BR9808074B1 - componente semicondutor, em particular uma cÉlula solar. - Google Patents
componente semicondutor, em particular uma cÉlula solar. Download PDFInfo
- Publication number
- BR9808074B1 BR9808074B1 BRPI9808074-1A BR9808074A BR9808074B1 BR 9808074 B1 BR9808074 B1 BR 9808074B1 BR 9808074 A BR9808074 A BR 9808074A BR 9808074 B1 BR9808074 B1 BR 9808074B1
- Authority
- BR
- Brazil
- Prior art keywords
- semiconductor
- pyrite
- semiconductor component
- solar cell
- layer
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 66
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 43
- 229910052683 pyrite Inorganic materials 0.000 claims description 42
- NIFIFKQPDTWWGU-UHFFFAOYSA-N pyrite Chemical compound [Fe+2].[S-][S-] NIFIFKQPDTWWGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 15
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 13
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 8
- 229910052960 marcasite Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 37
- 239000011028 pyrite Substances 0.000 description 34
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 13
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 238000000407 epitaxy Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007943 implant Substances 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000005445 natural material Substances 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 2
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 2
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-2h-tetrazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NNN=N1 MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBMLMWLHJBBADN-UHFFFAOYSA-N Ferrous sulfide Chemical compound [Fe]=S MBMLMWLHJBBADN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021576 Iron(III) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 102000005298 Iron-Sulfur Proteins Human genes 0.000 description 1
- 108010081409 Iron-Sulfur Proteins Proteins 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZOWAFFTOUGEDU-UHFFFAOYSA-N [Ar].[S] Chemical compound [Ar].[S] AZOWAFFTOUGEDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001638 boron Chemical class 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002301 combined effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N copper(II) sulfide Chemical compound [S-2].[Cu+2] OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000002003 electron diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical class 0.000 description 1
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000005610 quantum mechanics Effects 0.000 description 1
- 239000011435 rock Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-N sodium polysulfide Chemical compound [Na+].S HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005118 spray pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 239000006163 transport media Substances 0.000 description 1
- FEONEKOZSGPOFN-UHFFFAOYSA-K tribromoiron Chemical compound Br[Fe](Br)Br FEONEKOZSGPOFN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/0248—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
- H01L31/0256—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
- H01L31/0264—Inorganic materials
- H01L31/032—Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only compounds not provided for in groups H01L31/0272 - H01L31/0312
- H01L31/0321—Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only compounds not provided for in groups H01L31/0272 - H01L31/0312 characterised by the doping material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/0248—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
- H01L31/0256—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
- H01L31/0264—Inorganic materials
- H01L31/032—Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only compounds not provided for in groups H01L31/0272 - H01L31/0312
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Recrystallisation Techniques (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
"COMPONENTE SEMICONDUTOR, EM PARTICULAR UMA CÉLULASOLAR".
A presente invenção refere-se a um componentesemicondutor, em particular uma célula solar, com pelo menosum material de base semicondutor consistindo de umaestrutura mono ou policristalina, que consiste, pelo menosem parte, de pirita, com a composição química FeS2 e que épurificada para alcançar um grau de pureza definido.
Inúmeros componentes semicondutores oufotocomponentes semicondutores genéricos já sãoreconhecidamente usados comercialmente, dado um nível deeficácia de aproximadamente 15%, baseado no efeitofotoelétrico interno da energia de radiação do sol ou daluz. Monocristais finos de arsenieto de silício ou gálio eferro, com zonas condutoras ρ e n, são usadospredominantemente como materiais semicondutores.
As células solares de camadas finas também são, nocaso em que as camadas semicondutoras estão posicionadassobre um portador por meio de metalização ou técnicasimilar, reconhecidas por produzirem uma espessura na faixados micrômetros (1 a 50 μπι). Os materiais, tais comosulfeto de cádmio, telureto de cádmio, sulfeto de cobre ousimilares, são usados em camadas semicondutoras. Essescomponentes semicondutores são capazes de atingir umaeficácia de somente 5 a 8%. Entretanto, eles têm umarelação potência-peso útil e a produção é essencialmentemenos dispendiosa do que os monocristais de silício.
