CN100367364C - 信息记录媒体、记录再生装置及磁盘原模 - Google Patents

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Abstract

本发明的信息记录媒体,通过具有多个凸部(21、21…)的凹凸图形(20),在玻璃基材(11)的一面侧沿基材的旋转方向交替地排列形成有数据磁道图形和伺服图形,且在凹凸图形(20)的各凹部(22、22…)中埋入有非磁性材料(15),构成伺服图形的凹凸图形(20)的单位凸部长度和单位凹部长度被规定成,使沿玻璃基材(11)的旋转方向(箭头R的方向)的单位凸部长度与沿该旋转方向的单位凹部长度之比成为越从内周侧向外周侧越小的状态。本发明可提供一种在从内周侧至外周侧的整个区域中平坦性良好的信息记录媒体。

Description

信息记录媒体、记录再生装置及磁盘原模
技术领域
本发明涉及利用凹凸图形形成数据磁道图形和伺服图形并将非磁性材料埋入凹凸图形的各凹部中的信息记录媒体、具有该信息记录媒体的记录再生装置、及制造该信息记录媒体用的磁盘原模。
背景技术
作为具有这种信息记录媒体的记录再生装置,在日本专利特开平9-97419号公报中揭示了具有盘片读出磁道(日文:デイスクリ一トトラツク)型的磁盘所构成的磁性记录装置。该场合,磁盘在玻璃圆盘基板(基材)的一面侧,由记录磁性构件(磁性材料)形成同心圆状的记录磁道(带状的凸部)。又,在各记录磁道之间(凹部),埋入有用于提高磁盘的平坦性并使相邻的磁道磁性分离的保护频带构件(非磁性材料),形成保护频带部。在该磁盘的制造时,首先,在基材的一面侧喷镀磁性材料而形成记录磁性层。其次,在以覆盖记录磁性层的状态将正型保护层作为旋转涂层进行预烘后,使用原盘切割装置对与保护频带部的图形相同的图形进行描绘并进行显像处理。由此,在记录磁性层上形成保护层图形。接着,在将保护层图形用作掩膜对记录磁性层进行蚀刻处理后,利用打磨装置将残留掩膜除去,由此,在基材上形成由磁性材料构成的记录磁道及伺服图形(凸部)。接着,在该状态的基材上喷镀非磁性材料。这时,用非磁性材料将各记录磁道间的凹部掩埋,并充分地喷镀非磁性材料,直至用非磁性材料将各记录磁道覆盖。然后,通过对喷镀后的非磁性材料的表面进行干蚀刻处理,使记录磁道的上表面从非磁性材料露出。由此,记录磁道与保护频带部成为交替邻接的状态,完成磁盘。
[专利文献1]日本专利特开平9-97419号公报(第6~12页、图1~19)
然而,在以往的磁盘中存在以下的问题。即,在以往的磁盘中,在以覆盖记录磁性层(记录磁道)的状态喷镀非磁性材料后,对非磁性材料进行干蚀刻处理,直至使记录磁道及伺服图形等的凸部的上表面露出为止,并使表面平坦化。但是,在根据该制造方法制造磁盘的场合,在磁盘的外周侧,有时会在用磁性材料所形成的凸部上大量地残留非磁性材料(以下将残留在凸部上的非磁性材料称作“残渣”),成为由厚的非磁性材料将凸部覆盖的状态。
具体地说,例如,如图17所示,根据上述的制造方法制造的磁盘10x,是将形成有由同心圆状的多个记录磁道所构成的凹凸图形20t的磁道图形区域At与形成有跟踪伺服用的凹凸图形20sx的伺服图形区域Asx规定成交替状排列在磁盘10x的旋转方向(该图所示的箭头R的方向)上的状态来进行制造。该场合,在搭载了这种磁盘后的记录再生装置中,一般是在记录再生时使磁盘以一定的角速度进行旋转。因此,在该磁盘10x中,与每单位时间通过磁头(未图示)下方的磁盘10x上的长度成正比地、将沿磁盘10x的旋转方向的伺服图形区域Asx的长度规定成从磁盘10x的内周侧越向外周侧越长的状态(伺服图形区域Asx越向磁盘10x的外周侧就越宽)。具体地说,如图18、图20所示,与内周侧区域Axi中的内周侧伺服图形区域Asxi的长度相比,外周侧区域Axo中的外周侧伺服图形区域Asxo的长度与离凹凸图形20t的中心O(参照图17)的距离成正比地变长。又,在这种磁盘中,在离中心O的距离相等的部位上,将在伺服图形区域Asx(凹凸图形20sx)中的凸部21sxi、21sxo(以下在不需要区分时也称作“凸部21sx”)的沿旋转方向的单位凸部长度(在读取磁信号时检测出“有1个凸部”的基准的长度:图19、21中的L1xi、L1xo)和凹部22sxi、22sxo(以下在不需要区分时也称作“凹部22sx”)的沿旋转方向的单位凹部长度(在读取磁信号时检测出“有1个凹部”的基准的长度:图19、21中的L2xi、L2xo)规定成相等的状态。其结果,在该磁盘10x中,在从其内周侧至外周侧的整个区域中,单位凸部长度与单位凹部长度之比成为1。
