Cette invention concerne un guide d'avancement pour une utilisation dans un appareil pour le développement et le traitement automatiques de matériaux photosensibles tels que des films et du papier photographique.
Un guide d'avancement du matériau photosensible conventionnel destiné à un appareil de traitement automatique de photographies est fait en résine synthétique ou en métal. Lorsqu'ils sortent de la solution de traitement de chaque cuve de traitement, les matériaux photosensibles sont amenés en contact et guidés par des guides d'avancement qui ne sont pas immergés dans la solution de traitement. Ainsi, une partie de la solution de traitement sur le matériau photosensible vient en contact ou éclabousse les surfaces du guide d'avancement. Lorsque la solution adhérant à la surface du guide sèche, le solvant métallique qui est dissous dans la solution de traitement va cristalliser et adhérer aux surfaces du guide.
Un tel solvant métallique cristallisé peut abîmer la surface du matériau photosensible dans les cycles subséquents de développement. Ceci va non seulement diminuer la qualité du matériau développé, mais encore gêner la régularité de l'alimentation en matériau photosensible.
Un objet de cette invention est de fournir un guide d'avancement qui élimine la nécessité d'un entretien journalier difficile de l'appareil, c'est-à-dire qui évite d'avoir à démonter et nettoyer les guides d'avancement l'un après l'autre à la fin de la journée de travail et qui permet d'économiser considérablement sur la main d'Öuvre et d'augmenter l'efficacité du traitement.
Pour atteindre cet objectif, on fournit conformément à cette invention un guide d'avancement pour une utilisation dans un appareil de traitement de photographies pour développer automatiquement des matériaux photosensibles tels que le papier photographique et les films en les faisant passer dans des solutions de traitement dans des cuves, le guide d'avancement ayant une portion non immergée dans les solutions de traite ment, au moins cette portion étant pourvue d'une couche d'un agent hydrofuge ou ultra-hydrofuge. Suite à la présence de la couche hydrofuge, une solution quelconque de développement qui pourrait venir en contact ou éclabousser la surface du guide va s'en séparer rapidement pour tomber dans la cuve.
Ainsi, aucune solution de traitement ne va cristalliser sur la surface du guide, de sorte que les matériaux photosensibles sont moins susceptibles de subir des dégâts et le fonctionnement est plus régulier.
Lorsqu'il sort de la solution de traitement de chaque cuve, le matériau photosensible prend un virage en U en étant guidé par les guides d'avancement portant la couche hydrofuge ou ultra-hydrofuge sur la surface de guidage qui se trouve au-dessus de la surface des solutions de traitement. Ainsi, toute solution de traitement sur le matériau photosensible peut être essuyée, par les surfaces courbes hydrofuges des guides. Ainsi, toute solution adhérant ou éclaboussée sur les surfaces du guide va se séparer rapidement de celui-ci et tomber dans la cuve avant qu'elle ne sèche, de sorte que les solvants métalliques contenus dans les solutions ne vont en aucun cas cristalliser ou adhérer aux surfaces des guides.
Ceci élimine la nécessité d'un entretien journalier compliqué de l'appareil. Plus particulièrement, il n'est pas nécessaire de démonter et de nettoyer les guides d'avancement un à un après chaque journée de travail.
Comme les surfaces des guides sont toujours lisses, les matériaux photosensibles ne seront en aucun cas abîmés par les surfaces des guides. Ainsi, il est possible d'améliorer la qualité des matériaux développés et imprimés. Egalement, il est possible de faire passer les matériaux photosensibles en douceur sans qu'il y ait risque de blocage.
D'autres traits caractéristiques et objets de la présente invention deviendront apparents à la lecture de la description qui suit, faite en se reportant aux dessins en annexe, dans lesquels:
La fig. 1 est une vue en coupe verticale d'une unité de développement dans un appareil automatique de traitement de photographies; et
la fig. 2 est une vue en perspective du guide supérieur de retour de l'unité de développement.
Maintenant, si on se réfère aux dessins, une forme d'exécution du guide d'avancement de matériau photosensible selon cette invention va être décrite ci-après.
Les fig. 1 et 2 sont des vues montrant le guide d'avancement du matériau photosensible destiné à un appareil de traitement automatique de photographies mettant en Öuvre cette invention. Le chiffre 1 indique un guide supérieur de retour prévu au-dessus d'une unité de développement 3.
Les guides supérieurs de retour 1 sont prévus sur les unités de support respectives 6 constituées de rouleaux et de guides agencés en série dans un bâti, permettant une immersion dans des solutions de développement, de décoloration, de fixation, de stabilisation et de rinçage 5, 5a, 5b, 5c et 5d dans les cuves 4, 4a, 4b, 4c et 4d. Chaque guide de retour a une surface d'entrée 1a et une surface de sortie 1b qui sont disposées à l'opposé l'une de l'autre et elles sont incurvées de manière à correspondre aux rouleaux d'entrée et de sortie 6a, 6b prévus au-dessus de la surface des solutions de traitement 5, 5a, 5b, 5c et 5d dans les cuves 4, 4a, 4b, 4c et 4d. Les surfaces des guides 1a, 1b sont soumises à un traitement avec un hydrofuge ou un ultra-hydrofuge pour avoir des couches hydrofuges 2 sur celle-ci.
De telles couches hydrofuges ou ultra-hydrofuges 2 peuvent être formées de toute manière souhaitée, par exemple par application, par aspersion, par cuisson, par dispersion-revêtement d'un hydrofuge ou d'un ultra-hydrofuge sur les surfaces de guidage 1a, 1b des guides supérieurs de retour 1.
Parmi les hydrofuges utilisables, on peut citer les caoutchoucs, les silicones et les fluororésines. Parmi les fluororésines, le téflon est le plus souvent utilisé. Le fluorure de graphite est parmi les meilleurs hydrofuges connus.
Les étapes de traitement effectuées dans l'unité de développement 3 seront décrites. Une bande d'un matériau photosensible 7 tel qu'un film ou un papier photographique passe à travers l'unité de développement 3 via une unité de support 6 de manière à être immergée dans les solutions de traitement 5, 5a, 5b, 5c et 5d placées successivement dans les cuves 4, 4a, 4b, 4c et 4d. Entre les cuves 4 et 4a, un matériau photosensible 7 est soulevé hors de la solution de traitement 5 par le rouleau d'alimentation 6b et exposé à l'air. Il effectue alors un retour en U en étant guidé par les guides supérieurs de retour 1 et il est immergé dans la solution de traitement 5a par le rouleau d'alimentation 6a.
De la même manière, le matériau photosensible 7 est immergé dans la solution de traitement 5b, 5c et 5d dans les cuves successives 4b, 4c et 4d, puis évacué hors de l'unité de développement 3.
Dans cette forme d'exécution, les couches hydrofuges ou ultra-hydrofuges 2 sont formées uniquement sur les surfaces de guidage 1a et 1b des guides supérieurs de retour. Toutefois, de telles couches pourraient être formées sur toute la surface des guides supérieurs de retour 1.