De acordo com o relatório descritivo da patente n2EP-A 0 173 642, uma célula solar genérica consiste de umacamada de pirita fotoativa com a fórmula química FeS2 ,quetem uma concentração de impurezas xndesejaveis < 10 por cme um dopador de manganês (Mn) ou arsênico (As) e/ou cobalto(Co) ou cloro (Cl). Na prática, parece que uma célula solarcom esta composição não consegue alcançar o nível deeficiência requerido.
Em contrapartida, o objeto desta invenção consisteem criar um componente semicondutor, particularmente umacélula solar, baseado no tipo mencionado acima, que pode serusado para alcançar uma eficiência mais alta do que aradiação conhecida do sol ou da luz. Além disso, os custosde produção, com relação a este componente semicondutor,serão suficientemente baixos para que este tipo de célulasolar possa ser apropriado para produção em massa. Um outroobjeto da invenção reside em usar um material semicondutorque possa ser descartado facilmente de modo inofensivo aomeio ambiente.
A invenção é capaz de atender ao objetivo de que omaterial semicondutor de base, que consiste, pelo menos emparte, de pirita com a composição química FeS2, é combinadoou dopado pelo menos com boro e fósforo, respectivamente.Sendo um tipo muito vantajoso, o materialsemicondutor de base é produzido a partir de pelo menos umacamada de pirita junto com os elementos boro e fósforo.Usado dessa maneira, consegue-se uma composição ótima eextremamente eficiente, especialmente para células solares.
Esses componentes semicondutores, de acordo com ainvenção, podem ser usados para produzir células solares quetêm eficiência maior do que outras células solaresconhecidas. A pirita usada como material semicondutor tem avantagem de ser um material natural que também pode serproduzido sinteticamente. Os custos de produção podem sermantidos em um nivel tal que, dado o nível maior deeficiência, pode-se obter um uso lucrativo.
BREVE DESCRIÇÃO DOS DESENHOS
Os exemplos típicos da invenção e outras vantagensda mesma estão explicados mais detalhadamente abaixo, com oauxílio dos desenhos, os quais ilustram:
A Figura 1 é um corte transversal esquemáticoatravés de um componente semicondutor, de acordo com ainvenção, ilustrado em escala ampliada;
A Figura 2 é uma vista esquemática da divisão deenergia das condições "d" do Fe em campo ligante octaédricoe octaédrico deformado da pirita;
A Figura 3 é um corte transversal esquemáticoatravés de um componente semicondutor, de acordo com ainvenção, com uma heterojunção, ilustrado em escalaampliada; e
A Figura 4 é uma vista esquemática das faixas deenergia com uma heterojunção de um componente semicondutor,de acordo com a invenção.
A Figura 1 é um esquema de um componentesemicondutor 10, de acordo com a invenção, que é formado,particularmente, como uma célula solar. No exemplo típicoilustrado, este componente semicondutor 10 tem uma estruturade múltiplas camadas e pode, por exemplo, junto com um certonúmero de células adjacentes, ser chapeado em uma carcaçametálica formada como um quadro, que não está ilustradodetalhadamente. A célula solar tem, de preferência, umaplaca de cobertura de um material transparente, como porexemplo, uma lâmina de vidro 11 ou similar, que fornece paraesta célula uma proteção geral contra os efeitos de forçasmecânicas, tais como impactos, etc., contra umidade e/oucondições climáticas adversas. Uma camada laminada 12, deresina por exemplo, junto com um isolante 14 colocado sobreo lado inferior, como por exemplo, uma placa de cerâmica,circunda a célula solar, de modo que o interior da célulasolar é fechado, e portanto, impermeável à umidade, água oufatores similares.
De acordo com a invenção, o material semicondutorde base 20 consiste de pirita ou pirita de ferro, que tem acomposição química FeS2. 0 material semicondutor de base 20é combinado ou dopado com pelo menos boro ou fósforo, com oque, no exemplo ilustrado, o material semicondutor de baseconsiste de uma camada 20 de FeS2-
O componente semicondutor 10, formado como umacélula em estado sólido, consiste de uma camada do materialsemicondutor de base produzido a partir de pirita, umacamada de fósforo 21 e uma camada de boro 22. Essa camadade fósforo 21 e essa camada de boro 22 são aplicadas nasuperfície correspondente da camada de pirita 20, de talmodo que produz-se uma ligação, no sentido de um dopador,entre o material semicondutor de base e o fósforo (P), juntocom o boro (B). De preferência, essas camadas de fósforo 21e boro (22) são aplicadas em uma camada muita fina de algunsmicrômetros, através de um processo descrito abaixo.
