CH448285A - Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung negativer Ionen - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung negativer Ionen

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CH448285A
CH448285A CH192662A CH192662A CH448285A CH 448285 A CH448285 A CH 448285A CH 192662 A CH192662 A CH 192662A CH 192662 A CH192662 A CH 192662A CH 448285 A CH448285 A CH 448285A
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CH
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metallic layer
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photoelectrons
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emitted
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CH192662A
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Joseph Morowitz Harold
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Scovill Manufacturing Co
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01TSPARK GAPS; OVERVOLTAGE ARRESTERS USING SPARK GAPS; SPARKING PLUGS; CORONA DEVICES; GENERATING IONS TO BE INTRODUCED INTO NON-ENCLOSED GASES
    • H01T23/00Apparatus for generating ions to be introduced into non-enclosed gases, e.g. into the atmosphere
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J27/00Ion beam tubes
    • H01J27/02Ion sources; Ion guns
    • H01J27/028Negative ion sources

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Electrostatic Separation (AREA)

Description


  Verfahren und     Vorrichtung        zur    Herstellung     negativer    Ionen    Die Erfindung betrifft ein verbessertes Verfahren  und eine verbesserte Vorrichtung zur Erzeugung nega  tiver Ionen.  



  Das erfindungsgemässe Verfahren zur Erzeugung  negativer Ionen ist durch folgende Stufen gekennzeich  net: Erzeugung einer     Photonenstrahlung    von vorbe  stimmter Wellenlänge, Auffangen der     Photonenstrah-          lung    mit einer Metallschicht von einer Dicke, die aus  reicht, um die     Photonenstrahlung    auf ihrer einen Seite  zu absorbieren, und die so dünn ist, dass Photoelektro  nen in einen an die andere Seite der Schicht angren  zenden gasgefüllten Bereich, worin negative Ionen er  zeugt werden, emittiert werden.  



  Die Vorrichtung zur Erzeugung negativer Ionen  umfasst eine     Photonenstrahlungsquelle,    eine metalli  sche Schicht, die so angeordnet ist, dass sie auf einer  Seite     Photonenstrahlung    aus dieser Quelle empfangen  kann, und eine solche Dicke aufweist, die gross genug  ist, um den Austritt von Photoelektronen in einen an  die gegenüberliegende Seite der Schicht angrenzenden  Bereich zu ermöglichen.  



  Anhand der beigefügten-Zeichnung wird die Erfin  dung beispielsweise näher erläutert. Diese Zeichnung  gibt eine Ausführungsform der Vorrichtung gemäss der  Erfindung schematisiert und im Schnitt wieder, wobei  einige Teile im Bruch dargestellt sind.  



  Es hat sich gezeigt, dass negative Ionen für viele  Zwecke, beispielsweise zur Luftreinigung und in der  Therapie, verwendbar sind. Bisher traten Schwierigkei  ten auf, wenn der Versuch gemacht wurde, wirklich  befriedigende Erzeuger von negativen Ionen zu schaf  fen, insbesondere wenn eine hohe Konzentration an  negativen Ionen erwünscht war.  



  Bei der als Beispiel wiedergegebenen Ausführungs  form der Vorrichtung gemäss der Erfindung ist die  Hülle     einer    ultraviolette     Photonen    emittierenden Röhre  mit einer dünnen metallischen Schicht aus Gold über  zogen. Diese Schicht absorbiert von dem     Emitter    in  der Röhre kommende     Photonen    auf einer ihrer Ober  flächen und sendet Photoelektronen aus ihrer anderen    oder äusseren Oberfläche aus, d. h. die Photoelektro  nen werden von der Seite der Schicht ausgesandt, die  der Seite, auf welcher die     Photonen    absorbiert werden,  entgegengesetzt ist. Die Photoelektronen werden von  den Atomen oder Molekülen eines die     Hülle    umgeben  den Gases aufgefangen.

   Bei der als Beispiel betrachte  ten Ausführungsform ist dieses Gas ein Luftstrom, der  die negativen Ionen zu dem Bereich     führt,    wo sie ange  wandt werden.  



  In der Röhre 2 ist an ihrer Basis 4 eine Emissions  einrichtung angeordnet, die ultraviolette     Photonen    er  zeugt. Die Röhre 2 weist eine Hülle 6 aus Quarz oder        Vicor         (95        %        Quarz        und    5     %        Glas)        auf.        Auf        der        äus-          seren    Oberfläche der Hülle 6 befindet sich ein dünner  metallischer Überzug oder eine Schicht 8 aus Gold.

    Die Schicht 8 ist durch einen Draht 10 geerdet, der  durch eine Klemme 11 daran festgehalten wird, so dass  sie auf Erdpotential gehalten wird. Die Röhre 2 befin  det sich in einem Gehäuse 12, das eine     jalousieartige     Einlassöffnung 14 sowie eine     Auslassöffnung    16 auf  weist, aus welcher die Luft mit Hilfe eines Gebläses  20, das durch einen Elektromotor angetrieben wird,  abgezogen wird. Die     Photonen    treten ohne Behinde  rung durch die Hülle 6 hindurch und gelangen auf die  innere Oberfläche der Schicht B. Dadurch wird die  Schicht 8 zur Emission von Elektronen veranlasst, die  in den Bereich 22 der die Hülle umgebenden Luft ein  treten. In dieser Luft befindliche Staubteilchen können  einige der Photoelektronen aufnehmen.