因此,如图19、图21所示,在该磁盘10x中,与内周侧伺服图形区域Asxi中的凸部21sxi的长度L1xi相比,外周侧伺服图形区域Asxo中的凸部21sxo长度L1xo的一方与凹凸图形20t离中心O的距离成正比地变长。该场合,申请人发现:在对非磁性材料15进行干蚀刻处理并使各凸部21sx、21sx…露出时,在其下方存在的凸部21sx的长度越长(凸部21sx的上表面的宽度越宽)、对非磁性材料15进行的蚀刻就越慢的现象。因此,如图19所示,在其长度L1xi较短的内周侧伺服图形区域Asxi中将凸部21sxi上的残渣(非磁性材料15)除去而使磁盘10x的内周侧平坦性变得良好(表面粗糙度Ra的值变小:或凹凸的高低差Hxi变小)那样的蚀刻条件下,在对从磁盘10x的内周侧至外周侧的整个区域进行蚀刻处理时,如图21所示,在其长度L1xo较长的外周侧伺服图形区域Asxo中,成为在凸部21sxo上存在较厚的残渣(非磁性材料15)的状态。因此,在这样的蚀刻条件下将非磁性材料15进行蚀刻处理后,磁盘10x的外周侧的表面粗糙度Ra(或凹凸的高低差Hxo)变得非常大。这样,在以往的磁盘10x上,在其外周侧,因由厚的非磁性材料15将凸部21sxo覆盖的状态引起,存在着在外周侧(离中心O的距离越长)磁盘10x的平坦性越明显恶化的问题。
又,在以往的磁盘中,在其制造工序中,在将记录磁性层覆盖状形成的正型保护层的层面上使用原盘切割装置对暴光图形进行描绘后,通过显像处理而形成保护层图形。该场合,由于对于暴光图形的描绘需要一定程度的时间,故要在短时间形成对记录磁性层进行蚀刻处理用的保护层图形(掩膜)变得困难。因此,最好对该点进行改善。
发明内容
鉴于这样的问题,本发明的主要目的在于,提供在从其内周侧至外周侧的整个区域中平坦性良好的信息记录媒体、具有平坦性良好的信息记录媒体的记录再生装置、及在短时间能容易形成蚀刻处理用的凹凸图形的磁盘原模。
为达到上述目的,本发明的信息记录媒体,通过具有多个凸部的凹凸图形,在基材的至少一面侧沿基材的旋转方向交替地排列形成有数据磁道图形和伺服图形,且在该凹凸图形的各凹部中埋入有非磁性材料,构成所述伺服图形的凹凸图形的单位凸部长度和单位凹部长度被规定成,使沿所述基材的旋转方向的单位凸部长度与沿该旋转方向的单位凹部长度之比成为越从内周侧向外周侧越小的状态。本说明书中的所谓“单位凹部长度”是指在读取来自信息记录媒体的磁信号时检测出“有1个凹部”用的基准的长度。又,本说明书中的所谓“单位凸部长度”是指在读取来自信息记录媒体的磁信号时检测出“有1个凸部”用的基准的长度。因此,在实际的信息记录媒体中,根据伺服数据的内容,形成单位凸部长度的整数倍的长度的凸部和单位凹部长度的整数倍的长度的凹部,构成伺服图形。该场合,对于检测出“有1个凹部”用的基准的长度,在伺服图形整体中既可以规定成1个通用的长度,也可以根据构成伺服图形的各种图形的种类(前置(日文:プリアンブル)图形、地址图形和分段(日文:バ-スト)图形等)对各图形规定成不同的长度。同样,对于检测出“有1个凸部”用的基准的长度,在伺服图形整体中既可以规定成1个通用的长度,也可以根据构成伺服图形的种类对各图形规定成不同的长度。又,一般是将凸部的形成部位作为“有检测信号的输出”或“信号电平高的检测信号”进行检测,将凹部的形成部位作为“无检测信号的输出”或“信号电平低的检测信号”进行检测。
又,本发明的信息记录媒体,构成所述伺服图形的凹凸图形被规定成,所述单位凹部长度越从所述内周侧向所述外周侧越长。
并且,本发明的信息记录媒体,构成所述伺服图形的凹凸图形被规定成,所述单位凸部长度在从所述内周侧至所述外周侧的整个区域中为相等的长度或大致相等的长度。另外,在本发明中,即使产生极小程度的制造误差而成为了在凹凸图形上的单位凸部长度稍有误差的状态,这些长度(将作为制造目标的规定长度作为中心的规定范围内的长度)也包括在相等的长度的范畴中。又,对于本说明书中的“大致相等的长度”,包括将作为制造目标的规定长度作为中心、与制造误差不同地另外由当初规定的微小宽度容许范围内的长度。
又,本发明的信息记录媒体,构成所述数据磁道图形的凹凸图形的所述各凸部形成为同心圆状或螺旋状,构成所述伺服图形的凹凸图形被规定成,所述单位凸部长度与所述单位凹部长度的合计长度与离所述数据磁道图形的中心的距离成正比地、越从所述内周侧向所述外周侧越长。另外,对于本说明书中的“各凸部形成同心圆状或螺旋状的数据磁道图形”,包括由凹凸图形的凹部、将相对于信息记录媒体的半径方向和旋转方向的双方分离的作为单位记录要素的凸部排列成同心圆状或螺旋状的图形媒体的数据磁道图形。又,在本发明中,即使产生极小程度的制造误差、使凹凸图形上的单位凸部长度和单位凹部长度的合计长度成为了稍许不同于与离数据磁道图形的中心的距离成正比的长度,该凹凸图形上的单位凸部长度和单位凹部长度的合计长度也包括在与离中心的距离成正比的长度范畴中。
又,本发明的记录再生装置,具有:上述任一种的信息记录媒体;根据与所述伺服图形对应的伺服数据执行伺服控制的控制部。
