CN101137683A - 用于制备精密光学器件的模制组合物 - Google Patents
用于制备精密光学器件的模制组合物 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101137683A CN101137683A CNA2006800076254A CN200680007625A CN101137683A CN 101137683 A CN101137683 A CN 101137683A CN A2006800076254 A CNA2006800076254 A CN A2006800076254A CN 200680007625 A CN200680007625 A CN 200680007625A CN 101137683 A CN101137683 A CN 101137683A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- weight
- acrylate
- impression composition
- mold
- impression
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 108
- 238000000465 moulding Methods 0.000 title claims abstract description 48
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 32
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 23
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims description 11
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 12
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 3
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 3
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(=O)C=C VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 239000003570 air Substances 0.000 description 2
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- -1 hexanediyl esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- OQOGEOLRYAOSKO-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-1-nitroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)[N+]([O-])=O OQOGEOLRYAOSKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEYNBWVKOYCCQT-UHFFFAOYSA-N 1-(3-chloro-4-methylphenyl)-3-{2-[({5-[(dimethylamino)methyl]-2-furyl}methyl)thio]ethyl}urea Chemical compound O1C(CN(C)C)=CC=C1CSCCNC(=O)NC1=CC=C(C)C(Cl)=C1 WEYNBWVKOYCCQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(C)COCC(C)OC(=O)C=C ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100027241 Adenylyl cyclase-associated protein 1 Human genes 0.000 description 1
- 101710137115 Adenylyl cyclase-associated protein 1 Proteins 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 description 1
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012080 ambient air Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical class C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 230000007849 functional defect Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 230000002045 lasting effect Effects 0.000 description 1
