CN100362979C - 透明洁齿产品及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

提供一种研磨性无定形沉淀二氧化硅，其研磨性能很好，且有较高透光率，其折射率足够低，使其能用作水含量较高的透明牙膏组合物的组分。此二氧化硅的折射率约小于1.4387，透光率约大于48%，Brass Einlehner磨损值约大于5mg损失/100,000转。可以用此研磨性无定形二氧化硅制备浊度值约小于70的洁齿产品。

Description

透明洁齿产品及其制备方法
发明背景
沉淀二氧化硅在各种制造业产品，从化妆品、食品到工业涂料和弹性体材料如轮胎等中都有它的用途。二氧化硅特别适用于洁齿产品(如牙膏)，用作填料、磨料以及增稠剂。由于它的功能多样，而且与其他洁齿磨料相比，和如氟化物之类的活性成份有较高的相容性，所以牙膏与洁齿产品配方师强烈希望将二氧化硅加入到他们的产品中。
然而，将二氧化硅磨料加入到透明洁齿产品中会有困难，尽管近年来，透明洁齿产品越来越受到欢迎，这是因为它们对有些消费者颇有吸引力，而且二氧化硅能让制造厂家使他们的产品具有提高的特性。其配制的难度在于，因为要生产含二氧化硅的透明牙膏，就必须保证该二氧化硅要与牙膏基质的折射率匹配，还要求该二氧化硅具有高的透光率，掺入洁齿产品后，还要具有清洁牙面的足够研磨性。
二氧化硅的折射率与牙膏的折射率匹配的要求，一般意味着牙膏中的水必须维持在较低含量，与二氧化硅相比，水的折射率通常低得多(市售二氧化硅的折射率为1.438-1.451，而水是1.332)，结果使得牙膏含水率提高，牙膏折射率就降低。因此，若要二氧化硅的折射率与牙膏的折射率匹配，牙膏中水的浓度必须降至最低。这是不好的，因为水是牙膏最价廉的成分，降低水的含量通常必须提高湿润剂(价格颇高)的含量来弥补。因此减少牙膏的含水率会造成相应增加牙膏的单位成本。
因此，从事生产透明凝胶牙膏的牙膏配方师必须权衡如下几个因素。二氧化硅在生产有效洁齿的牙膏方面是不可缺少的组分，但是加入二氧化硅会降低牙膏产品整体的透明度，这是因为二氧化硅透光率低，折射率高的缘故。因此，虽然加入二氧化硅能提供洁齿功效，但由于其折射率高，要求降低牙膏的水含量，必然同时提高湿润剂的浓度，结果产品的成本显著增加。
由上述可知，一直存在着对一种二氧化硅成分的需要，该二氧化硅不仅具有优良的研磨性，还要具有较高的透光率，足够低的折射率，使其能加入在含水率较高的透明牙膏组合物中。
发明概述
本发明涉及一种无定形沉淀二氧化硅组合物，其折射率约小于1.4387，透光率约大于48％。其Brass Einlehner磨损值约大于5mg损失/100,000转。
本发明涉及一种透明的洁齿产品，它包含：13-20重量％的水；研磨性沉淀二氧化硅，它具有i)小于1.4387的折射率，ii)大于48％的透光率，iii)大于5mg损失/100000转的Brass Einlehner磨损值；其中，所述洁齿产品的a)浊度值小于70，和b)RDA为50-150；所述洁齿产品任选包含非二氧化硅增稠剂、去离子水以及选自甘油、山梨醇和聚乙二醇的湿润剂。
在优选的实施方式中，所述洁齿产品的浊度值小于55。
在另一优选的实施方式中，所述洁齿产品包含基本上由非二氧化硅增稠剂、去离子水以及选自甘油、山梨醇和聚乙二醇的湿润剂组成的预混料，其中该预混料的折射率小于1.442。
在另一优选的实施方式中，所述洁齿产品是透明的，其浊度值小于55。
本发明还涉及一种制备上述洁齿产品的方法，所述方法包括如下步骤：
a)制备所述预混料，所述预混料不包含二氧化硅；
b)将所述预混料与研磨性沉淀二氧化硅混合，形成所述洁齿产品。
在优选的实施方式中，所述方法制得的洁齿产品是透明的，其浊度值小于70。
