CH539839A - Verfahren zur Einstellung einer Maske in bezug auf ein Halbleitersubstrat - Google Patents

Verfahren zur Einstellung einer Maske in bezug auf ein Halbleitersubstrat

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CH539839A
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CH
Switzerland
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mask
adjusting
respect
semiconductor substrate
semiconductor
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CH13472A
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English (en)
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Johannus Jacobs Berna Antonius
Kramer Pieter
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Philips Nv
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7049—Technique, e.g. interferometric
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2622283A1 (de) * 1976-05-19 1977-12-08 Bosch Gmbh Robert Verfahren zur lokalisierung eines festkoerperplaettchens und festkoerperplaettchen zur durchfuehrung des verfahrens
NL7606548A (nl) * 1976-06-17 1977-12-20 Philips Nv Werkwijze en inrichting voor het uitrichten van een i.c.-patroon ten opzichte van een halfgelei- dend substraat.
US4265542A (en) * 1977-11-04 1981-05-05 Computervision Corporation Apparatus and method for fine alignment of a photomask to a semiconductor wafer
CH629000A5 (de) * 1978-05-22 1982-03-31 Bbc Brown Boveri & Cie Verfahren zum optischen justieren von bauelementen.
JPS59224515A (ja) * 1983-06-03 1984-12-17 Mitsubishi Electric Corp 光学式エンコ−ダ
DE3372673D1 (en) * 1983-09-23 1987-08-27 Ibm Deutschland Process and device for mutually aligning objects
FR2553532A1 (fr) * 1983-10-12 1985-04-19 Varian Associates Dispositif capacitif d'alignement de masque
US4702606A (en) * 1984-06-01 1987-10-27 Nippon Kogaku K.K. Position detecting system
DE3682675D1 (de) * 1986-04-29 1992-01-09 Ibm Deutschland Interferometrische maskensubstratausrichtung.
WO1991011056A1 (en) * 1990-01-18 1991-07-25 Spetsialnoe Konstruktorskoe Bjuro Radioelektronnoi Apparatury Instituta Radiofiziki I Elektroniki Akademii Nauk Armyanskoi Ssr Method and device for adjustment of photoelectric converter of shaft rotation angle into code
NL9001611A (nl) * 1990-07-16 1992-02-17 Asm Lithography Bv Apparaat voor het afbeelden van een maskerpatroon op een substraat.

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ES398630A1 (es) 1974-10-01
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AU466289B2 (en) 1975-10-23
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JPS5325238B1 (de) 1978-07-25
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FR2121301A5 (de) 1972-08-18
BR7200054D0 (pt) 1973-06-12
CA958819A (en) 1974-12-03

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