CH670007A5 - - Google Patents

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CH670007A5
CH670007A5 CH432086A CH432086A CH670007A5 CH 670007 A5 CH670007 A5 CH 670007A5 CH 432086 A CH432086 A CH 432086A CH 432086 A CH432086 A CH 432086A CH 670007 A5 CH670007 A5 CH 670007A5
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CH
Switzerland
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glass
mask
light
hard
exposed
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CH432086A
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German (de)
English (en)
Inventor
Peter Dr Knoll
Original Assignee
Bosch Gmbh Robert
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/54Absorbers, e.g. of opaque materials

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
CH432086A 1985-11-25 1986-10-31 CH670007A5 (enrdf_load_stackoverflow)

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DE19853541559 DE3541559A1 (de) 1985-11-25 1985-11-25 Hartmaske fuer photolithographische prozesse

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CH670007A5 true CH670007A5 (enrdf_load_stackoverflow) 1989-04-28

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CH432086A CH670007A5 (enrdf_load_stackoverflow) 1985-11-25 1986-10-31

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US7626185B2 (en) 2006-08-11 2009-12-01 Battelle Memorial Institute Patterning compositions, masks, and methods
WO2008021952A2 (en) * 2006-08-11 2008-02-21 Battelle Memorial Institute Patterning compositions, masks, and methods

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Publication number Publication date
DE3541559A1 (de) 1987-05-27

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