本发明还涉及包括不含二氧化硅的预混料的洁齿产品，该预混料折射率小于1.442。该洁齿产品还含有约0.01重量％-10重量％的二氧化硅磨料，该洁齿品的RDA值约大于50。
本发明还涉及一种制备洁齿产品的方法，包括制备折射率小于约1.442，不含二氧化硅的预混料，然后将二氧化硅与该预混料进行混合制成RDA约大于50的齿洁产品的步骤。
附图简述
结合附图阅读时，前面的发明概述以及以下本发明较佳实施方式的详细描述就能更好地理解。但应知道，本发明并不限于附图中所示的精确物理关系。
图1是图示按照本发明制得的沉淀二氧化硅透光率(％)与折射率的关系的曲线。
发明详述
除非另外指明，所有份数、百分数以及比例都以重量计。引述的所有文献参考结合于此。下面将叙述本发明较佳实施方式，提供洁齿产品如牙膏中使用的二氧化硅。虽然这种二氧硅最适合用在洁齿产品，但也可用于种种其他的消费产品中。
“混合物”是指两种或多种物质的组合，其形式例如是不均匀混合物、悬浮液、溶液、溶胶、凝胶、分散体或乳液，但不限于这些。
“透明”是指能透过光线而看到图象，好似没有中介物质。
“洁齿产品”是指一类口腔保健品，例如但不限于牙膏、牙粉与假牙用的膏。
“低结构二氧化硅”是指吸油率约为70-90ml/100g的二氧化硅材料
本发明涉及无定形低结构沉淀二氧化硅组合物(也称为二氧化硅SiO2)，当它加入牙膏或洁齿产品中时，可增加其清洁和研磨特性。这种二氧化硅磨料不仅能除去碎屑和残余沾污物而使牙齿洁净，且起抛光牙面的作用。因为它的折射率比大多数可比较的商购无定形二氧化硅低，而且透光率高，所以本发明的这种二氧化硅将别适合于配制含水量较高的低成本透明牙膏。
应在牙膏组合物中加入足量的这种二氧化硅磨料，使得牙膏的放射性牙质磨损(RDA)值约为50-200。RDA小于80，牙膏的洁齿效果太差，而RDA大于200，其牙膏的磨损太大，以致有沿着齿龈线损坏牙质的很大危险。现今大多数从商店里买的牙膏产品，其RDA为50-150，平均值恰好居中，即大约100。洁齿产品的RDA值较好至少约为50，如70-120，90-110。
牙膏的RDA值取决于牙膏中所用磨料的硬度(研磨性能)和浓度。RDA的测量方法见述于John J.Hefferren的文章“A Laboratory Method for Assessment ofDentrifice Abrasirity”，Jourual of Deutal Research，Vol 55，No.4(1976)，pp563-573中。二氧化硅的研磨性可以用Einlehner法(下面将详述)测量。根据历史数据，确定了RDA值与二氧化硅Einlehner值和牙膏中二氧化硅加入量之间的关系式，如下面的式(1)所示。
RDA＝(0.099003×E)+(0.773864×L)+(0.994414×E×L)+(-0.002875E2)+(-0.094783×L2)+(3.417937)    (I)
式中E是10％二氧化硅浆料的黄铜Einlehner毫克损失值；
L是牙膏中加入二氧化硅的重量％。
例如，若牙膏含有20重量％的Einlehner磨损值(是硬度的一种度量，下面将详述)约为6.0的二氧化硅，则该牙膏的RDA约为100。以大约6.5重量％的二氧化硅浓度，而用的是研磨性较大，例如Einlehner磨损值为15的二氧化硅，也可获得大约100的同样RDA值的牙膏。加入这种Einlehner磨损值为15的相同二氧化硅，而浓度为20重量％时，可制出RDA约280的牙膏。
因为这两种具有不同磨损值的二氧化硅在价格上差不多，所以以较低浓度使用研磨性较大的二氧化硅当然成本效益更高。但不幸的是研磨性较小的二氧化硅(例如Einlehner值约4.0的二氧化硅)通常透明性质较佳(即较高的折射率和透光率)，所以研磨较大的二氧化硅一般成为加入到透明洁齿产品中的差的选用材料。
