CN101031366B - 用于喷墨沉积的pled/oled器件的容器及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种用于喷墨沉积的聚合物发光二极管(PLED)/有机发光二极管(OLED)的蒸镀容器及其制造方法。该蒸镀容器是通过阴影掩模真空沉积法形成的。形成发光显示器的方法包括：在基板上形成电极；通过阴影掩模真空沉积法在所述电极之上形成容器结构；以及通过标准喷墨沉积法将包含发光材料的一定量的聚合物溶液输送到所述容器中。

Description

用于喷墨沉积的PLED/OLED器件的容器及其制造方法

技术领域

本发明涉及用于形成聚合物发光二极管(PLED)或有机发光二极管(OLED)显示器的喷墨沉积法。具体地说，本发明涉及形成用于喷墨沉积的PLED/OLED器件的蒸镀容器(evaporated receptacles)。

背景技术

有机发光二极管(OLED)是由半导体有机聚合物制成的发光二极管(LED)。这些器件有望成为比无机LED制造成本更便宜的器件。可以使用简单的“印刷”方法在屏幕上沉积按阵列形式布置的不同数量的OLED，以形成用作电视屏、计算机显示器、便携式系统屏幕和用于广告信息板应用的图像彩色显示器。OLED面板也可以用作发光器件。

我们发现在计算机监视器中，OLED显示器大大优于传统液晶显示器的一个地方在于，OLED显示器不需要背光来工作。这就意味着它们消耗更少的电，并且可以与小的便携式器件一起使用，为了节省电，小的便携式器件大部分由单色的低分辨率显示器构成。这也表明，它们一次充电后能够持续使用很长时间。

在OLED技术中有两个主要方向。第一种OLED技术是由Eastman Kodak公司(位于美国纽约州Rochester市)开发的，通常称为“小分子”OLED。生产小分子显示器需要真空沉积法，这导致生产过程昂贵而且不灵活。第二种OLED技术是由Cambridge DisplayTechnology(位于英国剑桥市)开发的基于聚合物的OLED技术，有时称为PLED技术。虽然PLED技术的开发比小分子OLED技术的开发落后几年，但是由于一些优点而使得它是有希望的。例如，可以用从市售喷墨印刷中得到的技术在基板上施加有机电致发光材料，这就表明，PLED显示器可以用非常灵活且廉价的方式制造。

生产多色有机显示器并不是一种容易的事。虽然在形成较大特征尺寸的显示器中人们已经相当接受使用喷墨印刷技术形成PLED显示器，但是迄今为止该技术取决于在显示基板上形成容器的复杂的昂贵的光刻过程。容器或井是形成在基板上的结构，就PLED显示器而言，在喷墨沉积过程中，成滴的聚合物溶液被收集在该结构中。人们需要的是用较简单的、较廉价的方法在用于后续的喷墨沉积过程的显示基板上形成容器，然后将聚合物溶液输送到该基板上，以便完成显示器的制造。

在标题为“Producing Multi-color Stable Light-Emitting OrganicDisplays”的美国专利No.6,767,774中披露了使用喷墨沉积法形成发光显示器的一种示例性方法。该美国专利No.6,767,774描述了可通过使用丝网印刷技术使发光材料图案化而在基板上形成的聚合物或有机发光显示器。这样，显示器可以经济地制成，并且可以克服与光学处理发光材料相关的困难。二元光学材料可以选择性地结合到溶胶-凝胶涂料中，并且可以涂布在由发光材料形成的发光元件上。可以使用产生单色的发光材料生产三色显示器。

虽然该美国专利No.6,767,774描述了使用喷墨沉积法形成发光显示器的合适的方法，但是它没有提及下述内容：即，提供在用于喷墨沉积过程中的基板上形成容器结构的较简单的或更廉价的方法。

因此，本发明的目的在于提供在用于后续喷墨沉积过程中的显示基板上形成容器的简单而廉价的方法，该方法用于形成大面积的PLED/OLED显示器。

本发明的另一目的在于提供使用阴影掩模真空沉积法在用于后续喷墨沉积过程中的显示基板上形成容器的方法。

发明内容

本发明涉及用于喷墨沉积的PLED/OLED器件的蒸镀容器以及制造这种器件的方法。根据本发明的一个方面，通过以下方式形成发光显示器：形成其上设置有电极的基板；通过阴影掩模真空沉积法在所述电极上形成容器结构；以及通过标准喷墨沉积法将包含发光材料的一定量的聚合物溶液输送到输送容器结构中。

