BR112020017267B1 - Mistura de eteramina, métodos para produzir uma mistura de eteramina, um sistema de resina epóxi e uma poliureia, poliureia, e, compósito - Google Patents
Mistura de eteramina, métodos para produzir uma mistura de eteramina, um sistema de resina epóxi e uma poliureia, poliureia, e, compósito Download PDFInfo
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 77
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 title claims abstract description 52
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 title claims abstract description 52
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 title claims abstract description 12
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims description 3
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 claims abstract description 28
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims abstract description 23
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims abstract description 23
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 8
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 claims description 63
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims description 36
- -1 hydrogenated aromatic diol Chemical class 0.000 claims description 32
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 22
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 21
- 238000006268 reductive amination reaction Methods 0.000 claims description 19
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 claims description 17
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 claims description 17
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 15
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 claims description 4
- PDXRQENMIVHKPI-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-diol Chemical compound OC1(O)CCCCC1 PDXRQENMIVHKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UYDJAHJCGZTTHB-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,1-diol Chemical compound OC1(O)CCCC1 UYDJAHJCGZTTHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 17
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 11
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 5
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 abstract description 4
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 abstract description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 22
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 150000002118 epoxides Chemical group 0.000 description 13
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 11
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 11
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 11
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 10
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 10
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 8
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 7
- 229920006389 polyphenyl polymer Polymers 0.000 description 7
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SVYKKECYCPFKGB-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylcyclohexylamine Chemical compound CN(C)C1CCCCC1 SVYKKECYCPFKGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical class ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N Guanidine Chemical compound NC(N)=N ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 3
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 150000003254 radicals Chemical group 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- KYVBNYUBXIEUFW-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylguanidine Chemical compound CN(C)C(=N)N(C)C KYVBNYUBXIEUFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBAMNGURPMUTG-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxycyclohexyl)propan-2-yl]cyclohexan-1-ol Chemical compound C1CC(O)CCC1C(C)(C)C1CCC(O)CC1 CDBAMNGURPMUTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 4-vinylcyclohexene dioxide Chemical compound C1OC1C1CC2OC2CC1 OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LINDOXZENKYESA-UHFFFAOYSA-N TMG Natural products CNC(N)=NC LINDOXZENKYESA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PFURGBBHAOXLIO-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-diol Chemical compound OC1CCCCC1O PFURGBBHAOXLIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoamidine Natural products CN(C)C(N)=N SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 2
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012263 liquid product Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N octane-1,8-diol Chemical compound OCCCCCCCCO OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 2
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 2
