的实施例中，设置导体连接部件34，使第一薄膜晶体管24的漏极延伸部分243″延伸到与导体连接部件34的一部分隔着绝缘层重叠，而第二子像素电极26b也在其他层中与导体连接部件34的这部分隔着绝缘层重叠。在修补时，例如通过激光熔融的方式使第一薄膜晶体管24的漏极延伸部分243″和第二子像素电极26b都与导体连接部件34电性连接，从而使第一子像素电极26a与第二子像素电极26b电性连接。
在图12所示的实施例中，设置导体连接部件35和36，导体连接部件35可以设置在第一金属层或第二金属层中。导体连接部件35的一部分与第二子像素电极26b通过通孔电性连接，而导体连接部件35的另一部分与第一子像素电极26a隔着绝缘层重叠。导体连接部件36可以设置在第一金属层中。导体连接部件36的一部分与第一子像素电极26a通过通孔电性连接，而导体连接部分36的另一部分与第二薄膜晶体管的漏极隔着绝缘层重叠。在修补时，例如通过激光熔融的方式使第一子像素电极26a与导体连接部件35的相应部分电性连接，和/或使第二薄膜晶体管的漏极与导体连接部分36的相应部分电性连接，从而使第一子像素电极26a与第二子像素电极26b电性连接。
在图9-12所示的实施例中，对于第二薄膜晶体管25的漏极延伸部分253′和第一子像素电极26a，也可以在图3中的B区域进行类似于A区域的设置。在这些结构中，由于第二子像素电极26b不与第一薄膜晶体管24的漏极延伸部分243′直接重叠而形成电容，所以可以减弱二者之间的耦合效应，从而提高显示质量。对于第一子像素电极26a和第二薄膜晶体管25的漏极延伸部分253′也是如此。
此外，还可以在一个实施例中将各个实施例中采用的不同连接方式组合使用，还可以根据实际需要来选择连接部件与各个像素电极进行连接的位置，而不限于如图3中所示的区域A、B或图9-12中所示的各个连接区域。
在上述各实施例中，以第一薄膜晶体管24及第二薄膜晶体管25作为对第一子像素电极26a及第二子像素电极26b分别进行控制的开关元件的示例进行了说明。但是本领域技术人员可以想到，可以用其他类型的开关元件(特别是半导体开关元件)代替薄膜晶体管24、25来控制第一子像素电极26a和第二子像素电极26b，这些开关元件可以根据其工作原理和具体情况的不同而采用不同的连接方式。只要使得在第一开关元件对第一子像素电极进行的控制不能正常进行时，第二开关元件能够代替第一开关元件来对第一子像素电极的整体或部分进行控制，即可实施本发明来实现像素的修补。
上文中以MVA液晶显示装置为例进行了说明。但是应当明白，本发明并不限于MVA液晶显示装置，只要阵列基板的像素结构中存在多个子像素，就可以采用本发明。上文的说明中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似推广。例如，一个像素电极可以划分为多于两个子像素电极，第一、第二子像素电极的形状、尺寸以及相对位置关系不限于本申请中所述以及附图所示的情形，存储电容电极不限于图示的形状、位置、大小和方向，图5和图7所示阵列基板各层中的结构布置也可以根据工艺性和经济性方面的需要而进行改变。本发明的范围只由权利要求来限定，而不受这些具体实施方式的限制。

Claims (17)