本发明避免了使用复杂而昂贵的光刻法在显示基板上形成容器。结果，使用阴影掩模真空沉积法形成喷墨容器和使用喷墨沉积法输送发光材料的结合提供较不复杂且节省成本的方式制造任何所需尺寸的聚合物显示器。

从下面参照附图所提供的对示例性实施例的详细描述，本发明的其它特征和优点将更显而易见。

附图说明

图1示出根据本发明第一实施例的图像元素的顶视图。

图2示出由本发明的多个图像元素形成的示例发光显示器。

图3A示出沿图1的线A-A截取的本发明的图像元素的剖视图。

图3B示出沿图1的线B-B截取的本发明的图像元素的剖视图。

图4示出根据本发明第一实施例的用于通过阴影掩模真空沉积法形成容器交叉部分的布置的示例性阴影掩模的顶视图。

图5示出根据本发明第一实施例的用于通过阴影掩模真空沉积法形成容器连接部分的布置的示例性阴影掩模的顶视图。

图6示出根据本发明第二实施例的图像元素的顶视图。

图7示出根据本发明第二实施例的用于通过阴影掩模真空沉积法形成容器交叉部分的布置的示例性阴影掩模的顶视图。

图8示出根据本发明第二实施例的用于通过阴影掩模真空沉积法形成容器连接部分的布置的示例性阴影掩模的顶视图。

图9示出根据本发明的用阴影掩模真空沉积法制造喷墨容器以及使用该喷墨容器的方法的流程图。

具体实施方式

图1示出根据本发明第一实施例的图像元素100的顶视图。图像元素100是平板显示器例如PLED或OLED显示器的典型像素。图像元素100包括基板110，在该基板110上形成有容器112。容器112是通过具有一定布置形式的蒸镀部分形成。容器112由按网格形式布置的多个交叉部分114形成，所述交叉部分通过多个连接部分116和连接部分118相互连接，从而形成用于在喷墨沉积过程中保持液体溶剂的容器112的壁。

在该实例中，容器112由按网格形式布置的交叉部分114a、交叉部分114b、交叉部分114c和交叉部分114d构成，这如图1所示。交叉部分114a和交叉部分114b通过连接部分116a相互连接形成容器112的第一壁；交叉部分114c和交叉部分114d通过连接部分116b相互连接形成容器112的第二壁；交叉部分114a和114c通过连接部分118a相互连接形成容器112的第三壁；以及交叉部分114b和114d通过连接部分118b相互连接形成容器112的第四壁。

沉积在容器112的壁内的是一定量的发光介质120，其中容器112的壁是通过交叉部分114、连接部分116和连接部分118结合而形成的。

基板110由适用于阴影掩模蒸镀法的任何标准基板材料例如金属箔、塑料或玻璃形成。

容器112的交叉部分114、连接部分116和连接部分118由阴影掩模蒸镀法形成。用于形成交叉部分114、连接部分116和连接部分118的材料是一种有机疏水性材料，该有机疏水性材料适合与喷墨沉积法一起使用，并且也适合与阴影掩模蒸镀制造法一起使用。虽然词语“疏水”的字面定义大致为排斥水，但是对本发明而言，“疏水”是指对包含发光材料的聚合物溶液的粘附性(亲和力)低。相反，虽然词语“亲水”的字面定义大致为吸水，但是对本发明而言，“亲水”是指对包含发光材料的聚合物溶液的粘附性(亲和力)高。为了方便的目的，使用这两种表述作为比较，以阐明对聚合物溶液的亲和力程度。

用于形成容器112的交叉部分114、连接部分116和连接部分118的有机疏水性材料的例子是(聚)乙烯醇、(聚)丙烯酸酯或聚酰亚胺。这样设计目的是：使形成容器112的交叉部分114、连接部分116和连接部分118的固体材料具有比设置在容器112内的聚合物溶液的表面张力高的表面能，由此，形成容器12的结构排斥聚合物溶液。此外，参照图4和图5，可得到用阴影掩模蒸镀法形成容器112的交叉部分114、连接部分116和连接部分118的细节。