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N propane-1,3-diol Chemical compound OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N suberic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCC(O)=O TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- VYMPLPIFKRHAAC-UHFFFAOYSA-N 1,2-ethanedithiol Chemical compound SCCS VYMPLPIFKRHAAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEWLEGDTCGBNGU-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloropropan-2-ol Chemical compound ClCC(O)CCl DEWLEGDTCGBNGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=C(N=C=O)C=C1 ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDMDQYCEEKCBGR-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatocyclohexane Chemical compound O=C=NC1CCC(N=C=O)CC1 CDMDQYCEEKCBGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIZPGZFVROGOIR-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatonaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(N=C=O)=CC=C(N=C=O)C2=C1 SIZPGZFVROGOIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanediol Chemical compound OCCCCCCCCCO ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICLCCFKUSALICQ-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-4-(4-isocyanato-3-methylphenyl)-2-methylbenzene Chemical compound C1=C(N=C=O)C(C)=CC(C=2C=C(C)C(N=C=O)=CC=2)=C1 ICLCCFKUSALICQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTZHXCBUWSTOPO-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-4-[(4-isocyanato-3-methylphenyl)methyl]-2-methylbenzene Chemical compound C1=C(N=C=O)C(C)=CC(CC=2C=C(C)C(N=C=O)=CC=2)=C1 DTZHXCBUWSTOPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAXRGSDCXVUHEW-UHFFFAOYSA-N 2-(benzhydrylamino)ethanol Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(NCCO)C1=CC=CC=C1 DAXRGSDCXVUHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XORJNZNCVGHBDZ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(6-oxabicyclo[3.1.0]hexan-2-yloxy)ethoxy]-6-oxabicyclo[3.1.0]hexane Chemical compound C1CC2OC2C1OCCOC1C2OC2CC1 XORJNZNCVGHBDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJPDDQSCZGTACX-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(2-hydroxyethyl)anilino]ethanol Chemical compound OCCN(CCO)C1=CC=CC=C1 OJPDDQSCZGTACX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFGOFGRYDNHJTA-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-(2-fluorophenyl)ethanol Chemical compound NCC(O)C1=CC=CC=C1F MFGOFGRYDNHJTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZLVUWBGUNVFES-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-5-methylpyrazol-3-amine Chemical compound CCN1N=C(C)C=C1N TZLVUWBGUNVFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMSUMUHITJFMQX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-2-[2-[(2-methyloxiran-2-yl)methoxy]ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1(C)COCCOCC1(C)CO1 BMSUMUHITJFMQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZWKEPYTBWZJJA-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethoxybenzidine-4,4'-diisocyanate Chemical compound C1=C(N=C=O)C(OC)=CC(C=2C=C(OC)C(N=C=O)=CC=2)=C1 QZWKEPYTBWZJJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRWFFFOEIHGUBG-UHFFFAOYSA-N 3,4-Epoxy-6-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-6-methylcyclo-hexanecarboxylate Chemical compound C1C2OC2CC(C)C1C(=O)OCC1CC2OC2CC1C GRWFFFOEIHGUBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXBBSTXUVVVWRC-UHFFFAOYSA-N 3-[3-[4,4-dimethyl-3-(oxiran-2-ylmethyl)-2,5-dioxoimidazolidin-1-yl]-2-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-5,5-dimethyl-1-(oxiran-2-ylmethyl)imidazolidine-2,4-dione Chemical compound O=C1N(CC(CN2C(C(C)(C)N(CC3OC3)C2=O)=O)OCC2OC2)C(=O)C(C)(C)N1CC1CO1 RXBBSTXUVVVWRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXQZLPFNTPKVJM-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-hydroxycyclohexyl)methyl]cyclohexan-1-ol Chemical compound C1CC(O)CCC1CC1CCC(O)CC1 WXQZLPFNTPKVJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFESPHOLAILUKF-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethoxy)ethoxymethyl]-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CC2OC2CC1COC(C)OCC1CC2OC2CC1 IFESPHOLAILUKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMDQDSLAUVKLAO-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-carboxy-7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylic acid Chemical compound C1CC2OC2CC1(C(O)=O)CCC1(C(=O)O)CC2OC2CC1 IMDQDSLAUVKLAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical class NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWVFNWVZBAWOOY-UHFFFAOYSA-N 4-methylcyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound CC1CCC(C(O)=O)C(C(O)=O)C1 YWVFNWVZBAWOOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIROYDNZEPTFOL-UHFFFAOYSA-N 5,5-Dimethylhydantoin Chemical compound CC1(C)NC(=O)NC1=O YIROYDNZEPTFOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQAPYXJOOYQXDV-UHFFFAOYSA-N 5,5-dimethyl-3-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-1-(oxiran-2-ylmethyl)imidazolidine-2,4-dione Chemical compound C1OC1COC(C)CN(C(C1(C)C)=O)C(=O)N1CC1CO1 OQAPYXJOOYQXDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBJWYPACNNDIOL-UHFFFAOYSA-N 5-isocyanato-1-[(5-isocyanato-5-methylcyclohexa-1,3-dien-1-yl)methyl]-5-methylcyclohexa-1,3-diene Chemical compound C1=CC(C)(N=C=O)CC(CC=2CC(C)(C=CC=2)N=C=O)=C1 ZBJWYPACNNDIOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVLTVRFYVWMEQN-UHFFFAOYSA-N 5-methylcyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound CC1CC(C(O)=O)C(C(O)=O)C=C1 SVLTVRFYVWMEQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAYDWGMOPRHLEP-UHFFFAOYSA-N 6-ethenyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CCCC2OC21C=C XAYDWGMOPRHLEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBHIUNHSNSQJNG-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3-(2-methyloxiran-2-yl)-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CC2(C)OC2CC1C1(C)CO1 RBHIUNHSNSQJNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJEZBVHHZQAEDB-UHFFFAOYSA-N 6-oxabicyclo[3.1.0]hexane Chemical group C1CCC2OC21 GJEZBVHHZQAEDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHJIDZUQMHKGRE-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl 2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)acetate Chemical compound C1CC2OC2CC1OC(=O)CC1CC2OC2CC1 NHJIDZUQMHKGRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPTGFYXXFXSRIR-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C1C(COC(=O)C=C)CCC2OC21 DPTGFYXXFXSRIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003319 Araldite® Polymers 0.000 description 1
