CN101158537A - 用于从工件上去掉水的装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种从机加工产品(工件)上去掉水的装置，该装置能够完全(充分)地去掉沉积在工件上的水珠。除水装置包括鼓风箱(2)，其用于保持要被去掉水的工件(1)；安装在鼓风箱(2)中的工件夹具(3)，其用于夹紧工件(1)；夹具旋转机构(4)，其用于旋转工件夹具(3)，从而使夹紧的工件(1)旋转，由此使沉积在工件(1)上的水珠落下；以及鼓风机(5)，其用于产生沿与从工件(1)上落下的水滴(11)下落方向相同的方向流动的气流。

Description

用于从工件上去掉水的装置
技术领域
本发明涉及一种从工件上去掉水的装置，在清洗通过铸造模制而成的机加工产品(工件)(例如汽车部件等)后，该装置能够将水从残余水珠沉积其上的工件上完全或充分地去掉和排出。
背景技术
许多不同的机器部件例如汽车部件用机床加工，然后用水进行清洗以去掉沉积的物质。
作为一种用来从清洗过的工件上去掉水的技术，迄今为止，采用这样一种技术，该技术通过利用鼓风机将压缩空气吹到工件上，来去掉工件表面或孔中或空腔中的残余的液体。
然而，在该鼓风模式中，被吹过的细水珠有可能再次沉积在工件上。另外，工件表面区域中只有直接暴露在鼓吹空气中的水能够从工件上吹走。然而，水并不一定被去掉，而是有可能保留在工件的外周上。
此外，鼓吹压缩空气需要大量的能量，除水效果不充分，而操作成本高。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种从工件上去掉水的装置，该装置能够完全或充分地去掉残留在工件表面或孔或空腔中或类似部位的残余的水珠，并能克服现有技术中存在的缺陷。
为了解决上述技术问题，根据本发明的用于从工件上去掉水的装置特别地包括：
鼓风箱，其用于保持要被去掉水的工件；
安装在鼓风箱中的工件夹具，其用于夹紧工件；
夹具旋转机构，其用于旋转工件夹具，从而使夹紧的工件旋转，由此使沉积在工件上的水珠落下；以及
鼓风机，其用于产生沿与从工件上落下的水滴下落方向相同的方向流动的气流。
根据本发明，除水装置A包括鼓风箱，其用于保持要被去掉水的工件；安装在鼓风箱中的工件夹具，其用于夹紧工件；夹具旋转机构，其用于旋转工件夹具，从而使夹紧的工件旋转，由此使沉积在工件上的水珠落下；以及鼓风机，其用于产生沿与从工件上落下的水滴下落方向相同的方向流动的气流。根据该装置，其能够完全或充分地去掉残留在工件表面或孔或空腔中的残余液体，并使得已经被吹走的残余液体不会再次沉积在工件表面上。
附图说明
图1为用于从工件上去掉水的装置的一个实施例的侧视图。
图2为图1所示的除水装置A的平面图。
具体实施方式
下面，将参考附图对本发明进行详细地描述。
图1为本发明一个实施例的侧视图，图2为该实施例的平面图。
本发明为一种除水装置A，其能够完全(或充分)地去掉残留在机加工产品(工件)1表面或孔中或类似部分的残余液体，该除水装置包括用于保持要被去掉水的工件的鼓风箱2、工件夹具3、夹具旋转机构4以及鼓风机5，如表示除水装置A的侧视图的图1所示。图2为除水装置A的平面图。
在鼓风箱2中，通过传送设备(图中未示出)设置工件1，工件1被夹紧，然后用挡板关闭工件入口。挡板设有用于空气进入的开口。
由夹具3夹紧的工件1通过夹具旋转机构3的作用旋转，从而将水从工件1上去掉。在夹具旋转机构4中，伺服马达9被数字控制(NC控制)。由此使夹具3以最佳状态旋转。附图标记10表示减速齿轮。
与之同时(与之并行)，鼓风机5被操作，从而将空气从鼓风箱2的顶部引导到鼓风箱2中。引入的空气使气流沿与从工件1处落下的水滴的下落方向相同的方向流动。鼓风机5包括排风扇12，通过操作该排风扇12，气流6从鼓风箱2的顶部经过鼓风箱2，从而沿工件1扫过，由此使水滴11下落。
工件1沿箭头的方向绕夹具3的旋转中心轴8旋转，使工件1上的水珠下落，作为下落的水滴7。附图标记13表示废气。
以这种方式，从工件1上落下的水滴沿气流6的方向下落，水滴不会再次沉积在工件1的表面上。
工业实用性
如上所述，根据本发明的除水装置A，水滴沿气流6的方向下落，使水滴不会再次沉积在工件1的表面上。因此，除水装置在清洗技术领域非常有用(实用)。
附图标记
A：用于从工件上去掉水的装置
1：工件
2：鼓风箱
3：夹具
4：夹具旋转机构
5：鼓风机
6：气流
7：下落的水滴
8：旋转中心轴
9：马达
10：减速齿轮
11：水滴
12：排风扇
13：废气

