CN100387752C - 连续批量制备金刚石膜的制备系统 - Google Patents
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Abstract
本发明针对目前的CVD金刚石制备时效率低、成本高的问题，设计了一种连续批量制备金刚石膜的制备系统，其特征是在壳体(26)中、衬底工作台(1)的周围安装有衬底仓库(8)，机械手(3)与伸缩杆(27)一端相连，伸缩杆(27)中安装有拉杆(28)，拉杆(28)的一端与机械手(3)的执行机构(301)相螺接，另一端安装有手轮(17)；金属软管(11)的一端与锥形孔(29)周围的壳体(26)密封相连，另一端与伸缩杆(27)密封相连；在壳体(26)上开有透明密闭观察窗(30)。保证了CVD金刚石膜的连续沉积和碳化后的灯丝连续使用，降低了灯丝的消耗，减少了重新安装灯丝、抽真空、碳化灯丝、真空室充气等时间，提高了金刚石膜的制备效率，降低了CVD金刚石膜的制造成本。
Description
技术领域
本发明涉及一种化学气相沉积金刚石膜制造系统，尤其是一种能连续批量制备金刚石膜的制备系统。
背景技术
目前，化学气相沉积(简称CVD)金刚石的力学、热学、声学、电学、光学和化学等各项性能已经达到或接近天然金刚石的性能，在当今高科技领域具有广阔的应用前景。热丝CVD法制备金刚石膜具有生长速度较快、生长条件参数的控制要求不严、反应室压力范围较宽、成膜面积大、设备投资小、结构简单、能够实现工业化生产等优点，热丝CVD法是目前制备CVD金刚石膜最常用的方法之一。采用热丝CVD法沉积金刚石膜时首先需要将沉积金刚石膜的衬底材料放在真空室内，通过真空泵将真空室内的空气抽出，然后向真空室通入反应气体，反应气体在热丝提供的能量下发生分解，产生的活性物质在衬底表面生成金刚石。热丝法所采用的热丝是钨丝或钽丝，在沉积CVD金刚石的条件下，它们会与反应气体中的碳发生化学反应，生成金属碳化物。从理论上讲，碳化后的钨丝或钽丝具有很长的使用寿命，但目前采用的沉积系统需要停机才能将沉积了CVD金刚石膜的衬底取出，然后重新换上新的衬底才能继续在下一批衬底上进行金刚石膜的制备。这样会带来以下一些的问题：
1.在停机过程中热丝温度从2200℃以上迅速下降到室温，充分碳化后的热丝容易在热应力的作用下发生断裂，断裂后的热丝无法继续使用，这样造成灯丝的浪费。由于灯丝材料钨和钽都是贵金属，特别是钽的价格很昂贵，灯丝的用量增加会造成CVD金刚石膜的制造成本增加。
2.每次重新安装灯丝需要大约20分钟，衬底放入真空室后需要重新对设备抽真空，每次对设备抽真空的时间大约需要30分钟，每次碳化灯丝使灯丝达到基本稳定的状态大约需要8小时，取出沉积了CVD金刚石膜的衬底需要对真空室进行充气，每次充气的时间大约需要10分钟。这样制备CVD金刚石膜，每次由于使用新灯丝在灯丝安装、抽真空、灯丝碳化、真空室充气等方面就需要多花费约9小时的时间，造成金刚石膜的制备效率大大降低。
发明内容
本发明的目的在于针对现有技术的不足，设计一种新的面向多衬底的CVD金刚石膜连续制备系统，该系统既保证了沉积设备的连续工作，碳化后的灯丝不再断裂，可以连续使用，降低了灯丝的消耗，又减少了重新安装灯丝、抽真空、碳化灯丝、真空室充气等时间，大大提高了金刚石膜的制备效率，降低了金刚石膜的制造成本。
本发明的技术方案是：
一种连续批量制备金刚石膜的制备系统，它主要包括一个真空密闭的壳体26和位于壳体26中的安置沉积金刚石膜衬底2的衬底工作台1，其特征是在壳体26中、衬底工作台1的周围安装有一个或一个以上的衬底仓库8，机械手3与伸缩杆27伸入壳体26中的一端通过螺母6和止动垫片5相连，伸缩杆27中安装有拉杆28，拉杆28位于壳体26中的一端伸出伸缩杆27与机械手3的执行机构301相螺接(即螺纹连接)，拉杆28位于壳体26外的另一端也伸出伸缩杆27外，其上安装有手轮17；壳体26上设有穿装伸缩杆27的锥形孔29，伸缩杆27位于壳体26外的一端上安装有金属软管11，金属软管11的一端与锥形孔29周围的壳体26密封相连，另一端与伸缩杆27密封相连；在与锥形孔29相对位置处的壳体26上开有密闭透明观察窗30。
