CN101097747B - 信息记录装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种信息记录装置，它包括：记录介质；由致动单元驱动的摆动臂，所述摆动臂响应于致动单元的进行的驱动而在记录介质表面上方摆动；记录头，所述记录头由摆动臂承载，并随着由致动单元使摆动臂进行的摆动而在记录介质的表面上方扫描，所述记录头向记录介质记录信息；头缩回机构，在处于不在记录介质上记录信息的卸载状态下，所述头缩回机构使记录头缩回记录介质之外；光注入单元，将光注入到记录头中，记录头包括光照射部分，在向记录介质记录信息时，所述光照射部分将注入到记录头的光照射到记录介质上，其中，光注入单元与头缩回机构是一体的，形成整体式光注入及头缩回机构。

Description

信息记录装置
相关申请的交叉引用
本申请基于2006年6月29日提交的日本在先申请No.2006-180111，该申请的全部内容通过引用而结合于此。 
技术领域
本发明一般来说涉及信息记录装置，更具体地说，涉及这样的信息记录装置：它具有紧凑的尺寸，并能够以高记录密度和高速度向记录介质记录信息并从记录介质再现信息，同时能够用热辅助技术解决高密度记录介质中产生的热起伏问题。 
背景技术
最近，用于信息记录的记录介质中记录密度正在提高。典型示例可以是磁盘装置中的磁性盘记录介质，它在计算机和涉及计算机的装置中广泛使用。在磁盘装置中，记录能力的提高主要是磁性盘记录密度提高所带来的结果。 
在磁盘装置中，由磁头向/从用作记录介质的磁性盘进行信息的写入/读取。因此，将参考图7和图8评论本发明有关技术的磁盘装置构造，其中图7和图8示出了本发明有关技术的磁盘装置40。 
参考以俯视图形式示出磁盘装置40的图7，磁盘装置40包括固定在主轴电动机41上并由其转动的磁性盘42以及其上载有磁头50H的滑块50，其中，滑块50与其上的磁头50H一起，通过称为“头悬承”的摆动臂43的驱动，在转动的磁性盘42的表面上方扫描。摆动臂43由电磁致动器44驱动。 
在图示的示例中，通过电磁致动器44的驱动操作，随着摆动臂43引起摆动运动，由写入头和读取头分别构成的磁头50H在转动的磁性盘42 上进行信息的写入和读取。由于摆动臂被形成为尺寸紧凑且重量轻(惯量小)，所以图7的磁盘装置可以实现高速的搜寻操作和读/写操作。 
图8示出了图7所示有关技术的滑块50结构，其中，图8是沿主磁极57中心部分处所取截面的倾斜剖视图，该磁极57构成磁头50H中所用的“单极垂直记录头”。应当注意，图8的剖视图是沿主磁极57较长的那条轴线所取的。 
参考图8，滑块50包括AlTiC衬底51，衬底51每条边的长度约为1mm，其中AlTiC衬底51构成了滑块50的主要部分。 
衬底51上设有读取头，读取头采取下部磁屏蔽层52、磁阻元件53和上部磁屏蔽层54连续层叠的形式，单极式的写入头进一步设在读取头上，其中写入头包括辅助磁极55、形成于辅助磁极55上的写入线圈图案56、以及设在写入线圈图案56上方的主磁极57。此外，AlTiC衬底51上还设有称为“垫”的突起物，它与面向记录介质42表面的空气支承表面(ABS)对应。 
应当注意，磁头的各个部分通过薄膜工艺形成，薄膜工艺包括光刻处理，其中任何的MR元件、GMR元件、TMR元件等都可以用于磁阻元件53。 
此外，应当注意，写入头的辅助磁极55具有这样的功能：对于从主磁极57流出并经过磁性盘42上记录层的磁通量，在其这样经过了记录层并经过设在磁性盘42上的衬里层返回写入头时，进行吸收。由此，应当理解，主磁极57具有用于使磁场集中的尖锐尖端，使得经过集中的磁场形成足够大小的记录磁场。 