发光介质120是典型的发光固体聚合物层，该发光固体聚合物层是通过标准喷墨法沉积的，因此将一定量的其中溶解有聚合物材料的溶剂沉积在容器112里，并且干燥该溶剂，从而仅留下固体的发光材料层。市售的聚合物溶剂是，例如，二甲苯；甲苯；苯化合物，例如三甲基苯、氯苯；由Shell Chemical公司(位于美国得克萨斯州Houston市)提供的二氯苯；或者包含这些化工产品的专用混合物，例如由DowCorning公司(位于美国马里兰州Midland市)提供的那些化工产品。

图2示出由图1中所述的多个图像元素100形成的发光显示器200的例子。图像元素100的容器112由阴影掩模真空沉积法形成在基板110上。随后，为了完成发光显示器200的形成，通过标准喷墨法将发光介质沉积在容器112里。此外，参照图3A和图3B，可得到喷墨法的细节。

图3A示出沿图1的线A-A截取的图像元素100的剖视图。交叉部分114c和114d以及连接部分116b沉积在电极122上面，该电极是沉积在基板110上的图像元素100的电路的一部分。交叉部分114c和114d与连接部分116b相互连接以形成容器112的连续壁。连接部分116b沉积成这样：其在一端上与交叉部分114c稍微重叠，并且在相对的另一端上与交叉部分114d稍微重叠，使得该连接部分116b填充交叉部分114c和114d之间的间隙，以形成连续的壁，这如图3A所示。

电极122由亲水性导电材料(例如常用于底部发光的PLED显示器的铟锡氧化物(ITO))或者金属(例如由通过镍膜暴露于存在氧气的等离子体而形成的薄的(5-50埃厚)镍氧化物覆盖的镍)形成。这样设计目的是：使得形成电极122的固体材料具有比设置在该电极122上的聚合物溶液的表面张力低的表面能，由此，电极122吸引聚合物溶液。

图3B示出沿图1的线B-B截取的图像元素100的剖视图。图3B示出发光介质120以容器112的井结构为边界，该容器112的井结构由交叉部分114、连接部分116和连接部分118结合而形成。图3B还示出填充有溶液124的容器112，该溶液是典型的聚合物溶液，如参照图1所述。

为了简单起见，图3A和图3B没有示出电子有源矩阵电路，电子有源矩阵电路通常设置在电极122和基板110之间。

参照图1、图2、图3A和图3B，容器112的交叉部分114、连接部分116和连接部分118通过阴影掩模蒸镀系统形成，例如参照转让给Amedeo公司(位于美国宾夕法尼亚州Pittsburgh市)的美国专利申请No.2003/0228715所述，该专利申请的标题为“Active MatrixBackplane for Controlling Controlled Elements and Method ofManufacture Thereof”，该专利申请以引用方式并入本文中。该专利申请No.2003/0228715中描述了由沉积在基板上的电子元件形成的电子器件。电子元件是将基板进给通过多个沉积真空室而沉积在基板上的，所述沉积真空室具有设置在其内的至少一个材料沉积源和阴影掩模。来自设置在每个沉积真空室中的至少一个材料沉积源的材料通过设置在该沉积真空室中的阴影掩模沉积在基板上，从而在基板上形成由电子元件阵列形成的电路。该电路仅仅通过在基板上连续沉积材料来形成。

容器112的交叉部分114、连接部分116和连接部分118形成为例如2微米厚、一定的宽度，实际宽度取决于基板110上的图像元素100的间距。例如，由交叉部分114、连接部分116和连接部分118形成的每个容器112的壁的宽度可以在10微米至20微米的范围内。

继续参照图1、图2、图3A和图3B，在标准喷墨沉积过程中，印刷头横扫目标显示的区域(例如图2的发光显示器200)，并且将预定容量的成滴的溶液124输送到其容器112中。这样做，用预定量的溶液124将每个容器112填充或稍微充满到同一水平，这如图3B所示。成滴的溶液124被用于形成每个容器112的壁的疏水性材料排斥，但是，同时，由于电极122的亲水性材料的表面能而导致成滴的溶液124被引入每个容器112中。这样，每滴溶液124都被引入目标显示器(例如图2的发光显示器200)的每个图像元素100中的所希望位置上。然后，使该显示器经过干燥过程，从而溶液124中的液体蒸发并仅留下溶液124中的固体作为薄而均匀的固体发光材料层，即，发光介质120。

