CH625335A5

CH625335A5 - Optical target-tracking unit

Info

Publication number: CH625335A5
Application number: CH1472877A
Authority: CH
Inventors: Ragnar Forshufvud; Arnold Johansson; Erland Petterson
Original assignee: Bofors Ab
Priority date: 1976-12-02
Filing date: 1977-12-01
Publication date: 1981-09-15
Also published as: DE2753781C2; GB1596543A; NO774116L; FR2373074B1; JPS628753B2; NL7713211A; DE2753781A1; IT1090717B; DE2760430C2; FR2373074A1; NO149712C; JPS5382100A; NO149712B

Description

Die Erfindung betrifft ein optisches Zielverfolgungsgerät mit einer Optik zur visuellen Erfassung des Zielobjekts, wobei deren optische Achse mit Hilfe eines Richtsymbols auf das Zielobjekt ausrichtbar ist und mit einer Messvorrichtung zur Be-30 Stimmung der jeweiligen Winkelabweichung des Zielobjekts von der optischen Achse.

Das Zielverfolgungsgerät soll insbesondere zur Verwendung in Waffensystemen geeignet sein, die zur Führung eines bewegten Objektes, z.B. einer Rakete, zu einem Ziel hin dienen. Dazu 35 wird das optische Zielverfolgungsgerät in bekannter Weise auf einen Punkt des Zieles hin gerichtet und die Bedienungsperson hält die Visierlinie ständig auf dem Ziel. Wenn nunmehr das bewegte Objekt (Rakete) mit einer Einrichtung versehen ist, die eine Strahlung aussendet, so kann die Abweichung dieser Strah-40 lung von der Sichtlinie durch eine Messvorrichtung bestimmt werden, wenn die Messvorrichtung auf die ausgesandte Strahlung anspricht. Die erwähnte Strahlung kann durch eine im Gehäuse des bewegten Objektes speziell angebrachte Strahlungsquelle erzeugt oder durch den Rückstossmotor des bewegten 45 Objektes erzeugt werden, wobei im letztgenannten Fall die Strahlung in Form einer Infrarot-Strahlung vorliegt. Die Strahlung kann in bekannter Weise auch von einem Reflektor stammen, der am bewegten Objekt vorhanden ist. In diesem Fall wird die Strahlung von einer Strahlungsquelle erzeugt, die z.B. 50 neben dem optischen Zielverfolgungsgerät angeordnet ist, so dass also die erzeugte Strahlung dem bewegten Objekt übermittelt und von seinem Reflektor zum optischen Zielverfolgungsge-rät zurückgesandt wird.

Dabei ist es bekannt, zusätzlich ein optisches Visiergerät 55 einzusetzen, wobei dieses Visiergerät ein Zielfernrohr aufweist, das mit einem Fadenkreuz oder anderen Richtsymbol für das sichtbare Licht versehen ist, um es der Bedienungsperson zu erleichtern, die Visierlinie auf das Ziel zu richten und dann das Ziel zu verfolgen. Die zur Bestimmung der Abweichung der so Strahlungsquelle von der Visierlinie eingesetzte Messvorrichtung weist, wie dies etwa in US-PS 4 178 505 gezeigt ist, eine bewegbare Mess-Maske auf, so dass die von einer Strahlungsquelle ausgesandte Strahlung wechselweise durch die Maske hindurchgeht und dann wieder von der Maske zurückgehalten 65 wird.

Bisher bekannte, optische Visiergeräte zur genannten Verwendung weisen im wesentlichen eine Objektivlinse, ein Okular und ein Richtsymbol für das sichtbare Licht auf, wobei letzteres

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im allgemeinen als Fadenkreuz ausgebildet ist. Ein solches Fa- Signalpegel erreicht wird, und zwar sowohl bei kurzen Distan-

denkreuz besteht aus dünnen Linien auf einer Glasfläche, die in zen als auch bei langen Distanzen. Dazu wird der Photodetektor der Bildebene des Objektives liegen. Mit Hilfe des Okulars ist in bevorzugter Weise in oder nahe einer Bildebene angeordnet,

es für die Bedienungsperson möglich, das Ziel und seinen Hin- und mit einer solchen Detektorfläche versehen, die auf die vom tergrund zu sehen, und mit Hilfe z.B. eines Steuergriffs kann die 5 Zielobjekt ausgesandte Strahlung anspricht und in zwei oder