又,本发明的磁盘原模,形成有凹凸图形,该凹凸图形具有:与上述任一种的信息记录媒体上的所述凹凸图形的凹部对应形成的凸部、以及与所述信息记录媒体上的所述凹凸图形的凸部对应形成的凹部。
采用本发明的信息记录媒体和记录再生装置,构成所述伺服图形的凹凸图形的单位凸部长度和单位凹部长度被规定成,使单位凸部长度与单位凹部长度之比成为越从内周侧向外周侧越小的状态,由此,与按照单位凸部长度与单位凹部长度之比成为在从内周侧至外周侧的整个区域中相等的状态来形成凹凸图形的以往的信息记录媒体(磁盘10x)相比,能将外周侧的单位凸部长度作成足够短。因此,在对覆盖各凸部而形成的非磁性材料的层面进行蚀刻处理时,能避免外周侧的各凸部上的残渣厚度与内周侧的各凸部上的残渣厚度之差增大的情况。又,在从内周侧至外周侧的整个区域中,在各凸部上将非磁性材料蚀刻处理成不存在非磁性材料(残渣)后,在内周侧,不仅非磁性材料、而且连凸部(磁性材料)也不会被蚀刻地能将各凸部上的残渣除去。由此,能在从内周侧至外周侧的整个区域中良好地维持信息记录媒体的平坦性。因此,在信息记录媒体的从内周侧至外周侧的整个区域中,能同等地维持磁头相对信息记录媒体的上浮量,其结果,采用搭载了该信息记录媒体的记录再生装置,能执行稳定的记录再生。
又,采用本发明的信息记录媒体和记录再生装置,构成伺服图形的凹凸图形被规定成,单位凹部长度越从内周侧向外周侧越长,由此,与例如通过将单位凹部长度规定成在从内周侧至外周侧的整个区域中相等的长度来使单位凸部长度变化、从而使单位凸部长度与单位凹部长度之比成为越从内周侧向外周侧越小的结构相比,在外周侧,能避免单位凸部长度过度小的情况。由此,能可靠地避免发生来自外周侧的凸部的磁性信号的读出错误。
又,采用本发明的信息记录媒体和记录再生装置,构成伺服图形的凹凸图形被规定成,单位凸部长度在从内周侧至外周侧的整个区域中为相等的长度或大致相等的长度,由此,能在从内周侧至外周侧的整个区域中,均匀地维持各凸部(磁性材料)上所形成的残渣(非磁性材料)的厚度。又,在将非磁性材料蚀刻处理成内周侧的各凸部上不产生残渣后,能避免在外周侧上凸部被蚀刻的情况以及在外周侧的凸部上产生残渣的情况,在将非磁性材料蚀刻处理成外周侧的各凸部上不存在残渣后,能避免在内周侧凸部被蚀刻的情况以及在内周侧的凸部上产生残渣的情况。由此,能在从内周侧至外周侧的整个区域中均匀地维持信息记录媒体的平坦性。其结果,在信息记录媒体的从内周侧至外周侧的整个区域中,能均匀地维持磁头相对信息记录媒体的上浮量。
又,采用本发明的信息记录媒体和记录再生装置,构成伺服图形的凹凸图形被规定成,单位凸部长度与单位凹部长度的合计长度与离数据磁道图形的中心的距离成正比地、越从内周侧向外周侧越长,由此,在使从伺服图形区域中读出伺服数据用的作为基准的时钟脉冲的频率数不变化的情况下,能可靠地从内周侧伺服图形区域和外周侧伺服图形区域中读出(检测出)伺服数据。因此,能使用与极其一般的现有的记录再生装置中的伺服信号处理电路相同的处理电路来进行伺服控制,故能可靠地避免记录再生装置的制造成本上升。
又,采用本发明的磁盘原模,由于具有凹凸图形,该凹凸图形具有与上述任一种的信息记录媒体上的凹凸图形的凹部对应形成的凸部、以及与所述信息记录媒体上的所述凹凸图形的凸部对应形成的凹部,由此,与例如使用电子线描绘装置在信息记录媒体制造用的中间体的树脂层上通过对暴光图形描绘进行显像处理来形成蚀刻处理用的凹凸图形(在形成伺服图形等的蚀刻处理时作为掩膜使用的凹凸图形)的制造方法不同,只需将磁盘原模的凹凸图形向树脂层挤压就能以短时间容易地形成蚀刻处理用的凹凸图形。又,利用1个磁盘原模能在许多中间体上形成蚀刻处理用的凹凸图形。因此,能使信息记录媒体的制造成本充分地降低。
附图说明
图1是表示硬盘驱动器1的结构的方框图。
图2是表示磁盘10的层面结构的剖视图。
图3是磁盘10的俯视图。
图4是磁盘10的内周侧区域Ai的俯视图。
图5是内周侧区域Ai的内周侧伺服图形区域Asi的剖视图。
图6是磁盘10中的外周侧区域Ao的俯视图。
图7是外周区域Ao中的外周侧伺服图形区域Aso的剖视图。
图8是制造磁盘10用的中间体30的剖视图。
图9是照射电子束EB而在树脂层19上描绘暴光图形状态的中间体30的剖视图。
图10是将图9所示状态的树脂层19进行显像处理后的中间体30和将磁盘原模35的凹凸图形39复制在树脂层19上状态的中间体30的剖视图。
图11是将凹凸图形41作为掩膜对Si掩膜层18进行蚀刻处理而在C掩膜层17上形成凹凸图形42(Si掩膜)状态的中间体30的剖视图。
图12是将凹凸图形42作为掩膜对C掩膜层17进行蚀刻处理而在磁性层14上形成凹凸图形43(C掩膜)状态的中间体30的剖视图。
图13是将凹凸图形43作为掩膜对磁性层14进行蚀刻处理而在中间层13上形成凹凸图形20后状态的中间体30的剖视图。
