CN100587088C - 电子束复合等离子辉光放电的提纯系统 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种电子束复合等离子辉光放电的提纯系统，包括有真空单元、电子束熔炼单元、水冷却单元、等离子辉光放电单元、连续送料单元(1B)；电子束熔炼单元、等离子辉光放电单元构成电子束离子束复合提纯单元(1A)。在提纯过程中设置熔料槽(6)和集料槽(9)，在熔料槽(6)的上方利用功率、焦距形状可控的电子束熔化提纯物料，利用辉光放电产生的等离子体辅助提纯，使物料中的金属或非金属杂质在等离子氛围中蒸发提纯。

Description

电子束复合等离子辉光放电的提纯系统

技术领域

本发明涉及一种对半导体、金属以及介电材料在熔炼过程中进行提纯的装置，更特别地说，是指一种电子束复合等离子辉光放电的提纯系统。

背景技术

工业中大量使用的半导体、金属、以及介电材料，常要求这些材料所含杂质尽可能少。也随之产生了许多提纯的方法。在真空环境中利用感应或电阻加热的方式，利用杂质与原料饱和蒸气压的不同提纯物料，属于真空提纯的范畴。相对于一般的真空提纯，本发明有如下特点：

常规的真空提纯并未考虑到杂质以离子形式存在的事实。大功率电子束和一般的感应和电阻加热的最大的差别就是，除了可作为一般的加热源应用以外，还可以作为高能电子束流改变物料中杂质元素的价态，改变杂质元素的存在方式与结构，再辅助以外部的电场或磁场，使提纯过程不仅包括分子层面的利用各元素蒸气压不同提纯，而且包括带电粒子层面的利用带电粒子在磁场和电场中的运动轨迹的不同的提纯物料。

常规的真空提纯通常采用大尺寸坩埚(容器)一次投料的方式，而且常规的真空提纯设备只有一个真空室。填料时，打开真空室门，将装有物料的坩埚或容器置于真空室中，在整个熔炼过程中不再填料，熔炼完毕炉冷后，打开真空室，将物料取出，完成熔炼提纯过程。利用大尺寸坩埚一次投料，不管是是在坩埚的恻壁加热还是在坩埚的底部加热，皆有可能造成坩埚内物料的加热区的死角，或物料加热、搅拌不匀的情况发生。而且在引入电场和磁场后，因为坩埚纵深尺寸的关系，很难在利用物料本身产生等离子体的环境中充分提纯物料。

常规的真空提纯通常将熔炼坩埚和收集坩埚合二为一，即置入真空室内的一个坩埚，既用来承载物料熔炼物料提纯，也用同一个坩埚收集物料。若将真空系统分为用于提纯和集料的主真空室，和用于多次加料的预真空室，同时在主真空室内设置小尺寸的熔料坩埚和大尺寸的集料装置，可充分发挥小规模熔料彻底、提纯充分的优势，并且直接采用电子束熔料的方式就可能将物料熔透，不必担心引入其他加热方式引起的炉料等的污染。同时小规模熔料可以方便地引入电场、磁场和产生等离子体等辅助提纯方式。

发明内容

本发明的目的是提供一种电子束复合等离子辉光放电的提纯系统，该提纯系统包括有电子束熔炼单元、等离子熔炼单元、连续进料单元、水冷集料单元，通过连续进料单元将被提纯物料提供给主真空室12内的熔料槽6，熔料槽6内的熔融物料5B在电子束、离子束的作用下进行熔炼提纯，然后被提纯后的熔融物料5B在销轴7的带动下将物料被溢入集料槽9中。本发明的电子束复合等离子辉光放电的提纯系统，在提纯过程中设置能够转动的熔料槽和具有水冷结构的集料槽，在熔料槽的上方利用功率、焦距形状可控的电子束熔化和提纯物料，利用辉光放电产生的等离子体辅助提纯，使物料中的金属或非金属杂质在等离子氛围中蒸发提纯。

本发明是一种电子束复合等离子辉光放电的提纯系统，该提纯系统包括有真空单元、电子束熔炼单元、等离子辉光放电单元、连续送料单元、水冷却单元，电子束熔炼单元、等离子辉光放电单元构成电子束离子束复合提纯单元1A。