Bedienungsperson das Richtsymbol auf das Ziel bringen und mehr getrennte Bereiche unterteilt ist, wobei jeder Bereich ei-

während der Zielverfolgung darauf gerichtet halten. Da aber nem bestimmten Bereich der Winkelabweichung zugeordnet ist.

zwei verschiedene Hauptfunktionen, nämlich das Visieren und Anhand der Zeichnung werden nun mehrere Ausführungs-

das Messen der Position durchgeführt werden müssen, war es beispiele des Erfindungsgegenstandes erläutert. Es zeigen:

bisher notwendig, zwei verschiedene optische Systeme vorzuse- io Fig. 1 ein erstes Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäs-

hen, und zwar ein optisches System für das Visieren und ein sen optischen Zielverfolgungsgeräts in schematischer Darstel-optisches System für das Messen der Position. Um eine akzepta- lung,

ble Genauigkeit beim Messen zu erhalten, ist es wichtig, dass die Fig. 2 eine abgewandelte Ausführungsform des Geräts nach relative Lage der Messvorrichtung und der Visiervorrichtung Fig. 1,

nicht durch mechanische Verformung, Temperaturänderungen is Fig. 3 eine Darstellung des Richtsymbols zur Erleichterung usw. beeinflusst wird. Eine Störung eines optischen oder mecha- des Visierens,

nischen Elementes kann eine Änderung der relativen Lage der Fig. 4 eine Draufsicht auf eine Mess-Maske,

beiden optischen Systeme zur Folge haben. Aus diesem Grund Fig. 5 ein weiteres Ausführungsbeispiel der Erfindung, bei wurden die Messvorrichtungen im allgemeinen mit Organen zur der ein Photodetektor vorhanden ist, der eine Detektorfläche

Steuerung und Einstellung der Visierlinie des Fernrohres und 20 aufweist, die in zwei getrennte Bereiche unterteilt ist,

der Achsen der Messvorrichtung versehen, um eine akzeptable Fig. 6 eine Ausführungsform der Detektorfläche,

Messgenauigkeit zu erzielen. Fig. 7 eine weitere Ausführungsform der Detektorfläche,

Es ist die Aufgabe der Erfindung, ein optisches Zielverfol- Fig. 8 eine vergrösserte Darstellung des Zentrumbereiches gungsgerät der eingangs erwähnten Art zu schaffen, bei dem die der in Fig. 4 gezeigten Mess-Maske,

vorerwähnten Nachteile auf eine technisch einfache Weise ver- 25 Fig. 9 einen vergrösserten Schnitt eines Bereiches zwischen mieden werden können. einem durchlässigen und einem undurchlässigen Teil auf der

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäss dadurch gelöst, dass Mess-Maske, und im Strahlengang der Optik ein Strahlenteiler zur selektiven Ab- Fig. 10 eine weitere und verbesserte Ausführungsform des trennung eines bestimmten Wellenlängenbereichs angeordnet in Fig. 9 gezeigten Teils.

ist und dass im Strahlengang vor dem Strahlenteiler ein opti- 30 Aus Fig. 1 ist das erfindungsgemässe optische Zielverfol-sches Element vorgesehen ist, welches in einer ersten Bildebene gungsgerät in einer ersten Ausführungsform schematisch geeine Anordnung zur Erzeugung des Richtsymbols und in einer zeigt. Das optische Zielgerät hat zwei Hauptfunktionen.

zweiten Bildebene eine mindestens für den genannten Wellen- Einerseits ist damit ein Zielobjekt anzuvisieren und die Vi-

längenbereich wirksame Mess-Maske für die Bestimmung der sierlinie dem Zielobjekt nachzuführen, und anderseits ist die genannten Winkelabweichung aufweist, wobei eine Objektivlin- 35 Flugbahn eines Flugkörpers, z.B. einer Rakete, mit der Visierli-se derart ausgebildet ist, dass sie im sichtbaren Licht ein Bild des nie zu vergleichen und sind Abweichungen zwischen dem Flug-