图14是将磁盘原模35的凹凸图形39向树脂层19挤压后(将凸部39a、39a…向树脂层19压痕后)状态的中间体30和磁盘原模35的剖视图。
图15是表示磁盘10a的层面结构的剖视图。
图16是表示磁盘10b的层面结构的剖视图。
图17是以往的磁盘10x的俯视图。
图18是磁盘10x上的内周侧区域Axi的俯视图。
图19是内周侧区域Axi上的内周侧伺服图形区域Asxi的剖视图。
图20是磁盘10x上的外周侧区域Axo的俯视图。
图21是外周侧区域Axo上的外周侧伺服图形区域Asxo的剖视图。
具体实施方式
以下,参照附图对本发明的信息记录媒体、记录再生装置和磁盘原模的最佳形态进行说明。
图1所示的硬盘驱动器1,是作为本发明的记录再生装置的一例的磁记录再生装置,其结构具有:主轴电机2、磁头3、信号变换部4、检测用时钟脉冲输出部5、伺服数据检测部6、驱动器7、控制部8和磁盘10。该场合,作为一例,磁盘10是以垂直记录方式可对记录数据进行记录的盘片读出磁道型的磁盘(图形的媒体),与本发明的信息记录媒体相当。具体地说,如图2所示,该磁盘10,在玻璃基材11上按软磁性层12、中间层13和磁性层14的顺序形成。该场合,在中间层13上所形成的磁性层14,通过用磁性材料所形成的凸部21、21…与凹部22、22…交替形成而构成规定的凹凸图形20。又,在凹部22、22…中,埋入SiO2等的非磁性材料15。另外,在埋入凹部22中的非磁性材料15和凸部21上,作为一例利用CVD方法对类似金刚石的碳(DLC)的薄膜进行成膜,形成2nm程度的保护层(DLC膜)16。又,在该磁盘10上,在保护层16的表面上涂布润滑剂(作为一例是氟系的润滑剂)。
玻璃基材11与本发明的基材相当,将直径2.5英寸的玻璃板表面研磨成表面粗糙度Ra为0.2~0.3nm程度,使厚度形成为0.6mm的程度。另外,本发明的基材不限定于玻璃材料,能用铝或陶瓷等的各种非磁性材料来形成。软磁性层12,通过喷镀CoZrNb合金等的软磁性材料而形成厚度为100nm~200nm的程度。中间层13是起到用于形成磁性层14的作为基底层的功能的层,通过喷镀Cr或CoCr非磁性合金等的中间层形成用材料而形成厚度为40nm的程度。磁性层14是由磁性材料形成的凸部21、21…所构成的层,如后述那样,例如通过执行喷镀CoCrPt合金处理和将保护层图形等用作掩膜进行蚀刻处理以形成凹部22、22…的处理这一顺序、形成凸部21、21…(凹凸图形20)而构成。
该场合,如图3所示,在该磁盘10中,在磁道图形区域At、At…之间设有伺服图形区域As、As…,磁道图形区域At和伺服图形区域As被规定成在磁盘10的旋转方向(向箭头R的方向)上交替排列。又,如图4、图6所示,在磁道图形区域At(内周侧磁道图形区域Ati和外周侧磁道图形区域Ato)中,形成有作为数据磁道图形的凹凸图形20t。该场合,凹凸图形20t,由以磁盘10的旋转中心为中心O(参照图3)的同心圆状的许多凸部21t、21t…(数据记录用磁道:以下也称作“记录磁道”)和各凸部21t、21t…之间的凹部22t、22t…来构成。另外,最好是磁盘10的旋转中心与凹凸图形20t的中心O一致,但实际上,往往会产生因制造误差而引起的30~50μm程度的极小偏差。然而,若是该程度的偏差量,就能对磁头3进行充分的跟踪伺服控制,故旋转中心与中心O可以说实际上是同样的。又,在凹凸图形20t的凹部22t、22t…中埋入非磁性材料15,使磁道图形区域At的表面平坦化。
又,如图4~图7所示,在伺服图形区域As(内周侧伺服图形区域Asi和外周侧伺服图形区域Aso)中,形成有作为伺服图形的凹凸图形20s。该场合,凹凸图形20s,由构成前置图形、地址图形和分段图形等的各种伺服图形的凸部21s、21s…(凸部21si和凸部21so)及凹部22s、22s…(凹部22si和凹部22so)来构成。又,在该磁盘10中,规定成沿旋转方向(各图中的箭头R的方向)的凸部21s长度与凹部22s长度的合计长度(即、凸部21s和凹部22s的形成节距)与凹凸图形20t离中心O的距离成正比地、从磁盘10的内周侧向外周侧逐渐变长的状态。又,在磁盘10中,按照使沿旋转方向的凸部21s长度在磁盘10的从内周侧至外周侧的整个区域中成为相等(规定成本发明中的“单位凸部长度为相等的长度或大致相等的长度”那样的一例)的状态来形成各凸部21s、21s…,同时,按照使沿旋转方向的凹部22s长度从磁盘10的内周侧至外周侧逐渐变长的状态来形成各凹部22s、22s…。因此,在该磁盘10中,将沿旋转方向的凸部21s长度与凹部22s长度之比规定为从内周侧向外周侧逐渐变小的状态。
