CH702013A2 - Verfahren zum steuern oder regeln eines einspritzprozesses. - Google Patents

Verfahren zum steuern oder regeln eines einspritzprozesses. Download PDF

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CH702013A2
CH702013A2 CH15752009A CH15752009A CH702013A2 CH 702013 A2 CH702013 A2 CH 702013A2 CH 15752009 A CH15752009 A CH 15752009A CH 15752009 A CH15752009 A CH 15752009A CH 702013 A2 CH702013 A2 CH 702013A2
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melt
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Max P Waser
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Kistler Holding Ag
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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Steuern oder Regeln eines Einspritzprozesses beim Herstellen eines Formteiles, bei dem Schmelzmasse (6) von mindestens einer Einspritzeinheit (5) über mindestens eine Düse (8) in mindestens eine von einem Werkzeug (4) umgegebene Kavität (3)gespritzt wird. Erfindungsgemäss weist die mindestens eine Kavität (3) mindestens eine Messstelle (13) auf, welche an einen binären Schalter (14) gekoppelt ist, wobei der binäre Schalter (14) zum Zeitpunkt des Eintreffens der Schmelzmasse (6) an der Messstelle (13) seinen Zustand ändert. Auf Grund dessen Zustandsänderung steuert oder regelt eine Auswerteeinheit (16) die Einspritzgeschwindigkeit der mindestens einen Einspritzeinheit (5) die Temperatur der Schmelzmasse (6) vor der Einspritzung oder/und das Abbrechen der Einspritzung an der mindestens einen Düse (8).

Description

Technisches Gebiet
[0001] Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Steuern oder Regeln eines Einspritzprozesses beim Herstellen eines Formteiles, bei dem Schmelzmasse von mindestens einer Einspritzeinheit über mindestens eine Düse in mindestens eine von einem Werkzeug umgebene Kavität gespritzt wird.
Stand der Technik
[0002] Steuerungen und Regelungen bei Spritzgiessprozessen umfassen in der Regel die Einspritzphase, bei der eine Kavität in einem Werkzeug mit einer flüssigen Masse gefüllt wird, die Nachdruckphase, welche einen Materialschwund minimieren soll, sowie eine anschliessende Abkühlphase, bei der die Masse schliesslich zum gewünschten Formteil erstarrt, bis das Werkzeug schliesslich geöffnet und das fertige Formteil entnommen werden kann. In all diesen Phasen sind Prozessteuerungen und -regelungen notwendig, welche gewährleisten sollen, dass die fertigen Formteile von gleichbleibender, reproduzierbarer Qualität sind.
[0003] Bei einem anderen Herstellprozess, dem Spritzprägen, folgt auf den Einspritzprozess ein Prägeprozess. Bei der Fluid-Injectionstechnik oder der Projektiltechnik hingegen werden Formteile mit Hohlräumen hergestellt. Bei diesen Herstellprozessen folgt auf den Einspritzprozess ein weiterer Prozessschritt, bei dem die heisse Kunststoffschmelze durch ein Fluid verdrängt wird.
[0004] Bei all diesen und weiteren Prozessen muss in der Einspritzphase die Regelung und Steuerung insbesondere gewährleisten, dass die Kavität optimal gefüllt wird. Beim Spritzgiessen beispielsweise soll sie vollständig gefüllt aber nicht überfüllt ist. Falls mehrere Kavitäten vorhanden sind, gilt dies natürlich für alle Kavitäten gleichzeitig.
[0005] Die Füllmenge in der Kavität hängt ihrerseits von der Einspritzgeschwindigkeit der Einspritzschnecke ab sowie von der’ Temperatur der Düse vor dem Einspritzen in die Kavität ab. Diese bestimmt massgebend die Viskosität der Kunststoffschmelze, welche sich auf das Fliessverhalten auswirkt. Zum richtigen Zeitpunkt muss schliesslich der Füllvorgang gestoppt werden.
[0006] In der DE 2 358 911 ist ein Verfahren beschrieben, welches auf Grund von Druck- und Temperaturmessungen eine Regeleinrichtung von Spritzgussmaschinen beschreibt. Auf Grund von Temperaturmessungen an verschiedenen Stellen wird die Fliessfrontgeschwindigkeit bestimmt, auf Grund derer schliesslich ein Regelventil für den nächsten Zyklus eingestellt wird.