但是，通过本发明开发了无定形二氧化硅磨料，它不仅具有很好的研磨性能，而且适于加在透明牙膏中。通过控制搅拌器的转速，煮解时间、加入速率、批料(最终的)pH、浆料pH，可以制出具有较小折射率、较高透光率、研磨性足够的二氧化硅磨料。
本发明二氧化硅成分的制备方法如下。在该方法中，将一种碱金属硅酸盐如硅酸钠的水溶液加入反应器中，该反应器例如装有能充分保证获得均匀混合物的搅拌装置，将反应器中的该碱金属硅酸盐水溶液预热至约65°-100℃。该碱金属硅酸盐水溶液的浓度较好为8.0-35重量％，如约8.0-15重量％。该碱金属硅酸盐较好是硅酸钠，其SiO2∶Na2O比例约为1-3.5，例如约2.5-3.4。
然后向反应器同时加入：(1)酸化剂或酸如硫酸的水溶液，(2)添加量的含与原来在反应器中的相同的碱金属硅酸盐的水溶液，该水溶液预热至约65°-85℃。酸化剂水溶液中酸化剂的浓度较好约为6-35重量％，例如约9.0-15重量％。该同时加入继续到反应器批料的pH降至约5.4-6.4。
在加入酸化剂和附加的碱金属硅酸盐停止以后，将反应器批料加热到约85°-100℃，使其陈化或煮解5-60分钟，此时反应器批料的pH保持恒定。煮解结束后，将反应器批料过滤，水洗除去过量无机盐，直至来自二氧化硅滤饼的洗涤水的导电率小于约2000微姆欧。因为二氧化硅滤液的导电率与滤饼中的无机盐副产物的浓度成正比，因此通过保持滤液的导电率小于2000微姆欧，就可使滤饼中的无机盐如Na2SO4达到所需低的浓度。
将二氧化硅滤饼加水打成浆液，然后用任何常规干燥技术如喷雾干燥进行干燥，产生含水分3-50重量％的沉淀二氧化硅。此沉淀二氧化硅可经研磨达到所需粒度约5-25μm，如约5-15μm。
这种无定形沉淀二氧化硅磨料然后可加入洁齿产品组合物如牙膏中。
除了含有磨料组分外，洁齿产品还可含有几种其他成分，如湿润剂、增稠剂(有时也称粘合剂、树胶或稳定剂)、抗菌剂、氟化物、增甜剂和辅助表面活性剂。
湿润剂的作用是对洁齿产品赋予一种口感的质地，并防止其变干。合适的湿润剂有聚乙二醇(多种不同的分子量)、丙二醇丙三醇(甘油)赤藓醇、木糖醇、山梨醇、甘露糖醇、乳糖醇和氢化淀粉水解产物以及这些化合物的混合物。
增稠剂在本发明的洁齿组合物中是用来提供一种凝胶结构，能稳定牙膏，防止相分离。合适的增稠剂有二氧化硅增稠剂、淀粉，淀粉甘油、剌梧桐树胶、黄蓍树胶、阿拉伯树胶、茄替胶、阿拉伯树胶、汉生胶、瓜耳树胶、胶体镁铝硅酸盐、鹿角菜胶、藻酸钠、琼脂、果胶、明胶、纤纸素、纤维素树脂、羧甲基纤维素、羟乙基纤纸素、羟丙基纤维素、羟甲基纤纸素、羟甲基羧丙基纤纸素、甲基纤纸素、乙基纤纸素、硫酸纤纸素以及这些化合物的混合物。粘合剂的典型含量为牙膏组合物的约0-15重量％。
可以加入抗菌剂用来减少微生物至低于已知的有害含量。合适的抗菌剂有苯甲酸、苯甲酸钠、苯甲酸钾、硼酸、酚化合物如β萘酚、氯代百里酚、百里酚、茴香脑、桉树脑、香芹酚、薄荷醇、苯酚、戊基苯酚、已基苯酚、庚基苯酚、辛基苯酚、已基间苯二酚、氯化月桂基吡啶鎓、氯化肉豆蔻基吡啶鎓、十六烷基氟化吡啶鎓、十六烷基氯化吡啶鎓，十六烷基溴化吡啶。抗菌剂若存在的活，其含量较好约为牙膏组合物的0.1-5重量％。
牙膏组合物中可加入增甜剂，使产品给人带来愉悦的口感，适合的增甜剂有糖精(如糖精钠、糖精钾、糖精钙)环已烷氨基磺酸盐(如钠盐、钾盐、钙盐)、丁磺氨钾、竹芋蛋白(thaumatin)、新橙皮甙(neohisperidin)双氢查耳酮、氨化甘草甜素铵盐、有旋糖、左旋糖、蔗糖、甘露糖以及葡萄糖。
