CH518375A - Installation de placage galvanoplastique - Google Patents

Installation de placage galvanoplastique

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CH518375A
CH518375A CH1924570A CH1924570A CH518375A CH 518375 A CH518375 A CH 518375A CH 1924570 A CH1924570 A CH 1924570A CH 1924570 A CH1924570 A CH 1924570A CH 518375 A CH518375 A CH 518375A
Authority
CH
Switzerland
Prior art keywords
installation
barrel
electrode
revolution
electroplating
Prior art date
Application number
CH1924570A
Other languages
English (en)
Inventor
Gadina Paul
Original Assignee
Thermocompact Sa
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Filing date
Publication date
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Publication of CH518375A publication Critical patent/CH518375A/fr

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Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/16—Apparatus for electrolytic coating of small objects in bulk
    • C25D17/18—Apparatus for electrolytic coating of small objects in bulk having closed containers
    • C25D17/20—Horizontal barrels

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Description


  
 



  Installation de placage galvanoplastique
 La présente invention a pour objet une installation de placage galvanoplastique comportant un tonneau rotatif destiné à contenir les pièces à plaquer, à l'intérieur duquel se trouve placée au moins une électrode reliée à   l'un    des pôles de la source du courant de placage.



   Cette installation est caractérisée par le fait que ladite électrode est constituée par au moins un corps de révolution.



   Le dessin représente, à titre d'exemple, une forme d'exécution de l'objet de l'invention.



   La fig. 1 est une vue en perspective, schématique, d'une installation de placage galvanoplastique, et
 la fig. 2 est une coupe axiale du tonneau de cette installation.



   L'installation représentée comporte un bâti comprenant deux panneaux latéraux 1 reliés par des traverses 2 et 3, destiné à être plongé dans une cuve de placage, non représentée, dans laquelle se trouve un électrolyte; une électrode (en l'occurrence l'anode) reliée à   l'un    des pôles de la source du courant de placage est immergée dans cet électrolyte.



   L'installation comporte un tambour ajouré 4 dit   tonneau de placage  muni de deux flasques latéraux 5 tournant entre les deux panneaux 1 du bâti, et qui est destiné à contenir les pièces à plaquer qui y sont disposées en vrac.



   La seconde électrode de l'installation, dans le cas particulier la cathode, est constituée par deux corps de révolution 6, en l'occurrence des sphères, reliés chacun, par un câble passant par le centre des flasques latéraux 5 du tonneau 4, à l'autre pôle de la source du courant de placage. Ces deux sphères 6, par exemple en laiton ou en cuivre, ou en un alliage de ces métaux, sont maintenues assemblées par une tige 8 électriquement isolante. Elles sont disposées dans le tonneau 4 de manière que leurs centres soient situés sur un axe géométrique 9 (fig. 2) parallèle à l'axe 10 de rotation du tonneau.



   En variante, la tige de liaison 8 pourrait être électriquement conductrice.



   Suivant la forme et la grandeur du tonneau et suivant la forme et le comportement au roulement des pièces à traiter, le corps de révolution constituant l'électrode pourra ne pas être sphérique mais être, par exemple, un ellipsoïde allongé ou aplati ou un ovoïde.



   REVENDICATION



   Installation de placage galvanoplastique comportant un tonneau rotatif destiné à contenir les pièces à plaquer, à l'intérieur duquel se trouve placée au moins une électrode reliée à   l'un    des pôles de la source du courant de placage, caractérisée par le fait que ladite électrode est constituée par au moins un corps de révolution.

 

   SOUS-REVENDICATIONS
 1. Installation suivant la revendication, caractérisée par le fait que ledit corps de révolution est sphérique.



   2. Installation suivant la revendication, caractérisée par le fait que ladite électrode est constituée par deux corps de révolution, tous deux reliés au même pôle de la source de courant.



   3. Installation suivant la revendication et la sousrevendication 2, caractérisée par le fait que lesdits corps de révolution sont reliés   l'un    à l'autre par un organe rigide de liaison, leur centre se trouvant situé sur un axe géométrique dirigé parallèlement à l'axe de rotation du tonneau.