本发明还进一步采取了以下技术措施：
所述的衬底工作台1为升降式转动工作台，所述的衬底仓库8为定角度转动式仓库。
金属软管11的一端通过压板10与壳体26相连，压板10与金属软管11的一端焊接相连，压板10与壳体26相连，在压板10和壳体26之间安装有密封圈9，在压板10的外围安装有冷却水管25。
金属软管11的另一端通过座12、密封圈13、压环14、压板24与伸缩杆27密封相连，座12、密封圈13、压环14、压板24均套装在伸缩杆27上，密封圈13通过压环14压紧在座12中，压环14通过压板24定位在座12中，金属软管11的一端与座12相连。
伸缩杆27位于壳体26外的一端端部上安装有座22、密封圈15、压环16和压板20，拉杆28穿过座22和压板20，密封圈15套装在拉杆28上并在压环16的作用下定位于座22中，压环16通过与座22相连的压板20定位在座22中，座22的外侧还安装有冷却水管23；伸缩杆27的操纵杆21与座22相连。
所述的操纵杆21的不与座22相连的一端位于支承板18上，支承板18上安装有定位销19。
所述的透明密闭观察窗30由真空高温玻璃31、密封圈32、压环34组成，在压环34的周围安装有冷却水管33。
衬底仓库8为多层、多仓结构。
本发明的有益效果：
1、在真空炉中一次安装有所有相同或不同规格的衬底可在一次装夹过程中完成，在此过程中衬底的安装和卸取在真空室内在不需要打开真空室的情况完成，这样碳化后的灯丝不会因为温度降低而断裂，灯丝可以使用很长时间。具体来说，通过一个衬底仓库存放衬底，待沉积的衬底和已经完成CVD金刚石膜沉积的衬底都存放在真空室内的衬底仓库上，通过机械手的操作完成衬底在工作台的安装、衬底在工作台和衬底仓库之间的传递。衬底仓库通过循环水冷却，保持衬底仓库的温度基本在室温，使得放在衬底仓库上的衬底在真空室内不会积碳。根据衬底的大小和形状不同，调整衬底仓库旋转相应角度，能够实现衬底在衬底仓库上有序排放。理论上只要衬底仓库的数量和真空室的大小允许，一次装夹可实现小批量、多品种或少品种、大批量连续沉积制备CVD金刚石涂层。
2、操作人员在真空室外通过观测窗对真空室内的机械手进行操作。机械手的操作部分采用金属软管和真空室柔性连接，这有利于机械手的抓取和移动等操作。机械手的移动由一套装置控制(即伸缩杆27)，这套装置可以实现从衬底工作台到衬底仓库之间移动，实现衬底在衬底工作台与衬底仓库之间传递。机械手的夹紧与放松由另一套装置控制(即拉杆28)，夹紧衬底后，控制装置在移动机械手的操作中不会造成衬底的脱落。真空室外连接真空室的操作机械手的连接部分采用真空密封，保证操作时外部空气不进入真空室。机械手的起点和终点的位置通过定位装置确定，使得衬底的安装和卸取等操作能够快速准确完成。
3、在不同形状、不同大小的衬底上沉积金刚石膜时，通过更换相应的机械手可完成对不同形状、不同大小的衬底的安装和卸取等操作。
4、机械手的操作部分和真空密封部分采用循环水冷却，保证这些部分不会因机械手受到热丝的辐射而温度升高。
5、提高金刚石的制备效率，降低制造成本。
6、以下是本发明具体的实施效果例：
(1)采用本发明后，在H2-CH4体系下制备金刚石涂层刀具，采用直径为φ60mm的衬底工作台，热丝采用钽丝，衬底工作台上一次可以放置6片刀具，衬底仓库上一次可以放置18片刀具，这样沉积24片刀具钽丝的成本约为50元，灯丝安装、灯丝碳化、抽真空等时间约9小时，每批沉积时间约为6小时，24片刀具金刚石涂层的沉积时间约24小时。而未采用本发明制备金刚石涂层刀具，灯丝安装一次可以沉积6片刀具，沉积24片刀具时钽丝的成本约为200元，灯丝安装、灯丝碳化、抽真空等时间约36小时，金刚石涂层的沉积时间约24小时。采用本发明后同样在24片刀具上沉积金刚石涂层，节约钽丝的成本150元，节省灯丝安装、灯丝碳化、抽真空等时间27小时，节省水、电、气的成本大约540元，平均每片金刚石涂层刀具的成本可以降低28.75元。