牙膏中还较好含有氟化物盐类，以免龋齿的产生与发展。适用的氟化物盐类有氟化钠、氟化钾、氟化钙、氟化锌、氟化亚锡、氟化锌铵、一氟磷酸钠。一氟磷酸钾、氢氟化月桂胺、二乙氨基乙基氢氟化辛酰胺、氟化二癸基二甲基铵、氟化十六烷基吡啶、氟化二月桂基吗啉、肌氨酸氟化亚锡、甘氨酸氟化钾、甘氨酸氢氟化物、一氟磷酸钠。氟化物盐的一般含量约为0.1-5重量％。
表面活性剂的加入可起附加的洁齿剂和起泡剂作用，该表面活性剂可选自阴离子表面活性剂、两性离子表面活性剂、非离子表面活性剂、两性表面活性剂和阳离子表面活性剂。阴离子表面活性剂较好，如金属硫酸盐如十二烷基硫酸钠。
这里揭示的洁齿产品还可含有种种附加成分，如脱敏剂、愈合剂、其他防龋齿剂、螯合剂、维生素、氨基酸、蛋白质、其它防牙菌斑剂/抗结石剂、遮光剂、抗菌素、抗酶、酶、pH控制剂、氧化剂、抗氧化剂、增白剂和防腐剂。
最后，除了上述添加剂外，水形成组合物剩余部分。水较好是去离子水，不含杂质。洁齿产品包含约13-20重量％水。
下面将用一些具体但非限制性的实施例来更详细描述本发明。
实施例1-4
在实施例1-4中，按照本发明制备了适合用于洁齿产品及其他产品的二氧化硅。先将900kg含14.36重量％硅酸钠(SiO2与Na2O摩尔比为3.3)的水溶液加入反应器中，加热至82℃，在煮解步骤中保温在此温度，同时以83ppm搅拌。然后将硫酸水溶液(浓度12.06重量％)和硅酸钠水溶液(浓度14.36重量％，摩尔比3.3，加热至75℃)同时分别以113升/分和377升/分的速率加入。47分钟后停止加入硅酸钠水溶液，酸的加入则继续，直至反应器批料pH降至5.8-6.0。批料温度则在此pH值保持在93℃，为时10分钟。将此二氧化硅批料过滤、水洗至形成导电率不大于约2000微姆欧的滤饼。再将滤饼用水打成浆料，其固含量为32.4％，pH调节至7.20。然后将滤饼在一喷雾干燥器中喷雾干燥，喷雾干燥器的入口温度为650℃，出口温度为78℃。将喷雾干燥的产物研磨至8-10μm。
在实施例2-3中，按本发明制备了用于洁齿产品及其他产品的二氧化硅。先将27升含14.5重量％硅酸钠(摩尔比为3.3)的水溶液加入一400加仑反应器中，该反应器装有A-200倾斜的四叶片(45度)叶轮搅拌器，加热至82℃，在煮解步骤中保持此温度。同时以下面表I所示的速度搅拌反应器内物质。然后将12.4重量％的硫酸和含14.5重量％硅酸钠(摩尔比3.3)的水溶液(加热至75℃)同时以表I所示的速率加入。硅酸钠溶液的加入在47分钟后停止，而酸的加入以同样速率继续，直至批料pH降至7.5。然后酸的加入速率减少至1.0-1.5升/分，直至批料pH接近最终的pH。此最终批料的pH手工调节至所需值。然后批料进入煮解步骤，此时温度升至93℃，在整个煮解步骤中pH维持在最终pH。各实施例煮解步骤的时间列在表I中。
煮解以后，将二氧化硅批料在压滤机上过滤，水洗至滤液的导电率不大于2000微姆欧。将滤饼用水打成浆料。用Cowles搅拌器混合5分钟成为滤饼浆料，其固含量列在表I中。滤饼浆料的pH可进一步通过任选加入苛性钠调节至表I的“浆料pH”列的值。然后将滤饼浆料喷雾干燥(入口与出口温度如表I所示)，研磨形成平均粒度约为8.7-9.7μm的二氧化硅颗粒组合物。
比较例1-2
比较例1-2的制备，使用实施例2-3所述的同样方法，但按表1所列的加工参数。
表I
  搅拌器rpm     硅酸钠流速LPM     酸流速LPM     煮解时间min   批料最终pH   浆料固含量％   浆料pH   入口温度℃   出口温度℃
实施例2   50     12.6     3.8     10   5.8-6.0   33.1   6.6   440   76
实施例3   50     12.6     3.8     10   5.8-6.0   36.8   6.97   390   88