图4示出根据本发明第一实施例的用于通过阴影掩模真空沉积法形成多个容器112的交叉部分114的布置的示例性阴影掩模400的顶视图。阴影掩模400包括由例如镍、铬、钢、铜、科瓦铁镍钴合金(Kovar)或因瓦铁镍合金(Invar)形成的薄片410。科瓦铁镍钴合金或因瓦铁镍合金是商业上以KOVAR^TM或INVAR^TM知名的低热膨胀系数(CTE)的材料，并且由ESPICorp公司(位于美国俄勒冈州Ashland市)供应。形成在薄片410内的是用于形成具有一定布置形式的交叉部分114的孔412的图案，这些孔是具有预定的尺寸、形状和位置的开口。参照图1和图4，阴影掩模400包括，例如，用于形成交叉部分114a的孔412a、用于形成交叉部分114b的孔412b、用于形成交叉部分114c的孔412c和用于形成交叉部分114d的孔412d。

孔412的位置由间距设定，该间距由对给定显示设计的图像元素100的相关的设计布局确定。更具体地说，孔412的间距取决于给定显示设计的每英寸像素数。例如，孔412的间距可以在100μm至500μm的范围内，其分别等于每英寸250个像素至每英寸50个像素。

阴影掩模400适用于蒸镀系统的一个沉积阶段的真空室中。在专利申请No.2003/0228715中描述了用于形成容器112的交叉部分114、连接部分116和连接部分118的阴影掩模蒸镀系统和方法的例子。

可任选地，对于任何给定显示设计来形成整个布置的交叉部分114，根据设计的间距，可以需要一个或多个阴影掩模例如阴影掩模400，其分别对应于蒸镀过程的一个或多个连续沉积阶段。要求阴影掩模例如阴影掩模400的结构整体性和强度合适地保持与孔412的任何给定设计布局匹配。

图5示出根据本发明第一实施例的用于通过阴影掩模真空沉积法形成多个容器112的连接部分116和连接部分118的布置的示例性阴影掩模500的顶视图。阴影掩模500包括由例如镍、铬、钢、铜、科瓦铁镍钴合金或因瓦铁镍合金形成的薄片510。形成在薄片510内的是用于分别形成具有一定布置形式的连接部分116和连接部分118的孔516和孔518的图案，这些孔是具有预定的尺寸、形状和位置的开口。参照图1和图5，阴影掩模500包括，例如，用于形成连接部分116a的孔516a、用于形成连接部分116b的孔516b、用于形成连接部分118a的孔518a和用于形成连接部分118b的孔518b。

孔516和518的位置由间距设定，该间距由对给定显示设计的图像元素100的相关设计布局确定。更具体地说，孔516和518的间距取决于给定显示设计的每英寸像素数。例如，孔516和518的间距可以在100μm至500μm的范围内，其分别等于每英寸250个像素至每英寸50个像素。

阴影掩模500适用于蒸镀系统的一个沉积阶段的真空室中。在专利申请No.2003/0228715中描述了用于形成容器112的交叉部分114、连接部分116和连接部分118的阴影掩模蒸镀系统和方法的例子。

可任选地，对于任何给定显示设计来形成连接部分116和连接部分118的整个布置，根据设计的间距，可以需要一个或多个阴影掩模例如阴影掩模500，其分别对应于蒸镀过程的一个或多个连续沉积阶段，例如，仅仅包含孔516的一种阴影掩模，仅仅包含孔518的另一种阴影掩模。要求阴影掩模例如阴影掩模500的结构整体性和强度合适地保持与孔516和/或孔518的任何给定设计布局匹配。

图6示出根据本发明第二实施例的图像元素600的顶视图。图像元素600是平板显示器例如PLED或OLED显示器的典型像素。图像元素600包括基板110，在基板110上形成有容器612。容器612通过具有一定布置形式的蒸镀部分形成，并且由按网格形式布置的多个交叉部分614形成，这些交叉部分通过多个连接部分616和连接部分618相互连接，从而形成用于在喷墨沉积过程中保持液体溶剂的容器612的壁。

在该实例中，容器612由按网格形式布置的交叉部分614a、交叉部分614b、交叉部分614c和交叉部分614d形成，这如图6所示。交叉部分614a和交叉部分614b通过连接部分616a相互连接形成容器612的第一壁；交叉部分614c和交叉部分614d通过连接部分616b相互连接形成容器612的第二壁；交叉部分614a和交叉部分614c通过连接部分618a相互连接形成容器612的第三壁；交叉部分614b和交叉部分614d通过连接部分618b相互连接形成容器612的第四壁。