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000206 moulding compound Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N nitrogen dioxide Inorganic materials O=[N]=O JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000000191 radiation effect Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000002277 temperature effect Effects 0.000 description 1
- 238000010023 transfer printing Methods 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C08L33/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur, or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
- C08L33/16—Homopolymers or copolymers of esters containing halogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/22—Esters containing halogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
- C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
- C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/22—Esters containing halogen
- C08F220/24—Esters containing halogen containing perhaloalkyl radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
- C08L33/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2205/00—Polymer mixtures characterised by other features
- C08L2205/02—Polymer mixtures characterised by other features containing two or more polymers of the same C08L -group
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/3154—Of fluorinated addition polymer from unsaturated monomers
- Y10T428/31544—Addition polymer is perhalogenated
Abstract
本发明涉及模制组合物，由此制成的模制体，以及包括表面结构的所述模制体的制造方法。
Description
发明领域
本发明涉及一种压印组合物(impression)、由其制成的模制部件、和具有表面结构的该模制部件的制造方法。
背景技术
显示器，例如具有移动用途的显示器的已知照明装置的光源是管式光源(CCFL；冷阴极荧光灯)。该光源发出的光被耦合到具有楔形横截面或在其正表面上具有立方形的模制部件内。尤其由于模制部件的楔形实施方案，在相界处和穿过相应散射的中心发生光束的总反射，且光束在楔形模制部件表面处离开。楔形模制部件的表面与要被透射的显示器相对放置。模制部件的表面具有使光通过折射离开光波导管的结构。由此折射的光通过位于模制部件和显示器之间的数张薄膜校准并被引导，以使基本白色的光到达显示器。这类照射装置的结构很复杂，由于必须在一个框架或类似物中插入数张薄膜而更为如此，且必须确保避免薄膜的位移或类似情况。由于结构复杂，制造成本很高。此外，具有功能缺陷的危险。
含有各种丙烯酸酯的组合物是已知的。
EP0478261A2描述了含有至多45重量％部分氟化丙烯酸酯的一定组合物。
US4,511,209A描述了含有超过9重量％光引发剂或少于50重量％部分氟化丙烯酸酯的组合物。
WO92/21492A1描述了含有超过5重量％光引发剂的组合物。
EP0536743A1描述了含有少于50重量％部分氟化丙烯酸酯或少于24.9重量％非氟化丙烯酸酯的组合物。
EP0333464A1描述了含有无间隔基的全氟化丙烯酸酯的组合物。
EP0196212A2也描述了含有无间隔基的全氟化丙烯酸酯的组合物。
发明内容
本发明的目的是提供用于制造模制部件的表面结构的压印组合物和方法，其不用额外的必要薄膜就能够实现可靠、廉价的制备。
在第一个实施方式中，本发明的目的通过无溶剂压印组合物实现，该组合物含有：
a)50至65重量％的至少一种1H，1H，2H，2H-全氟烷基丙烯酸酯，其烷基残基的链长为6至12个碳原子；
b)24.9至45重量％的至少一种非氟化丙烯酸酯；和
c)0.1至5重量％的至少一种光引发剂。
根据本发明，当制造模制部件的表面结构时，将压印组合物施加到阴铸模和/或模制部件上。优选地，阴铸模具有作为阴模形态(negativeform)的要被转印到作为基底的模制部件上的表面结构。表面结构的转印通过可固化压印组合物进行，该组合物在固化后粘合到模制部件表面上。模制部件是优选由透明材料、尤其是透明塑料材料制成的基底。透明塑料材料优选包括选白甲基丙烯酸酯聚合物(例如PMMA)、聚碳酸酯、环烯烃聚合物、苯乙烯聚合物、聚丙烯酸酯、聚醚砜和/或聚酰亚胺的那些。模制部件也可以由玻璃组成。