- ADAHGVUHKDNLEB-UHFFFAOYSA-N Bis(2,3-epoxycyclopentyl)ether Chemical compound C1CC2OC2C1OC1CCC2OC21 ADAHGVUHKDNLEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- OYHQOLUKZRVURQ-HZJYTTRNSA-N Linoleic acid Chemical compound CCCCC\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(O)=O OYHQOLUKZRVURQ-HZJYTTRNSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N N-methyl-guanidine Natural products CNC(N)=N CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMRDSWJXRLDPBB-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.C1CCCCC1 Chemical group N=C=O.N=C=O.C1CCCCC1 OMRDSWJXRLDPBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000538 Poly[(phenyl isocyanate)-co-formaldehyde] Polymers 0.000 description 1
- 239000004146 Propane-1,2-diol Substances 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical compound ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXEBFFWTZWGHEY-UHFFFAOYSA-N [1-(hydroxymethyl)cyclohex-3-en-1-yl]methanol Chemical compound OCC1(CO)CCC=CC1 YXEBFFWTZWGHEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LUSFFPXRDZKBMF-UHFFFAOYSA-N [3-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCCC(CO)C1 LUSFFPXRDZKBMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSILJOYZYPRFDK-UHFFFAOYSA-N [4-[4-(sulfanylmethyl)phenoxy]phenyl]methanethiol Chemical compound C1=CC(CS)=CC=C1OC1=CC=C(CS)C=C1 MSILJOYZYPRFDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNWBFIVSTXCJJG-UHFFFAOYSA-N [diisocyanato(phenyl)methyl]benzene Chemical class C=1C=CC=CC=1C(N=C=O)(N=C=O)C1=CC=CC=C1 LNWBFIVSTXCJJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- DJUWPHRCMMMSCV-UHFFFAOYSA-N bis(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl) hexanedioate Chemical compound C1CC2OC2CC1COC(=O)CCCCC(=O)OCC1CC2OC2CC1 DJUWPHRCMMMSCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMMDJMWIHPEQSJ-UHFFFAOYSA-N bis[(3-methyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)methyl] hexanedioate Chemical compound C1C2OC2CC(C)C1COC(=O)CCCCC(=O)OCC1CC2OC2CC1C LMMDJMWIHPEQSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M caesium hydroxide Inorganic materials [OH-].[Cs+] HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N cis-4-Hydroxy-L-proline Chemical compound O[C@@H]1CN[C@H](C(O)=O)C1 PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 150000001896 cresols Chemical class 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIHINWMALJZIBX-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-2,4-dien-1-ol Chemical compound OC1CC=CC=C1 MIHINWMALJZIBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLMGYIOTPQVQJR-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,3-diol Chemical compound OC1CCCC(O)C1 RLMGYIOTPQVQJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKONPUDBRVKQLM-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diol Chemical compound OC1CCC(O)CC1 VKONPUDBRVKQLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Chemical group C1CCCC2OC21 ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUUPJBRGQCEZSI-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,3-diol Chemical compound OC1CCC(O)C1 NUUPJBRGQCEZSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCO FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000007033 dehydrochlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- KMSRVXJGTIRNNK-UHFFFAOYSA-N diaminomethylideneazanium;hydrogen carbonate Chemical class NC(N)=N.OC(O)=O KMSRVXJGTIRNNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N dichromium trioxide Chemical compound O=[Cr]O[Cr]=O QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000029087 digestion Effects 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004662 dithiols Chemical class 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000007590 electrostatic spraying Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical class [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- DXTIKTAIYCJTII-UHFFFAOYSA-N guanidine acetate Chemical class CC([O-])=O.NC([NH3+])=N DXTIKTAIYCJTII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNUNWZZSUJPAHX-UHFFFAOYSA-N guanidine nitrate Chemical class NC(N)=N.O[N+]([O-])=O CNUNWZZSUJPAHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002357 guanidines Chemical class 0.000 description 1
- 229940083094 guanine derivative acting on arteriolar smooth muscle Drugs 0.000 description 1
- SXCBDZAEHILGLM-UHFFFAOYSA-N heptane-1,7-diol Chemical compound OCCCCCCCO SXCBDZAEHILGLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N hexane Substances CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJSATVJYSKVUGV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,3,5-triol Chemical compound CC(O)CC(O)CCO WJSATVJYSKVUGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001469 hydantoins Chemical class 0.000 description 1
- YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N imidazolidin-2-one Chemical compound O=C1NCCN1 YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002198 insoluble material Substances 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCEFMUBVSUDRLG-UHFFFAOYSA-N limonene-1,2-epoxide Chemical compound C1C(C(=C)C)CCC2(C)OC21 CCEFMUBVSUDRLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYHQOLUKZRVURQ-IXWMQOLASA-N linoleic acid Natural products CCCCC\C=C/C\C=C\CCCCCCCC(O)=O OYHQOLUKZRVURQ-IXWMQOLASA-N 0.000 description 1
- 235000020778 linoleic acid Nutrition 0.000 description 1
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 description 1
- KJLLKLRVCJAFRY-UHFFFAOYSA-N mebutizide Chemical compound ClC1=C(S(N)(=O)=O)C=C2S(=O)(=O)NC(C(C)C(C)CC)NC2=C1 KJLLKLRVCJAFRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMVMYBGDGJLCHV-UHFFFAOYSA-N n-methyl-4-[[4-(methylamino)phenyl]methyl]aniline Chemical compound C1=CC(NC)=CC=C1CC1=CC=C(NC)C=C1 ZMVMYBGDGJLCHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000002921 oxetanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003142 primary aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 229960004063 propylene glycol Drugs 0.000 description 1
- 235000013772 propylene glycol Nutrition 0.000 description 1
- 238000011002 quantification Methods 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N toluene 2,6-diisocyanate Chemical compound CC1=C(N=C=O)C=CC=C1N=C=O RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004992 toluidines Chemical class 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
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- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
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- B01J23/74—Iron group metals
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- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/70—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
- C08G18/72—Polyisocyanates or polyisothiocyanates
- C08G18/74—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic
- C08G18/76—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic aromatic
- C08G18/7657—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic aromatic containing two or more aromatic rings
- C08G18/7664—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic aromatic containing two or more aromatic rings containing alkylene polyphenyl groups
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- C08G18/72—Polyisocyanates or polyisothiocyanates
- C08G18/74—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic
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- C08G18/7671—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic aromatic containing two or more aromatic rings containing alkylene polyphenyl groups containing only one alkylene bisphenyl group
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Abstract
uma mistura de eteramina compreendendo uma ou mais poliéter diaminas, métodos para sua produção e seu uso como um agente de cura para resinas epóxi. a mistura de eteramina também pode ser usada na preparação de poliamidas e compostos de poliureia.
Description
[001] Este pedido reivindica prioridade ao pedido de patente provisório U.S. n° de série 62/644.848, depositado em 19 de março de 2018, cujos conteúdos na íntegra são expressamente aqui incorporados por referência.
[002] Não aplicável.
[003] A presente descrição se refere, de modo geral, a uma mistura de eteramina compreendendo uma ou mais poliéter diaminas, métodos para sua produção e seu uso como um agente de cura para resinas epóxi. Os sistemas de resina epóxi contendo tal mistura de eteramina podem ser adequados para preparar, por exemplo, revestimentos de piso autonivelantes (e autocuráveis), tampos de mesa de alta espessura e outras aplicações de revestimento decorativo. A mistura de eteramina contendo uma ou mais diaminas de poliéter também pode ser usada na preparação de compostos de poliureia e poliamidas.
[004] As polieteraminas são amplamente usadas como agentes de cura para resinas epóxi ou como reagentes na síntese de poliamidas ou poliureias. Essas polieteraminas são geralmente produzidas pela reação de um óxido de alquileno com um álcool para formar um polioxialquileno poliol e, em seguida, a conversão subsequente dos grupos hidroxila em grupos amina por aminação redutiva.
[005] Apesar do estado da técnica, há uma necessidade contínua para o desenvolvimento de novas polieteraminas que possam ser usadas como agentes de cura para resinas epóxi curáveis, o que resulta em diferentes condições de cura para as resinas epóxi e propriedades únicas para as composições epóxi curadas obtidas a partir delas.
[006] É, portanto, um objeto da presente invenção prover uma mistura de eteramina compreendendo polieteraminas que podem ser usadas como um agente de cura para resinas epóxi, em que sistemas de resina epóxi contendo tais têm capacidades de autocura à temperatura ambiente e, uma vez curados, boa flexibilidade para uso em aplicações como, por exemplo, mas sem limitação, revestimentos de piso, tampos de mesa de alta espessura e outras aplicações de revestimento decorativo. É outro objetivo da presente invenção prover um método de produção de tal mistura de eteramina.