比较例1   50     12.6     3.8     10   6.5-6.7   20.8   8.8   420   76
比较例2   50     12.6     3.8     40   5.8-6.0   22.7   7.1   440   76
对如上制成的二氧化硅颗粒测量几种性质，包括Einlehner磨损值，吸油率、粒度、折射率、透光率(％)、亮度。作为测量折射率(RI)和透光率的第一步，制备了一个比例范围的山梨醇/水储液(约10个)，使这些储液的折射率为1.426-1.440。所需的山梨醇/水的精确比例取决于所用的准确山梨醇，由进行测量的技术人员确定之。这些溶液中山梨醇的浓度一般为49-70重量％。为了测定折射率，将各种标准溶液的1或2滴分别置于折射仪(Abbe 60折射仪，型号10450)的固定片上。将盖片固定就位。对光源和折射仪通电，读取各标准溶液的折射率。在各个20cm3瓶中，准确称入0.5±0.01g二氧化硅并加入12.0±0.01g各种相应的山梨醇/水的储液。然后将瓶剧烈摇荡形成二氧化硅分散体，除去瓶上的塞子，将瓶置于一干燥器中，用真空泵抽真空。
所述分散体进行脱气30分钟，目视检查应完全脱气。立即按制造厂家的操作说明测量589nm(Spectronic 20D+)的％透光率(％T)。具体是将一份分散体置于一石英容器中，对各试样在0-100标尺上读取589nm的％T读数，由此对二氧化硅/山梨醇/水分散体测定％透光率。对于实施例1和3，将储液的％透光率与RI绘成曲线，示于图1中。二氧化硅的折射率定义为％透光率对RI的曲线上的极大值位置(横坐标值或X轴值)。极大的Y轴(纵坐标)值则是二氧化硅的％透光率。
Brass Einlehner(BE)磨损值用Einlehner AT-1000研磨仪测量。在此测试中，将一Fourdrinier黄铜丝网称重，然后让其经受10％二氧化硅水悬浮液旋转一固定转数的研磨作用，测出每100,000转从Fourdrinier丝网上失去的黄铜毫克数，作为磨损值。此测试所需的一次性供料(黄铜丝网、磨损板、PVC管)可购自DuncanAssociates，Rutland，Vermont商品名为“Einlehner测试配套件”。具体做法是，对黄铜丝网(Phosphos Bronze，P.M.)进行准备，即在超声浴作用下用热的皂液(0.5％Alconex)洗涤5分钟，然后用自来水冲洗，再在装有150ml水的烧杯中置于超声浴中进行漂洗。再用自来水冲洗，在设定105℃的烘箱中干燥20分钟，在干燥器中冷却，称重。丝网使用时用镊子，以免皮肤油脂沾污。将Einlehner测试圆筒与磨损板和称重的丝网(红线侧而非被研磨侧朝下)组装好并夹住就位。该磨损板可使用约25次测试或至严重磨损，称重的丝网则仅使用一次。
将100g二氧化硅和900g去离子水混合制备的10％二氧化硅浆料倒入Einlehner测试筒中。将Einlehner PVC管子装在搅拌轴上。PVC管上有5个编号的位置。每次测试时，PVC管的位置逐步增高，直至使用了5次为止弃去。Einlehner研磨仪重新装好，设置至运转87,000转。每个测试需时49分钟。该周期完成后，取下丝网，用自来水冲洗，放入装有水的烧杯，将烧杯放入超声浴中2分钟，用去离子水漂洗，然后在设定105℃的烘箱中干燥20分钟，在干燥器中冷却，重新称重。每种样品做两个测试，将结果平均，用每100,000个转损失的毫克数表示。对10％浆料的测量结果(单位为每100,000转损失的毫克)可以表征为10％黄铜Einlehner(BE)磨损值。