具体地说,如图4、图5所示,在内周侧区域Ai(作为一例,是凹凸图形20t离中心O的距离位于11mm部位的前置图形的形成区域)中,凹部22si的长度L2i(作为一例是220nm)与凸部21si的长度L1i(作为一例是220nm)的合计长度L3i被规定成440nm。又,如图6、图7所示,在外周侧区域Ao(作为一例,是凹凸图形20t离中心O的距离位于32mm部位的前置图形的形成区域)中,凹部22so的长度L2o(作为一例是1060nm)与凸部21so的长度L1o(作为一例是与凸部21si的长度L1i相等的220nm)的合计长度L3o是1280nm。由此,在该磁盘10中,将沿旋转方向(各图中的箭头R的方向)的凸部21s长度与凹部22s长度的合计长度(即、凸部21s和凹部22s的形成节距)规定为从磁盘10的内周侧向外周侧逐渐变长的状态。其结果,如图5所示,在该磁盘10中,凸部21si的长度L1i与内周侧区域Ai中的凹凸图形20s的凹部22si的长度L2i之比成为1,而如图7所示,凸部21so的长度L1o与外周侧区域Ao中的凹部22so的长度L2o之比成为11∶53。
该场合,对于凸部21s的长度(单位凸部长度)与凹部22s的长度(单位凹部长度)之比,不仅对上述的前置图形、而且对构成地址图形或分段图形的凹凸图形20s也是同样地规定。又,对于分段图形,在沿磁盘10的旋转方向上将多个矩形的凸部21s、21s…夹有凹部22s状地进行排列的区域中,单位凸部长度与单位凹部长度之比被规定成满足上述的条件。另外,在图4~图7中,模式地图示了伺服图形中的前置图形和分段图形,为了便于理解,将沿旋转方向的各凸部21s、21s…及各凹部22s、22s…的长度仅用伺服图形的单位凸部长度和单位凹部长度作了图示。因此,在实际的磁盘10中,凸部21s、21s…及凹部22s、22s…的数目、形成位置和长度与各图中所示的状态不同,与包括跟踪伺服控制中所需的磁道地址和扇面地址等的信息(图形)的各种控制用数据对应,对凸部21s及凹部22s的各自的数目、形成位置和长度作出规定而形成凹凸图形20s。该场合,凸部21s及凹部22s的实际长度,成为凸部21s及凹部22s的长度(单位凸部长度和单位凹部长度)整数倍的长度。
另一方面,主轴电机2在控制部8的控制下,将磁盘10作为一例以4200rpm的转速进行定速旋转。磁头3如图1所示,通过摇臂3a安装在促动器3b上,在对磁盘10进行记录数据的记录再生时在磁盘10上移动。又,磁头3执行的是,从磁盘10的伺服图形区域As进行伺服数据的读出、对磁道图形区域At(凸部21t、21t…)进行记录数据的磁性写入、对已被磁性地写入磁道图形区域At中的记录数据进行读出。另外,磁头3,实际上被形成在使磁头3相对磁盘10上浮用的滑块的底面(空气轴承面)上,对于该滑块的说明和图示省略。促动器3b在控制部8的控制下,通过从驱动器7所供给的驱动电流使摇臂3a摆动,从而使磁头3向磁盘10上的任意的记录再生位置移动。
信号变换部4,具有放大器、LPF(Low Pass Filter)和A/D变换器等(未图示),利用磁头3将从磁盘10所取得的各种信号放大,在将噪音除去后进行A/D变换而输出。检测用时钟脉冲输出部5,从由信号变换部4所输出的数字数据中,通过磁头3取得(检测出)从伺服图形区域As所读出的前置用的数据(信号)。又,检测用时钟脉冲输出部5,根据取得的数据,生成(检测出)伺服数据检测时作为基准的时钟脉冲所使用的检测用时钟脉冲C1s进行输出。伺服数据检测部6,通过与从检测用时钟脉冲输出部5所输出的检测用时钟脉冲C1s同步地读入,从由信号变换部4所输出的数字数据中取得(检测出)伺服数据Ds,向控制部8输出。驱动器7,根据来自控制部8的控制信号对促动器3b进行控制,使磁头3在所需的记录磁道(凸部21t)上进行跟踪。控制部8对硬盘驱动器1进行总体控制。另外,控制部8,根据从伺服数据检测部6所输出的伺服数据Ds对驱动器7进行控制。
接着,参照附图对磁盘10的制造方法进行说明。
首先,在玻璃基材11上通过喷镀CoCrNb而形成软磁性层12后,在软磁性层12上通过喷镀中间层形成用材料而形成中间层13。其次,在中间层13上通过喷镀CoCrPt合金而形成厚度为15nm程度的磁性层14。接着,在磁性层14上,例如利用喷镀法形成厚度12nm程度的C(碳)掩膜层17,并在C掩膜层17上利用喷镀法形成厚度4nm程度的Si掩膜层18。接着,在Si掩膜层18上对正型的电子线保护层进行旋转涂层,形成厚度130nm程度的树脂层19(掩膜形成用功能层)。由此,如图8所示完成制造磁盘10用的中间体30。接着,如图9所示,使用电子线描绘装置对中间体30照射电子束EB,将与凹凸图形20s和凹凸图形20t的平面形状相同的暴光图形描绘在树脂层19上。然后,通过将完成暴光图形描绘后的树脂层19进行显像处理,如图10所示,在Si掩膜层18上形成凹凸图形41(保护层图形)。