Assim sendo, deriva-se a função necessária destecomponente semicondutor 10, formado como uma célula solar, apartir da qual, junto com a radiação da luz solar, produz-seuma corrente elétrica que sofre oportunamente uma derivaçãopelos materiais condutores 13 e 15, que estão dispostosacima e abaixo das camadas do semicondutor, por um métodoconhecido, em que o material condutor é protegido peloisolador 14. Esses materiais condutores estão conectados auma unidade do consumidor, ou similar, por meio decabeamento, cujo diagrama não está ilustrado.A Figura 1 está ilustrada como célula solar comuma estrutura simples, de acordo com a invenção.
Evidentemente, tanto os materiais condutores quanto também acamada semicondutora podem ser fornecidas em váriasconfigurações e em várias quantidades.
Este tipo de componente semicondutor pode serusado como vários tipos de células solares, seja paracélulas muito pequenas, como por exemplo, calculadoras, ouem células solares para aquecimento doméstico e fábricas delarga escala, em cujo caso elas são usadas, particularmente,para converter energia solar em energia elétrica.
A pirita e a pirita de ferro, como rochasnaturais, são os sulfetos mais comuns no planeta e elasexistem na Espanha, por exemplo, como uma área de minériohidrotérmico. Os cristais individuais de pirita tem cor debronze ou argamassa, com um alto grau de dureza, isto é,aproximadamente 6 a 6,5 na escala Mohs de dureza. A piritatem um coeficiente de expansão térmica de 4,5xl0~6 K"1 emtemperaturas de 90 até 300 °K, e de 8,4xl0~6 K"1 emtemperaturas de 300 até 500 °K. A pirita de composiçãoquimica FeS2 tem uma célula elementar de 12 átomos e umcomprimento unitário de célula de aproximadamente 5,4185unidades angstrons. 0 formato básico típico do hábito doscristais de pirita é hexaédrico, um formato cúbico,pentagonal, um dodecágono ou um octaedro. Uma outravantagem deste componente semicondutor é que esta pirita éextremamente compatível com o meio ambiente.
Em termos de eficiência desta célula solar 10,como descrita pela invenção, de acordo com as regras geraisda mecânica quântica, somente são efetivos aqueles fótonscuja energia é pelo menos equivalente à amplitude da zonaisolante e não mais do que equivalente à diferença deenergia entre o limite inferior da faixa de valência e olimite superior da faixa de condução. A quantidade dosportadores de carga resultantes é dependente não somente daenergia e do número de fótons irradiados por unidade desuperfície, mas também do coeficiente de absorção á dosemicondutor. Comparado com materiais semicondutorestradicionais, a pirita tem um coeficiente de absorção muitoalto, que no limite da faixa, com um coeficiente de absorçãoá > IO5 cm-1, tem um valor de λ < 1 μπι. Criando osemicondutor 10 de acordo com a invenção, faz-se ótimo usodessas propriedades da pirita.
De acordo com a Figura 2, a divisão de energia dascondições "d" do Fe pode ser observada no campo ligante Ohoctaédrico e D3d octaédrico deformado da pirita. Cria-seuma faixa isolante no material semicondutor de basedividindo as condições "d" do Fe nas condições t2g ocupada eeg desocupada, com o que esta faixa isolante pode ser de até0,7 eV ou mais. A faixa de valência tem uma amplitude de0,8 eV ou mais e o grupo básico é separado por uma faixa,também de 0,8 eV. As condições tcifta da faixa de conduçãosão baseadas nas condições de Fe 4s e 4p. Na área da teoriamolecular orbital, as faixas isolantes de energia no caso dapirita são produzidas por divisão das condições de 3d doferro em condições energeticamente inferiores de t2g ocupadae eg desocupada. A divisão é causada pelo campo do liganteoctaédrico do enxofre, que é ligeiramente deformado e queleva a uma ulterior, e neste caso, não-significativa divisãodo nivel de energia.