连续送料单元1B的预真空室15的一端安装在电子束离子束复合提纯单元1A的主真空室12的壳体上。电子束离子束复合提纯单元1A的主真空室12的上方左侧通过A电子枪安装板4A固定有A电子枪3A、B电子枪3B，且A电子枪3A、B电子枪3B分别通过电子枪引线与高压电供给箱1连接，主真空室12的上方右侧通过B电子枪安装板4B固定有C电子枪3C、D电子枪3D，且C电子枪3C、D电子枪3D分别通过电子枪引线与高压电供给箱1连接。如D电子枪3D通过电子枪引线2与高压电供给箱1的其中一个引线头连接。主真空室12的上方安装有等离子发生器27，与等离子发生器27连接有水冷式电极28置于主真空室12内，且位于熔料槽6的上方。熔料槽6的底部设有销孔6C，熔料槽6通过销轴7与销孔6C的配合连接在熔料槽支架8的顶端，熔料槽支架8的底端安装在底部支架11上。底部支架11上连接有A水冷底板10A、B水冷底板10B，A水冷底板10A、B水冷底板10B上安装有集料槽9，集料槽9的底部与A水冷底板10A、B水冷底板10B接合处分别设有A陶瓷绝缘垫10C、B陶瓷绝缘垫10D。

物料5A在进行入电子束离子束复合提纯单元1A中的熔料槽6后，在离子束、电子束的作用下被熔炼成熔融物料5B，熔融物料5B在设置的离子束提纯条件、电子束提纯条件下经一定时间后，通过与销轴7连接的电机或者机械操作机构使熔料槽6向集料槽9方向倾斜，使得熔融物料5B流入集料槽9中；在熔融物料5B流入集料槽9的过程中，调整C电子枪3C、D电子枪3D的角度，使得从C电子枪3C、D电子枪3D射出的电子束能够跟随熔融物料5B入射到集料槽9中。熔料槽6以倾斜方式将熔融物料5B流入集料槽9中，在熔料槽6的流料端一直有C电子枪3C加热并引流，一方面确保在流料端附近的熔融物料5B充分熔化，另一方面通过调节C电子枪3C的扫描状态能够确保C电子枪3C对流瀑状的熔融物料5B做第二次扫描提纯。集料槽9中的提纯物料5C采用D电子枪3D扫描搅拌并成型，在此过程中，通过调整D电子枪3D输出功率能够改变提纯物料5C堆积状态，并对提纯物料5C进行第三次提纯。提纯物料5C逐渐由下向上逐渐冷凝在集料槽9中，在此过程中D电子枪3D始终熔化、搅拌集料槽9中提纯物料5C的上表面，并形成局部熔池。通过控制局部熔池的移动，进一步提纯物料。

附图说明

图1是本发明电子束复合等离子辉光放电提纯系统的结构图。

图2是本发明连续进给单元的结构图。

图3是提纯过程中熔料槽将物料倒入集料槽的过程示图。

图4是熔料槽的剖面图。

图5是集料槽的剖面图。

图中：1A.电子束离子束复合提纯单元    1B.连续进料单元

1.高压电供给箱  2.电子枪引线   3A.A电子枪     3B.B电子枪      3C.C电子枪

3D.D电子枪      4A.A安装板     4B.B安装板     5A.物料         5B.熔融物料

5C.提纯物料     6.熔料槽       6A.冷却水通道  6B.槽体         6C.销孔

7.销轴          8.熔料槽支架   9.集料槽       9A.冷却水通道   9B.槽体

10A.A水冷底板   10B.B水冷底板  10C.A陶瓷绝缘垫                10D.B陶瓷绝缘垫

11.底部支架     12.真空室      13.闸板阀      14.进料槽       15.预真空室

16.物料进给壳体                17.前行电机    17A.连接盘      18.双螺母

18A.A螺纹孔     18B.B螺纹孔    18C.C通孔      19.旋转电机     20.联轴器

21A.A轴承       21B.B轴承      21C.C轴承      21D.D轴承       22.进料轴

23A.A齿轮       23B.A丝杆      24.主动齿轮    25A.B齿轮       25B.B丝杆

26.端盖         27.等离子体发生器             28.水冷式电极   29.主真空室接口

具体实施方式

下面将结合附图对本发明做进一步的详细说明。

本发明是一种电子束复合等离子辉光放电的提纯系统，该提纯系统包括有真空单元、电子束熔炼单元、等离子辉光放电单元、连续送料单元、水冷却单元(参见图1所示)，电子束熔炼单元、等离子辉光放电单元构成电子束离子束复合提纯单元1A。

