CH499883A - Verfahren zum Herstellen einer auf einem elektrisch isolierenden Fremdsubstrat befindlichen integrierten Halbleiterschaltung - Google Patents

Verfahren zum Herstellen einer auf einem elektrisch isolierenden Fremdsubstrat befindlichen integrierten Halbleiterschaltung

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CH499883A
CH499883A CH1453469A CH1453469A CH499883A CH 499883 A CH499883 A CH 499883A CH 1453469 A CH1453469 A CH 1453469A CH 1453469 A CH1453469 A CH 1453469A CH 499883 A CH499883 A CH 499883A
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CH1453469A 1968-09-30 1969-09-26 Verfahren zum Herstellen einer auf einem elektrisch isolierenden Fremdsubstrat befindlichen integrierten Halbleiterschaltung CH499883A (de)

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DE19681789064 DE1789064A1 (de) 1968-09-30 1968-09-30 Verfahren zum Herstellen epitaktischer Schichten aus elektrisch isolierendem Material unter Verwendung eines aus Halbleitermaterial bestehenden Traegerkoerpers

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU400139A1 (ru) * 1971-07-07 1974-02-25 Фонд вноертш
US3914525A (en) * 1974-03-15 1975-10-21 Rockwell International Corp Mercury sulfide films and method of growth
JPS535994B2 (de) * 1974-09-26 1978-03-03
JPS57211267A (en) * 1981-06-22 1982-12-25 Toshiba Corp Semiconductor device and manufacture thereof
JPS58156348U (ja) * 1982-04-14 1983-10-19 株式会社三ツ葉電機製作所 磁石発電機に接続する点灯充電装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3341361A (en) * 1963-02-21 1967-09-12 Union Carbide Corp Process for providing a silicon sheet
US3411946A (en) * 1963-09-05 1968-11-19 Raytheon Co Process and apparatus for producing an intermetallic compound

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