应当注意，鉴于这样的事实，即主磁极57在向记录介质进行信息写入操作时形成了基本上隔离的N磁极或S磁极(单极)，所以这种类型的写入头称为单极式写入头。这样，采用图8的磁头50H，通过由主磁极57产生的磁场向磁性盘42的记录层进行信息写入。 
传统上，已经将磁性材料(例如CoPt)用于磁性盘42的记录层，但记录层不限于CoPt，而是也可以使用其他硬磁金属(例如TeFeCo等)的薄膜。在磁性盘42是用于垂直记录的磁性盘的情况下，设置软磁性膜(例如坡莫合金)作为衬里层，前述记录层形成于这样的衬里层上。 
在采用这种磁性盘增大表面记录的密度，以便增大磁性盘每单位面积的存储容量时，磁性盘上用于一位信息的尺寸(位尺寸)必然减小，而位尺寸的这种减小会引起热去磁的问题。 
更具体地说，在要减小位尺寸以提高记录密度时，必须减少记录层的磁性颗粒大小，同时，在温度T下需要将参数Ku×V维持在热能kT的60倍或更高，以避免前述热去磁问题，其中V代表磁性颗粒的体积，Ku代表各向异性常数，k代表玻尔兹曼常数。 
因此，在磁性颗粒采用较小的体积V时，为了将Ku×V与kT之比维持在60或更高，就必须增大记录层所用磁性材料的各向异性常数Ku，而使用具有这种大各向异性常数Ku的磁性材料必须在向磁性记录层写入信息时采用强磁场。但是，能够产生这种强记录磁场的记录磁头是很难实现的。因此，即使在磁性盘是针对垂直记录进行设计的情况下，磁性盘的记录密度也难以提高。 
考虑到前述情况，提出了一种在这种高密度磁性记录过程中使用的热辅助技术，其中，热辅助技术采用的方法是通过光照射加热磁性盘，从而在向磁性盘写入信息时临时降低磁性盘记录层的矫顽力，使得可以用普通的记录磁场进行写入。 
更具体地说，采用热辅助技术，通过用光束进行照射，而在要进行写入的区域对记录介质的高Ku——因此有高矫顽力——的记录介质进行局部的、临时的加热，使得被加热区域的矫顽力降低到写入头产生的写入磁场以下。 
为了实施这种热辅助技术，提出了一种光学系统，它包括反射镜、透镜等，其中光学系统设计为安装在磁盘装置的摆动臂上。采用这种结构，将激光二极管等产生的激光束导向磁性盘上待写入信息的区域作为辅助写入手段，同时通过使用写入头的线圈图案所产生的磁场来实现在磁性盘42上写入信息。可以参考专利文献1，其中描述了MO(磁光)盘的技术。 
此外，还提出了一种用于实施热辅助技术的结构，其中，光学系统与激光二极管一起安装在摆动臂上(专利文献2)。此外，还提出了一种结构，通过光纤将激光束导向记录介质(可以参考专利文献3)。 
此外，还提出了一种磁光盘技术，在用线性致动器使激光束照射到记录介质上的同时在记录介质上进行磁性记录。可以参考专利文献4。 
专利文献1：日本专利申请公开11-142777； 
专利文献2：日本专利申请公开2001-034982； 
专利文献3：日本专利申请公开2002-298302； 
专利文献4：日本专利申请公开6-131738。 
采用上述传统技术中的热辅助技术，可以注意到在摆动臂上安装了光学系统或光纤用于进行热辅助处理。但是，采用这样的结构，出现了摆动臂由于携带了外部载荷而导致的惯量增大问题。因此，出现了这样的问题，即难以进行与磁盘装置有关的高速搜寻操作或高速读/写操作。 
此外，尽管可以想到在磁盘装置中使用光盘装置中所用的线性致动器来取代摆动臂，但是重新设计一种适用于磁盘装置的线性致动器是极其困难的，考虑到设计致动系统所用的时间和成本，这样的措施可以认为是不现实的。此外，即使在设计出这种线性致动器的情况下，也可以预料到会出现这样的问题，即存取速度非常慢，丧失了与磁盘装置有关的高速存取性能。 