   Die anderen  Photoelektronen werden von den Atomen oder Mole  külen der Luftbestandteile, z. B. dem Sauerstoff aufge  nommen, wodurch die Luft zu einer konzentrierten  negativen     Ionenquelle    wird. Das Gebläse     fördert    die  Luft aus diesem Bereich 22 in den Bereich oder die  Bereiche der Verwendung. Die Luft wirkt daher als  Fördermittel für den     Transport    der negativen Ionen  aus der Zone 22 bei der Röhre 2.  



  Die dünne Schicht 8 aus Metall wird auf die Röh  renhülle 6 im Vakuum aufgedampft, wodurch eine ge  naue Einstellung der Stärke der metallischen Schicht      auf der gesamten Oberfläche der Hülle gewährleistet  wird. Bei der als Beispiel gewählten     Ausführungsform     besteht die metallische Schicht aus Gold mit     e-ner     Stärke in der Grössenordnung von 75 bis 400     Ang-          ström-Einheiten,    wobei bestimmte Prüfungen erkennen  lassen, dass die bevorzugte Stärke nahe bei der unteren  Grenze dieses Bereichs liegt.  



  Die Schicht 8 ist dick genug, um eine Absorption  der     Photonen    zu ermöglichen, und dünn genug, um  den Austritt der Photoelektronen zuzulassen.  



  Bei der als Beispiel gewählten Ausführungsform ist  die Röhre 2 eine     Niederdruck-Quecksilber-Entladungs-          röhre,    die 90     0.%o    ihrer Energie bei einer Wellenlänge  von 2537 A emittiert. Die Röhre ist auf 3,5 Watt aus  gelegt und hat eine Leistung an ultravioletten     Photonen     von 0,1 Watt. Wie bereits erwähnt, ist die Goldschicht  8 im Vakuum aufgedampft worden, und während des       Aufbringens    dieser Schicht wurde die Röhre mit kon  stanter Geschwindigkeit zwischen zwei     Golddampfquel-          len    gedreht. Der     Erdungsdraht    10 ist mechanisch an  die Schicht 8     angeklemmt.     



  Anstelle des in dem obigen Beispiel genannten  können auch andere Metalle und andere     Photonen-          quellen    verwendet werden. Bekanntlich werden Pho  toelektronen aus der Schicht nur dann     emittiert,        wenn     die     Photonen    eine hierfür ausreichend hohe Energie  besitzen. Im allgemeinen erzeugen bei einem gegebenen  Metallüberzug nur     Photonen    mit einer Wellenlänge  unter einer bestimmten Grenze Photoelektronen. Die  maximale Wellenlänge für den jeweiligen metallischen  Überzug kann aus der photoelektrischen Funktion des  Metalls nach der Gleichung  
EMI0002.0021     
    berechnet werden.

   In dieser Gleichung bedeutet W die  Energie in Elektronenvolt, h die     Planksche    Konstante,  c die Lichtgeschwindigkeit und A     max    die grösste Wel  lenlänge des ein Photoelektron erzeugenden     Photons.     Im folgenden werden die Werte von W und A     max    für  einige Metalle wiedergegeben.

    
EMI0002.0026     
  
    W <SEP> max
<tb>  Gold <SEP> 4,82 <SEP> 2552 <SEP> A
<tb>  Caesium <SEP> 2,84 <SEP> 4331 <SEP> A
<tb>  Quecksilber <SEP> 4,53 <SEP> 2715 <SEP> A
<tb>  Nickel <SEP> 5,01 <SEP> 2455 <SEP> A
<tb>  Blei <SEP> 4,0 <SEP> 3075 <SEP> A
<tb>  Silber <SEP> 4,73 <SEP> 2600 <SEP> A
<tb>  Wolfram <SEP> 4,5 <SEP> 2733 <SEP> A       Wird eine     Lichtemissionsröhre    mit einer dünnen  Metallschicht bedeckt, dann werden bekanntlich Pho  toelektronen abgegeben, wenn alle der folgenden Be  dingungen herrschen:  1. Die Wellenlänge mindestens eines Teils des  emittierten Lichts ist geringer als das für den metalli  schen Überzug kritische Maximum.  



  2. Die Photoelektronen können aus dem metalli  schen Überzug austreten und  3. Der Metallfilm lädt sich nicht positiv auf,  wodurch das Austreten weiterer Photoelektronen ver  hindert würde.    Die Bedingung 1 kann erhalten werden, indem eine  geeignete Quelle des Emissionsspektrums der     Lamne     und ein geeigneter metallischer Überzug gewählt  werden. In diesem Zusammenhang ist zu beachten,  dass Legierungen häufig niedrigere Energiefunktion als  das reine Metall aufweisen. Normale Wolfram-Lampen  emittieren Licht bis herab zu 3000     Angström,    Queck  silberbogenlampen emittieren Licht bis herab zu 1849       Angström.     