真空单元包括有预真空室15和主真空室12，预真空室15为低压环境，主真空室12为高压环境。预真空室15和主真空室12分别与放置于本发明提纯系统的外部的抽真空仪器相连。

电子束熔炼单元包括有高压电供给箱1、A电子枪3A、B电子枪3B、C电子枪3C、D电子枪3D。

等离子辉光放电单元包括有等离子发生器27、水冷式电极28。水冷式电极28材料可以根据提纯物料的种类来选择钨、钼、铜、不锈钢、镍、石墨、银、锆、钽、铝及其合金等。在本发明中，等离子辉光放电单元通入的电源的类型可根据提纯物料的需要连通直流电源以及工频、中频、高频和射频电源。通过调整控制电极上的电压、产生等离子体形成回路后的电流、以及通入电源的频率等参数可选择性地提纯物料中的杂质，并保证引入电极的挥发在允许的范围之内。

连续送料单元1B包括有两个电机、两根丝杠、三个齿轮、双螺母18、送料轴22、转盘24A、进料槽14。

水冷却单元包括有熔料槽6的槽体上设有的水冷却通道、集料槽9的槽体上设有的水冷却通道，以及为熔料槽6、集料槽9提供冷却水源的冷却水装置，该冷却水装置置于本发明提纯系统的外部。参见图4所示，熔料槽6为V形结构，熔料槽6的底端设有销孔6C，熔料槽6的槽体6B内设有冷却水通道6A，冷却水通道6A的进口和出口分别与外部的冷却水装置连通。参见图5所示，集料槽9的槽体9B内设有冷却水通道9A，冷却水通道9A的进口和出口分别与外部的冷却水装置连通。集料槽9的底部通过A陶瓷绝缘垫10C、B陶瓷绝缘垫10D安装在A水冷底板10A、B水冷底板10B上。

参见图1所示，连续送料单元1B的预真空室15的一端安装在电子束离子束复合提纯单元1A的主真空室12的壳体上。电子束离子束复合提纯单元1A的主真空室12的上方左侧通过A电子枪安装板4A固定有A电子枪3A、B电子枪3B，且A电子枪3A、B电子枪3B分别通过电子枪引线与高压电供给箱1连接，主真空室12的上方右侧通过B电子枪安装板4B固定有C电子枪3C、D电子枪3D，且C电子枪3C、D电子枪3D分别通过电子枪引线与高压电供给箱1连接。如D电子枪3D通过电子枪引线2与高压电供给箱1的其中一个引线头连接。主真空室12的上方安装有等离子发生器27，与等离子发生器27连接有水冷式电极28置于主真空室12内，且位于熔料槽6的上方。熔料槽6的底部设有销孔6C，熔料槽6通过销轴7与销孔6C的配合连接在熔料槽支架8的顶端，熔料槽支架8的底端安装在底部支架11上。底部支架11上连接有A水冷底板10A、B水冷底板10B，A水冷底板10A、B水冷底板10B上安装有集料槽9，集料槽9的底部与A水冷底板10A、B水冷底板10B接合处分别设有A陶瓷绝缘垫10C、B陶瓷绝缘垫10D。

参见图2所示，连续送料单元1B的物料进给壳体16内安装有A丝杠23B、B丝杠25B、进料轴22；A丝杠23B的左端安装在A轴承21A内，A轴承21A连接在物料进给壳体16的左端面上方，A丝杠23B的右端顺次通过A螺纹孔18A、A齿轮23A的通孔后安装在C轴承21C内，C轴承21C连接在物料进给壳体16的右端面上方；B丝杠25B的左端安装在B轴承21B内，B轴承21B连接在物料进给壳体16的左端面下方，B丝杠25B的右端顺次通过B螺纹孔18B、B齿轮25A的通孔后安装在D轴承21D内，D轴承21D连接在物料进给壳体16的右端面下方；在本发明中，进料轴22由套筒和伸缩杆构成，套筒右端固连在双螺母18的C通孔18C上，伸缩杆的左端套入套筒内，伸缩杆的右端连接在进料槽14上。进料轴22位于物料进给壳体16的中心位置，进料轴22的套筒左端伸出中心孔16A后，通过联轴器20与旋转电机19的输出轴实现连接，进料轴22的伸缩杆右端穿过双螺母18的C通孔18C后安装在进料槽14上。前行电机17通过连接盘17A安装在物料进给壳体16上，前行电机17的输出轴连接有主动齿轮24，主动齿轮24与A齿轮23A、B齿轮25A啮合。主动齿轮24在前行电机17的驱动下进行顺时针方向运动，则与其啮合的A齿轮23A、B齿轮25A为逆时针方向运动。物料进给壳体16的右端面与预真空室15的左端面连接，预真空室15内放置有进料槽14，预真空室15的上方设有端盖26，预真空室15的右端上设有闸板阀13。