(2)采用本发明后，在H2-C2H5OH体系下制备金刚石厚膜，采用直径为φ60mm钼衬底，热丝采用φ0.6mm钽丝，金刚石膜沉积厚度为0.5mm，在一个衬底仓库上一次放置φ60mm钼衬底3块，这样安装一次热丝，可以沉积4块直径为φ60mm的金刚石膜。与不采用本发明相比，同样制备4块直径为φ60mm的金刚石膜，可以节省热丝费用180元，减少灯丝安装、灯丝碳化、抽真空等时间约27小时，节省水、电、气等沉积费用约810元。
(3)采用本发明后，在H2-CH4-Ar体系下在陶瓷基体上进行纳米金刚石膜的机理研究试验，采用正交试验，考虑了5个因素，每个因素取3个水平，选L27(313)正交表，每个试点采用2个试件，完成一个无重复的正交试验需要54个试件。为了保证试验的精度，每个试点采用4次重复试验，总的试验次数为108次，试件总数需要216个。试验采用直径为φ30mm的衬底工作台，每次试验衬底工作台上放置2个试件，热丝采用钽丝。衬底仓库可以安放32个试件，采用本发明安装7次灯丝就可以完成一个有4次重复的L27(313)纳米金刚石膜的机理研究正交试验了。与不采用本发明相比，可以减少热丝安装101次，节省灯丝费用约3000元，减少时间约900小时，节省水、电、气等沉积费用约13600元。
附图说明
图1是本发明的结构示意图。
图2是本发明的观察窗结构示意图。
图3是本发明的机械手的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的说明。
如图1、2、3所示。
图1为CVD金刚石膜连续制备系统的示意图。图中，沉积金刚石膜的衬底2放置在衬底水冷工作台1上，待沉积的衬底7放在可以按一定角度旋转的衬底仓库8上，通过操作机械手3实现将衬底仓库8上的待沉积衬底7安放在工作台1上，并将工作台1上已经完成CVD金刚石膜沉积的衬底取回到衬底仓库8上，衬底仓库8既可采用图1所示的单仓、单层结构，也可根据需要设计成单层多仓结构，各个衬底仓库在常规机械传动装置的带动下绕中心转动，衬底仓库8还可设计成多层、多仓结构，通过常规的机械设计保证机械手3能方便地获取各衬底仓库8上的待沉积衬底7并将工作台1上已沉积的衬底及时总回衬底仓库8中。机械手3通过螺母6和伸缩杆27相连，止动垫片5防止螺母6松动，使得机械手3和伸缩杆27的连接可靠。操纵杆21带动机械手3沿伸缩杆27的轴线方向移动，移动的准确定位通过固定在支承板18上的三个定位销19确定，定位销19在支承板18上的位置可以调节以适应不同形状和大小衬底的操作。伸缩杆27穿过壳体26上的锥形孔29，并可在锥形孔29中作一定角度的转动，以便能让机械手3准确地抓取已沉积金刚石的衬底2或等沉积金刚石的衬底7。拉杆28上的轴肩和卡圈4使得拉杆28只能沿拉杆28的轴线旋转而不能沿拉杆28的轴线方向移动，顺时针旋转手轮17，手轮17带动拉杆28顺时针转动，拉杆28上的螺杆带动机械手3运动，使得机械手3闭合，从而夹紧工件，逆时针旋转手轮17，手轮17带动拉杆28顺时针转动，拉杆28上的螺杆带动机械手3运动，使得机械手3松开，从而松开工件。压板10、金属软管11、座12与真空室壳体26柔性相连，使得伸缩杆27能以一定的角度空间摆动，更好的满足机械手3的操作。金属软管11与压板10、座12通过焊接实现联结和真空密封，压板10通过密封圈9实现与真空室壳体26的真空密封，压板24、密封圈13和压环14实现座12与伸缩杆27的真空密封。压板20、密封圈15和压环16实现座22与拉杆28的真空密封。冷却水管23内的循环冷却液用于降低座22的温度，保护密封圈15和操纵杆21、操作手轮17。冷却水管25内的循环冷却液用于降低压板10的温度，保护密封圈9。
图2为密闭透明观察窗30的结构示意图。图中，透过观察窗的真空高温玻璃31可以从外面观测到真空室内(即图1)所示机械手3的操作情况，真空高温玻璃31通过压环34安装在金属软管11上方的真空室壳体26上，通过密封圈32实现真空高温玻璃31与真空室壳体26的真空密封，冷却水管33内的循环冷却液用于降低真空室壳体26的温度，保护密封圈32。
图3为机械手3夹紧工件时的状态图。图中3为机械手，圆柱形零件为已沉积衬底2或等沉积衬底7。
本实施例未涉及的热丝的安装方式、抽真空装置、电控装置等均与现有技术相同。
Claims (8)