本发明含义内的全氟化丙烯酸酯优选地包括线型、支化和/或环状丙烯酸烷基酯或这类丙烯酸酯的混合物，其中，特别地，与丙烯酸酯官能团(间隔基)相邻的两个碳原子未被氟化，且其中烷基链的残基优选具有6至12个碳原子。全氟化丙烯酸酯是全氟烷基乙基丙烯酸酯(例如来自Clariant的
其中乙基未被氟化且全氟化烷基残基具有4至10个碳原子。如果烷基链更长，就可能不能再确保可脱模性，或可能形成全氟化和非氟化丙烯酸酯单体的两个相。如果在单体的组合物中形成两个或更多相，这可能在固化层中引起更多的光散射(浊度)。但是，如果烷基链更短，所得的压印组合物可能粘度太低。
因此，全氟化丙烯酸酯单体的分子量优选为350至500克/摩尔。如果分子量高于该范围，所得压印组合物可能很容易获得太高的粘度，这可能导致更多地形成表面元(surface element)的缺陷和后生现象(artifact)。如果分子量低于该范围，所得压印组合物可能很容易获得太低的粘度，这可能导致作为本发明的模制部件的一部分的层的层厚度太低。
有利地，本发明的全氟化丙烯酸酯单体的熔点在15至40℃的范围内。由于压印组合物优选在室温下使用，另外可以通过在接近室温的优选范围内选择全氟化丙烯酸酯单体的熔点来控制压印组合物的粘度。
本发明的非氟化丙烯酸酯优选为线型、支化和/或环状丙烯酸烷基酯或这类丙烯酸酯的混合物。特别优选的是具有两个或多个丙烯酸酯官能团和/或两个或多个醇基团和/或至少一个醚桥的单体(例如，二丙二醇二丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、1，6一己二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、烷氧基化己二醇二丙烯酸酯、或酯二醇二丙烯酸酯或这类单体的混合物)，因为这些单体由于它们的多官能性，产生特别稳定且无光学瑕疵的层作为本发明的模制部件的一部分。有利地，烷基链具有6至12个碳原子。如果烷基链更长，很容易形成部分氟化和非氟化丙烯酸酯单体的两个相。但是，如果烷基链更短，所得压印组合物可能粘度太低。
本发明的非氟化丙烯酸酯单体的分子量优选为150至340克/摩尔。如果全氟化丙烯酸酯单体的分子量高于该范围，所得压印组合物容易获得太高的粘度，这可能导致更多地形成表面元的缺陷和后生现象。如果分子量低于该范围，所得压印组合物可能容易获得太低的粘度，这可能导致作为本发明的模制部件的一部分的层的层厚度太低。
本发明含义内的光引发剂优选为苯基酮衍生物(例如来自CibaSpezialitfitenchemie Lampersheim GmbH的
184和/或因为这些对本发明所得模制部件的光学性能的负面影响特别低。
优选地，压印组合物含有55至60重量％的全氟化丙烯酸酯或不同全氟化丙烯酸酯的混合物，因为当全氟化丙烯酸酯的含量太高或太低时，可能很容易形成部分氟化和非氟化的丙烯酸酯单体的相分离。
压印组合物有利地含有34.9至45重量％的非氟化丙烯酸酯或不同非氟化丙烯酸酯的混合物。对于更低的非氟化丙烯酸酯含量，观察到更多地形成两相压印组合物体系。单体组合物中相分离的形成引起固化的层中光散射(浊度)更大。当非氟化丙烯酸酯的比例更高时，固化的压印组合物与阴铸模的粘合增强并由此在脱模过程中出现问题。
有利地，压印组合物含有1至2重量％的光引发剂或不同光引发剂的混合物。这导致单体的交联特别高并使光学质量和机械负载性能改善。
优选地，压印组合物在室温下的粘度为2至30mPa·s(cP)。由此可以特别精确地再现阴铸模或模制部件的表面结构。粘度可以在25℃下用布鲁克菲尔德粘度计在900转/分钟的转速和CAP-1心轴和67微升的样品体积下测量。
优选地，压印组合物是单相的和/或均匀的，且有利地密度为1至1.5克/毫升。由此，压印组合物的密度高于普通有机组合物和液体，可以取代出自阴铸模的任何有机液体。由此，又可以避免具有表面元的固化层的缺陷。
优选地，压印组合物不含溶剂，因为这不仅产生更环保的制备方法，而且固化时可能逸出的溶剂会在本发明的模制部件的表面结构中造成缺陷。
在第二个实施方式中，本发明的目的通过透明模制部件实现，其包括片状基底和基底主表面上的层厚度为3至300微米并由聚合压印组合物组成的层，该组合物含有：
a)50至65重量％的至少一种如上所述的全氟化丙烯酸酯，；
b)24.9至45重量％的至少一种非氟化丙烯酸酯；和
c)0.1至5重量％的至少一种光引发剂；
其中该层在背向基底的表面上具有带有衍射表面元的表面结构，该表面元的缺陷的最大结构尺寸为至多100纳米，尤其是至多50纳米。
本发明含义内的缺陷是在本发明的模制部件的层的表面上的非预期的所有结构。这些包括，例如，中断、模制缺陷和类似缺陷。例如，如果本发明的模制部件的衍射表面元根据本发明大小为0.04至10,000平方微米，相互距离为1至100微米，这些表面元优选在其外表面上没有无意产生且结构大小超过100纳米的附加结构。这些缺陷的最大体积优选为1,000,000立方纳米，优选125,000立方纳米。
有利地，基底上的本发明的层的层厚度(该层和基底一起构成本发明的模制部件)为5至50微米，优选10至30微米。如果层厚度低于5微米，则在衍射表面元方面的设计自由度可能受到太大的限制。但是，如果层厚度大于50微米，可能会不合意地损失本发明的模制部件的光学质量。