1.一种液晶显示装置的阵列基板，包括多条扫描线、多条数据线以及由所述扫描线与所述数据线交叉排列所限定的像素，所述像素包括：
第一子像素电极；
第二子像素电极，与所述第一子像素电极电性隔离；
第一开关元件，用于对所述第一子像素电极进行控制；和
第二开关元件，用于对所述第二子像素电极进行控制，
其中，所述阵列基板被构造成使得：在所述第一开关元件对所述第一子像素电极进行的控制不能正常进行时，所述第二开关元件能够代替所述第一开关元件控制所述第一子像素电极的至少一部分。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述第一开关元件包括第一薄膜晶体管，所述第一薄膜晶体管的漏极与所述第一子像素电极电性连接；所述第二开关元件包括第二薄膜晶体管，所述第二薄膜晶体管的漏极与所述第二子像素电极电性连接；所述像素包括连接部件；在所述第一薄膜晶体管对所述第一子像素电极进行的控制不能正常进行时，所述第二薄膜晶体管的漏极和/或所述第二子像素电极通过所述连接部件与所述第一子像素电极的至少一部分电性连接。
3.根据权利要求2所述的阵列基板，其中，所述连接部件包括所述第一薄膜晶体管的漏极延伸出的第一延伸部分，所述第一延伸部分与所述第二子像素电极隔着绝缘层而重叠。
4.根据权利要求2或3所述的阵列基板，其中，所述连接部件包括所述第二薄膜晶体管的漏极延伸出的第二延伸部分，所述第二延伸部分与所述第一子像素电极隔着绝缘层而重叠。
5.根据权利要求2所述的阵列基板，其中，所述连接部件由导体制成，所述连接部件、所述第一子像素电极和所述第二子像素电极隔着绝缘层彼此重叠。
6.根据权利要求2所述的阵列基板，其中，所述连接部件由导体制成，所述第一薄膜晶体管的漏极与所述连接部件的一部分隔着绝缘层而重叠，所述第二子像素电极与所述连接部件的另一部分隔着绝缘层而重叠。
7.根据权利要求2所述的阵列基板，其中，所述连接部件由导体制成，所述连接部件的一部分与所述第一子像素电极隔着绝缘层而重叠，所述连接部件的另一部分通过通孔与所述第二子像素电极电性连接。
8.根据权利要求2所述的阵列基板，其中，所述第一薄膜晶体管与所述第二薄膜晶体管的栅极分别连接所述扫描线中不同的扫描线。
9.根据权利要求8所述的阵列基板，其中，所述第一薄膜晶体管与所述第二薄膜晶体管的源极分别连接所述数据线中不同的数据线。
10.如权利要求9所述的阵列基板，其中，所述第一子像素电极与所述第子二像素电极中至少一者上形成有多个凸起或开口。
11.一种液晶显示装置，包括阵列基板，所述阵列基板包括多条扫描线、多条数据线以及由所述扫描线与所述数据线交叉排列所限定的像素，所述像素包括：
第一子像素电极；
第二子像素电极，与所述第一子像素电极电性隔离；
第一开关元件，用于对所述第一子像素电极进行控制；和
第二开关元件，用于对所述第二子像素电极进行控制，
其中，所述阵列基板被构造成使得：在所述第一开关元件对所述第一子像素电极进行的控制不能正常进行时，所述第二开关元件能够代替所述第一开关元件控制所述第一子像素电极的至少一部分。
12.根据权利要求11所述的液晶显示装置，其中，所述第一开关元件包括第一薄膜晶体管，所述第一薄膜晶体管的漏极与所述第一子像素电极电性连接；所述第二开关元件包括第二薄膜晶体管，所述第二薄膜晶体管的漏极与所述第二子像素电极电性连接；所述像素包括连接部件；在所述第一薄膜晶体管对所述第一子像素电极进行的控制不能正常进行时，所述第二薄膜晶体管的漏极通过所述连接部件与所述第一子像素电极的至少一部分电性连接。
13.根据权利要求12所述的液晶显示装置，其中，所述连接部件包括所述第一薄膜晶体管的漏极延伸出的第一延伸部分，所述第一延伸部分与所述第二子像素电极隔着绝缘层而重叠。
14.根据权利要求12或13所述的液晶显示装置，其中，所述连接部件包括所述第二薄膜晶体管的漏极延伸出的第二延伸部分，所述第二延伸部分与所述第一子像素电极隔着绝缘层而重叠。
15.根据权利要求12所述的液晶显示装置，其中，所述连接部件由导体制成，所述连接部件、所述第一子像素电极和所述第二子像素电极隔着绝缘层彼此重叠。
16.根据权利要求12所述的液晶显示装置，其中，所述连接部件由导体制成，所述第一薄膜晶体管的漏极与所述连接部件的一部分隔着绝缘层而重叠，所述第二子像素电极与所述连接部件的另一部分隔着绝缘层而重叠。
17.根据权利要求12所述的液晶显示装置，其中，所述连接部件由导体制成，所述连接部件的一部分与所述第一子像素电极隔着绝缘层而重叠，所述连接部件的另一部分通过通孔与所述第二子像素电极电性连接。
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102402943A (zh) * 2011-12-15 2012-04-04 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 有源矩阵有机发光显示器的像素电路及其修补方法
CN102437113A (zh) * 2011-12-15 2012-05-02 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 有源矩阵有机发光显示器阵列基板信号断线的修复方法
CN102437112A (zh) * 2011-12-15 2012-05-02 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 一种有源矩阵有机发光显示器基板像素电路的修补方法
CN101738802B (zh) * 2009-12-31 2012-06-27 昆山龙腾光电有限公司 液晶显示面板及液晶显示装置
CN101937155B (zh) * 2009-07-01 2013-03-13 昆山龙腾光电有限公司 液晶显示面板及液晶显示器
CN102073175B (zh) * 2009-11-25 2014-08-13 上海天马微电子有限公司 液晶显示面板及液晶显示装置
CN105425435A (zh) * 2015-10-08 2016-03-23 友达光电股份有限公司 像素阵列及像素单元的修补方法
CN105572989A (zh) * 2015-12-15 2016-05-11 深圳市华星光电技术有限公司 Tft阵列基板、液晶显示面板及其修复方法
WO2016155041A1 (zh) * 2015-03-31 2016-10-06 深圳市华星光电技术有限公司 阵列基板、平面显示面板及阵列基板的制造方法
CN107885003A (zh) * 2013-12-02 2018-04-06 乐金显示有限公司 具有修复结构的显示装置
CN111090196A (zh) * 2019-05-03 2020-05-01 友达光电股份有限公司 像素阵列基板
WO2021232563A1 (zh) * 2020-05-19 2021-11-25 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 像素布局及具有该像素布局的显示面板
US11735600B2 (en) 2020-05-19 2023-08-22 Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. Pixel layout and display panel having pixel layout