[0007] Aus der EP 897 786 ist ebenfalls ein Verfahren zum Regeln einer Spritzgiessanlage bekannt. Diese regelt auf Grund von Druckmessungen ebenfalls verschiedene Regelparameter für den nächsten Zyklus.
[0008] All diese Verfahren sind sehr komplex und benötigen Sensoren, welche kontinuierlich Messwerte erfassen, welche ausgewertet und verarbeitet werden müssen.
Darstellung der Erfindung
[0009] Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein oben beschriebenes Verfahren anzugeben, welches ohne umfangreiche Messwerterfassung und entsprechende Auswertung und insbesondere ohne teure und technologisch hochstehende und störungsanfällige Messwerterfassungssysteme auskommt. Dadurch soll die für die Regelung notwendige Instrumentierung einerseits kostengünstiger, andererseits prozesssicherer werden.
[0010] Die Aufgabe wird gelöst durch die Kennzeichen des unabhängigen Patentanspruchs.
[0011] Die der Erfindung zugrunde liegende Idee besteht darin, dass mindestens eine Kavität eine Messstelle aufweist, welche an einen binären Schalter gekoppelt ist, welcher den Zeitpunkt t des Eintreffens der Schmelzmasse an dieser Messstelle detektiert und ein kennzeichnendes Zeitsignal an eine Auswerteeinheit überträgt. Allein auf Grund dieses Zeitsignals steuert oder regelt das Verfahren die Einspritzgeschwindigkeit V mindestens einer Einspritzeinheit, das Abbrechen der Einspritzung an mindestens einer Düse oder/und die Temperatur T der Schmelzmasse vor der Einspritzung.
[0012] Dadurch, dass im erfindungsgemässen Verfahren lediglich der Zeitpunkt t des Eintreffens der Schmelze erfasst werden muss, können als binäre Schalter billige Komponenten verwendet werden. Im Gegensatz zum Stand der Technik werden hier keine zeitlich abhängigen Messkurven aufgenommen und ausgewertet.
Kurze Beschreibung der Zeichnungen
[0013] Im Folgenden wird die Erfindung unter Beizug der Zeichnungen näher erklärt. Es zeigen <tb>Fig. 1<sep>eine schematische Darstellung einer erfindungsgemässen Anlage mit einer Kavität und einer Düse; <tb>Fig. 2<sep>Diagramm eines Signalausgangs einer Schalters vor und nach einem Ereignis t; <tb>Fig. 2<sep>eine schematische Darstellung einer erfindungsgemässen Anlage mit einer Kavität und zwei Düsen; <tb>Fig. 3<sep>eine schematische Darstellung einer erfindungsgemässen Anlage mit einer Düse zu einer Kavität, welche einer späteren Prägung unterworfen ist, im (a) offenen und (b) geschlossenem Zustand; <tb>Fig. 4<sep>eine schematische Darstellung einer erfindungsgemässen Anlage mit einer Kavität und zwei Einspritzeinheiten, welche die Kavität mit unterschiedlichen Materialien füllen können; <tb>Fig. 5<sep>eine schematische Darstellung einer erfindungsgemässen Anlage mit einer Kavität und einer Einspritzdüse und mit einer Flüssigkeitseinspritzvorrichtung für Fluid-Injection Prozesse, (a) vor und (b) nach der Flüssigkeitseinspritzung. <tb>Fig. 6<sep>eine schematische Darstellung einer erfindungsgemässen Anlage mit einem Heisskanal und mehreren Düsen zu jeweils einer Kavität, in dem ein Formteil mit einer Bindenaht entsteht, mit einer Messstelle bei der Bindenaht, (a) im unfertigen und (b) im fertigen Zustand des Formteils; <tb>Fig. 7<sep>eine schematische Darstellung nach Fig. 6, mit zwei Messstellen bei der Bindenaht, (a) im unfertigen und (b) im fertigen Zustand des Formteils; <tb>Fig. 8<sep>eine schematische Darstellung einer erfindungsgemässen Anlage mit zwei Einspritzeinheiten mit unterschiedlichen Massen zu einer Kavität, mit einem Formteil mit einer Bindenaht; <tb>Fig. 9<sep>eine schematische Darstellung einer erfindungsgemässen Anlage mit einem Heisskanal und mehreren Düsen zu derselben Kavität; <tb>Fig. 10<sep>ein Teil eines Werkzeugs mit einer Messstelle zum Erfassen des Eintreffens der Schmelzefront, wobei das Eintreffen der Schmelzefront (a) direkt an der Kavitätsoberfläche, (b) in der Werkzeugwand nahe der Kavitätsoberfläche, (c) hinter einem Auswerfestift oder Messstift erfasst wird.