因此，在高密度磁盘装置的技术中，使用热辅助技术解决热去磁问题，同时又不削弱磁盘装置的有关优点(例如高存取速度和高速读/写操作)是一个重要的问题。 
考虑到前述问题，为了采用热辅助技术实现超高密度记录而不对目前使用的磁盘装置进行很大的改动，在本发明的有关技术中，本发明的发明人提出一种方法，从外部将激光束注入到磁性盘表面上滑动的滑块，使得激光束沿着垂直于滑块侧面的方向注入。 
根据该建议，通过使激光二极管的激光束穿过能够产生期望球差的透镜而产生微小的光束，并使这样产生的带有球差的微小光束通过滑块均匀地照射到磁性盘上。 
下文中将参考图9-11对这种有关技术的磁盘装置进行说明，其中，对与前述零件相应的零件赋予了相同的标号并略去其描述。 
图9以示意性俯视图示出了根据前述有关技术的磁盘装置40A。 
参考图9，磁盘装置40A使用滑块60取代图7中磁盘装置的滑块50 来承载磁头，其中滑块60包括以激光束对磁性盘42的表面进行照射的光照射元件。此外，采用图9的磁盘装置40A设置了光学系统，该光学系统从滑块60侧面外部将激光束沿垂直于滑块60侧面的方向注入到滑块60。 
应当注意，光学系统设置于传统结构磁盘装置中设置空气过滤器的位置处，并由激光二极管81、聚焦透镜82、MEMS(微机电系统)反射镜83、柱透镜84、反射镜85和球差透镜86构成。这里，应当注意，在磁盘装置包括堆叠于共同主轴电动机41上的多个磁性盘42的情况下，MEMS反射镜83设置为用来对应于多个摆动臂切换激光束的光路。 
参考图9，从激光二极管81发射的激光束由聚焦透镜82聚焦到MEMS反射镜83的反射镜表面上，由MEMS反射镜83的反射镜表面反射的激光束随着穿过柱透镜84而变成在垂直于附图纸面的一个方向上的平行光束。这样调节后的激光束被导向反射镜85进行反射，然后，由反射镜85反射的激光束在穿过球差透镜86之后被导向设在滑块60侧面上的光束输入端口60A(图10、图11B)。由此，微小的光束通过滑块60以及滑块60上的光照射元件均匀地照射到磁性盘42上。 
图10是对上述将激光束照射到滑块60侧面上的情况进行说明的视图。 
参考图10，可以看到，球差透镜86使激光束沿不同方向扩散，从而在摆动臂43任何转动角的情况下都可以将激光束中的光线导向滑块60侧面处的光输入端口60A。 
在图示的示例中，从摆动臂43的转动中心到滑块60上光输入端口60A的距离设定为32mm，滑块60设计为在磁性盘42中从磁性盘42的转动中心算起径向距离17mm到径向距离30mm的区域上方摆动。磁性盘42的半径为35mm。 
尽管各种角度都可以作为将微小光束导向滑块60所用的角度，但考虑到磁盘装置内部的可用空间、光学系统设计的难度、制造滑块60的难度等因素，可以认为前述将光束垂直导向滑块60侧面的设计较好。 
图11A-11C是对磁头进行说明的视图，该磁头形成于滑块60上并用于前述图9中有关技术的磁盘装置，其中，图11A以俯视图形式示出了滑块60，图11B以侧视图形式示出了滑块60，而图11C以端面图的形式示 出了滑块60。与普通磁盘装置中所用的磁头类似，可以通过采用晶片工艺以低成本制造这种有关技术的磁头用于任何读取头和写入头。 
更具体地说，在构成滑块60主要部分的AlTiC衬底61的端面上依次形成下部屏蔽层62、磁阻元件63和上部磁屏蔽层64来形成读取头60R，反射镜元件65结合于其上用于对热辅助处理所用的激光束进行反射，其中，反射镜元件65是通过对棱镜形的块状玻璃体进行处理形成的。反射镜元件65设计为使得由反射镜元件65反射的激光束具有80μm的光束直径。 