参见图3所示，物料5A在进行入电子束离子束复合提纯单元1A中的熔料槽6后，在离子束(等离子辉光放电单元的水冷式电极28产生)、电子束(电子束熔炼单元的A电子枪3A、B电子枪3B产生)的作用下被熔炼成熔融物料5B，熔融物料5B在设置的离子束提纯条件、电子束提纯条件下经一定时间后，通过与销轴7连接的电机或者机械操作机构使熔料槽6向集料槽9方向倾斜，使得熔融物料5B流入集料槽9中；在熔融物料5B流入集料槽9的过程中，调整C电子枪3C、D电子枪3D的角度，使得从C电子枪3C、D电子枪3D射出的电子束能够跟随熔融物料5B入射到集料槽9中。熔料槽6以倾斜方式将熔融物料5B流入集料槽9中，在熔料槽6的流料端一直有C电子枪3C加热并引流，一方面确保在流料端附近的熔融物料5B充分熔化，另一方面通过调节C电子枪3C的扫描状态能够确保C电子枪3C对流瀑状的熔融物料5B做第二次扫描提纯。集料槽9中的提纯物料5C采用D电子枪3D扫描搅拌并成型，在此过程中，通过调整D电子枪3D输出功率能够改变提纯物料5C堆积状态，并对提纯物料5C进行第三次提纯。提纯物料5C逐渐由下向上逐渐冷凝在集料槽9中，在此过程中D电子枪3D始终熔化、搅拌集料槽9中提纯物料5C的上表面，并形成局部熔池。通过控制局部熔池的移动(由D电子枪3D调整输出功率实现)，进一步提纯物料。

本发明电子束复合等离子辉光放电的提纯系统的进料阶段为：

在保证闸板阀13关闭的前提下，打开预真空室15的端盖26，将物料5A加到进料槽14中，关闭端盖26，对预真空室15进行抽真空处理。预真空室15应保持8Pa以下的真空度。抽真空完成后，开启闸板阀13，利用前行电机17驱动进料轴22带动进料槽14到达主真空室接口29，利用旋转电机19以一定的转速驱动进料轴22旋转至一定的角度，将物料5A倾倒入熔料槽6中。倒料完成后，在旋转电机19反向旋转条件下进料槽14退后至预真空室15内，关闭闸板阀13，准备下一次进料。

本发明电子束复合等离子辉光放电的提纯系统的熔炼提纯阶段为：

待主真空室12的真空度达到要求以后(压力小于10^-3Pa)，可进入熔炼提纯阶段。熔料开始前，首先接通等离子体发生器27的电源，水冷式电极28的引入根据需要可采用水冷方式，在主真空室中引入产生电极28的材料根据提纯物料的种类可选择钨、钼、铜、不锈钢、镍、石墨、银、锆、钽、铝及其合金等。等离子体发生器27通入的电源的类型可根据提纯物料的需要连通直流电源以及工频、中频、高频和射频电源。根据提纯的需要，通过调整控制电极上的电压、产生等离子体形成回路后的电流、以及通入电源的频率等参数可选择性地提纯物料中的杂质，并保证引入电极的挥发在允许的范围之内。等离子产生的气氛不仅可以由惰性气体组成，还可利用冶炼物料的蒸汽，以及在高温过程中分离出来的气态产物。引入电极与熔料槽6之间可以形成辉光或非转移式电弧。高纯要求的熔炼的真空环境内产生的等离子体由引入熔料槽6上方的电极28吸引物料受电子束轰击后产生的二次电子形成的辉光放电产生。