基底优选由玻璃、甲基丙烯酸酯聚合物(例如PMMA)、聚碳酸酯、环烯烃聚合物、苯乙烯聚合物、聚丙烯酸酯、聚醚砜和/或聚酰亚胺，尤其是PMMA组成。这些材料将特别优异的光学性能和与本发明的压印组合物的高相容性结合在一起。
如果对于10毫米的层厚度，在不考虑衍射表面元的情况下，根据ASTMD1003测得的层的最大光散射(浊度)至多为10％，优选至多5％，则模制部件在本发明的含义内被说成是“透明的”。因此，可以在预定的发射方向上获得特别高的光输出，且损失到不想要的发射方向上的散射较少。
本发明的模制部件的颜色优选在根据CIELab系统定义的a<0.5和/或b<0.5、和/或L>80％范围内的色空间中。因此，可以获得例如可用作移动电话背光灯的色彩特别中性的模制部件。
这种色空间尤其对应于CIE1931颜色模型中的0.0<x<0.4和0.3<y<0.4的范围。
在第三个实施方式中，本发明的目的通过用于制备本发明的模制部件的基本无压的方法实现，该方法包括下列步骤：
a)提供具有表面元成型体(shapings)的阴铸模；
b)以超出表面元成型体的量在铸模中加入压印组合物，其含有
i)50至65重量％的至少一种如上所述的全氟化丙烯酸酯，；
ii)24.9至45重量％的至少一种非氟化丙烯酸酯；和
iii)0.1至5重量％的至少一种光引发剂；
c)将基底施加到压印组合物的暴露表面上；
d)使压印组合物聚合，使压印组合物层粘合到基底上，以制备模制部件；和
e)从阴铸模上取出最终模制部件。
在该方法中，基底不接触阴模表面，而是几乎浮在压印组合物的暴露表面上。
在基底和阴铸模以及作为中间层的压印组合物呈三明治状重叠后，将压印组合物固化。例如，这在温度和/或辐射作用下实施，特别优选使用UV辐射，因为由此可以特别迅速地固化压印组合物。对于压印组合物，小于3秒、尤其是大约1秒的固化时间是足够的，因为可以由此减少工艺持续时间和制备方法的成本。随后，分离模制部件和阴铸模。由于阴铸模优选具有不与压印组合物粘合的表面，或者阴铸模表面与压印组合物之间的粘合力低于压印组合物与模制部件之间的粘合力，优选地可以不用溶剂便将模制部件与阴铸模分离。这样的优点在于，阴铸模非常精细的表面结构不会被溶剂或类似物涂饰，从而对表面结构变形的精确度产生不利影响。
本发明含义内的“无压”是指在步骤c)和d)中对压印组合物施加的压力不超过由大气压、重力、上覆基底和将基底轻微压向阴铸模引起的压力。这种轻微加压被认为是指将根据DIN 53576-B的压印硬度为50至200N的泡沫压印3毫米所必须的压力。
由于阴铸模的表面结构非常精细，根据本发明特别重要的是，阴铸模与基底之间的压印组合物层非常均匀且尤其没有任何杂质，例如空气夹杂物和类似物。为了实现这一点，首先将基底或阴铸模压在其一面上。结果阴铸模和基底在从该第一面开始的加压过程开始时具有延伸的缝隙。随后，从该第一面开始，朝第二面增加加压面积。由此将缝隙封闭，从而将任何现存的气泡从该缝隙中推出。由于在缝隙中产生的毛细力，确保了压印组合物在整个所需表面中、尤其在与阴铸模相邻的整个基底侧上均匀分布。
阴铸模优选为所谓的垫片(shim)。这是指特别适用于光学领域的精细模制工艺的阴铸模。为了避免使用脱模剂，垫片优选具有镍表面或完全由镍组成。这确保了脱模操作特别容易。镍片优选具有非常薄的设计，例如，厚度为大约0.1至1毫米。因此，可以用特别低的力使该薄片产生弹性变形，以进行变形。为了在镍层中产生非常小的表面结构，镍垫片优选用电流模制。优选通过平板法(lithographic process)在镍垫片中引入表面结构。由此，当制备阴铸模时，可以借助既定方法。优选地，将镍垫片连接，优选粘结到加固体(stiffening body)如玻璃纤维板上，从而进行加固，以使脱模时的变形实际上是弹性的且该薄片不会随时间永久变形。
优选地，为了均匀施加或分布压印组合物以作为模制部件和阴铸模之间的压印组合物，持续地增加加压面积。特别地，确保受压区域不再分离以避免产生夹杂物。优选地，模制部件在加压过程中与阴铸模形成优选<3°、更优选<2°的开度角，从而可以实现压印组合物的尽可能均匀的分布。优选将压印组合物通过滴加施加到阴铸模和/或模制部件上，因为这同时确保压印组合物在阴铸模上的良好定量和良好铺展。优选地，通过分配装置施加精确的压印组合物的量，以便更容易地实现本发明的模制部件的可再现性。对于0.0016平米的表面，优选地，施加80微升±2微升的压印组合物的量，因为由此对所述尺寸而言，阴铸模特别精确地被压印组合物填充。因此，由于上述原因，每平米施加优选50毫升的压印组合物的量。为了确保要产生纹理的模制部件表面整个被压印组合物润湿，优选充分过量地供应压印组合物。
为了确保压印组合物与模制部件的牢固粘合，优选对要与压印组合物接触的基底表面进行预处理，以实现固化压印组合物层与基底之间特别好的粘合。特别优选用UV辐射进行预处理，因为由此可以在基底表面上形成自由基反应中心，压印组合物在施加压印组合物时可以已经在基底表面上开始交联。当使用PMMA作为基底并使用上述压印组合物时，数秒、优选少于2秒的预处理是足够的。当通过UV辐射促进固化时，特别优选提供用于预处理和固化的常用装置。因此，可以在已有压印组合物的另一基底进行压印组合物的固化的同时，对还要被涂布的基底进行预处理。
特别优选在施加压印组合物和/或将其压上基底和/或固化压印组合物的同时提供惰性气氛，尤其是氩气、氮气和/或二氧化碳气氛，因为由此可以尽可能远离外界影响，例如环境空气的臭氧含量(自由基来源)，更好地进行固化。这尤其避免了由自由基空气或可能不利地影响压印组合物的其它因素引起的过早成形。