接着,将凹凸图形41(树脂层19)用作掩膜,通过进行氩(Ar)气产生的离子束蚀刻处理,在凹凸图形41上的凹部41b、41b…的底部上对从掩膜(凸部41a、41a…)露出的Si掩膜层18进行蚀刻,如图11所示,在Si掩膜层18上形成凹凸图形42(Si掩膜图形)。接着,将凹凸图形42用作掩膜,通过进行将氧气作为反应气体的反应性离子蚀刻处理,在凹凸图形42上的凹部42b、42b…的底部上对从掩膜(凸部42a、42a…)露出的C掩膜层17进行蚀刻,如图12所示,在C掩膜层17上形成凹凸图形43(C掩膜图形)。接着,将凹凸图形43用作掩膜,进行利用氩(Ar)气的离子束蚀刻处理。由此,如图13所示,在磁性层14上被掩膜图形覆盖的部位(被凹凸图形43的凸部43a、43a…覆盖的部位)成为凸部21、21…,从掩膜图形露出的部位(在凹凸图形43的凹部43b、43b…的底部上露出的部位)成为凹部22、22…,在中间层13上形成凹凸图形20(凹凸图形20s、20t)。然后,对于在凸部21、21…上残留的C掩膜层17(C掩膜图形),通过进行将氧气作为反应气体的反应性离子蚀刻处理,使凸部21、21…的上表面露出(将残留的C掩膜层17除去)。
接着,例如将150W程度的偏压电力向中间体30施加,并将氩(Ar)气的压力设定成例如0.3Pa,喷镀作为非磁性材料15的SiO2。此时,利用非磁性材料15将凹部22、22…完全掩埋,并且,按照在凸部21、21…的上表面形成例如厚度60nm程度的非磁性材料15的层面那样充分地喷镀非磁性材料15。该场合,在对中间体30施加偏压电力的状态下,通过喷镀非磁性材料15,表面不会产生大的凹凸地形成非磁性材料15的层面。接着,将氩(Ar)气的压力设定成例如0.04Pa,并在将离子束相对中间体30(非磁性材料15的层面)的表面的入射角度设定为2度的状态下,对磁性层14上(凸部21、21…上、凹部22、22…上和凹部22、22的内部)的非磁性材料15的层面进行离子束蚀刻处理。此时,在中间体30上的内周侧(其后成为内周侧区域Ai的部位)上,对各凸部21si、21si…的上表面继续进行离子束蚀刻处理直至从非磁性材料15露出。
该场合,在该磁盘10(中间体30)中,将内周侧的凸部21si、21si…的长度L1i与外周侧的凸部21so、21so…的长度L1o形成为相等的长度(在本例中为220nm)。因此,通过对内周侧的各凸部21si、21si…的上表面继续进行离子束蚀刻处理直至从非磁性材料15露出,也使外周侧的各凸部21so、21so…的上表面从非磁性材料15露出(凸部21si、21so的上表面大致同时地露出)。由此,完成对非磁性材料15的层面的离子束蚀刻处理,使中间体30的表面平坦化。接着,通过采用CVD方法对类似金刚石的碳(DLC)的薄膜进行成膜,将中间体30的表面覆盖,在形成保护层16后,将氟系的润滑剂以平均厚度例如为2nm程度涂布在保护层16的表面上。由此,如图2所示,完成磁盘10。
在该磁盘10中,如前所述,由于在磁盘10的整个区域中,将各凸部21s、21s…上的非磁性材料15(残渣)除去。因此,如图5、图7所示,磁盘10表面上的凹凸的高低差(内周侧的高低差Hi和外周侧的高低差Ho)在磁盘10的整个区域中变得大致均匀。具体地说,内周侧区域Ai中的磁盘10表面的凹凸程度、即表面粗糙度Ra成为0.7nm程度,外周侧区域Ao中的磁盘10的表面粗糙度Ra成为0.8nm程度。因此,在从磁盘10的内周侧至外周侧的整个区域中,磁头3(滑块)的上浮量大致一定,能进行稳定的记录再生。
另一方面,根据以往的制造方法所制造的磁盘10x中,在沿旋转方向的长度L1xi较短的内周侧区域Axi中,在从非磁性材料15使凸部21sxi的上表面露出的状态下,内周侧区域Axi中的磁盘10x的表面粗糙度Ra成为0.7nm程度。对此,在沿旋转方向的长度L1xo与凹凸图形20t离中心O的距离成正比地、比内周侧区域Axi长的外周侧区域Axo中,因凸部21sxo上的残渣变厚而使磁盘10x的表面粗糙度Ra成为3.1nm程度。该场合,在外周侧区域Axo中,在凸部21sxo的上表面从非磁性材料15露出那样的蚀刻条件下对非磁性材料15进行蚀刻处理时,在从磁盘10x的内周侧至外周侧的整个区域中对凹部22sx内的非磁性材料15进行蚀刻会使其平坦性恶化。又,在上述那样的蚀刻条件下对非磁性材料15进行蚀刻处理时,在内周侧区域Axi中凸部21sxi过度地被蚀刻,有可能难以对磁性的信号正常地读出。因此,在根据以往的制造方法所制造的磁盘10x中,难以进行对伺服数据Dx正常的读出,并在从磁盘10x的内周侧至外周侧的整个区域中难以实现使磁头3(滑块)的上浮量均匀化。