Zielobjekts auf der ersten Bildebene und im genannten Wellen- körper und der Visierlinie zu bestimmen. Die Art der Messung längenbereich ein entsprechendes Bild auf der zweiten Bildebe- und die Weise, wie die beim Messverfahren ermittelte Abwei-

ne erzeugt. chung in ein elektrisches Signal umgewandelt und dieses weiter-

Vorzugsweise ist im abgetrennten Strahlengang ein Photo- 40 verarbeitet wird, sind nicht Teil der Erfindung und werden des-detektor angeordnet, wobei Mess-Maske und Photodetektor um halb auch nicht näher erläutert.

die optische Achse des abgetrennten Strahlengangs relativ zu- Das Zielverfolgungsgerät hat im wesentlichen eine einzelne einander rotierbar angeordnet sind, um ein Signal zu erzeugen, optische Eingangsöffnung mit einer Objektivlinse 1, eine Glas-

das für die Abweichung des Zielobjekts von der optischen Ach- platte 2 und ein Prisma 3, um das sichtbare Licht vom Zielob-

se kennzeichnend ist. 45 jekt und seinem Hintergrund und die von der Strahlungsquelle

Der Photodetektor sollte vorzugweise mit einer kleinen De- der Rakete ausgesandten Strahlung aufzuspalten. Die Strah-tektorfläche versehen sein, um einen niedrigen Geräuschpegel lungsquelle kann z.B. aus einer Laserquelle bestehen, bevorzug-und eine ausreichend hohe Empfindlichkeit zu erhalten. Ent- terweise aus einer Laser-Diode, die derart an der Rakete angesprechend dazu ist es zweckmässig, die Bildebene, in der sich die ordnet ist, dass das Laser-Licht gegen das Zielverfolgungsgerät Mess-Maske befindet, mit der grösstmöglichen Verkleinerung 50 hin ausgestrahlt wird. Die Objektivlinse 1 sammelt sowohl sichtauf den Photodetektor abzubilden, so dass das gesamte die bares Licht als auch Laserlicht und ist derart ausgebildet, dass Messvorrichtung passierende Licht auch den Detektor erreicht. die Brennweite für das sichtbare Licht und für das Laserlicht Die grösste Ausdehnung der Detektorfläche wird dann dem verschieden ist. Hieraus ergibt sich, dass ein Bild des Ziel-grössten Wert der zu messenden Winkelabweichung entspre- Objekts und seines Hintergrundes auf die Bildebene Ft für sichtchen. Bei derartigen Ziel verfolgungsgeräten ist jedoch die von 55 bares Licht projiziert wird, während ein Bild der Strahlungseiner Strahlungsquelle ausgesandte Strahlung in der Regel quelle auf eine andere Bildebene F2 projiziert wird. In Fig. 1 ist stark, wenn der Abweichwinkel gross ist und umgekehrt. Dies der Strahlengang des sichtbaren Lichtes mit gestrichelten Linien ist z.B. dann der Fall, wenn sich die Strahlungsquelle vom Ziel- dargestellt, während derjenige des Laserlichtes mit voll ausge-verfolgungsgerät wegbewegt, wobei ihr Abstand von der Visier- zogenen Linien gezeigt ist. Der Strahlengang wird im Prisma 3 linie konstant bleibt. Wenn die Messung bei kurzen Entfernun- 60 in bekannter Weise zerlegt, so dass das sichtbare Licht durch das gen stattfinden soll, muss die Messvorrichtung mit einem weiten Prisma hindurchgeht und durch ein Okular 4 zu den Augen 5 Sichtfeld versehen sein, während zur gleichen Zeit der beim einer Bedienungsperson gelangt, wogegen das Laserlicht durch Detektor vorhandene Signalpegel hoch genug sein muss. Wenn das Prisma 3 reflektiert wird und nach aussen durch ein Linsen-jedoch bei grossen Entfernungen gemessen wird, wo das Sicht- system 6 zu einem Detektor 7 gelangt.

feld in der Regel eng ist, so ist der beim Detektor vorhandene 65 Um die Zielverfolgung zu erleichtern ist das Zielverfol-

Signalpegel oft nicht hoch genug. gungsgerät mit einem Richtsymbol für die Visiervorrichtung

Um diesen Umständen Rechnung zu tragen, wird der Pho- versehen, welches aus dünnen Linien auf einer Glasfläche be-

todetektor vorzugsweise so ausgestaltet, dass ein akzeptabler steht, die in der Bildebene F! liegen, so dass die Bedienungsper-

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son das Ziel und seinen Hintergrund zusammen mit dem erwähnten Richtsymbol im Okular 4 sehen kann. Das erwähnte Symbol kann aus einem oder mehreren konzentrischen Kreisen

8 oder Bögen 9 bestehen, die die Visierlinie 10 als Zentrum haben.