模制部件与阴铸模的分离优选地通过使模制部件和/或阴铸模弹性变形来实现，因为以该方式可以使阴铸模再使用。优选地，只有阴铸模发生弹性变形，以避免损害施加到模制部件上的表面结构。由于根据本发明阴铸模优选具有镍表面，且固化的压印组合物更好地粘附到基底表面而非粘附到镍表面上，提供脱模剂并不是必需的。因此，优选地，在本发明的方法中不使用脱模剂。此外，在本发明的这种优选实施方时中，不需要清洗阴铸模，因为固化的压印组合物没有残留在阴铸模上。因此，阴铸模具有自净功能。
有利地，该方法在室温下进行。这与传统方法相比显著简化了工艺管理。
步骤b)中加入到阴铸模中的压印组合物的量有利地为60至100微升。如果压印组合物正好以在基底的整个边界区域形成压印组合物弯月面的量加入，则是特别优选的。这样做的优点是只使用必要量的压印组合物，另一方面，基底和阴铸模之间的压印组合物层是封闭层。
本发明的方法优选在防尘环境中进行，以实现具有本发明的涂层的模制部件的可接受的光学质量。
此外，如果只通过施加基底就可以使压印组合物分布在阴铸模上，则是有利的。由此可以避免气泡形成并由此避免固化层形成缺陷。
具体实施方式
实施例：
将11克1H，1H，2H，2H-全氟辛基丙烯酸酯与8克二丙二醇二丙烯酸酯、来自Ciba
Lampersheim GmbH的0.1克
819和0.2克
184混合。将60微升所得混合物施加到2×2厘米大小的镍片上，其表面上已经形成有具有散射中心的模制部件相反(negative)形状。随后，在镍片上的混合物的表面上施加1毫米厚且l×1厘米大小的PMMA薄片。此后，用市售UV汞灯对由此获得的镍片夹层结构(该混合物夹在中间)施以UV辐射2秒。随后，将带有粘合到其上的固化压印组合物的基底从阴铸模上取出。该制备方法基本类似于欧洲专利申请05003358.8中所述的光学波导管元件的制备方法，将该申请在此并入本文作为参考。
Claims (10)
1.一种无溶剂压印组合物，其含有：
a)50至65重量％的至少一种1H，1H，2H，2H-全氟烷基丙烯酸酯，其烷基残基的链长为6至12个碳原子；
b)24.9至45重量％的至少一种非氟化丙烯酸酯；和
c)0.1至5重量％的至少一种光引发剂。
2.根据权利要求1所述的压印组合物，其特征在于所述全氟化丙烯酸酯是线型的、支化的和/或环状的，且其中与丙烯酸酯官能团相邻的碳原子未被氟化。
3.根据权利要求1所述的压印组合物，其特征在于所述全氟化丙烯酸酯的含量为55至65重量％。
4.根据权利要求1所述的压印组合物，其特征在于所述非氟化丙烯酸酯的含量为至少34.9重量％。
5.根据权利要求1所述的压印组合物，其特征在于所述光引发剂的含量为1至2重量％。
6.根据权利要求1所述的压印组合物，其特征在于其粘度为2至30mPa·s。
7.根据权利要求1所述的压印组合物，其特征在于其密度为1至1.5克/毫升。
8.根据权利要求1所述的压印组合物，其特征在于其由单一的、尤其是均匀的液相组成。
9.一种透明模制部件，其包括片状基底和位于所述基底主表面上的层厚度为3至300微米并由聚合压印组合物组成的层，所述组合物含有：
a)50至65重量％的至少一种全氟化丙烯酸酯，；
b)24.9至45重量％的至少一种非氟化丙烯酸酯；和
c)0.1至5重量％的至少一种光引发剂；
其中所述层在背向基底的表面上具有带有衍射表面元的表面结构，所述表面元的缺陷的最大结构尺寸至多为100纳米。
10.一种用于制备根据权利要求10所述的模制部件的基本无压的方法，其包括下列步骤：
a)提供具有表面元成型体的阴铸模；
b)以超出表面元成型体的量在铸模中加入压印组合物，其含有
i)50至65重量％的至少一种全氟化丙烯酸酯，；
ii)24.9至45重量％的至少一种非氟化丙烯酸酯；和
iii)0.1至5重量％的至少一种光引发剂；
c)将基底施加到所述压印组合物的暴露表面上；
d)使所述压印组合物聚合，使压印组合物层粘合到基底上，以制备模制部件；和
e)从阴铸模上取下最终模制部件。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP20050101887 EP1700871B1 (de) | 2005-03-10 | 2005-03-10 | Abformzusammensetzung zur Herstellung von Präzisionsoptik |
| EP05101887.7 | 2005-03-10 | ||
| PCT/EP2006/060563 WO2006094997A1 (de) | 2005-03-10 | 2006-03-08 | Abformzusammensetzung zur herstellung von präszisionsoptik |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101137683A true CN101137683A (zh) | 2008-03-05 |
| CN101137683B CN101137683B (zh) | 2012-06-27 |
Family
ID=34938945
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2006800076254A Expired - Fee Related CN101137683B (zh) | 2005-03-10 | 2006-03-08 | 用于制备精密光学器件的模制组合物 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8246896B2 (zh) |
| EP (2) | EP1700871B1 (zh) |
| JP (1) | JP5406522B2 (zh) |
| KR (1) | KR20070110438A (zh) |