Wege zur Ausführung der Erfindung
[0014] Die Bezugszeichen wurden in beiden Zeichnungen beibehalten.
[0015] Die Fig. 1 stellt eine erfindungsgemässe Prozessanlage 1 dar zum Herstellen eines Formteils 2 in einer Kavität 3, die von einem Werkzeug 4 umgeben ist. Eine Einspritzeinheit 5 wird bei der Produktion mit Schmelzmasse 6 versorgt und transportiert diese, beispielsweise durch einen Schneckenvorschub, zu einer Düse 8, welche durch einen Kanal 9 mit der Kavität 3 verbunden ist. Die Schmelzmasse 6 dringt in die Kavität 3 ein, bis diese vollständig gefüllt ist. Eine Steuerung oder Regelung 10 schaltet den Prozess nun auf Nachdruck um.
[0016] Ein Heizmodul 11 im Bereich der Düse 8 kann die Temperatur der Schmelze in der Düse 8 beeinflussen und so deren Viskosität verändern. Eine wärmere Schmelze hat eine höhere Viskosität und fliesst demnach schneller in die Kavität 3 als eine kühlere Schmelze. So kann die Fliessgeschwindigkeit durch die Temperatur an der Düse 8 gesteuert werden. Andererseits ist auch die. Schneckenvorschubgeschwindigkeit für die Fliessgeschwindigkeit verantwortlich. Zuletzt kann die Anlage auch über einen Schieber 12 zwischen Düse 8 und Kavität 3 verfügen, welcher die Einspritzung abbrechen kann, indem dieser geschlossen wird.
[0017] Erfindungsgemäss verfügt die Prozessanlage 1 über mindestens eine Messstelle 13, welche an einen binären Schalter 14 gekoppelt ist. Dieser Schalter 14 ist derart ausgestaltet, dass er zum Zeitpunkt t des Eintreffens der Schmelzefront 15 an dieser Messstelle 13 seinen Zustand ändert. Eine Auswerteeinheit regelt oder steuert auf Grund einer solchen Zustandsänderung die Einspritzung. Dies kann insbesondere die Änderung der Einspritzgeschwindigkeit der Einspritzeinheit, die Regelung der Temperatur der Schmelzmasse 6 vor der Einspritzung, und/oder das Abbrechen der Einspritzung nach einer Düse 8, beispielsweise durch einen Schieber 12 betreffen.
[0018] Im vorliegenden Beispiel ist die Messstelle 13 vorzugsweise nahe der Stelle angeordnet, an der der Fliessweg der Schmelzmasse 6 beendet ist, also am Ende der Kavität 3. So kann beim Feststellen des Eintreffens der Schmelzefront 15 auf die vollständige Füllung der Kavität 3 geschlossen werden, worauf beispielsweise der Prozess der Füllphase abgeschlossen und die Nachdruckphase eingeleitet werden kann.
[0019] Das Eintreffen der Schmelzefront 15 an der Messstelle 13 kann durch den binären Schalter 14 an verschiedenen Stellen erfasst werden. Insbesondere kann dies durch ein Messelement angrenzend an die Kavität 3 oder in der Kavitätswand nahe der Kavität 3 erfasst werden. Andererseits kann ein geeignetes Messelement auch hinter einem Auswerfestift 18 oder hinter einem Messstift 18 angebracht werden. Auch wenn das Messelement fern des Kavität 3 angeordnet ist, so ist die Messstelle 13, also der massgebende Ort, an dem die Schmelzefront 15 passiert werden muss, um den Schalter 14 in einen anderen Zustand zu versetzen, doch stets direkt an der Kavitätswand.
[0020] Ein Messelement kann den Zeitpunkt t des Eintreffens der Schmelzefront 15 beispielsweise mechanisch, optisch, thermisch elektrisch oder chemisch erfassen. Der Schalter 14 kann bei Überschreitung eines gewissen Drucks, einer gewissen Temperatur, einer gewissen Spannung, bei Unterschreiten einer gewissen Distanzmessung zu einem Gegenüber, die beispielsweise optisch durchgeführt werden kann, oder bei einer chemischen Änderung des Messelements den Zustand ändern. Hinter einem Auswerfestift 18 sind vor allem druckempfindliche Sensoren geeignet.