Claims (4)

1.一种从工件上去掉水的装置，该装置能够充分地去掉沉积在工件上的水珠，所述装置包括：
鼓风箱，其用于保持要被去掉水的工件；
安装在鼓风箱中的工件夹具，其用于夹紧工件；
夹具旋转机构，其用于旋转工件夹具，从而使夹紧的工件旋转，由此使沉积在工件上的水珠落下；以及
鼓风机，其用于产生沿与从工件上落下的水滴下落方向相同的方向流动的气流。
2.如权利要求1所述的从工件上去掉水的装置，其特征在于：所述鼓风机为设置在鼓风箱下游的排风扇。
3.如权利要求1所述的从工件上去掉水的装置，其特征在于：压缩空气吹喷管与其结合使用。
4.如权利要求1所述的从工件上去掉水的装置，其特征在于：伺服马达被用于旋转操作该夹具，由此使夹具以最佳状态将水去掉。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105910396A (zh) * 2016-06-22 2016-08-31 无锡市东特机械科技有限公司 一种密封件的夹紧旋转烘干装置
CN107588631A (zh) * 2017-09-20 2018-01-16 重庆佳岳机械制造有限公司 一种新型烘干箱设备
CN110793290A (zh) * 2019-11-14 2020-02-14 徐州金和盛金属有限公司 一种金属烘干装置

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5420227B2 (ja) * 2008-11-14 2014-02-19 株式会社滋賀山下 ワークの水切り装置
JP2012046809A (ja) * 2010-08-30 2012-03-08 Shiga Yamashita:Kk ワークの水切り装置
CN102221283B (zh) * 2011-03-25 2014-07-23 常州亿晶光电科技有限公司 一种eva样品交联度测试用干燥装置
CN106311678B (zh) * 2016-10-15 2018-12-07 深圳市澄天伟业科技股份有限公司 一种智能卡铣槽设备的清洁装置
JP6399662B2 (ja) * 2016-10-20 2018-10-03 株式会社滋賀山下 洗浄ブロー装置及びブロー装置
CN109341299A (zh) * 2018-09-11 2019-02-15 芜湖美威包装品有限公司 包装泡沫烘干装置
CN115978921B (zh) * 2022-12-23 2023-11-07 江苏建威电子科技有限公司 一种电子元器件烘干装置
CN118463539B (zh) * 2024-07-10 2024-10-22 泰兴市林森机械制造有限公司 一种胶辊成型处理用的烘干装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2947631B2 (ja) * 1991-03-12 1999-09-13 株式会社羽田製作所 回転洗浄乾燥装置
US5435075A (en) * 1992-04-07 1995-07-25 Tokyo Electron Limited Spindrier
DE4330675C2 (de) * 1993-09-10 1997-10-02 Schwarz Ernst Mafac Gmbh Trocknungsanlage
US5653247A (en) * 1995-08-14 1997-08-05 D.I.S. Inc. Wheel cleaning assembly
DE19714603C1 (de) * 1997-04-09 1998-10-29 Schwarz Ernst Mafac Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Werkstücken
US6286524B1 (en) * 1998-02-27 2001-09-11 Kabushiki Kaisha Toshiba Wafer drying apparatus and method with residual particle removability enhancement
US6539960B1 (en) * 2000-05-01 2003-04-01 United Microelectronics Corp. Cleaning system for cleaning ink in a semiconductor wafer
US6589359B2 (en) * 2000-07-11 2003-07-08 Tokyo Electron Limited Cleaning method and cleaning apparatus for substrate
US6705331B2 (en) * 2000-11-20 2004-03-16 Dainippon Screen Mfg., Co., Ltd. Substrate cleaning apparatus
US7261617B1 (en) * 2006-04-28 2007-08-28 Youth Tech Co., Ltd. Semiconductor wafer regenerating system and method

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105910396A (zh) * 2016-06-22 2016-08-31 无锡市东特机械科技有限公司 一种密封件的夹紧旋转烘干装置
CN105910396B (zh) * 2016-06-22 2018-08-17 无锡市东特机械科技有限公司 一种密封件的夹紧旋转烘干装置
CN107588631A (zh) * 2017-09-20 2018-01-16 重庆佳岳机械制造有限公司 一种新型烘干箱设备
CN110793290A (zh) * 2019-11-14 2020-02-14 徐州金和盛金属有限公司 一种金属烘干装置

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