沉积在容器612的壁内的是一定量的发光介质120，该容器612的壁由交叉部分614、连接部分616和连接部分618结合形成。

容器612的交叉部分614、连接部分616和连接部分618由阴影掩模蒸镀法形成。用于形成交叉部分614、连接部分616和连接部分618的材料是一种有机疏水性材料，该有机疏水性材料适合与喷墨沉积法一起使用，并且也适合与阴影掩模蒸镀制造法一起使用，这如图1中所述。此外，参照图7和图8，可得到用阴影掩模蒸镀法形成容器612的交叉部分614、连接部分616和连接部分618的细节。

与图1的图像元素100相比较，图像元素600示出了用于显示器的容器的另一种可选的示例形状。更具体地说，图1的图像元素100产生形成正方形的发光介质120，而图6的图像元素600产生形成圆形的发光介质120。本发明的容器的形状并不局限于正方形或圆形，任何所需的形状或几何结构，例如，矩形、正方形、圆形或椭圆形，都在本发明的范围内。

图7示出根据本发明第二实施例的用于通过阴影掩模真空沉积法形成多个容器612的交叉部分614的布置的示例性阴影掩模700的顶视图。阴影掩模700包括由例如镍、铬、钢、铜、科瓦铁镍钴合金或因瓦铁镍合金形成的薄片710。形成在薄片710内的是用于形成具有一定布置形式的交叉部分614的孔712的图案，这些孔是具有预定的尺寸、形状和位置的开口。参照图6和图7，阴影掩模700包括，例如，用于形成交叉部分614a的孔712a、用于形成交叉部分614b的孔712b、用于形成交叉部分614c的孔712c和用于形成交叉部分614d的孔712d。

孔712的位置由间距设定，该间距由对给定显示设计的图像元素600的相关设计布局确定。更具体地说，孔712的间距取决于给定显示设计的每英寸像素数。例如，孔712的间距可以在100μm至500μm的范围内，其分别等于每英寸250个像素至每英寸50个像素。

阴影掩模700适用于蒸镀系统的一个沉积阶段的真空室中。在专利申请No.2003/0228715中，描述了用于形成容器612的交叉部分614、连接部分616和连接部分618的阴影掩模蒸镀系统和方法的例子。

可任选地，对于任何给定显示设计来形成交叉部分614的整个布置，根据设计的间距，可以需要一个或多个阴影掩模例如阴影掩模700，其分别对应于蒸镀过程的一个或多个连续沉积阶段。要求阴影掩模例如阴影掩模700的结构整体性和强度合适地保持与孔712的任何给定设计布局匹配。

图8示出根据本发明第二实施例的用于通过阴影掩模真空沉积法形成多个容器612的连接部分616和连接部分618的布置的示例性阴影掩模800的顶视图。阴影掩模800包括由例如镍、铬、钢、铜、科瓦铁镍钴合金或因瓦铁镍合金形成的薄片810。形成在薄片810内的是用于分别形成具有一定布置形式的连接部分616和连接部分618的孔816和孔818的图案，这些孔是具有预定的尺寸、形状和位置的开口。参照图6和图8，阴影掩模800包括，例如，用于形成连接部分616a的孔816a、用于形成连接部分616b的孔816b、用于形成连接部分618a的孔818a和用于形成连接部分618b的孔818b。

孔816和818的位置由间距设定，该间距由对给定显示设计的图像元素600的相关设计布局确定。更具体地说，孔816和818的间距取决于给定显示设计的每英寸像素数。例如，孔816和818的间距可以在100μm至500μm的范围内，其分别等于每英寸250个像素至每英寸50个像素。

阴影掩模800适用于蒸镀系统的一个沉积阶段的真空室中。在专利申请No.2003/0228715中描述了用于形成容器612的交叉部分614、连接部分616和连接部分618的阴影掩模蒸镀系统和方法的例子。