[0021] Entscheidend für die hier genannten Schalter 14 ist, dass nicht ein Messwert über einen gewissen Zeitraum ermittelt und gezeichnet werden muss, sondern nur die Änderung des Schalters 14 erfasst werden muss. Dies bedeutet erstens, dass die Änderung des Zustands beispielsweise durch einen Temperaturschalter, auch Bimetallschalter genannt, wie sie aus Thermostatschaltern bekannt sind, erreicht werden kann. Im Unterschied zu Temperaturmessungen durch Thermoelemente, wo als Leitungen und Verbindungen spezielle Thermoelement Materialen wie Nickel-Chom/Nickel und/oder entsprechende Ausgleichsleitung verwendet werden müssen, um genaue Messwerte zu erlangen, genügen im vorliegenden Fall herkömmliche Kupferleitungen. Dasselbe gilt für Druckmessungen: Für piezoelektrische Druckmessungen sind hoch isolierte Leitungen und Verbindungen mit Isolationsummantelungen von mindestens 10A12 Ohm erforderlich, um die Störsignale abhalten zu können. Für den Zweck eines Schalters 14 muss aber grundsätzlich nur zwischen zwei Zuständen unterschieden werden können. Daher sind hierfür keine speziellen Anforderungen an die Leitungen und Verbindungen zu den Druckmesselementen nötig, einfach isolierte Kupferleitungen und handelsüblichen Verbindungen genügen völlig. Der Einsatz eines binären Schalters 14 ist daher grundsätzlich billiger und einfacher als eine Auswertung zeitabhängiger Messdaten.
[0022] Fig. 2 zeigt die Änderung des Signals zum Zeitpunkt t als Beispiel. Hier ändert das Ausgangssignal des Schalters 14 von 0 auf 1.
[0023] In Fig. 3 ist das Verfahren einer Spritzprägung dargestellt. Bei einem solchen Verfahren wird in einer ersten Stufe wie beim Spritzgiessen Schmelzmasse 6 in eine Kavität 3 gespritzt, allerdings wird diese nicht vollständig gefüllt. Fig. 3a zeigt ein Beispiel eines Füllzustandes am Ende dieser ersten Stufe. In einer zweiten Stufe werden schliesslich die beiden Werkzeughälften 4, welche die Kavität 3 umgeben, für einen Prägeprozess zusammengefahren. Die Schmelzmasse 6 verteilt sich nun in der ganzen Kavität 3, wie in Fig. 3b dargestellt. Wichtig ist, dass der Füllzustand nach der ersten Stufe wohl ausreichend ist, um die Form in der zweiten Stufe zu füllen, andererseits aber nicht überfüllt wird. Zu diesem Zweck kann erfindungsgemäss ein binärer Schalter 14 mit einer geeigneten Messstelle 13 gekoppelt sein, der den optimalen Füllzustand erkennt. Eine Auswerteeinheit unterbricht zu diesem Zeitpunkt t das Füllen der Kavität 3 und leitet das Schliessen der Werkzeughälften 4 ein.
[0024] Ein weiteres Beispiel ist in Fig. 4angegeben, die Herstellung von Mehrkomponentenformteilen 2. Auch hier wird der Einspritzvorgang gestoppt und anschliessend ein weiterer Verfahrensschritt gestartet. Dieser Verfahrensschritt ist das Starten einer weiteren Einspritzeinheit, wobei beispielsweise ein anderes Material oder eine andere Eigenschaft (z.B. Farbe) desselben Materials als Schmelzmasse 6 verwendet wird. Wieder kann durch die Bestimmung der Schmelzfront 15 mittels eines binären Schalters 14 der optimale Füllzustand und somit der richtige Zeitpunkt t zum Stoppen der ersten Einspritzeinheit 5 und zum Starten des Folgeprozessen eingeleitet werden.
[0025] In Fig. 5 ist ein Beispiel eines Fluid-Injection Prozesses dargestellt. In diesem wird wiederum eine gewisse Menge Schmelzmasse 6 in eine Kavität 3 gespritzt, wie Fig. 5a dargestellt. In einer folgenden Phase wird schliesslich Flüssigkeit durch eine Vorrichtung zur Flüssigkeitseinspritzung 19 in die Schmelzmasse 6 gespritzt, wodurch diese Schmelzmasse 6 an den Rand der Kavität 3 gedrängt wird. Auch hier wird der Füllstand durch den binären Schalter 14 bestimmt.