颗粒平均粒度用Leeds and Northrup Microtrac II测定。将激光束投射通过一透明池，该池含有悬浮在液体中的移动颗粒流。打到颗粒的光束以反比于粒度的角度散射。光检测器阵列测量在几个预定角度的光通量。然后与所测光通量成正比的电信号用一微电脑系统加以处理，获得粒度分布多道直方图。
为测量亮度值，将细粉未材料压制成表面光滑的圆片，用Technidyne亮度仪S-5/BC测定。此仪器具有一个双光束光学系统，在此系统中样品以45°角度照射，在观察反射光。此方法按照TAPPI测试方法T452和T646，以及ASTM标准D985。粉末材料压制成厚约1cm的圆片，所用的压力足够产生光滑而平的圆片表面，而没有松散的颗粒或光泽。
吸油率用亚麻子油用刮刀混合法测量。在此测试中，将油与二氧化硅混合，用刮刀在光滑表面上对混合物研合，直至形成稠的油灰状膏状物。测量获得膏状混合物(当铺展时能成卷)所需的油量，即可算出二氧化硅的吸油率，此值表示单位重量二氧化硅完全饱和至吸油容量所需的油的体积。计算公式如下：
Figure C0282795200111
测试结果列于表II中。
表II
 Einlehner磨损值(mg)    吸油率(ml/100g)     折射率Index     透光率％     亮度     平均粒度(μm)
实施例1  5.7    90     1.4343     78     95.7     9.5
实施例2  9.7    71     1.4350     63     98.1     9.0
实施例3  7.3    75     1.4387     58     97.4     9.7
比较例1  13.2    75     1.4334     45     96.9     9.0
比较例2  18.2    71     1.4358     48     97.8     9.7
由表II可见，实施例1-3制备的二氧化硅都符合制造透明牙膏(即，都有低的折射数和高的透光率)的指标，且硬度或研磨性足够，能制成具有可接受的或良好的洁净性能的牙膏。与此不同，比较例1和2研磨性高(如其Einlehner磨损值所示)，折射率低，但透光率很低，不合需要。
为了显示在消费产品中的功效，实施例的二氧化硅磨料以粉末形式加入到以下表III所示的4种不同的牙膏组合物(1-4号)中。这些组合物的性能然后与下列牙膏组合物性能比较：含有按比较例1-2制备的二氧化硅磨料的组合物5-6，含有现有技术二氧化硅磨料(Zeodent115，得自J.M.Huber Corp.，Edison，NJ)的组合物7，不含二氧化硅磨料的牙膏组合物8。这些牙膏样品制法如下：混合下列组分形成第一混合物：甘油和/或山梨醇、聚乙二醇(CARBOWA×1450，得自UnionCarbide Corp.，Danbury，CT)、羧甲基纤纸素(CMC-9M31XF，得自Aqualondivisoon of Hercules Corp.，Wilmington，DE)，然后将此第一混合物搅拌至各组分溶解。混合下列组分形成第二混合物：去离子水、糖精钠、氟化钠然后搅拌至各组分溶解。将第一和第二组合物搅拌混合，形成预混料。
将预混料将入Ross混合器(型号130LDM，Charles Ross&Co.，Haupeauge，NY)中，将二氧化硅增稠剂和二氧化硅磨料加入此预混料中，将其在无真空条件下混合。然抽30英寸真空，各试样混合15分钟，然后加入十二烷基硫酸钠和香料。所得混合物在混合速度减小条件搅拌5分钟。这8种不同的牙膏组合物按下列配方制备，其中的量以克为单位。
表III
组分                                            组分号
1  2  3  4  5  6  7  8