这样,采用该磁盘10和硬盘驱动器1,按照使单位凸部长度与单位凹部长度之比成为越从内周侧向外周侧越小的状态,对单位凸部长度和单位凹部长度作出规定,形成凹凸图形20s(伺服图形),由此,与按照使单位凸部长度与单位凹部长度之比成为在从内周侧至外周侧的整个区域中相等的状态来形成凹凸图形的以往的磁盘10x相比,能将外周侧的单位凸部长度作成足够短。因此,在对覆盖各凸部21、21…状形成的非磁性材料15的层面进行蚀刻处理时,能避免外周侧的凸部21so上的残渣厚度与内周侧的凸部21si上的残渣厚度之差增大的情况。又,在从内周侧至外周侧的整个区域中,在各凸部21s、21s…上将非磁性材料15蚀刻处理成不存在非磁性材料15(残渣)后,在内周侧,不仅非磁性材料15、而且连凸部21s(磁性材料)也不会被蚀刻地能将各凸部21s、21s…上的残渣除去。由此,能在从内周侧至外周侧的整个区域中良好地维持磁盘10的平坦性。因此,在磁盘10的从内周侧至外周侧的整个区域中,能大致同等地维持磁头3相对磁盘10的上浮量,其结果,采用该硬盘驱动器1,能执行稳定的记录再生。
又,采用该磁盘10和硬盘驱动器1,规定成单位凹部长度越从内周侧向外周侧越长的状态,形成凹凸图形20s(伺服图形),由此,与例如通过将单位凹部长度规定成在从内周侧至外周侧的整个区域中相等的长度来使单位凸部长度变化、从而使单位凸部长度与单位凹部长度之比成为越从内周侧向外周侧越小的结构相比,在外周侧,能避免单位凸部长度过度小的情况。从而,能可靠地避免发生来自外周侧的凸部的磁性信号的读出错误。
又,采用该磁盘10和硬盘驱动器1,规定成单位凸部长度在从内周侧至外周侧的整个区域中相等长度的状态,形成凹凸图形20s(伺服图形),由此,在从内周侧至外周侧的整个区域中,能均匀地维持在凸部21s上所形成的残渣(非磁性材料15)的厚度。又,在将非磁性材料15蚀刻处理成内周侧的各凸部21s、21s…上不存在残渣后,能避免在外周侧凸部21so(磁性材料)被蚀刻的情况以及在外周侧的凸部21so上产生残渣的情况,在将非磁性材料15蚀刻处理成外周侧的各凸部21so、21so…上不存在残渣后,能避免在内周侧凸部21si(磁性材料)被蚀刻的情况以及在内周侧的凸部21si上产生残渣的情况。由此,能在从内周侧至外周侧的整个区域中均匀地维持磁盘10的平坦性。其结果,在磁盘10的从内周侧至外周侧的整个区域中,能均匀地维持磁头3相对磁盘10的上浮量。
又,采用该磁盘10和硬盘驱动器1,规定成单位凸部长度与单位凹部长度的合计长度(即、凸部和凹部的形成节距)与凹凸图形20t离中心O的距离成正比地、越从内周侧向外周侧越长的状态,形成凹凸图形20s(伺服图形),由此,在使从伺服图形区域As中读出伺服数据用的作为基准的时钟脉冲的频率数不变化的情况下,能可靠地从内周侧伺服图形区域As和外周侧伺服图形区域As中读出(检测出)伺服数据。因此,能使用与极其一般的现有的记录再生装置中的伺服信号处理电路相同的处理电路来进行伺服控制,故能可靠地避免记录再生装置1的制造成本上升。
下面,参照附图对磁盘10的其它的制造方法进行说明。另外,对于与前述的制造方法同样的工序,省略其重复的详细说明。
在前述的磁盘10的制造方法中,对于中间体30上的树脂层19,通过在使用电子线描绘装置描绘暴光图形后进行显像处理,形成了蚀刻处理用的用作掩膜的凹凸图形41(保护层图形),但本发明的信息记录媒体的制造方法不限定于此。例如,也可采用作为本发明的磁盘原模一例的使用磁盘原模35(参照图14)的印码方法也能在中间体30的树脂层19上形成凹凸图形41。该场合,如图14所示,磁盘原模35,可形成凹凸位置关系与在磁盘10上的凹凸图形20(凹凸图形20t、20s)翻转的凹凸图形39。另外,磁盘原模35的凹凸图形39,其凸部39a、39a…与磁盘10的凹凸图形20上的凹部22、22…对应,其凹部39b、39b…与凹凸图形20上的凸部21、21…对应地形成。因此,在该磁盘原模35上,凸部39a的沿旋转方向的长度与凹凸图形20上的凹部22的沿旋转方向的长度大致相等,且凹部39b的沿旋转方向的长度与凹凸图形20上的凸部21的沿旋转方向的长度大致相等。另外,对于磁盘原模35的制造方法不特别限定,能利用公知的各种制造方法来制造。
在使用该磁盘原模35制造磁盘10时,如图14所示,首先,采用印码方法将磁盘原模35的凹凸图形39复制在中间体30的树脂层19上。具体地说,通过将磁盘原模35上的凹凸图形39的形成面向中间体30的树脂层19挤压,将凹凸图形39的凸部39a、39a…向中间体30的树脂层19进行压入。其次,从中间体30将磁盘原模35剥离,并利用氧等离子处理将残留在底面上的树脂(残渣:未图示)除去。由此,如图10所示,在中间体30的Si掩膜层18上形成凹凸图形41。接着,将凹凸图形41用作掩膜,通过对Si掩膜层18进行蚀刻,在C掩膜层17上形成凹凸图形42,将凹凸图形42用作掩膜,通过对C掩膜层17进行蚀刻,在磁性层14上形成凹凸图形43。接着,将凹凸图形43用作掩膜,通过对磁性层14进行蚀刻,在中间层13上形成凹凸图形20。接着,在与前述的制造方法同样地喷镀非磁性材料15后,对非磁性材料15的层面执行离子束蚀刻处理并使其平坦化。然后,利用CVD法对类似金刚石的碳(DLC)的薄膜进行成膜而形成保护层16,并将氟系的润滑剂涂布在保护层16的表面上。由此,如图2所示完成磁盘10。