  Die Bedingung 2 wird bei Vorliegen eines ausrei  chend dünnen     Metallfims    erzielt. Hier müssen 2 Fakto  ren aufeinander abgestimmt werden: die Wahrschein  lichkeit, dass ein     Photon        absorbiert    wird, steigt mit der  Dicke des Films, wohingegen die Wahrscheinlichkeit,  dass das Photoelektron austritt, mit der Dicke des  Films abnimmt. Im allgemeinen kann die optimale  Stärke nicht theoretisch vorausgesagt werden, sondern  ist experimentell zu bestimmen. Dies beruht darauf,  dass keine genauen     Energiebereichskurven    für Elektro  nen sehr geringer Energie vorliegen.  



  Die Bedingung 3 wird z. B durch einen     Erdungs-          draht,    der mit dem metallischen Film in Berührung  steht, hergestellt.  



  Bei der als Beispiel gewählten Ausführungsform  wird auf eine einzige Röhre bezogen, und der metalli  sche Überzug hat im wesentlichen die Form einer  Kugelhülle. Es können aber auch mehr als eine Röhre       eingesezt    und in Parallel- oder Reihenschaltung be  trieben werden, wobei auch Röhren anderer Arten und  Formen verwendbar sind. Die Röhre ist mit Hilfsteilen  versehen, z. B. einem Schalter, einem Widerstand und  Draht zum Anschluss an eine Stromquelle, die der  Klarheit wegen in der Zeichnung weggelassen sind.

Claims (1)

  1. PATENTANSPRÜCHE I. Verfahren zur Erzeugung negativer Ionen, dadurch gekennzeichnet, dass eine Photonenstrahlung von vorbestimmter Wellenlänge erzeugt und die Photo- nenstrahlung mittels einer metallischen Schicht abge fangen wird, die hinreichend dick ist, um die auf der einen Seite auftreffende Photonenstrahlung zu absor bieren, und die hinreichend dünn ist, um Photoelektro nen in einen an die gegenüberliegende Seite der Schicht angrenzenden gasgefüllten Bereich zu emittie ren.
    1I. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens gemäss Patentanspruch I, die eine Photonenstrahlungs- quelle aufweist, gekennzeichnet durch eine metallische Schicht, die so angeordnet ist, dass sie auf ihrer einen Seite Photonenstrahlung aus dieser Quelle empfangen kann, und die eine Dicke aufweist, die gross genug ist, um die von dieser Quelle ausgestrahlten Photonen ab zufangen, und die gering genug ist, um den Austritt von Photoclektronen in einen an die gegenüberliegende Seite der Schicht angrenzenden Bereich zu ermögli chen. UNTERANSPRÜCHE 1.
    Verfahren nach Patentanspruch I, dadurch ge kennzeichnet, dass negative Ionen aus dem Bereich, worin die Photoelektronen emittiert werden, abgezogen werden, indem Luft in diesen Bereich ein und ausge führt wird. 2. Vorrichtung nach Patentanspruch II, dadurch gekennzeichnet, dass sich die metallische Schicht auf der Aussenwand einer nichtmetallischen Hülle befin det, die die Photonenquelle umgibt. 3. Vorrichtung nach Patentanspruch II, dadurch gekennzeichnet, dass Einrichtungen zum Abziehen der negativen Ionen aus dem Bereich vorgesehen sind, der an die Seite der metallischen Schicht angrenzt, aus der die Photoelektronen emittiert werden. 4.
    Vorrichtung nach Unteranspruch 3, dadurch gekennzeichent, dass Umwälzeinrichtungen vorgesehen sind, die Gase in den und aus dem Bereich strömen lassen, der an die Seite der metallischen Schicht an grenzt, aus der die Photoelektronen emittiert werden. 5. Vorrichtung nach Patentanspruch II, dadurch gekennzeichnet, dass die metallische Schicht geerdet ist und daher ein praktisch stabiles Potential aufweist. 6.
    Vorrichtung nach Unteranspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass sich die metallische Schicht und der Bereich der an die Seite der metallischen Schicht angrenzt, aus der die Photoelektronen emittiert wer den, innerhalb eines Gehäuses befinden, das an diesen Bereich angrenzende Einlass- und Auslassöffnungen besitzt, und dass die Umwälzeinrichtungen aus einem Gebläse bestehn, das die Strömung der Gase durch den Einlass, diesen Bereich und den Auslass zu bewirten vermag. 7.
    Vorrichtung nach Patentanspruch II, dadurch gekennzeichnet, dass die metallische Schicht aus Gold besteht und eine Dicke von 75 bis 400 Angström-Ein- heiten, vorzugsweise 75 Angström-Einhe:ten besitzt, und dass die Photonenstrahlungsquelle aus einer h'ie- derdruck-Quecksilber-Entladungsröhre besteht.
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