CN100366773C - 一种含Ti的Sn基合金熔炼制备方法 - Google Patents

一种含Ti的Sn基合金熔炼制备方法 Download PDF

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Abstract

一种含Ti的Sn基合金熔炼制备方法,涉及一种内Sn法Nb3Sn超导股线用的具有能在Nb3Sn层中添加Ti从而提高股线高场超导临界电流密度所需的一种含Ti的Sn基合金的制备方法。其特征在于该合金是含2%-3wt%Ti的Sn基合金,且是Sn为基体、Ti与Sn形成化合物后以细小的弥散球状或针状粒子的形式均匀分布在Sn基体中。其制备过程是采用Sn和Sn-Ti中间合金为原料,充分融化均匀后,然后进行浇铸而成。本发明的含Ti的Sn基合金,Sn-Ti化合物弥散粒子在Sn基体中的尺寸小,提高了内Sn法Nb3Sn股线的Jcn。

Description

一种含Ti的Sn基合金熔炼制备方法
技术领域
一种含Ti的Sn基合金熔炼制备方法,涉及一种内Sn法Nb3Sn超导股线用的具有能在Nb3Sn层中添加Ti从而提高股线高场超导临界电流密度所需的一种含Ti的Sn基合金的制备方法。
背景技术
Nb3Sn超导股线是一种具有优异超导性能的高场超导材料,采用内Sn法制备Nb3Sn股线是近些年来欧,美,日等发达国家竞争的焦点。为了提高股线的高场超导临界电流密度Jcn而在Nb3Sn中添加少量的Ti是关键技术之一。对于内Sn法制备工艺而言,只要复合股线的Sn芯中含有少量的Ti(含Ti的Sn基合金)通过其后的热处理可以使Ti进入Nb3Sn层达到提高高场Jcn的目的。在这种含Ti的Sn基合金中,Ti与Sn形成Sn-Ti化合物,这种化合物应以弥散粒子的形式嵌在Sn基体中,弥散粒子尺寸越小,弥散度越好,对Nb3Sn股线的超导性能及长线加工越有利。这种Sn基合金采用高温熔炼获得,其制备技术过去已有过相关专利(日本专利No.676625,美国专利No.6,548,187B2)的报道,但由于他们在熔炼过程中采用了无搅拌的微波炉做熔炼手段,使用Sn和纯Ti片做原料,铸铁或不锈钢(日本专利)或Cu模(美国专利)做浇注模,导致Sn基合金中Sn-Ti化合物的弥散粒子尺寸最大分别在50和30μm,平均尺寸为5-20μm,使用这种Sn基合金制备的内Sn法Nb3Sn股线其非铜区临界电流密度Jcn(12T,4.2K)在650-750A/mm2
发明内容
本发明目的是就是针对上述已有技术存在的不足,提供一种能使含Ti的Sn基合金中Ti以Sn-Ti化合物形式出现,且Sn-Ti化合物呈弥散粒子均匀的分布在Sn基体中,粒子的最大尺寸不大于20μm、平均尺寸为5-10μm,有利于内Sn法Nb3Sn股线具有高的Jcn值的含Ti的Sn基合金熔炼制备方法。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的。
一种含Ti的Sn基合金熔炼制备方法,该合金是含2%-3wt%Ti的Sn基合金,合金中Sn为基体、Ti与Sn形成化合物后以细小的弥散球状或针状粒子的形式均匀分布在Sn基体中;其特征在于其制备过程是将Sn和Sn-Ti中间合金为原料,将配好的原料置入石墨坩埚,在1200℃~1300℃下将Sn和Sn-Ti中间合金充分融化均匀后,再将温度升至1450℃,然后进行浇铸,获得含Ti的Sn基合金铸锭;将铸锭进行车削扒皮,去掉表面缩孔即可获得在Sn基体中含有细小弥散粒子Sn-Ti化合物的Sn基合金光锭;熔炼和浇注的整个过程中均在Ar气保护气氛中进行;Sn和Sn-Ti中间合金充分融化均匀后,再将温度升至1450℃,是将熔体快速浇铸到带有冷却水套的水冷铜模具中的。
本发明的含Ti的Sn基合金,Sn-Ti化合物弥散粒子在Sn基体中的尺寸小,提高了内Sn法Nb3Sn股线的高场Jcn。制备时使用Sn-Ti中间合金代替纯Ti片做原料,采用具有磁搅拌的中频感应炉做熔炼手段,用特制的水冷铜模做浇注模,从而达到了使弥散粒子尺寸更小,Nb3Sn股线高场Jcn进一步提高的目的。制备技术工艺简单,重复性好、易于大规模生产。
附图说明
图1为本发明的含Ti的Sn基合金显微组织照片SEM,黑色的弥散粒子为Sn-Ti化合物(Ti6Sn5);