这样,采用制造磁盘10用的磁盘原模35,由于形成了凹凸图形39,该凹凸图形39具有与磁盘10上的凹凸图形20(凹凸图形20t、20s)的凹部22、22…对应形成的凸部39a、39a…和与磁盘10上的凹凸图形20的凸部21、21…对应形成的凹部39b、39b…,因此,与例如使用电子线描绘装置在中间体30的树脂层19上通过对与凹凸图形20s、20t平面形状相同的暴光图形描绘进行显像处理来形成凹凸图形41的制造方法不同,只需将磁盘原模35的凹凸图形39向树脂层19挤压就能以短时间容易地形成凹凸图形41。又,利用1个磁盘原模35能在许多中间体30上形成凹凸图形41。因此,能使磁盘10的制造成本充分地降低。
另外,本发明不限于上述的结构。例如,上面记载了按照在从其内周侧至外周侧的整个区域中、沿旋转方向的各凸部21s、21s…的长度(长度L1i、L1o)成为相等的状态来形成凹凸图形20s的例子,但也能使各凸部21s、21s…的长度在从内周侧至外周侧的各部分上稍微不同地形成凹凸图形20s。具体地说,能形成为外周侧的凸部21so一方沿旋转方向的长度比内周侧的凸部21si稍长的状态。这样,即使是这样使凸部21s、21s…的长度不同的结构,通过将外周侧的凸部21so的长度作成比以往的磁盘10x上的凸部21sxo的长度L1xo短地来规定单位凸部长度,以形成凹凸图形20s,由于能将外周侧的凸部21so上的残渣形成得足够薄,故在磁盘的外周侧能维持良好的平坦性。
此外,本发明的伺服图形不限定于上述的例子,也可使磁盘10的伺服图形区域As中的凹凸图形20s的凹凸形状翻转,并满足本发明的各种条件那样地对单位凸部长度和单位凹部长度作出规定来形成伺服图形。又,在上述磁盘10中,用磁性材料形成凹凸图形20上的各凸部21、21…的从基端部至突端部,但本发明不限定于此,如图15所示的磁盘10a那样,也可通过将形成在基材11a上的凹凸图形覆盖地形成磁性层14a,利用由磁性层14a形成其表面的凸部21a、21a…和由磁性层14a形成底面的凹部22a、22a…来构成凹凸图形20a。该场合,对于基材11a的凹凸图形,与前述的磁盘10中的凹凸图形20的形成方法同样,例如在对磁性层14蚀刻时,使用作为掩膜用的凹凸图形43,可通过对基材11a进行蚀刻而形成。又,例如通过使用与磁盘原模35同样的磁盘原模的冲压成形或注塑成形,也能在基材11a上形成凹凸图形。另外,如图16所示的磁盘10b那样,也能使构成各凸部21b、21b…的磁性层14b与各凸部21b、21b…之间的凹部22b、22b…的底面的磁性层14b连续地构成凹凸图形20b。又,磁盘10、10a、10b是垂直记录方式的磁盘,但本发明也能应用于面内记录方式的磁盘。

Claims (6)

1.一种信息记录媒体,其特征在于,
通过具有多个凸部的凹凸图形,在基材的至少一面侧沿基材的旋转方向交替地排列形成有数据磁道图形和伺服图形,且在该凹凸图形的各凹部中埋入有非磁性材料,
构成所述伺服图形的凹凸图形的单位凸部长度和单位凹部长度被规定成,使沿所述基材的旋转方向的单位凸部长度与沿该旋转方向的单位凹部长度之比成为越从内周侧向外周侧越小的状态,其中,所述单位凸部长度是指在读取来自信息记录媒体的磁信号时检测出“有1个凸部”用的基准的长度,所述单位凹部长度是指在读取来自信息记录媒体的磁信号时检测出“有1个凹部”用的基准的长度。
2.如权利要求1所述的信息记录媒体,其特征在于,构成所述伺服图形的凹凸图形被规定成,所述单位凹部长度越从所述内周侧向所述外周侧越长。
3.如权利要求1所述的信息记录媒体,其特征在于,构成所述伺服图形的凹凸图形被规定成,所述单位凸部长度在从所述内周侧至所述外周侧的整个区域中为相等的长度或大致相等的长度。
4.如权利要求1所述的信息记录媒体,其特征在于,
构成所述数据磁道图形的凹凸图形的所述各凸部形成为同心圆状或螺旋状,
构成所述伺服图形的凹凸图形被规定成,所述单位凸部长度与所述单位凹部长度的合计长度与离所述数据磁道图形的中心的距离成正比地、越从所述内周侧向所述外周侧越长。
5.一种记录再生装置,其特征在于,具有:权利要求1~4中任一项所述的信息记录媒体;根据与所述伺服图形对应的伺服数据执行伺服控制的控制部。
6.一种信息记录媒体制造用的磁盘原模,其特征在于,形成有凹凸图形,该凹凸图形具有:与权利要求1~4中任一项所述的信息记录媒体上的所述凹凸图形的凹部对应形成的凸部、以及与所述信息记录媒体上的所述凹凸图形的凸部对应形成的凹部。
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