CN101172758A - 无铅琉璃的制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种琉璃的制备方法，包括原料选择、粉碎、清除杂质、漂洗、干燥、洒色料、摆放、熔烧至750℃－980℃、退火冷却和冷加工的工艺步骤。本发明在制备过程中不含有铅的成分，可避免在制造和使用过程中造成铅中毒；色料在高温熔炉中流动形成自然的云状图案和绚丽色彩；产品内部在低温时可形成气泡，美观大方。

Description

无铅琉璃的制备方法
技术领域
本发明涉及一种装饰玻璃建材技术领域，尤其涉及一种无铅琉璃的制备方法。
背景技术
琉璃制品是一种传统的高级屋面和墙体的建筑装饰材料，目前传统琉璃的制备方法其原料天然石英沙有铅的成分。采用这种制备方法存在的问题是在生产过程中产生的铅毒严重危害工人的身体健康并造成对环境的污染。另外其制造的琉璃产品中也含有铅的成分，因而不能直接用来制作日常生活用品和餐饮容器。
发明内容
本发明所解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种在制备过程中不含铅的成分，避免铅中毒的琉璃的制备方法。
本发明提供了一种琉璃的制备方法，包括下述工艺步骤：
原料选择：选用超白玻璃边角料或光学玻璃边角料；
原料粉碎：将超白玻璃边角料或光学玻璃边角料，粉碎至直径在40mm-80mm的不规则块料；
用5％-15％酸液(HCL、H2SO4或HNO3)清除原料杂质，主要是氧化清除原料中的金属成分铁；
用纯净水漂洗干净后干燥备用
将洗涤干燥的玻璃原料块一至两个面洒上高温色料，即釉料；
再将玻璃块料平放在玻璃熔炉上，按每平方米1mm厚放置玻璃块料，其重量在2.4kg-2.8kg(最好是2.53kg)的比例放置；
据所需要的造型安放模具，将玻璃块放置好后，关上炉盖，熔烧加温至750℃-980℃，温度高低的不同，可以控制生产色彩不同、流动效果不同的琉璃产品；
退火冷却、形成毛坯；
冷却至室温后，将毛坯从炉台上取出，根据要求分别冷加工成砖状、板状、柱状以及其他适宜的形状，即可包装成品。
由于采用上述的技术方案，本发明具有以下的有益效果：成品不含有铅的成分，可避免在制造和使用过程中铅中毒；色料在高温熔炉中流动形成自然的云状图案和绚丽色彩；产品内部在低温时形成气泡。
附图说明
图1是本发明的工艺流程图。
具体实施方式
下面结合附图对具体实施方式加以说明。
如图1所示，本发明琉璃的制备方法，包括下述工艺步骤：
原料选择：选用市场上可以购买到的超白玻璃边角料或光学玻璃边角料；
原料粉碎：将超白玻璃边角料或光学玻璃边角料，粉碎至直径在40mm-80mm的不规则块料；
用5％-15％酸液(HCL、H2SO4或HNO3)清除原料杂质，主要是氧化清除原料中的金属成分铁；
用纯净水漂洗干净后干燥备用；
将洗涤干燥的玻璃原料块一至两个面洒上高温色料，即釉料；
再将玻璃块料平放在玻璃熔炉上，按每平方米1mm厚放置玻璃块料，其重量在2.4kg-2.8kg(最好是2.53kg)的比例放置；
据所需要的造型安放模具，将玻璃块放置好后，关上炉盖，熔烧加温至750℃-980℃，温度高低的不同，可以控制生产色彩不同、流动效果不同的琉璃产品；
退火冷却、形成毛坯；
冷却至室温后，将毛坯从炉台上取出，根据要求分别冷加工成砖状、板状、柱状以及其他适宜的形状，即可包装成品。
采用上述方法生产出的琉璃成品不含有铅的成分，可避免在制造和使用过程中铅中毒。色料(釉料)在高温熔炉中流动形成自然的云状图案和绚丽色彩。产品内部在低温时还可形成气泡。
最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明而并非限制本发明所描述的技术方案；因此，尽管本说明书参照上述的各个实施例对本发明已进行了详细的说明，但是，本领域的普通技术人员应当理解，仍然可以对本发明进行修改或等同替换；而一切不脱离本发明的精神和范围的技术方案及其改进，其均应涵盖在本发明的权利要求范围中。

Claims (1)

1.一种琉璃的制备方法，其特征在于：包括下述工艺步骤：
原料选择：选用超白玻璃边角料或光学玻璃边角料；
原料粉碎：将超白玻璃边角料或光学玻璃边角料，粉碎至直径在40mm-80mm的块料；
用5％-15％的HCL或H2SO4或HNO3酸液清除原料杂质，主要是氧化清除原料中的金属成分铁；
用水漂洗干净后干燥备用；
将洗涤干燥的玻璃原料块一至两个面洒上高温色料，即釉料；
再将玻璃块料平放在玻璃熔炉上，按每平方米1mm厚放置玻璃块料，其重量在2.4kg-2.8kg的比例放置；
根据所需要的造型安放模具，将玻璃块放置好后，关上炉盖，熔烧加温至750℃-980℃；
退火冷却、形成毛坯；
冷却至室温后，将毛坯从炉台上取出，根据要求分别冷加工成砖状、板状、柱状。
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PB01 Publication
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Addressee: Zhao Jiafeng

Document name: Notification that Application Deemed to be Withdrawn

C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Open date: 20080507