接下来，在反射镜元件65上设置由SiO2包层66和68将Ta2O5芯层67夹在中间所形成的光照射元件，其中，应当注意，光照射元件在紧挨着形成包层66的材料处设有光输入端口69，所述端口69对应于形成在包层66中的切去部分，还设有SiO2的成对元件71，形成了限定光输出端口70的光阑结构，激光束经过由光阑结构这样限定的光输出端口70射向磁性盘42。在图示的示例中，光输出端口70可以具有1μm的孔径长度。 
此外，这样形成的光照射元件还由未示出的Al2O3膜覆盖以便平坦化，并通过普通的膜形成工艺在其上再形成写入头，写入头包括主磁极73、写入线圈图案74和辅助磁极75。此外，这样形成的整个写入头由Al2O3膜76覆盖。 
采用图11A-11C的结构，可以注意到，主磁极73形成于比辅助磁极75更靠近AlTiC衬底61那侧，以确保热辅助效应所用的激光束照射到磁性盘42中与流出主磁极73的磁通量相交的区域。 
因此，可以类似于传统磁盘装置的磁头而通过晶片工艺形成图11A-11C中那样读取头和写入头与滑块60形成一体的磁头，并可以限制磁头的制造成本。 
此外，由于使用盘片大小例如为3.5英寸的传统磁盘装置中空气过滤器的位置设置了将激光束引入滑块60侧面的光学系统，所以不需要对磁盘装置的现有设计进行大的改动，并可以通过使用热辅助技术实现超高密度信息记录。 
另一方面，采用前述有关技术中磁盘装置的热辅助技术，存在这样的问题，在将热辅助技术用于盘片尺寸为2.5英寸或更小的小型磁盘装置 时，光照射结构造成了与斜坡结构的冲突，所述斜坡结构在目前的小尺寸磁盘装置中用于在磁盘装置未处于读/写操作的状态下支撑磁性盘。因此，难以减小磁盘装置的尺寸。 
更具体地说，在3.5英寸盘直径的磁盘装置情况下，磁头设置为在其卸载状态下与磁盘表面接触，其中在所述卸载状态下磁盘装置不进行读取或写入操作。另一方面，在使用2.5英寸或更小的盘直径的小型磁盘装置情况下，考虑到移动应用情况中磁盘装置可能会受到冲进，所以磁头在卸载状态下缩回斜坡结构以免由磁头造成磁性盘的损伤。 
此外，采用这样的斜坡结构，小型磁盘装置可能像3.5英寸盘片直径的磁盘装置中实践的那样，不必在介质表面上设置用于在卸载状态下搁置磁头的不记录区域。由此，可以避免由形成这样的不记录区域造成的磁盘装置存储容量下降的问题。 
下面将参考图12A、图12B、图13和图14对斜坡结构进行更详细的说明。 
图12A和图12B分别示出了在卸载状态和装载状态情况下，小型磁盘装置中头悬承(臂43)的缩回。 
参考图12A和图12B，在图12A所示卸载状态下，悬承43缩回并固定到斜坡结构90。另一方面，在图12B所示的装载状态下，悬承43离开斜坡结构90并与一般磁盘装置类似地在磁性盘42上方自由地进行扫描操作。 
图13以斜视图的形式示出了小型磁盘装置中所用的摆动臂43的结构。 
参考图13，摆动臂43在接近其尖端的部分承载滑块50，其中，盘直径为2.5英寸或更小的磁盘装置所用的摆动臂43大体上在尖端部分包括突起77，使得突起77从摆动臂43的尖端部分突出。 
图14示出了摆动臂43缩回斜坡结构90的状态。 
参考图14，斜坡结构90包括第一保持元件91和第二保持元件95，其中，第一保持元件91包括倾斜表面92、平表面93和凹陷94。这样，在每一个浅盘状构件中，当磁性盘的状态从装载状态改变到卸载状态时，保持头悬承43尖端部分处的突起77与倾斜表面92接合，并在沿平表面93引导之后由凹陷94容纳。在凹陷94中，突起77由第二保持元件95保持。 