   4. Installation suivant la revendication et les sousrevendications 2 et 3, caractérisée par le fait que la 

**ATTENTION** fin du champ DESC peut contenir debut de CLMS **.

Claims (1)

  1. **ATTENTION** debut du champ CLMS peut contenir fin de DESC **.
    Installation de placage galvanoplastique La présente invention a pour objet une installation de placage galvanoplastique comportant un tonneau rotatif destiné à contenir les pièces à plaquer, à l'intérieur duquel se trouve placée au moins une électrode reliée à l'un des pôles de la source du courant de placage.
    Cette installation est caractérisée par le fait que ladite électrode est constituée par au moins un corps de révolution.
    Le dessin représente, à titre d'exemple, une forme d'exécution de l'objet de l'invention.
    La fig. 1 est une vue en perspective, schématique, d'une installation de placage galvanoplastique, et la fig. 2 est une coupe axiale du tonneau de cette installation.
    L'installation représentée comporte un bâti comprenant deux panneaux latéraux 1 reliés par des traverses 2 et 3, destiné à être plongé dans une cuve de placage, non représentée, dans laquelle se trouve un électrolyte; une électrode (en l'occurrence l'anode) reliée à l'un des pôles de la source du courant de placage est immergée dans cet électrolyte.
    L'installation comporte un tambour ajouré 4 dit tonneau de placage muni de deux flasques latéraux 5 tournant entre les deux panneaux 1 du bâti, et qui est destiné à contenir les pièces à plaquer qui y sont disposées en vrac.
    La seconde électrode de l'installation, dans le cas particulier la cathode, est constituée par deux corps de révolution 6, en l'occurrence des sphères, reliés chacun, par un câble passant par le centre des flasques latéraux 5 du tonneau 4, à l'autre pôle de la source du courant de placage. Ces deux sphères 6, par exemple en laiton ou en cuivre, ou en un alliage de ces métaux, sont maintenues assemblées par une tige 8 électriquement isolante. Elles sont disposées dans le tonneau 4 de manière que leurs centres soient situés sur un axe géométrique 9 (fig. 2) parallèle à l'axe 10 de rotation du tonneau.
    En variante, la tige de liaison 8 pourrait être électriquement conductrice.
    Suivant la forme et la grandeur du tonneau et suivant la forme et le comportement au roulement des pièces à traiter, le corps de révolution constituant l'électrode pourra ne pas être sphérique mais être, par exemple, un ellipsoïde allongé ou aplati ou un ovoïde.
    REVENDICATION
    Installation de placage galvanoplastique comportant un tonneau rotatif destiné à contenir les pièces à plaquer, à l'intérieur duquel se trouve placée au moins une électrode reliée à l'un des pôles de la source du courant de placage, caractérisée par le fait que ladite électrode est constituée par au moins un corps de révolution.
    SOUS-REVENDICATIONS 1. Installation suivant la revendication, caractérisée par le fait que ledit corps de révolution est sphérique.
    2. Installation suivant la revendication, caractérisée par le fait que ladite électrode est constituée par deux corps de révolution, tous deux reliés au même pôle de la source de courant.
    3. Installation suivant la revendication et la sousrevendication 2, caractérisée par le fait que lesdits corps de révolution sont reliés l'un à l'autre par un organe rigide de liaison, leur centre se trouvant situé sur un axe géométrique dirigé parallèlement à l'axe de rotation du tonneau.
    4. Installation suivant la revendication et les sousrevendications 2 et 3, caractérisée par le fait que la pièce de liaison est constituée par une tige électriquement isolante.
    5. Installation suivant la revendication et les sousrevendications 2 et 3, caractérisée par le fait que la pièce de liaison est constituée par une tige électriquement conductrice.
CH1924570A 1970-12-28 1970-12-28 Installation de placage galvanoplastique CH518375A (fr)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3822726A1 (de) * 1987-12-01 1989-06-15 Takashi Kanehiro Vorrichtung zum trommelgalvanisieren

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3822726A1 (de) * 1987-12-01 1989-06-15 Takashi Kanehiro Vorrichtung zum trommelgalvanisieren

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