Diese letztgenannte Ausbildung wird gegenüber den üblichen Fadenkreuzen bevorzugt, wenn die Mess-Maske um die Visierlinie rotiert. Die Linien des erwähnten Richtsymbols für die Visiervorrichtung müssen so dünn sein, dass sie die Messvorrichtung nicht durch das Aufhalten von Lichtstrahlen stören.

Zur Bestimmung der Winkelabweichung des Flugkörpers (Rakete) von der Visierlinie ist das optische Zielverfolgungsgerät mit einer Messvorrichtung versehen. Letztere weist eine Mess-Maske 11 nach Fig. 4 auf, die in der Bildebene F2 liegt. Die Mess-Maske 11 besteht aus einer Glasplatte mit einem di-chroitischen geometrischen Muster darauf, was z.B. durch Überlagerung von zwei verschiedenfarbigen Bereichen erreicht wird, wobei das Muster für sichtbares Licht durchlässig ist, aber undurchlässig für das von der Strahlungsquelle ausgesandte Laserlicht. Da das Muster für sichtbares Licht durchlässig ist, stört es das sichtbare Bild und auch das Richtsymbol für das sichtbare Licht nicht, sogar dann nicht, wenn die Mess-Maske bewegt wird.

Der Abstand zwischen den beiden Bildebenen Fj und F2 ist so gross, dass der durch die Linien des erwähnten Richtsymbols hervorgerufene Abdunkelungseffekt klein ist, wenn gleichzeitig die Mess-Maske und das Richtsymbol für die Visiervorrichtung auf demselben optischen Element, z.B. auf jeder Seite der Glasplatte 2, wobei diese Seiten mit den Bildebenen F! und F2 zusammenfallen, vorgesehen sind. Da die Glasplatte für beides, nämlich für das Visieren und für das Messen der Position, dient, hat jede Änderung der Lage des optischen Zielverfolgungsge-räts zur Folge, dass dieselben Änderungen bei beiden Geräteteilen erfolgen, indem deren relative Lage unverändert bleibt. Zur Steuerung und Einstellung der Visierlinie und der Achsen der Messvorrichtung sind keinerlei Mittel erforderlich.

Beim Beispiel nach Fig. 2 werden anstelle einer einzigen Glasplatte zwei dünne Glasplatten 13 und 14 verwendet. In diesem Fall ist es vorteilhaft, wenn die Bildebene F] ' für das sichtbare Licht mit derjenigen Fläche der Glasplatte 13 zusammenfällt, die dem Auge 5 der Bedienungsperson zugewandt ist. In analoger Weise lässt man dann die Bildebene F2' für das Laserlicht mit derjenigen Fläche der Glasplatte 14 zusammenfallen, die dem Detektor 7 abgewandt ist. Es sind auch andere Ausführungsbeispiele mit zwei Glasplatten möglich ; es muss jedoch die Bedingung gegeben sein, dass die Glasflächen, auf denen das Richtsymbol und die Mess-Maske aufgebracht sind, mit der zugeordneten Bildebene zusammenfallen und dass beide Glasplatten so angeordnet sind, dass sie sich entlang des Strahlenganges zueinander nicht bewegen können. Für die Zielfunktion ist es notwendig, dass die Glasplatte 14 rotiert. Die Glasplatte 13 kann mit der Glasplatte 14 starr verbunden sein und somit mit der gleichen Drehzahl rotieren ; die Glasplatte 13 kann aber auch stationär angeordnet werden, wobei in diesem Fall das Richtsymbol aus einem Fadenkreuz bestehen kann.