1.一种连续批量制备金刚石膜的制备系统，它主要包括一个真空密闭的壳体(26)和位于壳体(26)中的安置沉积金刚石膜衬底(2)的衬底工作台(1)，其特征是在壳体(26)中、衬底工作台(1)的周围安装有衬底仓库(8)，机械手(3)与伸缩杆(27)伸入壳体(26)中的一端相连，伸缩杆(27)中安装有拉杆(28)，拉杆(28)位于壳体(26)中的一端伸出伸缩杆(27)与机械手(3)的执行机构(301)相螺接，拉杆(28)位于壳体(26)外的另一端也伸出伸缩杆(27)外，其上安装有手轮(17)；壳体(26)上设有穿装伸缩杆(27)的锥形孔(29)，伸缩杆(27)位于壳体(26)外的一端上安装有金属软管(11)，金属软管(11)的一端与锥形孔(29)周围的壳体(26)密封相连，另一端与伸缩杆(27)密封相连；在与锥形孔(29)相对位置处的壳体(26)上开有密闭透明观察窗(30)。
2.根据权利要求1所述的连续批量制备金刚石膜的制备系统，其特征是所述的衬底工作台(1)为升降式转动工作台，所述的衬底仓库(8)为定角度转动式仓库。
3.根据权利要求1所述的连续批量制备金刚石膜的制备系统，其特征是金属软管(11)的一端通过压板(10)与壳体(26)相连，压板(10)与壳体(26)相连，在压板(10)和壳体(26)之间安装有密封圈(9)，在压板(10)的外围安装有冷却水管(25)。
4.根据权利要求1所述的连续批量制备金刚石膜的制备系统，其特征是金属软管(11)的另一端通过座(12)、密封圈(13)、压环(14)、压板(24)与伸缩杆(27)密封相连，座(12)、密封圈(13)、压环(14)、压板(24)均套装在伸缩杆(27)上，密封圈(1 3)通过压环(14)压紧在座(12)中，压环(14)通过压板(24)定位在座(12)中，金属软管(11)的一端与座(12)相连。
5.根据权利要求1所述的连续批量制备金刚石膜的制备系统，其特征是伸缩杆(27)位于壳体(26)外的一端端部上安装有座(22)、密封圈(15)、压环(16)和压板(20)，拉杆(28)穿过座(22)和压板(20)，密封圈(15)套装在拉杆(28)上并在压环(16)的作用下定位于座(22)中，压环(16)通过与座(22)相连的压板(20)定位在座(22)中，座(22)的外侧还安装有冷却水管(23)；伸缩杆(27)的操纵杆(21)与座(22)相连。
6.根据权利要求5所述的连续批量制备金刚石膜的制备系统，其特征是所述的操纵杆(21)的不与座(22)相连的一端位于支承板(18)上，支承板(18)上安装有定位销(19)。
7.根据权利要求1所述的连续批量制备金刚石膜的制备系统，其特征是所述的透明密闭观察窗(30)由真空高温玻璃(31)、密封圈(32)、压环(34)组成，在压环(34)的周围安装有冷却水管(33)。
8.根据权利要求1所述的连续批量制备金刚石膜的制备系统，其特征是所述的衬底仓库(8)为多层、多仓结构。
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|---|---|---|---|---|
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| CN108953616B (zh) * | 2018-07-23 | 2020-12-11 | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 | 一种用于反应腔室的拉杆结构 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5366555A (en) * | 1990-06-11 | 1994-11-22 | Kelly Michael A | Chemical vapor deposition under a single reactor vessel divided into separate reaction regions with its own depositing and exhausting means |