在给定等离子体发生器27通入需要的电压之后，根据提纯物料的性质，开启A电子枪3A和/或B电子枪3B，并控制电子枪的束流，电子枪的束流对物料5A进行在熔炼过程中进行提纯处理，从而使物料5A转变为熔融物料5B，熔融物料5B在熔料槽6中进行一次或数次缓慢冷却和快速重熔，使其中的气体和杂质逐步析出。

经一段时间后，熔料槽6在电机或者操作机构驱动销轴7向集料槽9方向倾斜，使得熔融物料5B流入集料槽9中。

在本发明中，A电子枪3A、B电子枪3B、C电子枪3C、D电子枪3D在熔炼提纯过程中出射的电子束流可以通过调整电子枪的电流，电子枪聚焦范围，电子枪的扫描方式(直线往复扫描方式或同心圆的扫描方式)进行随意调节。通过对电子枪工艺参数的不同设置可以使熔料槽6摆动，以起到搅拌和充分熔炼物料的作用。

在熔料槽6中的熔融物料5B倾倒完毕后，回转至初始位置，准备添装送料槽14中的下一次物料5A，进入下一个提纯工作循环。

提纯后的提纯物料5C在集料槽中9堆积到一定程度时，可连同集料槽9一起从电子束离子束复合提纯单元1A中取出。

本发明电子束复合等离子辉光放电的提纯系统具有如下的性能：

1.为了解决大容积坩埚一次加料，底部加热方式熔炼引起的熔炼不充分的问题，本发明采用连续多次加料，利用小体积提纯熔料槽6熔炼提纯，并采用大体积集料槽9收集提纯物料5C的方式。

2.通过调整C电子枪3C、D电子枪3D的角度能够实现电子束跟随提纯熔融物料5B向集料槽9流入的物料，以达到充分提纯物料的目的。

3.在主真空室12内设置提纯熔料槽6和集料槽9，能够在等离子氛围中工作的电子束蒸发、提纯物料。

4.本发明中的水冷式电极28、熔料槽6中的熔融物料5B之间可以形成辉光或非转移式电弧。

5.等离子产生的气氛不仅可以由惰性气体组成，还可利用冶炼物料的蒸汽，以及在高温过程中分离出来的气态产物。

6.主真空室12产生的等离子体由水冷式电极28(水冷钨电极)吸引熔融物料5B受电子束轰击后产生的二次电子形成的辉光放电产生。

7.在倒料以前(物料从熔料槽6倒出)，只需控制A电子枪3A、B电子枪3B的束流，可以将熔融物料5B进行一次或数次的缓慢冷却和快速重熔，使其中的气体和杂质逐步析出。这种操作方式对于大规模熔料不适合，不仅效率低，而且需要反复给大型炼料容器反复加热，给生产带来不少困难。但对于采用电子枪熔炼熔料槽6物料而言，将是十分简便易行的。

Claims (7)

1、一种电子束复合等离子辉光放电的提纯系统，包括有真空单元、电子束熔炼单元、水冷却单元，其特征在于：还包括有等离子辉光放电单元、连续送料单元(1B)；电子束熔炼单元、等离子辉光放电单元构成电子束离子束复合提纯单元(1A)；所述真空单元包括有预真空室(15)和主真空室(12)；

所述电子束熔炼单元包括有高压电供给箱(1)、A电子枪(3A)、B电子枪(3B)、C电子枪(3C)、D电子枪(3D)；

水冷却单元包括有熔料槽(6)的槽体上设有的水冷却通道、集料槽(9)的槽体上设有的水冷却通道，以及为熔料槽(6)、集料槽(9)提供冷却水源的冷却水装置；

所述等离子辉光放电单元包括有等离子发生器(27)、水冷式电极(28)；

连续送料单元(1B)的预真空室(15)的一端安装在电子束离子束复合提纯单元(1A)的主真空室(12)的壳体上；电子束离子束复合提纯单元(1A)的主真空室(12)的上方左侧通过A安装板(4A)固定有A电子枪(3A)、B电子枪(3B)，且A电子枪(3A)、B电子枪(3B)分别通过电子枪引线与高压电供给箱(1)连接，主真空室(12)的上方右侧通过B安装板(4B)固定有C电子枪(3C)、D电子枪(3D)，且C电子枪(3C)、D电子枪(3D)分别通过电子枪引线与高压电供给箱(1)连接；主真空室(12)的上方安装有等离子发生器(27)，与等离子发生器(27)连接有水冷式电极(28)置于主真空室(12)内，且位于熔料槽(6)的上方；熔料槽(6)的底部设有销孔(6C)，熔料槽(6)通过销轴(7)与销孔(6C)的配合连接在熔料槽支架(8)的顶端，熔料槽支架(8)的底端安装在底部支架(11)上；底部支架(11)上连接有A水冷底板(10A)、B水冷底板(10B)，A水冷底板(10A)、B水冷底板(10B)上安装有集料槽(9)，集料槽(9)的底部与A水冷底板(10A)、B水冷底板(10B)接合处分别设有A陶瓷绝缘垫(10C)、B陶瓷绝缘垫(10D)；

