CH520957A - Verfahren zur Herstellung einer bimetallischen Flachdruckplatte - Google Patents
Verfahren zur Herstellung einer bimetallischen FlachdruckplatteInfo
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- G03F7/004—Photosensitive materials
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Family Applications (1)
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---|---|---|---|---|
DE102004004865B4 (de) * | 2004-01-30 | 2008-01-10 | Qimonda Ag | Antireflexschicht, die mit einem Photoresist beschichtet ist, enthaltend Polymere auf der Basis von Zimtsäure für die 157 nm Photolithographie |
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- 1968-09-18 NL NL6813382A patent/NL6813382A/xx unknown
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102004004865B4 (de) * | 2004-01-30 | 2008-01-10 | Qimonda Ag | Antireflexschicht, die mit einem Photoresist beschichtet ist, enthaltend Polymere auf der Basis von Zimtsäure für die 157 nm Photolithographie |
US7405028B2 (en) | 2004-01-30 | 2008-07-29 | Infineon Technologies, Ag | Polymers based on cinnamic acid as a bottom antireflective coating for 157 NM photolithography |
Also Published As
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AT287742B (de) | 1971-02-10 |
NL6813382A (de) | 1969-03-20 |
ES358264A1 (es) | 1970-04-01 |
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PL | Patent ceased |