山梨醇，70％ 59.707  0.00  0.00  0.00  0.00  0.00  0.00  0.00
甘油，99.5％ 0.00  59.743  60.870  59.296  59.030  60.568  47.556  58.055
去离子水 19.177  19.914  20.287  19.765  19.327  20.189  15.851  19.352
Carbowax 1450 4.000  4.000  4.000  4.000  4.000  4.000  4.000  4.000
CMC-9M31F 0.700  1.250  1.350  1.146  1.050  1.350  0.00  0.00
苯甲酸钠 0.200  0.200  0.200  0.200  0.200  0.200  0.200  0.200
糖精钠 0.200  0.200  0.200  0.200  0.200  0.200  0.200  0.200
氟化钠 0.243  0.243  0.243  0.243  0.243  0.243  0.243  0.243
Zeodent167二氧化硅增稠剂 8.000  8.000  8.500  8.000  8.000  8.000  0.00  16.000
实施例1磨料 8.000  0.00  0.00  0.00  0.00  0.00  0.00  0.00
实施例2磨料 0.00  4.500  0.00  0.00  0.00  0.00  0.00  0.00
实施例3磨料 0.00  0.00  2.400  5.200  0.00  0.00  0.00  0.00
比较例1磨料 0.00  0.00  0.00  0.00  6.000  0.00  0.00  0.00
比较例2磨料 0.00  0.00  0.00  0.00  0.00  3.300  0.00  0.00
Zeodent<sup></sup>115磨料 0.00  0.00  0.00  0.00  0.00  0.00  30.000  0.00
F&DC Red#2 2.0％ 0.100  0.100  0.100  0.100  0.100  0.100  0.100  0.100
十二烷基硫酸钠 1.200  1.200  1.200  1.200  1.200  1.200  1.200  1.200
香料 0.650  0.650  0.650  0.650  0.650  0.650  0.650  0.650
总计 100  100  100  100  100  100  100  100
如上制备了牙膏组合物1-8后，如下测定有关牙膏透明度的性质，如折射率、透明度和浊度。
牙膏折射率的测定是取一滴牙膏，置于一台Abbe 60折射仪(型号10450)上，直接读取折射率。
透明度是主观性测量。将一滴牙膏挤到一张打印字本的白纸上。若能完全读出该文本，给10分；若看不见该文本，给1分；若文本清晰度逐渐变好，给2-9的中间分。8分或多于8分视为良好透明的凝胶牙膏，表明二氧化硅磨料是透明的。透明度分数为10的牙膏一般具有相应的浊度值(详见下面)；即低于40，透明度分数为9的，浊度值约50-60，透明度分数为8的，浊度值约60-70。
透明凝胶牙膏的“浊度值”用Garder XL-835比色计测量光透射来测定。仪器先按厂家说明进行校准。接着，将两块显微镜载片(尺寸38×75mm厚0.96-1.06mm)放在平表面上。一块载片上覆有一块有机玻璃隔片(38×75mm厚3mm，有24×47mm敞开区域)。将凝胶牙膏挤入到有机玻璃隔片的该敞开区域上。将第二块载片置于牙膏上并用手施压，除去过量牙膏和空气。将样品置于经预先校准的仪器的透射光束上，记录下3个不同样品部位的浊度值并取平均值。浊度值越低表示牙膏越透明。