A Figura 3, por outro lado, ilustraesquematicamente uma seção transversal de um componentesemicondutor 50, de acordo com a invenção, que é formado apartir de pelo menos uma camada superior de pirita 51, queforma o material semicondutor de base 40, e que consiste deuma camada de boro 52 e uma camada de fósforo 53. A pirita51 está disposta sobre o lado superior, que inicialmenteaceita os efeitos da radiação solar ou similar. Entretanto,com esse arranjo de camadas, de acordo com a invenção,forma-se um composto com o material básico adjacente depirita 51, ou o fósforo 53 e o boro 52 são integrados aomaterial básico adjacente de pirita. Os elementos
condutores podem ser dispostos de tal modo que eles entremem contato com as camadas 51, 52 e 53, para os quais não sefornece maiores detalhes.Em contraste com o material semicondutor de base40, produzido em camadas, como ilustrado na Figura 3, uma oumais camadas de boro e/ou uma ou mais camadas de fósforopodem ser dispostas lateralmente no alvo de pirita produzidocomo um cristal único, por exemplo.
Os materiais semicondutores de base 20 e/ou 4 0para essas células solares 10 e 50, de acordo com ainvenção, podem ser produzidos por vários métodos. A piritana composição de FS2 pode ser obtida como material naturalou produzida sinteticamente a partir de ferro e enxofre.
Ao usar os cristais de pirita natural comomaterial semicondutor de base, esta pirita, que tem umaconcentração liquida de portadores de cargas deaproximadamente IO15 cm-3, precisa ser tratada por umprocesso de purificaçao multizonal conhecido, de modo queela alcance uma pureza definida de 99,9%. Além disso, osmateriais do composto ou dopador, o fósforo e o bororespectivamente, devem alcançar também uma pureza de 99,9%,para serem capazes de produzir as células, de acordo com ainvenção, da mais alta qualidade.
Vários métodos podem ser usados para a produçãoartificial ou síntese da pirita do material semicondutor debase, pelos quais o material de base também é tratado por umprocesso de purificação multizonal, para alcançar o grau depureza mais alto possível do composto químico.O método de produção é apropriado para transporteem fase gasosa (CVT), para o "qual o gradiente detemperaturas para produzir o composto de ferro-enxofre deveser entre 250 0C e 1.200 °C. Caso a pirita for usada comomaterial de base natural, a temperatura no lado doresfriador pode variar entre 250 0C e 850 °C. Como meio detransporte para alimentar o enxofre no ferro, pode-se usarbromo (Br2, FeBr3) ou outro material.
A síntese dos cristais pode ocorrer, por exemplo,em uma solução de polissulfeto de sódio. A pirita pode sersintetizada a partir de elementos de base purificados, ferroe enxofre, ambos com gradientes de temperaturas padrõesentre 260 0C e 1.200 °C, e também com um gradiente de 200 0Caté 1.400 °C. Os métodos de CVT oferecem melhorreprodutibilidade durante a produção, e pode-se conseguircristais absolutamente puros desta maneira.
Para conseguir peças de um único cristal depirita, pode-se usar o método de produção que utiliza umasolução fundida de telúrio, BrCl2, Na, S2, ou materiaissimilares.
Existe outra variante para a produção de pirita, obombardeio de RF. Isto ocorre em uma unidade de bombardeioonde um alvo de pirita é bombardeado com um plasma deargônio-enxofre. A vazão do argônio é usualmente entre 0,1e 300 ml/min. e o enxofre é obtido por vaporização deenxofre elementar. Durante a separação, a pressão detrabalho de 0,01 mbar ou mais, oü mesmo mais baixa, émantida. 0 potencial da corrente continua deautopolarização é ajustado em 0 a 400 volts. A temperaturado substrato é selecionada na faixa entre 80 0C e 950 °C.Com esse processo, em principio, pode-se produzir umaestrutura policristalina.
Para produzir os componentes semicondutores, deacordo com a invenção, como película fino, pode-se usar umsistema de material incongruente. O bombardeio reativoproduzido a partir de um alvo de pirita, os métodos MOCVD epirólise de spray são apropriados. Além disso, o método deevaporação térmica, auxiliado por um sistema transportadorque transporta quantidades pequenas de um composto em pó atéa fonte de evaporação aquecida, garante que o material,dependendo da alta temperatura, seja quase que completamentevaporizado. Este tipo de vaporização oferece o benefício deque pode-se exercer influência sobre a estequiometria, bemcomo sobre um dopador em potencial, já que, por exemplo, odopador pode ser adicionado diretamente ao composto em pó.Caso películas de ferro forem sulfurizadas, sejaexclusivamente por via térmica, ou com auxílio de plasma, épossível partir de materiais de base puros.