采用使用这种斜坡结构90的磁盘装置，出现了这样的问题，即在将前述有关技术的光照射结构的光学系统结合到磁盘装置中用于向滑块侧面垂直地注入激光束时，光学系统造成了与斜坡结构90的冲突。这样，就存在一个问题，即不能为了实施热辅助技术而在磁盘装置中设置光照射结构的光学系统。 
发明内容
根据本发明，提供了一种信息记录装置，该装置包括： 
记录介质； 
由致动单元驱动的摆动臂，所述摆动臂响应于所述致动单元的驱动而在所述记录介质表面上方摆动； 
记录头，所述记录头由所述摆动臂承载，并随着由所述致动单元使所述摆动臂进行的所述摆动而在所述记录介质的所述表面上方扫描，所述记录头向所述记录介质记录信息； 
头缩回机构，在处于不在所述记录介质上记录信息的卸载状态下，所述头缩回机构使所述记录头缩回所述记录介质之外； 
光注入单元，将光注入到所述记录头中， 
所述记录头包括光照射部分，在向所述记录介质记录信息时，所述光照射部分将注入到所述记录头的所述光照射到所述记录介质上， 
其中，所述光注入单元与所述头缩回机构是一体的，形成整体式光注入及头缩回机构。 
根据本发明，由于光注入单元与头缩回机构一体形成整体式光注入及头缩回机构，减小了光注入单元和头缩回机构在信息记录装置中占据的空间。由此，在使用头缩回机构的小型信息记录装置中也可以热辅助技术，而不必对目前使用的结构进行大的改变。因此，采用本发明，可以通过消除热起伏问题而实现高密度信息记录，还可以通过高速搜寻操作而实现信息的高速记录。 
根据下面的具体实施方式并结合附图，会了解本发明的其他目的和更多特征。 
附图说明
图1是对本发明的原理进行说明的视图； 
图2是根据本发明第一实施例的磁盘装置的示意性俯视图； 
图3是示出第一实施例中磁盘装置所用斜坡结构的示意图； 
图4是对第一实施例的磁盘装置中斜坡结构的功能进行说明的视图； 
图5是示出根据本发明第二实施例的磁盘装置中所用斜坡结构构造的示意图； 
图6是示出根据本发明第三实施例的磁盘装置中所用斜坡结构构造的示意图； 
图7的示意性俯视图示出了根据本发明有关技术的磁盘装置结构； 
图8的示意性倾斜视图示出了图7中磁盘装置所用的滑块； 
图9的示意性俯视图示出了根据本发明的发明人所提出的另一种有关技术的磁盘装置构造； 
图10的视图对将激光束照射到图9的磁盘装置中滑块侧面进行了说明； 
图11A-11C是对安装在图9的磁盘装置中的滑块上的磁头结构进行说明的视图； 
图12A和图12B分别是对处于卸载状态和装载状态的小型磁盘装置的头悬承状态进行说明的视图； 
图13是示出图9中小型磁盘装置所用头悬承的倾斜视图； 
图14的视图说明了将头悬承缩回到图9中小型磁盘装置所用斜坡结构的状态。 
具体实施方式
[原理] 
图1示出了本发明的原理。 
参考图1，本发明提供了一种信息记录装置，它包括：记录介质12(图1中未示出，见图2)；由致动单元15(图1中未示出，见图2)驱动的摆动臂1，摆动臂1响应于致动单元15的驱动而在记录介质表面上方 摆动；记录头2，由摆动臂1承载并通过致动单元15而随着摆动臂1的摆动部分在记录介质表面上方扫描，记录头2向记录介质12记录信息；头缩回机构6，在不在记录介质12上进行记录的卸载状态下，将记录头2缩回记录介质12之外；光注入单元4，将光注入记录头2，记录头2包括光照射部分65(图1中未示出，见图2)，在向记录介质12记录信息时，光照射部分65使注入到记录头2的光照射到记录介质上，其中，光注入单元4与头缩回机构6是一体的，形成整体式光注入及头缩回机构3。 