连续送料单元(1B)的物料进给壳体(16)内安装有A丝杠(23B)、B丝杠(25B)、进料轴(22)；A丝杠(23B)的左端安装在A轴承(21A)内，A轴承(21A)连接在物料进给壳体(16)的左端面上方，A丝杠(23B)的右端顺次通过A螺纹孔(18A)、A齿轮(23A)的通孔后安装在C轴承(21C)内，C轴承(21C)连接在物料进给壳体(16)的右端面上方；B丝杠(25B)的左端安装在B轴承(21B)内，B轴承(21B)连接在物料进给壳体(16)的左端面下方，B丝杠(25B)的右端顺次通过B螺纹孔(18B)、B齿轮(25A)的通孔后安装在D轴承(21D)内，D轴承(21D)连接在物料进给壳体(16)的右端面下方；进料轴(22)由套筒和伸缩杆构成，套筒右端固连在双螺母(18)的C通孔(18C)上，伸缩杆的左端套入套筒内，伸缩杆的右端连接在进料槽(14)上；进料轴(22)位于物料进给壳体(16)的中心位置，进料轴(22)的套筒左端伸出中心孔(16A)后，通过联轴器(20)与旋转电机(19)的输出轴实现连接，进料轴(22)的伸缩杆右端穿过双螺母(18)的C通孔(18C)后安装在进料槽(14)上；前行电机(17)通过连接盘(17A)安装在物料进给壳体(16)上，前行电机(17)的输出轴连接有主动齿轮(24)，主动齿轮(24)与A齿轮(23A)、B齿轮(25A)啮合；物料进给壳体(16)的右端面与预真空室(15)的左端面连接，预真空室(15)内放置有进料槽(14)，预真空室(15)的上方设有端盖(26)，预真空室(15)的右端上设有闸板阀(13)。

2、根据权利要求1所述的电子束复合等离子辉光放电的提纯系统，其特征在于：熔料槽(6)为V形结构，熔料槽(6)的底端设有销孔(6C)，熔料槽(6)的槽体(6B)内设有冷却水通道(6A)，冷却水通道(6A)的进口和出口分别与外部的冷却水装置连通。

3、根据权利要求1所述的电子束复合等离子辉光放电的提纯系统，其特征在于：集料槽(9)的槽体(9B)内设有冷却水通道(9A)，冷却水通道(9A)的进口和出口分别与外部的冷却水装置连通。

4、根据权利要求1所述的电子束复合等离子辉光放电的提纯系统，其特征在于：主动齿轮(24)在前行电机(17)的驱动下进行顺时针方向运动，则与其啮合的A齿轮(23A)、B齿轮(25A)为逆时针方向运动。

5、根据权利要求1所述的电子束复合等离子辉光放电的提纯系统，其特征在于：在熔融物料(5B)流入集料槽(9)的过程中，调整C电子枪(3C)、D电子枪(3D)的角度，使得从C电子枪(3C)、D电子枪(3D)射出的电子束跟随熔融物料(5B)流出方向。

6、根据权利要求1所述的电子束复合等离子辉光放电的提纯系统，其特征在于：熔料槽(6)以倾斜方式将熔融物料(5B)流入集料槽(9)中，在熔料槽(6)的流料端一直有C电子枪(3C)加热并引流，一方面确保在流料端附近的熔融物料(5B)充分熔化，另一方面通过调节C电子枪(3C)的扫描状态能够确保C电子枪(3C)对流瀑状的熔融物料(5B)做第二次扫描提纯。

7、根据权利要求1所述的电子束复合等离子辉光放电的提纯系统，其特征在于：集料槽(9)中的提纯物料(5C)采用D电子枪(3D)扫描搅拌并成型。

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