可任选地，对于任何给定显示设计来形成连接部分616和连接部分618的整个布置，根据设计的间距，可以需要一个或多个阴影掩模例如阴影掩模800，其分别对应于蒸镀过程的一个或多个连续沉积阶段，例如，仅仅包含孔816的一种阴影掩模和仅仅包含孔818的另一种阴影掩模。要求阴影掩模例如阴影掩模800的结构整体性和强度合适地保持与孔816和/或孔818的任何给定设计布局匹配。另外，对容器部件的沉积顺序并不是关键的，并且在没有对最终所得到的容器进行材料改变的情况下可以改变该沉积顺序。

图9示出根据本发明的用阴影掩模真空沉积法制造喷墨容器以及使用该喷墨容器的方法900的流程图。继续参照图1至图8，方法900包括以下步骤。

在步骤910，以一系列的布置方式安装具有一定布置形式的沉积真空室，以形成阴影掩模真空沉积系统，例如参考专利申请No.2003/0228715所述。

在步骤912，确定要通过阴影掩模真空沉积系统形成的特定发光显示器的设计规格。

在步骤914，形成适合与喷墨印刷沉积法一起使用的一组阴影掩模，例如，阴影掩模400、500、700或800，所述阴影掩模用于形成容器，例如多个容器112或612。根据容器结构的每个部分的预定图案，布置每个阴影掩模中的多个孔。

在步骤916，通过任何公知的制造方法在基板例如基板110上形成与显示器相关联的电路。其中最外层是具有一定布置形式的电极(例如电极122)，该电极由亲水性导电材料形成，这如参照图3A所述。

在步骤918，在基板上形成具有一定布置形式的容器结构，例如在基板110上的多个容器112或612。在步骤910的阴影掩模真空沉积系统中，使用步骤914的那一组阴影掩模，经过一次或多次阴影掩模真空沉积形成这些容器。更具体地说，如参照图1所述的疏水性材料沉积在亲水性电极上，以形成容器的结构。

在步骤920，用标准喷墨沉积法将溶剂中溶解有聚合物的溶液例如溶液124沉积在步骤918中形成的容器中。在标准喷墨沉积过程中，印刷头横扫目标显示的区域(例如图2的发光显示器200)，并且将预定容量的成滴的溶液124输送到其容器112中。这样做，用预定量的溶液124将每个容器112填充或稍微充满到同一水平，这如图3B所示。成滴的溶液124被用于形成每个容器112的壁的疏水性材料排斥，但是，同时，由于电极122的亲水性材料的表面能而导致成滴的溶液124引入每个容器112中。这样，每滴溶液124都被引入目标显示器(例如图2的发光显示器200)的每个图像元素100中所希望的位置上。然后，使该显示器经过干燥过程，从而溶液124中的液体蒸发并仅留下溶液124中的固体作为薄而均匀的固体发光材料层，即，发光介质120。然后方法900结束。

虽然结合示例性实施例已详细地描述了本发明，但是，应该这样理解，本发明并不局限于上面所披露的实施例。相反，可以对本发明进行修改，以包含前面没有描述但与本发明的实质和范围相称的各种改变、变更、替换或等同形式。因此，本发明并不是由上述说明部分或附图限定，而是仅仅由所述权利要求的范围限定。

Claims (17)

1.一种用于提供电子显示组件的系统，包括：

基板；

至少一个容器结构，其置于所述基板之上，所述容器结构是通过利用与所述基板的表面对准的阴影掩模来形成的，其中，所述容器结构包括：利用置于第一沉积真空室内的第一阴影掩模在基板上沉积第一材料从而形成的多个交叉部分；以及利用置于第二沉积真空室内的第二阴影掩模在所述基板上沉积第二材料从而形成的用于使所述多个交叉部分相互连接的多个连接部分；以及

发光材料，其容纳在所述容器结构中。

2.根据权利要求1所述的系统，其中，

所述容器结构具有允许预定容量的发光材料容纳在所述容器结构中的预定构形。

3.根据权利要求1所述的系统，其中，

所述多个交叉部分按网格形式置于所述基板之上。

4.根据权利要求1所述的系统，其中，

所述发光材料是喷墨沉积的发光材料。

5.根据权利要求1所述的系统，还包括：

置于所述基板上且位于所述容器结构之下的至少一个电极。

6.一种电子显示组件，包括：

基板；

电极，其形成在所述基板上；

多个容器，其置于所述基板之上，所述容器是通过与所述基板的表面对准的阴影掩模进行材料的沉积而形成的，其中，所述容器包括：利用置于第一沉积真空室内的第一阴影掩模在基板上沉积第一材料从而形成的多个交叉部分；以及利用置于第二沉积真空室内的第二阴影掩模在所述基板上沉积第二材料从而形成的用于使所述多个交叉部分相互连接的多个连接部分；以及