通过将光注入单元4和头缩回机构6一体结合，消除了缩回机构6与光注入单元4冲突的问题，可以节省信息记录装置内部的空间。由此，可以在使用了缩回机构6的信息记录装置中使用热辅助技术，而不必对磁盘装置的现有结构进行大的改动。 
虽然本发明的上述记录介质涵盖了相变介质例如可重写光盘，但是本发明中记录介质的通常示例是磁记录介质，本发明通过使用热辅助技术，在记录介质中由光照射机构用光照射的部分进行磁信息的记录，使得可以进行高密度磁记录。另一方面，在相变记录介质的情况下，仅通过光照射来进行信息记录。 
优选地，光注入单元4将光束以预定入射角注入记录头2，该入射角通常是直角，使得设在记录头2中的光照射机构可以有效地合并光线。 
此外，优选地，光注入单元4包括像差产生部分5，像差产生部分5在待注入的光束中产生像差；还优选地，头缩回机构6包括间隙7，用于使像差产生部分5反射的光束可以在经过头缩回机构6之后照射到记录头2。由此，即使在摆动臂1被驱动产生摆动的情况下，光注入单元4也可以持续、稳定地将光束注入到记录头2中 
通常，像差产生部分5包括形成有凹表面的柱形反射镜，所述凹表面在平行于记录介质表面的面内具有曲率，其中，柱形反射镜通常在凹表面上带有多层介质膜作为反射镜膜。通过使用这样的柱形反射镜，可以避免光的透过率问题，光的透过率在采用透镜等的时候容易带来问题。 
此外，应当注意，像差产生部分5可以形成为在记录介质的厚度方向上具有多个曲面，其数目等于构成记录介质的若干盘的上下表面数。由 此，可以使多个曲面都形成为具有相同的曲率。由此，可以使激光束同时照射到多个盘。 
此外，优选地，用与形成光注入及头缩回机构3的材料相同的材料形成像差产生部分5。例如，像差产生部分5可以通过使用整体模制工艺由液晶聚合物形成。由此，可以降低光注入及臂缩回机构3的成本。 
优选地，以与光注入及头缩回机构3一体的形式给像差产生部分5设置透镜。 
这样，本发明的信息记录装置具有这样的特征，即使用液晶聚合物等通过整体模制工艺来构成光注入单元和头缩回机构，其中，光注入单元中包括像差产生部分，像差产生部分使激光二极管产生的用于热辅助的激光束以预定入射角——通常是以直角——注入磁头侧面，所述磁头设在摆动臂的尖端部分。 
[第一实施例] 
下面将参考图2-4对根据本发明第一实施例的磁盘装置10进行说明。 
参考以俯视图示出磁盘装置10的图2，磁盘装置10包括可转动地固定到主轴电动机11的磁性盘12以及摆动臂14，其中摆动臂14支撑滑块13，滑块13上承载有磁头，摆动臂14由电磁致动器15驱动进行摆动。滑块13具有与本发明的发明人提议的热辅助技术所用并参考图9进行了说明的滑块一样的结构。 
此外，磁盘装置在装置主体中包括激光二极管16、聚焦透镜17、MEMS反射镜18、柱透镜19和斜坡结构20，斜坡结构20中以整体形式一体结合了光反射结构，其中，来自激光二极管16的激光束由聚焦透镜17聚焦到MEMS反射镜18的反射镜表面上。由此，反射镜表面反射的激光束被柱透镜19转换为一个方向(垂直于图面的方向)上的平行光束并导向与斜坡结构20一体的光反射结构。由此，输入的激光束被光反射结构反射，并被注入到与设在滑块13侧面的端口60A类似的光注入端口中。 
图3示意性地示出了为第一实施例的磁盘装置设置的斜坡结构20。 