| CN (1) | CN101137683B (zh) |
| AT (2) | ATE373026T1 (zh) |
| DE (1) | DE502005001479D1 (zh) |
| DK (1) | DK1700871T3 (zh) |
| ES (1) | ES2290848T3 (zh) |
| PL (1) | PL1700871T3 (zh) |
| WO (1) | WO2006094997A1 (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102449005A (zh) * | 2009-05-29 | 2012-05-09 | 日产化学工业株式会社 | 含氟高支化聚合物和包含该聚合物的树脂组合物 |
| CN103237848A (zh) * | 2010-12-01 | 2013-08-07 | 日产化学工业株式会社 | 包含含氟高支化聚合物的涂布用固化性组合物 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ATE512172T1 (de) * | 2009-04-07 | 2011-06-15 | Nanogate Ind Solutions Gmbh | Abformzusammensetzung |
| CN102174143B (zh) * | 2011-01-29 | 2013-01-09 | 锦州惠发天合化学有限公司 | 一种含氟丙烯酸酯乳液的制备方法 |
| BR102014031426B1 (pt) | 2014-12-15 | 2018-07-24 | Jjgc Ind E Comercio De Materiais Dentarios S/A | implante |
| USD816841S1 (en) | 2014-12-15 | 2018-05-01 | Jjgc Industria E Comercio De Materiais Dentarios S/A | Bone implant |
| CN109627378B (zh) * | 2017-10-09 | 2021-03-16 | 中国石油化工股份有限公司 | 疏水缔合物及其制备方法、非均质碳酸盐岩储层酸压用清洁转向酸及其制备方法 |
Family Cites Families (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1221795A (en) * | 1982-02-24 | 1987-05-12 | Bolesh J. Skutnik | Optical fiber cladding |
| EP0196212B1 (en) * | 1985-03-25 | 1991-05-08 | RAYCHEM CORPORATION (a Delaware corporation) | Adhesive composition for optical fibers |
| JPS6296508A (ja) * | 1985-10-23 | 1987-05-06 | Sumitomo Chem Co Ltd | 硬化性樹脂組成物 |
| JPS63248807A (ja) * | 1987-04-03 | 1988-10-17 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 光硬化性組成物 |
| AU608420B2 (en) * | 1988-03-15 | 1991-03-28 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Polymer claddings for optical fibre waveguides |
| EP0478261A3 (en) * | 1990-09-27 | 1992-05-06 | Ciba-Geigy Ag | Process for producing oxygen-permeable polymer |
| JP3326796B2 (ja) * | 1991-01-31 | 2002-09-24 | 大日本インキ化学工業株式会社 | 硬化性組成物及びその硬化方法 |
| WO1992021492A1 (en) * | 1991-05-31 | 1992-12-10 | Advanced Glass Treatment Systems | Moisture resistant glass article |
| JP3167443B2 (ja) * | 1991-08-23 | 2001-05-21 | 大日本インキ化学工業株式会社 | 光ファイバクラッド用硬化性組成物及びそれを用いた光ファイバ |
| EP0536743A1 (en) * | 1991-10-08 | 1993-04-14 | Sumitomo Electric Industries, Ltd | Resin composition and plastic clad optical fiber comprising the same |
| JP3051241B2 (ja) * | 1991-12-04 | 2000-06-12 | 日本化薬株式会社 | 紫外線硬化性透過型スクリーン用樹脂組成物及びその硬化物 |
| JPH06136062A (ja) * | 1992-10-21 | 1994-05-17 | Nippon Oil & Fats Co Ltd | 含フッ素硬化性組成物及び含フッ素硬化被膜 |