Fig. 3 zeigt eine Draufsicht auf die Glasfläche, die in der Bildebene F, angeordnet ist, wobei das Richtsymbol für die Visiervorrichtung aus konzentrischen Kreisen 8 und aus Bögen

9 um das Zentrum besteht, das auf der Visierlinie 10 liegt. Das Zentrum wird in vorteilhafter Weise mit einem kleinen Punkt 15 dargestellt. Der unscharfe Fleck 16 in Fig. 3 bezieht sich auf das Bild der Strahlungsquelle, wobei dieses Bild in der Bildebene F] unscharf ist, wogegen es in der Bildebene F2 scharf erscheint. In diesem Fall wird vorausgesetzt, dass die Wellenlänge der von der Strahlungsquelle ausgesandten Strahlung innerhalb des sichtbaren Bereiches vom Spektrum liegt. Es kann jedoch vorteilhaft sein, zuzulassen, dass die Wellenlänge der übertragenen Strahlung ausserhalb des sichtbaren Bereiches vom Spektrum liegt, so dass dann in diesem Fall kein verschwommenes Bild auf der Bildebene F] erscheint.

Fig. 4 zeigt eine Draufsicht auf die Glasfläche, die in der Bildebene F2 mit der Mess-Maske 11 liegt, welche Maske aus ; einer Glasplatte besteht, auf der sich ein zweifarbiges geometrisches Muster befindet. Die gesamte Fläche der Glasplatte ist für sichtbares Licht durchlässig, wobei aber das überlagerte Muster für die von der Strahlungsquelle ausgesandte Strahlung undurchlässig ist. Die Grenzlinie 17 des undurchlässigen Musters K kann derart ausgebildet sein, dass man Informationen bezüglich der Position der Strahlungsquelle durch die Beziehung zwischen den auftretenden Schwankungen der Strahlung und der Winkellage der Maske erhält. Dieser Sachverhalt ist in der US-PS 4 178 505 erläutert.

15 Um einen niedrigen Geräuschpegel und eine geeignet hohe Empfindlichkeit des Detektors 7' zu erhalten, wird der Detektor nach Fig. 5 in der Bildebene F3 angeordnet, so dass die Bildebene F2 mit der Positions-Messvorrichtung mit der grösst-möglichen Verkleinerung auf der Detektorfläche wiedergege-20 ben wird. Durch diese Massnahme erreicht dann alle durch die Mess-Maske hindurchgegangene Strahlung den Detektor 7'. Die Detektorfläche ist in zwei oder mehr getrennte Bereiche unterteilt, wobei jeder der getrennten Bereiche zu einem bestimmten Bereich der Winkelabweichung gehört. In vorteilhaf-25 ter Weise besteht die Fläche des Detektors aus einer inneren zentralen Fläche 19 und einer äusseren Ringfläche 20 nach Fig. 6.

Die innere Fläche 19 korrespondiert mit den Winkelabweichungen oder mit dem Messbereich, in dem die Abweichung der 3o Strahlungsquelle von der Visierlinie gering ist, d.h. einem schmalen Sichtfeld des optischen Systems. Die äussere Fläche 20 dagegen entspricht einer Winkelabweichung, bei der die Abweichung der Strahlungsquelle von der Visierlinie gross ist, d.h. einem breiten Sichtfeld des optischen Systems. Die äussere Flä-35 che 20 kann elektrisch abgeschaltet werden, wenn die Winkelabweichung klein ist und eine hohe Empfindlichkeit erforderlich ist. In einem solchen Fall wird die Gefahr, dass die Messvorrichtung durch andere Strahlungsquellen im Messbereich der äusseren Detektorfläche 20 gestört wird, vermieden. Aber auch die 40 innere Detektorfläche 19 kann elektrisch abgeschaltet werden, z.B. in solchen Fällen, wenn die Winkelabweichung der Strahlungsquelle beträchtlich und die übermittelte Strahlung stark ist.

In Fig. 7 ist eine andere Ausführungsform der Detektorfläche dargestellt. Bei diesem Beispiel ist die Detektorfläche in 45 eine Zentrumsfläche 21 und eine äussere Fläche 22 unterteilt. In diesem Fall hat die innere Räche 21 einen rechteckigen Querschnitt, und die äussere Fläche 22 schliesst nicht vollständig an die innere Fläche 21 an. Eine solche Form der Detektorflächen bevorzugt man, wenn unterschiedliche Messbereiche in 50 der vertikalen Ebene und in der horizontalen Ebene erforderlich sind. Wenn der Messbereich in der Vertikalrichtung nicht vollständig ausgenützt wird, kann der entsprechende Bereich der Detektorfläche weggelassen werden, was bedeutet, dass diese Fläche verringert werden kann, so dass ein entsprechendes 55 Ansteigen der Empfindlichkeit erzielt wird.