参考图3，斜坡结构20由液晶聚合物的整体模制体形成，并包括斜坡部分和反射部分28，其中斜坡部分包括第一保持元件21和第二保持元件27，而第一保持元件包括倾斜表面22、平表面23和凹陷部分24，反射部分28具有柱形凹面29，凹面29带有多层介质膜构成的反射膜30。 
应当注意，柱形凹面29的形状确定为通过产生与上述球差透镜类似的球差来引起激光束在各个方向的扩散，并使激光束在摆动臂14的任何转动角情况下都可以垂直注入滑块13侧面处的光注入端口。 
图4说明了磁盘装置10中斜坡结构20的功能。 
参考图4，斜坡结构20的作用类似于传统的斜坡机构，在摆动臂14尖端部分处的突起31沿倾斜表面22和平表面23导引之后停留在凹陷24中并由保持元件27保持时对该突起31进行保持。由此，磁盘装置可以类似于传统磁盘装置获得良好的可靠性。 
另一方面，光反射机构起的作用是在柱形凹面29表面上的反射膜30处，对由柱透镜19转换为垂直于图面方向的平行光束的激光束进行反射，其中，经过这样反射的激光束经过设在第一保持元件21末端部分处的光束通道25或经过彼此相邻的第一保持元件21间的间隙26而导向滑块13。 
之后，这样导向滑块13侧面的激光束由反射镜元件导向SiO2/Ta2O5/SiO2结构的光照射元件，该反射镜元件类似于通过对棱镜形块状玻璃体进行处理所形成的反射镜元件65，其中，光照射元件将注入的激光束从设在光照射元件末端处的光照射端口导向磁性盘12。由此，对磁性盘12进行局部加热，并通过使要进行记录的部分的矫顽力局部地、临时地降低而成功地实现了磁记录。 
因此，根据本发明，通过将光学元件与斜坡结构成为一体，可以在紧凑结构的磁盘装置中通过滑块13用微小的光束容易地、均匀地进行照明，其中所述光学元件给来自激光二极管的光产生期望的球差，斜坡结构用于在磁盘装置处于卸载状态时使磁头缩回。应当明白，采用模制技术，可以以低成本生产这种与斜坡结构一体的光学系统。 
此外，采用本发明，通过使用反射表面引起期望的球差，与使用球差透镜的情况相反，不会引起光学吸收的问题。而且，由于导向滑块13的激光束是经过给斜坡结构20设置的光通道25或经过间隙26行进的，所以不会出现激光束被第一保持元件21阻挡的问题。 
因此，采用第一实施例的磁盘装置10，其中激光二极管16布置在除摆动臂14之外的位置用于进行热辅助操作，即使在磁盘装置10是为移动应用等设计的小型磁盘装置的情况下，也可以进行高速的信息写入和读取操作而不必牺牲磁盘装置通过使摆动臂14进行高速搜寻操作带来的有利特征。 
[第二实施例] 
接下来将参考图5对根据本发明第二实施例的磁盘装置进行说明，在图5中，与前面已说明的部分相应的那些部分用相同的标号标记并将略去其描述。由于本实施例与前述实施例除了斜坡结构之外都相同，所以下文只对斜坡结构进行说明。 
图5是示出根据本发明第二实施例的磁盘装置所用斜坡结构20A的视图。 
参考图5，斜坡结构20A具有用于造成球差的反射表面，反射表面由数目等于滑块13数目、且具有共同曲率的多个反射表面32构成。 
这样，通过使用与滑块13数目相同的多个反射表面32，并为多个反射表面32中每一个设置相同的曲率，可以与前述图9的磁盘装置类似地将激光束同时照射到多个盘。 
[第三实施例] 
接下来将参考图6对根据本发明第三实施例的磁盘装置进行说明，在图6中，与前面已说明的部分相应的那些部分用相同的标号标记并将略去其描述。由于本实施例与前述实施例除了斜坡结构之外都相同，所以下文只对斜坡结构进行说明。 
图6是示出根据本发明第三实施例的磁盘装置所用斜坡结构20B的视图。 
参考图6，斜坡结构20B具有将透明球差透镜33结合到斜坡结构20的反射表面上的结构。优选地，球差透镜33通过对玻璃或塑料进行模制而形成，其中，这样模制的透镜33通过粘合剂等方式安装到反射表面。 
