AT287742B - Verfahren zur Herstellung von bimetallischen, planographen Druckplatten - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von bimetallischen, planographen Druckplatten

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AT287742B
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bimetallic
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planographic printing
planographic
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AT899268A
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Leo Seth Burneth
Fred William West
Kenneth John Radimer
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Fmc Corp
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer

Landscapes

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  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
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DE102004004865B4 (de) * 2004-01-30 2008-01-10 Qimonda Ag Antireflexschicht, die mit einem Photoresist beschichtet ist, enthaltend Polymere auf der Basis von Zimtsäure für die 157 nm Photolithographie

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GB1217719A (en) 1970-12-31
ES358264A1 (es) 1970-04-01
DE1797352A1 (de) 1971-03-18
FR1597523A (de) 1970-06-29
NL6813382A (de) 1969-03-20
BE720748A (de) 1969-03-12

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