Um eine genaue Messung der Position eines Flugkörpers (Rakete) zu erhalten, ist es wichtig, dass die Grenzlinie 17, also z.B. der Ubergang zwischen dem durchlässigen Teil 12 und dem undurchlässigen Teil 18 der Mess-Maske genau bestimmt, d.h. 60 klar abgegrenzt ist. In der Praxis ist dies jedoch schwierig zu erreichen, da das dichroitische Muster aus verschiedenen dünnen elektrischen Schichten besteht, die aufeinander liegen. Hierdurch wird eine Übergangszone zwischen den durchlässigen und undurchlässigen Bereichen der Maske geschaffen, wobei in 65 dieser Zone der Ubergang sich graduell von einem hohen Wert zu einem niedrigen Wert ändert.

In Fig. 9 ist ein vergrösserter Schnitt des Bereiches zwischen den durchlässigen und undurchlässigen Zonen der Maske darge

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stellt. Es ist ersichtlich, dass das dichroitische Muster 12 aus mehreren Lagen 23 besteht, die üblicherweise aus einem dielektrischen Material bestehen, wobei diese Lagen auf einer Glasplatte angeordnet werden, so dass diese Lagen zusammen eine undurchlässige Schicht für die in Frage stehende Strahlung bilden. Infolge der grossen Anzahl von Schichten, die im Muster enthalten sind, entsteht eine Übergangszone d. Wie bereits erwähnt, ist eine solche Übergangszone nicht zufriedenstellend, wenn eine genaue Messung der Lage eines Objektes erforderlich ist. Als Beispiel für das Ausmass der erforderlichen Genauigkeit kann darauf hingewiesen werden, dass eine Intensitätsänderung der durchtretenden Strahlung um 90% bei einer Winkelverschiebung des Flugkörpers von maximal 0,05 mrad erfolgen muss.

Um eine verbesserte Kantenschärfe des dichroitischen Musters zu erhalten, also um die in Fig. 9 gezeigte Ubergangszone d zu verringern, wird die Kante des Musters, die an den durchlässigen Teil der Maske angrenzt, mit einer Schicht 24 versehen, 5 die für die in Frage stehende Strahlung undurchlässig ist (Fig. 8). Diese Kantenlage erstreckt sich längs der Grenzlinie des Musters und ist so schmal, dass sie, wenn sich die Maske dreht, die Durchlässigkeit nicht stört. Die erwähnte Kantenschicht besteht vorteilhafterweise aus Metall, z.B. aus Aluminium, und hat io eine sehr präzise Form. Aus Fig. 10 ist ersichtlich, dass diese Metallschicht oben auf den dielektrischen Lagen angeordnet ist. Es ist jedoch auch möglich, die erwähnte Kantenschicht unterhalb der dielektrischen Lagen längs ihrer Grenzen anzuordnen.

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2 Blatt Zeichnungen

Claims

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PATENTANSPRÜCHE

1. Optisches Zielverfolgungsgerät mit einer Optik (1,2,3, 4) zur visuellen Erfassung des Zielobjekts, wobei deren optische Achse mit Hilfe eines Richtsymbols (8,9,15) auf das Zielobjekt ausrichtbar ist und mit einer Messvorrichtung (11,6,7) zur Bestimmung der jeweiligen Winkelabweichung des Zielobjekts von der optischen Achse, dadurch gekennzeichnet, dass im Strahlengang der Optik ein Strahlenteiler (3) zur selektiven Abtrennung eines bestimmten Wellenlängenbereichs angeordnet ist und dass im Strahlengang vor dem Strahlenteiler (3) ein optisches Element (2,13,14) vorgesehen ist, welches in einer ersten Bildebene (Fj ; Fj ') eine Anordnung zur Erzeugung des Richtsymbols (8,9,15) und in einer zweiten Bildebene (F2 ; F2') eine mindestens für den genannten Wellenlängenbereich wirksame Mess-Maske (11) für die Bestimmung der genannten Winkelabweichung aufweist, wobei eine Objektivlinse (1) derart ausgebildet ist, dass sie im sichtbaren Licht ein Bild des Zielobjekts auf der ersten Bildebene (Fj ; Fj ') und im genannten Wellenlängenbereich ein entsprechendes Bild auf der zweiten Bildebene (F2; F2') erzeugt.
2. Optisches Zielverfolgungsgerät nach Anspruch 1,