[0026] In den Figuren 6-8 wird jeweils eine Kavität 3 gleichzeitig von mindestens zwei Düsen 8 gefüllt. Dadurch entsteht jeweils eine Bindehaut an der Stelle, an der zwei Fliessfronten zusammentreffen. Solche Stellen sind erstens mechanisch weniger belastbar und zweitens optisch erkennbar. Zudem können, wenn mehrere Einspritzeinheiten 5 verwendet werden, auch unterschiedliche Schmelzmassen 6 verwendet werden, wie in Fig. 8 dargestellt. In all diesen Fällen soll der Ort der Bindenaht 17 an eine vorbestimmte Stelle gelegt werden.
[0027] Dazu kann, wie in Fig. 6dargestellt, erfindungsgemäss eine erste Messstelle 13 mit einem Schalter 14 ausgestattet werden. Beim Umschalten des Schalters 14 wird dann beispielsweise die Zufuhr von Schmelzmasse 6 am ersten Schalter 14 gestoppt, sodass der Rest der Kavität 3 allein von der zweiten Düse 8 gefüllt wird.
[0028] In der Fig. 7 sind zwei Messstellen 13 mit Schaltern 14 ausgestattet. Durch den zweiten Schalter 14 kann nun festgestellt werden, wann die Kavität 3 durch die zweite Düse 8 nun vollständig gefüllt wird. Andererseits kann durch die Temperierung der Düsen 9 und somit durch die Anpassung der Viskositäten der Schmelzmassen 6 in den Düsen 8 erreicht werden, dass beide Schmelzfronten 15 gleichzeitig die Messstellen 13 passieren. Auch dann ist gewährleistet, dass die Bindenaht 17 zwischen den beiden Messstellen 13 liegt. Beide Beispiele der Fig. 6 und 7können natürlich mit gleichen oder unterschiedlichen Schmelzmassen 6, d.h. mit einer Einspritzeinheit 5 und einem Heisskanal 20 oder mit zwei Einspritzeinheiten 5 durchgeführt werden. Im Fall mehrerer Einspritzeinheiten 5 kann durch die binären Schalter 14 die Einspritzgeschwindigkeiten unabhängig voneinander geregelt resp. gesteuert werden.
[0029] In Fig. 9 ist ein weiteres Beispiel eines Mehrkavitäten-Werkzeuges 4 angegeben. Hier spritzt eine Einspritzeinheit 5 über einen Heisskanal 20 mit mehreren Düsen 8 Schmelzmasse 6 in ebenso viele Kavitäten 3, wobei am Ende jeder Kavität 3 eine Messstelle 13 mit einem Schalter 14 korrespondiert. Durch Regelung der Temperierung an den Düsen 8 können die verschiedenen Viskositäten so eingestellt werden, dass alle Kavitäten 3 gleichzeitig gefüllt werden.
Bezugszeichenliste
[0030] <tb>1<sep>Prozessanlage <tb>2<sep>Formteil, Mehrkomponentenformteil <tb>3<sep>Kavität <tb>4<sep>Werkzeug, Werkzeughälfte, Mehrkavitätenwerkzeug <tb>5<sep>Einspritzeinheit <tb>6<sep>Schmelzmasse <tb>7<sep>Schnecke <tb>8<sep>Düse <tb>9<sep>Kanal <tb>10<sep>Steuerung oder Regelung <tb>11<sep>Heizmodul <tb>12<sep>Schieber <tb>13<sep>Messstelle <tb>14<sep>binärer Schalter, Schalter <tb>15<sep>Schmelzefront <tb>16<sep>Auswerteeinheit <tb>17<sep>Bindenaht <tb>18<sep>Auswerfestift oder Messstift <tb>19<sep>Vorrichtung zur Flüssigkeitseinspritzung <tb>20<sep>Heisskanal <tb>T<sep>Temperatur der Schmelzmasse <tb>V<sep>Schneckenvorschubsgeschwindigkeit <tb>t<sep>Zeitpunkt des Eintreffens der Schmelze

Claims (13)

1. Verfahren zum Steuern oder Regeln eines Einspritzprozesses beim Herstellen eines Formteiles (2), bei dem Schmelzmasse (6) von mindestens einer Einspritzeinheit (5) über mindestens eine Düse (8) in mindestens eine von einem Werkzeug (4) umgebene Kavität (3) gespritzt wird, dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine Kavität (3) mindestens eine Messstelle (13) aufweist, welche an einen binären Schalter (14) gekoppelt ist, wobei der binäre Schalter (14) zum Zeitpunkt t des Eintreffens des Schmelzmasse (6) an der Messstelle (13) seinen Zustand ändert, und auf Grund dessen Zustandsänderung eine Auswerteeinheit (16) die Einspritzgeschwindigkeit V der mindestens einen Einspritzeinheit (5), die Temperatur T der Schmelzmasse (6) vor der Einspritzung oder/und das Abbrechen der Einspritzung an der mindestens einen Düse (8) steuert oder regelt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Auswerteeinheit (16) auf Grund der Zustandsänderung des Schalters (14) das Stoppen des Einspritzprozesses und den Start eines folgenden Verfahrensschritt regelt, insbesondere die Nachdruckphase, im Falle eines Spritzprägeprozesses eine Prägung, im Falle der Herstellung von Mehrkomponenten-Formteilen das Starten einer weiteren Einspritzeinheit oder im Falle eines Fluid-Injection Prozesses den Start der Flüssigkeitseinspritzung.
3. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass Schmelzmasse (6) über zwei oder mehr Düsen (8) gleichzeitig in dieselbe Kavität (3) gespritzt wird, wodurch eine Bindenaht (17) beim Zusammentreffen jeweils zwei Schmelzfronten (15) entsteht, wobei die Auswerteeinheit (16) auf Grund der Zustandsänderung des Schalters (14) das Abbrechen der Einspritzung mindestens einer Düse (8) regelt, um eine vorgegebene Position der Bindenaht (17) zu erreichen.
4. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass Schmelzmasse (6) über zwei oder mehr Düsen (8) gleichzeitig in dieselbe Kavität (3) gespritzt wird, wodurch eine Bindenaht (17) beim Zusammentreffen jeweils zwei Schmelzfronten (15) entsteht, und wobei gekoppelt an zwei oder mehr Messstellen (13) zwei oder mehr binäre Schalter (14) angebracht sind, welche beim Passieren der Schmelzefronten (15) an den Messstellen (13) ihre Zustände ändern, wobei die Auswerteeinheit (16) auf Grund dieser Zustandsänderungen die Temperaturen T der Schmelzmassen (6) vor der Einspritzung regelt, um eine vorgegebene Position der Bindenaht (17) zu erreichen.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Temperaturen T der Schmelzmassen (6) vor der Einspritzung derart geregelt werden, dass die Schmelzfronten (15) die Messstellen (13) gleichzeitig erreichen.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zwei oder mehr Einspritzeinheiten (5) gleiche oder verschiedene Schmelzmassen (6) in je mindestens eine Düse (8) spritzen.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Auswerteeinheit (16) die Einspritzgeschwindigkeiten V der Einspritzeinheiten (5) regelt.
8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass Schmelzmasse (6) über zwei oder mehr Düsen (8) gleichzeitig in zwei oder mehr Kavitäten (3) gespritzt wird, wobei jede Kavität (3) mindestens eine Messstelle (13) aufweist mit jeweils einem daran gekoppelten binären Schalter (14), wobei die binären Schalter (14) zu den Zeiten des Eintreffens der Schmelzfronten (15) an den jeweiligen Messstellen (13) ihre Zustände ändern, und worauf die Auswerteeinheit (16) die Einspritzung an mindestens einer Düse (8) abbricht oder/und die Temperaturen T der Schmelzmassen (6) vor der Einspritzung regelt.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Temperaturen T der Schmelzmassen (6) derart geregelt werden, dass die Schmelzfronten (15) alle Messstellen (13) gleichzeitig erreichen.
10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der binäre Schalter (14) ein Messelement umfasst, welches den Zeitpunkt t mechanisch, optisch, thermisch, elektrisch oder chemisch erfasst.
11. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der binären Schalter (14) das Eintreffen der Schmelzefront (15) an der Messstelle (13) im Werkzeug (4) direkt angrenzend an die Kavität (3), in der Werkzeugwand (4) nahe der Kavität (3), hinter einem Auswerfestift oder hinter einem Messstift (18) erfasst.
12. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine Messstelle (13) nahe einer Stelle angeordnet ist, an der ein Fliessweg der Schmelzmasse (6) beendet werden soll.
13. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Schalter (14) ein Signal über eine einfach isolierte Kupferleitung zur Auswerteeinheit (16) überträgt.
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