| JP3372073B2 (ja) * | 1992-12-01 | 2003-01-27 | 日本化薬株式会社 | 紫外線硬化性透過型スクリーン用樹脂組成物並びにその硬化物 |
| US5343544A (en) * | 1993-07-02 | 1994-08-30 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Integrated optical fiber coupler and method of making same |
| US5411209A (en) * | 1993-10-18 | 1995-05-02 | Ollivier; Gerald | Anti-hail shock wave generator |
| JPH08231647A (ja) * | 1994-12-28 | 1996-09-10 | Sharp Corp | 光重合性樹脂材料組成物 |
| US5912061A (en) * | 1995-08-03 | 1999-06-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | UV-ray setting resin and a method for manufacturing a magneto-optical disk by the use of the UV-ray setting resin |
| JP4029531B2 (ja) * | 1999-10-19 | 2008-01-09 | 大日本インキ化学工業株式会社 | 微小立体成形用活性エネルギー線硬化性組成物 |
| EP1635201A1 (de) | 2004-09-09 | 2006-03-15 | Nanogate Advanced Materials GmbH | Beleuchtungseinrichtung zur gleichmässigen Hinterleuchtung von Flachbildschirmen, umfassend einen Lichtleiter mit diffraktiven Oberflächenelementen |
| ATE362619T1 (de) * | 2005-03-10 | 2007-06-15 | Nanogate Advanced Materials Gmbh | Flachbildschirm |
-
2005
- 2005-03-10 DK DK05101887T patent/DK1700871T3/da active
- 2005-03-10 AT AT05101887T patent/ATE373026T1/de not_active IP Right Cessation
- 2005-03-10 ES ES05101887T patent/ES2290848T3/es active Active
- 2005-03-10 EP EP20050101887 patent/EP1700871B1/de not_active Not-in-force
- 2005-03-10 PL PL05101887T patent/PL1700871T3/pl unknown
- 2005-03-10 DE DE200550001479 patent/DE502005001479D1/de active Active
-
2006
- 2006-03-08 JP JP2008500195A patent/JP5406522B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2006-03-08 CN CN2006800076254A patent/CN101137683B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-03-08 AT AT06724979T patent/ATE509047T1/de active
- 2006-03-08 US US11/885,901 patent/US8246896B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-03-08 WO PCT/EP2006/060563 patent/WO2006094997A1/de active Application Filing
- 2006-03-08 KR KR1020077023113A patent/KR20070110438A/ko not_active Application Discontinuation
- 2006-03-08 EP EP20060724979 patent/EP1856169B1/de not_active Not-in-force
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102449005A (zh) * | 2009-05-29 | 2012-05-09 | 日产化学工业株式会社 | 含氟高支化聚合物和包含该聚合物的树脂组合物 |
| CN102449005B (zh) * | 2009-05-29 | 2016-01-20 | 日产化学工业株式会社 | 含氟高支化聚合物和包含该聚合物的树脂组合物 |
| CN105384871A (zh) * | 2009-05-29 | 2016-03-09 | 日产化学工业株式会社 | 含氟高支化聚合物和包含该聚合物的树脂组合物 |