A espessura da camada ativa tem uma influênciaimportante sobre a eficiência da célula solar. Para estimara eficiência e os parâmetros necessários da célula, pode-seespecificar áreas-limite apropriadas:
Para dopar ou combinar o material semicondutor debase com fósforo e boro, respectivamente, é preferível usareste último em uma porcentagem de massa de IO"6 a 20% domaterial de base. Isso depende das propriedades requeridasdo componente semicondutor acabado.
O componente semicondutor, de acordo com ainvenção, pode ser produzido também com uma assim denominadacélula em tandem. Neste caso, uma camada dopadora de piritae uma outra camada "p" e "n" de outro cristal semicondutor,como silício, arsenieto de gálio ou outro materialdisponível, pode criar um efeito combinado. Com este tipode componente semicondutor, pode-se fazer uso máximo doespectro, caso esses vários materiais semicondutores de baseforem capazes de cobrir a faixa isolante entre 1,0 e 1,8 eV.
De acordo com a Figura 4 e dentro do âmbito destainvenção, pode-se usar heterojunções entre várioscomponentes semicondutores, como explicado detalhadamenteacima, com relação à variante típica ilustrada na Figura 3.Entretanto, a condição é que as constantes de treliça e oscoeficientes de expansão térmica dos dois materiais nãovariem muito. Como exemplo, de acordo com a invenção, umsemicondutor-p 31 de pirita pode ser combinado com umsemicondutor-n 32 de um material diferente. Estaheterojunção causa uma descontinuidade de faixa que é usadade maneira inovadora para influenciar o transporte doportador de carga. Com esses dois materiais semicondutoresseparados, 31 e 32, as faixas isolantes Eg, a função detrabalho Õ, e a afinidade dos elétrons χ são diferentes.
Conhece-se métodos de crescimento epitaxialespecialmente desenvolvidos para produzir heterojunções, quesão usados também com relação ao material semicondutor debase usado nesta invenção. Tanto a epitaxia de feixemolecular (BEM) quanto a epitaxia gasosa (MOCVD) existem naforma de deposição gasosa a partir de compostos organo-metálicos.
No caso da célula solar de fina película com umaheterojunção, o fósforo e o boro são, de preferência,integrados ou dopados através de um implante iônico sobre asuperfície da pirita do material semicondutor de base, queocorre com o auxílio de aceleradores de partículas. Assimsendo, depois da ionização, os átomos do dopador sãoelevados até um nível alto de energia e injetados nomaterial de base, onde, depois de uma profundidade depenetração característica, eles são detidos e permanecem.Com este processo de implante, a treliça do cristalsemicondutor sofre dano considerável e tem de ser regeneradapor tratamento térmico. Assim sendo, as impurezasimplantadas difundem-se e são integradas simultaneamente àtreliça. Consequentemente, formam-se perfis compostos apartir dos implantes de ions e das di-fusões das impurezas.
0 processo de epitaxia de feixe molecular (BEM) éum método especial de deposição de vapor. 0 material évaporizado em tubos aquecidos de formato cilíndrico com umaabertura frontal pequena. 0 tamanho desta abertura e apressão de vapor criada no forno pelo calor determinam otransporte do material para o alvo. Um vácuo ultra-alto,controlado por um analisador de massas, e uma placa deblindagem resfriada criam camadas de cristais muito puros.
A estrutura dessas camadas de cristais pode ser controladaquase on-line pelas assim denominadas medições de RHEED(Difração de Elétrons de Alta Energia Refletida) e asespessuras das camadas são criadas precisamente por umaregulagem da temperatura e fusão rápida a uma camada deátomos.
No caso de uma estrutura de múltiplas camadas, ocomponente semicondutor pode ter até cem camadas. Seria,portanto, factível que o componente semicondutor ilustradona Figura 3 fosse criado a partir de mais do que trêscamadas diferentes, e desta maneira várias camadas depirita, e caso apropriado, várias camadas de boro e/oufósforo poderiam ser usadas.
O componente semicondutor usado como pirita,conforme descrito acima, pode ser criado, dentro do escopoda invenção, não somente como uma célula solar de matériasólida em camada única ou em múltiplas camadas, mas tambémcomo uma célula solar de película fina, como uma célulasolar de MIS, uma célula fotoquímica, ou similar.