dadurch gekennzeichnet, dass im abgetrennten Strahlengang ein Photodetektor (7; 7') angeordnet ist, wobei Mess-Maske (11) und Photodetektor um die optische Achse des abgetrennten Strahlengangs relativ zueinander rotierbar angeordnet sind, um ein Signal zu erzeugen, das für die Abweichung des Zielobjekts von der optischen Achse kennzeichnend ist.
3. Optisches Zielverfolgungsgerät nach Anspruch 2,

dadurch gekennzeichnet, dass die Anordnung zur Erzeugung eines Richtsymbols (8,9,15) und die Mess-Maske (11) in festem, gegenseitigem Abstand angeordnet sind.
4. Optisches Zielverfolgungsgerät nach Anspruch 3,

dadurch gekennzeichnet, dass der Abstand zwischen der ersten und der zweiten Bildebene eine solche Grösse aufweist, dass der gegenseitige Einfluss von Mess-Maske (11) und Richtsymbol (8, 9,15) gering ist.
5. Optisches Zielverfolgungsgerät nach Anspruch 4,

dadurch gekennzeichnet, dass das optische Element (2) eine Glasplatte aufweist, auf deren einen Fläche das Richtsymbol und auf deren anderen Fläche die Mess-Maske (11) angeordnet ist, wobei die erste Fläche in der ersten Bildebene (Fj) und die zweite Fläche in der zweiten Bildebene (F2) liegt.
6. Optisches Zielverfolgungsgerät nach Anspruch 4,

dadurch gekennzeichnet, dass das optische Element zwei zueinander parallele Glasplatten (13,14) aufweist, wobei die eine Glasplatte (13) eine Fläche hat, die in der ersten Bildebene (Fi') liegt und auf der sich das Richtsymbol (8,9,15) befindet, und dass die andere Glasplatte (14) eine in der anderen Bildebene (F2') liegende Fläche hat, auf der sich die Mess-Maske (11) befindet.
7. Optisches Zielverfolgungsgerät nach Anspruch 6,

dadurch gekennzeichnet, dass sich das Richtsymbol (8,9,15) und die Mess-Maske (11) auf zwei einander zugewandten Flächen befinden.
8. Optisches Zielverfolgungsgerät nach Anspruch 2,

dadurch gekennzeichnet, dass der Photodetektor (7') in oder nahe bei einer Bildebene (F3) liegt, und eine auf die vom Zielobjekt ausgesandte Strahlung ansprechende Detektorfläche aufweist, die in zwei oder mehr getrennte Bereiche (19,20) unterteilt ist, wobei jeder Bereich einem bestimmten Bereich der Winkelabweichung zugeordnet ist.
9. Optisches Zielverfolgungsgerät nach Anspruch 8,

dadurch gekennzeichnet, dass die Detektorfläche (7') aus einer inneren zentralen Fläche (19) und einer diese umgebenden äusseren Fläche (20) besteht, wobei die innere Fläche (19) einem Winkelbereich entspricht, in dem die Winkelabweichung des Zielobjekts gering ist, und dass die äussere Fläche (20) einem

Winkelbereich entspricht, in dem die Winkelabweichung des Zielobjekts gross ist.
10. Optisches Zielverfolgungsgerät nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Detektorflächen (19,20) ge-

5 trennt voneinander elektrisch ausschaltbar sind.
11. Optisches Zielverfolgungsgerät nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Form der Detektorflächen (21,22) einem spezifischen Messbereich für die Winkelabweichung der Strahlungsquelle zugeordnet ist.

io 12. Optisches Zielverfolgungsgerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die rotierende Mess-Maske (11) eine Fläche aufweist, auf der sich ein dichroitisches Muster befindet, das derart angeordnet ist, dass die Gesamtfläche der Maske für sichtbares Licht durchlässig ist, aber für die Strahlung 15 im genannten Wellenlängenbereich teilweise undurchlässig ist.
13. Optisches Zielverfolgungsgerät nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass das dichroitische Muster (12) längs seiner Grenzlinie (17), die an den Teil der Maskenfläche anschliesst, die für die Strahlung des genannten Wellenlängen-20 bereichs durchlässig ist, mit einer schmalen Schicht (24) versehen ist, um die Kantenschärfe der dichroitischen Schicht (12) zu verbessern.

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