CH506807A - Fotopolymerisierbarer Lack und dessen Verwendung zur Erzeugung eines Reliefbildes - Google Patents

Fotopolymerisierbarer Lack und dessen Verwendung zur Erzeugung eines Reliefbildes

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CH506807A
CH506807A CH732968A CH732968A CH506807A CH 506807 A CH506807 A CH 506807A CH 732968 A CH732968 A CH 732968A CH 732968 A CH732968 A CH 732968A CH 506807 A CH506807 A CH 506807A
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CH
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photopolymerizable
photopolymerisable
groups
compound
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CH732968A
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English (en)
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Herward Dr Pietsch
Charlotte Dr Rabe
Baumbach Wolfgang
Kuhnert Lothar
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Wolfen Filmfab Veb
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F8/00Chemical modification by after-treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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