O componente semicondutor, de acordo com ainvenção, é usado com mais vantagens como uma célula solarporque, como tal, ele alcança um grau de eficiênciaextraordinariamente alto. Evidentemente, este componentesemicondutor pode ser usado também para outros propósitos,tais como diodo, semicondutor biestável ou similar.
Um componente semicondutor, de acordo com ainvenção, pode funcionar também, teoricamente, caso umacamada de pirita e um composto com a mesma fosse produzido àbase de boro (B) ou fósforo (P).
Claims (2)
1. Componente semicondutor, em particular umacélula solar, com pelo menos um material semicondutor debase (20, 40) consistindo de uma estrutura mono oupolicristalina, que consiste, pelo menos em parte, de piritacom a composição química FeS2, que é purificada com opropósito de alcançar um grau de pureza definido,CARACTERIZADO pelo fato de que o dito material semicondutorde base (20, 40) é combinado ou dopado com boro (52) efósforo (53).
2. Componente semicondutor, de acordo com qualqueruma das reivindicações precedentes, CARACTERIZADO pelo fatode que a concentração de cada um dos elementos integrados aomaterial de base tem uma porcentagem de massa entre 10-6 e 20.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH98810382.6 | 1998-04-29 | ||
EP98810382A EP0954033A1 (de) | 1998-04-29 | 1998-04-29 | Halbleiterbauelement, insbesondere eine Solarzelle, mit einer Schicht aus Pyrit, sowie Verfahren zu dessen Herstellung |
PCT/CH1998/000455 WO1999056325A1 (de) | 1998-04-29 | 1998-10-23 | Halbleiterbauelement, insbesondere eine solarzelle, sowie verfahren zu dessen herstellung |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
BR9808074A BR9808074A (pt) | 2000-03-28 |
BR9808074C2 BR9808074C2 (pt) | 2000-09-05 |
BR9808074B1 true BR9808074B1 (pt) | 2010-02-09 |
Family
ID=8236060
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
BRPI9808074-1A BR9808074B1 (pt) | 1998-04-29 | 1998-10-23 | componente semicondutor, em particular uma cÉlula solar. |
Country Status (26)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6635942B2 (pt) |
EP (2) | EP0954033A1 (pt) |
JP (1) | JP3874429B2 (pt) |
KR (1) | KR100613524B1 (pt) |
CN (1) | CN1218405C (pt) |
AR (1) | AR019111A1 (pt) |
AT (1) | ATE287576T1 (pt) |
AU (1) | AU756671B2 (pt) |
BG (1) | BG64069B1 (pt) |
BR (1) | BR9808074B1 (pt) |
CA (1) | CA2275298C (pt) |
CZ (1) | CZ298589B6 (pt) |
DE (1) | DE59812504D1 (pt) |
DK (1) | DK1032949T3 (pt) |
ES (1) | ES2239406T3 (pt) |
HU (1) | HU227655B1 (pt) |
IL (1) | IL131534A (pt) |
MY (1) | MY124379A (pt) |
NO (1) | NO993552L (pt) |
NZ (1) | NZ336848A (pt) |
PL (1) | PL192742B1 (pt) |
PT (1) | PT1032949E (pt) |
RU (1) | RU2219620C2 (pt) |
TR (1) | TR199903266T1 (pt) |
TW (1) | TW434915B (pt) |
WO (1) | WO1999056325A1 (pt) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1300375C (zh) * | 2004-12-07 | 2007-02-14 | 浙江大学 | 电沉积氧化及热硫化合成二硫化铁薄膜的方法 |
US8093684B2 (en) * | 2006-01-16 | 2012-01-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | Iron sulfide semiconductor doped with Mg or Zn, junction devices and photoelectric converter comprising same |
JP4938314B2 (ja) * | 2006-01-16 | 2012-05-23 | シャープ株式会社 | 光電変換装置および半導体接合素子の製造方法 |
US20110240108A1 (en) * | 2010-04-02 | 2011-10-06 | Matt Law | Method To Synthesize Colloidal Iron Pyrite (FeS2) Nanocrystals And Fabricate Iron Pyrite Thin Film Solar Cells |
US10680125B2 (en) * | 2011-11-15 | 2020-06-09 | Nutech Ventures | Iron pyrite nanocrystals |
JP5377732B2 (ja) * | 2012-09-14 | 2013-12-25 | シャープ株式会社 | 半導体、p型半導体、半導体接合素子、pn接合素子、および光電変換装置 |
US10790144B2 (en) | 2013-06-24 | 2020-09-29 | Arizona Board Of Regents On Behalf Of Arizona State University | Method to produce pyrite |
US9705012B2 (en) * | 2014-03-18 | 2017-07-11 | The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Navy | Method of passivating an iron disulfide surface via encapsulation in zinc sulfide |