折射率、透明度、浊度的测量结果列在表IV中。
表IV
 1     2     3     4     5     6     7     8
预混料折射率  1.4418     1.4408     1.4401     1.4418     1.4409     1.4395     1.4402     1.4400
牙膏料折射率  1.4461     1.4448     1.4441     1.4448     1.4453     1.4423     1.4417     1.4426
RDA预计值  50     50     50     100     50     50     100     10
透明度分数  10     8     9     8     6     7     1     8
浊度  39     64     53     68     74     69     95     71
牙膏组合物7和8是对比组合物。牙膏组合物7含有现有技术的二氧化硅磨料(Zeodent185)，而牙膏组合物8含有增稠剂二氧化硅而无二氧化硅磨料。由表IV可见，牙膏组合物7研磨性能很好，但透明度差，所以不适合用于透明的水含量高的牙膏配方。这些差的透明度性质是由于其折射率高(1.4510)的缘故。与此不同，牙膏组合物8的透明度良好，但不含二氧化硅磨料使其洁齿性能完全不足。
牙膏组合物1-4含有按本发明实施例1-3制备的二氧化硅，如上所述具有足够或良好的研磨性能，满足制造透明牙膏的所有指标(即低的折射率和高的透光率)。结果牙膏组合物1-4都有极好的透明特性和可接受或良好的洁齿性能。
牙膏组合物5-6含有比较例1和2制备的二氧化硅。如上所述，这些二氧化硅研磨性高(如高的Einlehner磨损值所示)，但透光率低。结果牙膏组合物5-6具有可接受的研磨性能，但透光率低。
本领域技术人员应知道，可以在不偏离本发明的主要发明原理情况下，对所述的实施方式进行改变。因此，应理解，本发明不限于所述的具体实施方式，而是包括在由所附权利要求书限定的本发明精神和范围内的各种修改。

Claims (6)

1.一种洁齿产品，它包含：
a)基本上由非二氧化硅增稠剂，去离子水以及选自甘油、山梨醇和聚乙二醇的湿润剂组成的预混料，其中该预混料的折射率小于1.442；
b)0.01-10重量％研磨性沉淀二氧化硅，它具有
i)小于1.4387的折射率，
ii)大于48％的透光率，
iii)大于5mg损失/100000转的Brass Einlehner磨损值；
其中，该洁齿产品的RDA大于50，浊度值小于70。
2.权利要求1所述的洁齿产品，其特征在于，所述洁齿产品的RDA为50-200。
3.权利要求1所述的洁齿产品，其特征在于，所述洁齿产品的RDA为70-120。
4.权利要求1所述的洁齿产品，其特征在于，所述洁齿产品是透明的，浊度值小于55。
5.一种制备权利要求1所述洁齿产品的方法，所述方法包括如下步骤：
a)制备所述预混料，所述预混料不包含二氧化硅；
b)将所述预混料与研磨性沉淀二氧化硅混合，形成所述洁齿产品；
其中，所述研磨性沉淀二氧化硅具有
i)小于1.4387的折射率，
ii)大于48％的透光率，
iii)大于5mg损失/100000转的Brass Einlehner磨损值。
6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述洁齿产品是透明的，其浊度值小于70。
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