发光介质，其置于通过所述阴影掩模进行沉积而形成的所述多个容器内。

7.根据权利要求6所述的电子显示组件，其中，

所述发光介质形成为有源显示元件。

8.根据权利要求7所述的电子显示组件，其中，

所述有源显示元件是发光器件。

9.一种有机发光二极管，包括：

基板；

电极，其形成在所述基板上；

至少一个容器，其置于所述基板之上，所述至少一个容器是通过与所述基板的表面对准的阴影掩模进行材料的沉积而形成的，其中，所述容器包括：利用置于第一沉积真空室内的第一阴影掩模在基板上沉积第一材料从而形成的多个交叉部分；以及利用置于第二沉积真空室内的第二阴影掩模在所述基板上沉积第二材料从而形成的用于使所述多个交叉部分相互连接的多个连接部分；以及

发光聚合物，其置于通过所述阴影掩模进行沉积而形成的所述至少一个容器内。

10.一种用于容纳发光显示器的发光材料的容器结构，所述容器结构包括：

利用置于第一沉积真空室内的与基板对准的第一阴影掩模在所述基板之上沉积第一材料从而形成的多个交叉部分；以及

利用置于第二沉积真空室内的与所述基板对准的第二阴影掩模在所述基板之上沉积第二材料从而形成的用于使所述多个交叉部分相互连接的多个连接部分。

11.一种形成电子器件的方法，包括以下步骤：

提供在其上形成有至少一个电极的基板；

将至少一个阴影掩模与所述基板的表面对准；以及

使用所述阴影掩模在所述基板的表面上形成至少一个容器结构，其中，所述容器结构是通过以下步骤形成的：利用置于第一沉积真空室内的第一阴影掩模在基板上沉积第一材料，从而形成多个交叉部分；以及利用置于第二沉积真空室内的第二阴影掩模在所述基板上沉积第二材料，从而形成用于使所述多个交叉部分相互连接的多个连接部分。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，在所述基板的表面上形成所述容器结构的步骤还包括以下步骤：

使所述基板进给通过多个沉积真空室，每个沉积真空室具有置于其内的至少一个材料沉积源和阴影掩模；以及

通过所述阴影掩模将来自所述材料沉积源的材料沉积在所述基板的表面上，以在所述基板的表面上形成所述容器结构。

13.根据权利要求11所述的方法，所述方法还包括：

通过喷墨沉积在所述容器结构内设置发光材料的步骤。

14.一种形成发光显示器的方法，包括以下步骤：

提供在其上形成有至少一个电极的基板；

使用与所述基板对准的第一阴影掩模和第二阴影掩模在所述基板的表面上形成至少一个容器，其中，所述容器结构是通过以下步骤形成的：利用置于第一沉积真空室内的第一阴影掩模在基板上沉积第一材料，从而形成多个交叉部分；以及利用置于第二沉积真空室内的第二阴影掩模在所述基板上沉积第二材料，从而形成用于使所述多个交叉部分相互连接的多个连接部分；以及

将发光材料喷墨沉积在所述容器内。

15.根据权利要求14所述的方法，其中，使用所述第一阴影掩模和所述第二阴影掩模以形成所述容器的步骤还包括以下步骤：

将所述基板进给通过第一沉积真空室和第二沉积真空室，所述第一沉积真空室具有置于其内的第一材料沉积源和所述第一阴影掩模，所述第二沉积真空室具有置于其内的第二材料沉积源和所述第二阴影掩模；以及

通过所述第一阴影掩模将来自所述第一材料沉积源的第一材料沉积在所述基板的表面上，以在所述基板的表面上形成所述容器的第一图案部分。

16.根据权利要求15所述的方法，还包括：

通过所述第二阴影掩模将来自所述第二材料沉积源的第二材料沉积在所述基板的表面上，以在所述基板的表面上形成所述容器的第二图案部分。

17.根据权利要求16所述的方法，其中，

所述第一图案部分与置于所述基板的表面上的多个交叉部分对应，并且

所述第二图案部分与用于使所述多个交叉部分相互连接的多个连接部分对应。

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