US10181598B2 (en) | 2015-01-05 | 2019-01-15 | University Of Florida Resarch Foundation, Inc. | Lithium ion battery cathodes, methods of making, and methods of use thereof |
CN105140338B (zh) * | 2015-07-29 | 2017-07-04 | 云南师范大学 | 一种低成本FeS2薄膜太阳电池的制备方法 |
EP3418717A1 (en) | 2017-06-23 | 2018-12-26 | Cellix Limited | A microfluidic apparatus for separation of particulates in a fluid |
EP3418719A1 (en) | 2017-06-23 | 2018-12-26 | Cellix Limited | System and method for improved identification of particles or cells |
EP3418721A1 (en) | 2017-06-23 | 2018-12-26 | Cellix Limited | A microfluidic chip |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3852563A (en) * | 1974-02-01 | 1974-12-03 | Hewlett Packard Co | Thermal printing head |
US4131486A (en) * | 1977-01-19 | 1978-12-26 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Back wall solar cell |
US4710786A (en) * | 1978-03-16 | 1987-12-01 | Ovshinsky Stanford R | Wide band gap semiconductor alloy material |
JPS59115574A (ja) * | 1982-12-23 | 1984-07-04 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 光電変換装置作製方法 |
US4589918A (en) * | 1984-03-28 | 1986-05-20 | National Research Institute For Metals | Thermal shock resistant thermoelectric material |
CA1265922A (en) * | 1984-07-27 | 1990-02-20 | Helmut Tributsch | Photoactive pyrite layer and process for making and using same |
DE3526910A1 (de) * | 1984-07-27 | 1986-02-13 | Hahn-Meitner-Institut für Kernforschung Berlin GmbH, 1000 Berlin | Photoaktive pyritschicht, verfahren zu deren herstellung und verwendung derartiger pyritschichten |
US4766471A (en) * | 1986-01-23 | 1988-08-23 | Energy Conversion Devices, Inc. | Thin film electro-optical devices |
FR2694451B1 (fr) * | 1992-07-29 | 1994-09-30 | Asulab Sa | Cellule photovoltaïque. |
CA2110097C (en) * | 1992-11-30 | 2002-07-09 | Soichiro Kawakami | Secondary battery |
-
1998
- 1998-04-29 EP EP98810382A patent/EP0954033A1/de not_active Withdrawn
- 1998-10-23 RU RU99118904/28A patent/RU2219620C2/ru not_active IP Right Cessation
- 1998-10-23 AU AU95275/98A patent/AU756671B2/en not_active Ceased
- 1998-10-23 HU HU0004391A patent/HU227655B1/hu not_active IP Right Cessation
- 1998-10-23 AT AT98948658T patent/ATE287576T1/de active
- 1998-10-23 DK DK98948658T patent/DK1032949T3/da active
- 1998-10-23 NZ NZ336848A patent/NZ336848A/en not_active IP Right Cessation
- 1998-10-23 PT PT98948658T patent/PT1032949E/pt unknown
- 1998-10-23 KR KR1019997006817A patent/KR100613524B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1998-10-23 EP EP98948658A patent/EP1032949B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-10-23 WO PCT/CH1998/000455 patent/WO1999056325A1/de active IP Right Grant
- 1998-10-23 JP JP54086599A patent/JP3874429B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-10-23 US US09/319,772 patent/US6635942B2/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-10-23 DE DE59812504T patent/DE59812504D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-10-23 PL PL337092A patent/PL192742B1/pl unknown
- 1998-10-23 TR TR1999/03266T patent/TR199903266T1/xx unknown
- 1998-10-23 CN CN988024780A patent/CN1218405C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1998-10-23 ES ES98948658T patent/ES2239406T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1998-10-23 BR BRPI9808074-1A patent/BR9808074B1/pt not_active IP Right Cessation
- 1998-10-23 CA CA002275298A patent/CA2275298C/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-10-23 IL IL13153498A patent/IL131534A/en not_active IP Right Cessation
- 1998-10-23 CZ CZ0150499A patent/CZ298589B6/cs not_active IP Right Cessation
-
1999
- 1999-04-26 MY MYPI99001623A patent/MY124379A/en unknown