图2为使用本发明的含Ti的Sn基合金内Sn法Nb3Sn股线的Jcn-H曲线;
图3为含Ti的Sn基合金制备时熔炼浇注使用的水冷铜模结构示意图。
具体实施方案
下面结合实例对本发明的方法做进一步的说明。
一种含Ti的Sn基合金,该合金是含2%-3wt%Ti的Sn基合金,且是Sn为基体、Ti与Sn形成化合物后以细小的弥散球状或针状粒子的形式均匀分布在Sn基体中。其制备过程的特征在于其制备过程是将Sn和Sn-Ti中间合金为原料,将配好的原料置入石墨坩埚,在1200℃~1300℃下将Sn和Sn-Ti中间合金充分融化均匀后,再将温度升至1450℃,然后进行浇铸,获得含Ti的Sn基合金铸锭;将铸锭进行车削扒皮,去掉表面缩孔即可获得在Sn基体中含有细小弥散粒子Sn-Ti化合物的Sn基合金光锭。在熔炼和浇注的整个过程中均在Ar气保护气氛中进行。将熔体快速浇铸到带有冷却水套的水冷铜模具中的。水冷铜模具由带有冷却水进出口1、2的模具主件5和带有冷却水进出口3、4的模具底座6组成。
本发明的方法,使用Sn-Ti中间合金和纯Sn做原料及中频感应炉做合金的熔炼手段,在熔炼过程中可以使Ti在溶液中分布更均匀;采用特制的水冷铜模浇注,由于冷却速度极快有利于获得尺寸很小的弥散度好的Sn-Ti化合物弥散粒子,使用这种合金制备的内Sn法Nb3Sn股线具有高的高场Jcn值。
实例1
使用重量纯度为99.9%的Sn和Sn-27%Ti(重量含量)中间合金作原料,将总重量为15-20Kg的原料(其中Ti重量含量为2.0%)放入中频感应炉的石墨坩埚中,将中频感应炉抽真空至10-1Pa后充入Ar气,然后再抽真空及充Ar气,这种过程反复3次后充Ar气至0.25~0.3Mpa。将原料升温至1200℃保温20分钟使Sn和Sn-Ti中间合金充分熔化均匀后再将温度升至1450℃,然后快速浇注进水冷铜模中,获得含Ti的Sn基合金铸锭。水冷铜模主件的外径Φ180mm,高300mm,内径为Φ105mm(上端)和Φ96mm(下端)。将铸锭表面及上下底扒皮、车削后光锭的Ti量含量成分分析结果为2.0wt%,铸锭的横断面显微组织观察如图1所示,在这种含Ti的Sn基合金中,Ti以Sn-Ti化合物的形式、成细小弥散粒子分布在Sn基体中。Sn-Ti化合物是100%的Ti6Sn5。弥散粒子的最大尺寸不大于20μm,平均尺寸为5-10μm。使用这种Sn基合金制备的内Sn法Nb3Sn股线(Φ0.81mm),其非Cu区的Jcn(4.2K,12T,0.1μv/cm)达到890A/mm2,股线的Jcn随外磁场H的变化曲线见图2。
实例2
含Ti的Sn基合金熔炼方法同实例1,只是在原料配制时将Ti的含量调整,在含Ti的Sn基合金光锭中Ti的重量含量的成分分析结果为3%,在这种含Ti的Sn基合金中,Ti以Sn-Ti化合物的形式、成细小弥散的粒子分布在Sn基体中。Sn-Ti化合物是100%的Ti6Sn5,获得弥散粒子的最大尺寸不大于20μm,平均尺寸为5-10μm。
实例3
含Ti的Sn基合金熔炼方法、成分配比同实例1,只是在熔炼过程中当原料升温1300℃范围并保温20分钟后将温度升至~1550℃,然后快速浇注进特制水冷铜模中,获得含Ti的Sn基合金铸锭。此时铸锭和特制水冷铜模有局部粘连,造成脱模困难,水冷铜模受到一些损伤。Sn基合金的Ti含量及弥散粒子的相成分及尺寸情况与实例1相同。

Claims (1)

1.一种含Ti的Sn基合金熔炼制备方法,该合金是含2%-3wt%Ti的Sn基合金,合金中Sn为基体、Ti与Sn形成化合物后以细小的弥散球状或针状粒子的形式均匀分布在Sn基体中;其特征在于其制备过程是将Sn和Sn-Ti中间合金为原料,将配好的原料置入石墨坩埚,在1200℃~1300℃下将Sn和Sn-Ti中间合金充分融化均匀后,再将温度升至1450℃,然后进行浇铸,获得含Ti的Sn基合金铸锭;将铸锭进行车削扒皮,去掉表面缩孔即可获得在Sn基体中含有细小弥散粒子Sn-Ti化合物的Sn基合金光锭;熔炼和浇注的整个过程中均在Ar气保护气氛中进行;Sn和Sn-Ti中间合金充分融化均匀后,再将温度升至1450℃,是将熔体快速浇铸到带有冷却水套的水冷铜模具中的。
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