尽管已经针对优选实施例对本发明进行了说明，但是本发明决不限于这些具体示例，在不脱离本发明范围的情况下可以进行各种修改和变更。 
例如，尽管上文所述实施例用MEMS反射镜18使光束的光路在多个盘之间进行切换，但是切换元件不限于MEMS反射镜，也可以使用例如电 流镜的可动反射镜。 
此外，如果期望增加注入到滑块13的光束的量，则可以转动MEMS反射镜，使得激光束沿X方向或Y方向进行扫描。 
此外，尽管第一实施例的磁头具有将读取头布置在反射镜65左侧(更靠近AlTiC衬底61那侧)的结构，但是这种结构并非本发明的关键，也可以将读取头布置在写入头的右侧。 
此外，尽管针对采用单极头作为写入头的情况对前述实施例进行了说明，但是本发明决不限于单极头，也可以采用面内(in-plane)记录头。 
尽管本发明通常应用于磁盘装置，但是本发明对于其他信息记录装置也有效，例如相变类型的光盘装置。 

Claims (9)

1.一种信息记录装置，其特征在于包括：
记录介质；
由致动单元驱动的摆动臂，所述摆动臂响应于所述致动单元进行的驱动而在所述记录介质表面上方摆动；
记录头，所述记录头由所述摆动臂承载，并随着由所述致动单元使所述摆动臂进行的所述摆动而在所述记录介质的所述表面上方扫描，所述记录头向所述记录介质记录信息；
头缩回机构，在所述信息记录装置处于不在所述记录介质上记录信息的卸载状态下，所述记录头缩回所述记录介质之外并固定到所述头缩回机构上；
光注入单元，将光注入到所述记录头中，
所述记录头包括光照射部分，在向所述记录介质记录信息时，所述光照射部分将注入到所述记录头的所述光照射到所述记录介质上，
其中，所述光注入单元与所述头缩回机构是一体的，形成整体式光注入及头缩回机构，
其中，所述光注入单元包括像差产生部分，所述头缩回机构包括间隙，所述间隙使所述光在由所述像差产生部分反射之后可以通过。
2.根据权利要求1所述的信息记录装置，其中，所述记录介质包括磁性记录介质，其中所述信息记录装置以磁性方式，向所述磁性记录介质中的、由所述记录头的所述光照射部分以所述光进行照射的部分记录信息。
3.根据权利要求1所述的信息记录装置，其中，所述记录介质包括相变记录介质，其中通过所述记录头的所述光照射部分向所述记录介质记录信息。
4.根据权利要求1所述的信息记录装置，其中，所述光注入单元将所述光以预定入射角注入到所述记录头。
5.根据权利要求1所述的信息记录装置，其中，所述像差产生部分在与所述记录介质的所述表面平行的平面内具有曲率，所述像差产生部分在所述整体式光注入及头缩回机构中形成像差。
6.根据权利要求1所述的信息记录装置，其中，所述像差产生部分产生球差。
7.根据权利要求1所述的信息记录装置，其中，所述像差产生部分在介质厚度方向上包括多个曲面，构成所述整体式光注入及头缩回机构，所述曲面的数目与构成所述记录介质的若干盘的上表面和下表面数目一致，所述多个曲面在与所述记录介质的所述表面平行的平面内具有相同曲率。
8.根据权利要求1所述的信息记录装置，其中，所述像差产生部分与所述整体式光注入及头缩回机构形成为整体，所述像差产生部分的材料与形成所述整体式光注入及头缩回机构所用的材料相同。
9.根据权利要求1所述的信息记录装置，其中，所述像差产生部分还包括透镜，其中所述透镜与所述整体式光注入及头缩回机构设置为整体。 
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