- 1999-04-27 AR ARP990101934A patent/AR019111A1/es active IP Right Grant
- 1999-04-28 TW TW088106833A patent/TW434915B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-07-20 NO NO993552A patent/NO993552L/no not_active Application Discontinuation
- 1999-09-01 BG BG103706A patent/BG64069B1/bg unknown
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Ahmad et al. | Rapid development in two-dimensional layered perovskite materials and their application in solar cells | |
Patra et al. | Anisotropic quasi-one-dimensional layered transition-metal trichalcogenides: synthesis, properties and applications | |
Huang et al. | Two-dimensional alloyed transition metal dichalcogenide nanosheets: Synthesis and applications | |
Liu et al. | Semiconductor solid‐solution nanostructures: synthesis, property tailoring, and applications | |
BR9808074B1 (pt) | componente semicondutor, em particular uma cÉlula solar. | |
EP1489654B1 (en) | METHOD OF MANUFACTURING LnCuO(S, Se, Te) MONOCRYSTALLINE THIN FILM | |
Varma | Low-dimensional perovskites | |
Kang et al. | Control of the microstructure of SnS photovoltaic absorber using a seed layer and its impact on the solar cell performance | |
Liang et al. | Recent progress on all-inorganic metal halide perovskite solar cells | |
Zhou et al. | Preparation of Sb2S3 nanorod arrays by hydrothermal method as light absorbing layer for Sb2S3-based solar cells | |
Chen et al. | 2D/3D halide perovskites for optoelectronic devices | |
RU99118904A (ru) | Полупроводниковый компонент, в частности, солнечный элемент, и способ его изготовления | |
Büker et al. | Photoelectrochemistry of Highly Zn‐Doped Pyrite as Compared with Isostructural FeS2 | |
Li et al. | Large-n quasi-phase-pure two-dimensional halide perovskite: A toolbox from materials to devices | |
Agarwal et al. | Growth and properties of CuInS 2 thin films | |
Gao et al. | 1.37× 102 S· cm-1 p-type conductivity LaCuOS films with a very wide optical transparency window of 400-6000 nm | |
Hirpo et al. | Synthesis and structure of the first indium–copper cluster,[Cu6In3 (SEt) 16]–and its possible relevance to CuInS2 | |
KR20070084275A (ko) | 광기전 활성 반도체 물질을 포함하는 광기전 전지 | |
Huang et al. | Growth and characterization of RuS2 single crystals | |
Peng | Bi-doped CH 3 NH 3 PbI 3 effective masses and electronic properties research: A theoretical study using VASP | |
MXPA99008281A (en) | Semiconductor element, especially a solar cell, and method for the production thereof | |
Chen et al. | Could two-dimensional perovskites fundamentally solve the instability of perovskite photovoltaics | |
Janam et al. | Growth and structural characteristics of the chalcopyrite semiconductor CuInSe2 | |
KR20070084519A (ko) | 광기전 전지 | |
Ashida et al. | Oriented growth of CuInSe2 thin films by means of Cu2Se interfaces |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
B06A | Patent application procedure suspended [chapter 6.1 patent gazette] | ||
B07A | Application suspended after technical examination (opinion) [chapter 7.1 patent gazette] | ||
B07B | Technical examination (opinion): publication cancelled [chapter 7.2 patent gazette] |
Free format text: DEVERA SER ANULADA A PUBLICACAO 7.1, EFETIVADA NA RPI NO1967, DE 16/09/2008, POR TER SIDO INDEVIDA |
|
B06A | Patent application procedure suspended [chapter 6.1 patent gazette] | ||
B09A | Decision: intention to grant [chapter 9.1 patent gazette] | ||
B16A | Patent or certificate of addition of invention granted [chapter 16.1 patent gazette] |
Free format text: PRAZO DE VALIDADE: 10 (DEZ) ANOS CONTADOS A PARTIR DE 09/02/2010, OBSERVADAS AS CONDICOES LEGAIS. |
|
B21F | Lapse acc. art. 78, item iv - on non-payment of the annual fees in time | ||
B24J | Lapse because of non-payment of annual fees (definitively: art 78 iv lpi, resolution 113/2013 art. 12) |