| CN105384871B (zh) * | 2009-05-29 | 2018-03-09 | 日产化学工业株式会社 | 含氟高支化聚合物和包含该聚合物的树脂组合物 |
| CN103237848A (zh) * | 2010-12-01 | 2013-08-07 | 日产化学工业株式会社 | 包含含氟高支化聚合物的涂布用固化性组合物 |
| CN103237848B (zh) * | 2010-12-01 | 2015-09-02 | 日产化学工业株式会社 | 包含含氟高支化聚合物的涂布用固化性组合物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DK1700871T3 (da) | 2008-01-21 |
| WO2006094997A1 (de) | 2006-09-14 |
| US8246896B2 (en) | 2012-08-21 |
| EP1856169B1 (de) | 2011-05-11 |
| CN101137683B (zh) | 2012-06-27 |
| JP5406522B2 (ja) | 2014-02-05 |
| ES2290848T3 (es) | 2008-02-16 |
| US20080176064A1 (en) | 2008-07-24 |
| DE502005001479D1 (de) | 2007-10-25 |
| EP1700871A1 (de) | 2006-09-13 |
| ATE373026T1 (de) | 2007-09-15 |
| EP1856169A1 (de) | 2007-11-21 |
| PL1700871T3 (pl) | 2007-12-31 |
| JP2008533228A (ja) | 2008-08-21 |
| ATE509047T1 (de) | 2011-05-15 |
| KR20070110438A (ko) | 2007-11-16 |
| EP1700871B1 (de) | 2007-09-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101137683B (zh) | 用于制备精密光学器件的模制组合物 | |
| US10137661B2 (en) | Microrelief structural body, decorative sheet, decorative resin molded body, method for producing microrelief structural body, and method for producing decorative resin molded body | |
| CN101809046A (zh) | 光固化性组合物、精细图案形成体的制造方法和光学元件 | |
| CN103524683A (zh) | 活性能量线固化性树脂组合物、微细凹凸结构体及微细凹凸结构体的制造方法 | |
| CN106867442B (zh) | Uv固化胶组合物、软模具以及转印方法 | |
| CN106575605B (zh) | 微细结构体的制造方法 | |
| CN104737272A (zh) | 压印用光固化性树脂组合物、压印用模具的制造方法以及压印用模具 | |
| JP2018146823A (ja) | 画像表示装置の製造方法 | |
| JP2015157875A (ja) | 硬化性組成物、微細凹凸構造体、加飾シート、および加飾樹脂成形体、並びに加飾樹脂成形体の製造方法 | |
| CN102466830B (zh) | 具有微结构的光扩散板与导光板 | |
| CN101607432A (zh) | 光学元件的制造方法 | |
| JP2002187135A (ja) | 樹脂成形型の製造方法およびその樹脂成形型を用いた樹脂成形品 | |
| JP5879939B2 (ja) | 微細凹凸構造体、ディスプレイ及び微細凹凸構造体の製造方法 | |
| CN100395614C (zh) | 导光板制造方法 | |
| JP7357882B2 (ja) | 成形物の製造方法、レプリカモールドの製造方法及びデバイスの製造方法 | |
| CN114874383B (zh) | 一种无介质空中成像高分子材料及光学晶格器件成型工艺 | |
| JP4140128B2 (ja) | ロール状の樹脂型とその樹脂型を用いたレンズシートの製造方法 | |
| US20120028039A1 (en) | Impression composition | |
| CN109266065B (zh) | 光可固化涂料组合物及其应用 | |
| CN112912449B (zh) | 硬涂层形成用组合物、利用其的硬涂层及包括其的层叠体 | |
| JP2834743B2 (ja) | プラスチック成形型 | |
| CN115373219A (zh) | 塑料晶圆的处理方法、塑料晶圆、光栅片及光波导器件 | |
| JPH0727901A (ja) | レンズシート | |
| CN115793384A (zh) | 眼镜片制备方法 | |
| CN115008938A (zh) | 可再生利用的亚克力画板制造工艺 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| C17 | Cessation of patent right | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20120627 Termination date: 20140308 |