| EP0743375A2 (en) * | 1995-03-31 | 1996-11-20 | CeramOptec GmbH | Method of producing diamond-like-carbon coatings |
| JP2004091836A (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Hiroshima Pref Gov | 熱フィラメントｃｖｄ装置及びそのフィラメント構造並びに熱フィラメントｃｖｄ法 |
| CN1603464A (zh) * | 2004-10-28 | 2005-04-06 | 上海交通大学 | 制备纳米金刚石薄膜的辅助栅极热丝化学气相沉积法 |
| CN2828062Y (zh) * | 2005-10-14 | 2006-10-18 | 南京航空航天大学 | 连续批量制备金刚石膜的制备系统 |
-
2005
- 2005-10-14 CN CNB2005100948289A patent/CN100387752C/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5366555A (en) * | 1990-06-11 | 1994-11-22 | Kelly Michael A | Chemical vapor deposition under a single reactor vessel divided into separate reaction regions with its own depositing and exhausting means |
| EP0743375A2 (en) * | 1995-03-31 | 1996-11-20 | CeramOptec GmbH | Method of producing diamond-like-carbon coatings |
| JP2004091836A (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Hiroshima Pref Gov | 熱フィラメントｃｖｄ装置及びそのフィラメント構造並びに熱フィラメントｃｖｄ法 |
| CN1603464A (zh) * | 2004-10-28 | 2005-04-06 | 上海交通大学 | 制备纳米金刚石薄膜的辅助栅极热丝化学气相沉积法 |
| CN2828062Y (zh) * | 2005-10-14 | 2006-10-18 | 南京航空航天大学 | 连续批量制备金刚石膜的制备系统 |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| 大面积EACVD金刚石沉积设备的研究. 卢文壮，左敦稳，王珉等.机械设计与制造，第6期. 2003 |
| 大面积EACVD金刚石沉积设备的研究. 卢文壮，左敦稳，王珉等.机械设计与制造，第6期. 2003 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1752277A (zh) | 2006-03-29 |
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Assignee: Yancheng Yangbiao Petroleum Machinery Co.,Ltd. Assignor: Nanjing University of Aeronautics and Astronautics Contract record no.: 2010320000532 Denomination of invention: System for continuous batch preparing diamond film Granted publication date: 20080514 License type: Exclusive License Open date: 20060329 Record date: 20100505 |
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