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008090856A1 (ja) * 2007-01-26 2008-07-31 Sharp Kabushiki Kaisha 液晶表示装置
CN102645797B (zh) * 2011-05-17 2014-10-15 京东方科技集团股份有限公司 一种液晶显示器件及制造方法、显示装置
CN102751276B (zh) * 2012-06-01 2015-11-25 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板的制造方法、阵列基板及显示装置
CN104252854A (zh) * 2014-09-28 2014-12-31 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其驱动方法、显示面板和显示装置
CN104882453B (zh) 2015-06-11 2017-12-15 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制作方法、显示装置
CN105137667A (zh) * 2015-10-16 2015-12-09 京东方科技集团股份有限公司 显示装置及其制造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW300341B (zh) * 1995-05-30 1997-03-11 Advanced Display Kk
JP2001343660A (ja) * 2000-03-31 2001-12-14 Sharp Corp 液晶表示装置およびその欠陥修正方法
TWI282457B (en) * 2000-04-06 2007-06-11 Chi Mei Optoelectronics Corp Liquid crystal display component with defect restore ability and restoring method of defect
US6922183B2 (en) * 2002-11-01 2005-07-26 Chin-Lung Ting Multi-domain vertical alignment liquid crystal display and driving method thereof
CN100426111C (zh) * 2005-09-15 2008-10-15 友达光电股份有限公司 有源元件阵列基板及其像素单元的修补方法
KR101253273B1 (ko) * 2005-12-16 2013-04-10 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 그 구동 방법
JP4717672B2 (ja) * 2006-03-17 2011-07-06 ソニー株式会社 液晶装置及び電子機器
JP4572854B2 (ja) * 2006-03-29 2010-11-04 ソニー株式会社 液晶装置及び電子機器

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101937155B (zh) * 2009-07-01 2013-03-13 昆山龙腾光电有限公司 液晶显示面板及液晶显示器
CN102073175B (zh) * 2009-11-25 2014-08-13 上海天马微电子有限公司 液晶显示面板及液晶显示装置
CN101738802B (zh) * 2009-12-31 2012-06-27 昆山龙腾光电有限公司 液晶显示面板及液晶显示装置
CN102402943A (zh) * 2011-12-15 2012-04-04 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 有源矩阵有机发光显示器的像素电路及其修补方法
CN102437113A (zh) * 2011-12-15 2012-05-02 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 有源矩阵有机发光显示器阵列基板信号断线的修复方法
CN102437112A (zh) * 2011-12-15 2012-05-02 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 一种有源矩阵有机发光显示器基板像素电路的修补方法
CN102437112B (zh) * 2011-12-15 2013-04-03 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 一种有源矩阵有机发光显示器基板像素电路的修补方法
CN102437113B (zh) * 2011-12-15 2013-04-03 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 有源矩阵有机发光显示器阵列基板信号断线的修复方法
CN107885003A (zh) * 2013-12-02 2018-04-06 乐金显示有限公司 具有修复结构的显示装置
WO2016155041A1 (zh) * 2015-03-31 2016-10-06 深圳市华星光电技术有限公司 阵列基板、平面显示面板及阵列基板的制造方法
TWI564645B (zh) * 2015-10-08 2017-01-01 友達光電股份有限公司 畫素陣列及畫素單元的修補方法
CN105425435A (zh) * 2015-10-08 2016-03-23 友达光电股份有限公司 像素阵列及像素单元的修补方法
CN105425435B (zh) * 2015-10-08 2018-11-09 友达光电股份有限公司 像素阵列及像素单元的修补方法
CN105572989A (zh) * 2015-12-15 2016-05-11 深圳市华星光电技术有限公司 Tft阵列基板、液晶显示面板及其修复方法
CN105572989B (zh) * 2015-12-15 2019-02-19 深圳市华星光电技术有限公司 Tft阵列基板、液晶显示面板及其修复方法
CN111090196A (zh) * 2019-05-03 2020-05-01 友达光电股份有限公司 像素阵列基板
CN111090196B (zh) * 2019-05-03 2022-03-22 友达光电股份有限公司 像素阵列基板
WO2021232563A1 (zh) * 2020-05-19 2021-11-25 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 像素布局及具有该像素布局的显示面板
US11735600B2 (en) 2020-05-19 2023-08-22 Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. Pixel layout and display panel having pixel layout

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