[007] Antes de explicar pelo menos uma modalidade da presente invenção em detalhes, deve ser entendido que a presente invenção não está limitada em sua aplicação aos detalhes de construção e ao arranjo dos componentes ou etapas ou metodologias estabelecidos na descrição a seguir ou ilustrados nos desenhos. A presente invenção é capaz de outras modalidades ou de ser praticada ou realizada de várias maneiras. Além disso, deve ser entendido que a fraseologia e terminologia utilizadas aqui são para o propósito de descrição e não devem ser consideradas como limitativas.
[008] A menos que definido de outra forma neste documento, os termos técnicos usados em conexão com a presente descrição devem ter os significados que são comumente entendidos por aqueles versados na técnica. Além disso, a não ser que seja exigido pelo contexto, os termos singulares incluirão pluralidades e os termos plurais incluirão o singular.
[009] Todas as patentes, pedidos de patentes publicados e publicações não patenteadas mencionados no relatório descritivo são indicativos do nível de habilidade daqueles versados na técnica aos quais a presente invenção se refere. Todas as patentes, pedidos de patentes publicados e publicações não patenteadas referenciadas em qualquer parte deste pedido são aqui expressamente incorporados por referência em sua totalidade na mesma medida como se cada patente individual ou publicação fosse especificamente e individualmente indicada para ser incorporada por referência na medida em que não contradizem a descrição instantânea.
[0010] Todas as composições e/ou métodos descritos neste documento podem ser feitos e executados sem experimentação indevida à luz da presente descrição. Embora as composições e métodos da presente descrição tenham sido descritos em termos de modalidades preferidas, será evidente para aqueles versados na técnica que variações podem ser aplicadas às composições e/ou métodos e nas etapas ou sequências de etapas dos métodos descritos neste documento, sem se afastar do conceito, espírito e escopo da presente descrição. Todos esses substitutos e modificações similares evidentes para aqueles versados na técnica são considerados como estando dentro do espírito, escopo e conceito da presente descrição.
[0011] Conforme utilizado de acordo com a presente descrição, os seguintes termos, salvo indicação em contrário, devem ser entendidos como tendo os seguintes significados.
[0012] O uso da palavra “um” ou “uma”, quando usado em conjunto com o termo “compreendendo”, “incluindo”, “tendo” ou “contendo” (ou variações de tais termos) pode significar “um”, mas também é consistente com o significado de “um ou mais”, “pelo menos um” e “um ou mais de um”.
[0013] O uso do termo “ou” significa “e/ou”, a menos que seja claramente indicado para se referir apenas a alternativas e somente se as alternativas forem mutuamente exclusivas.
[0014] Ao longo desta descrição, o termo “cerca de” é usado para indicar que um valor inclui a variação inerente de erro para o dispositivo, mecanismo ou método de quantificação, ou a variação inerente que existe entre o(s) indivíduo(s) a ser(em) medido(s). Por exemplo, mas não como forma de limitação, quando o termo “cerca de” é usado, o valor designado ao qual se refere pode variar em mais ou menos dez por cento, ou nove por cento, ou oito por cento, ou sete por cento, ou seis por cento, ou cinco por cento, ou quatro por cento, ou três por cento, ou dois por cento, ou um por cento, ou uma ou mais frações entre os mesmos.
[0015] O uso de “pelo menos um” será entendido como incluindo um, bem como qualquer quantidade mais de um, incluindo, mas não se limitando a 1, 2, 3, 4, 5, 10, 15, 20, 30, 40, 50, 100, etc. O termo “pelo menos um” pode se estender até 100 ou 1000 ou mais, dependendo do termo a que se refere. Além disso, as quantidades de 100/1000 não devem ser consideradas como limitantes, uma vez que limites inferiores ou superiores também podem produzir resultados satisfatórios.
[0016] Além disso, a expressão “pelo menos um de X, Y e Z” será entendida como incluindo X sozinho, Y sozinho e Z sozinho, bem como qualquer combinação de X, Y e Z. De forma similar, a expressão “pelo menos um de X e Y” será entendido como incluindo X sozinho, Y sozinho, bem como qualquer combinação de X e Y. Além disso, deve ser entendido que a expressão “pelo menos um de” pode ser usada com qualquer número de componentes e têm os significados similares conforme estabelecido acima.
[0017] O uso da terminologia de número ordinal (ou seja, “primeiro”, “segundo”, “terceiro”, “quarto”, etc.) é exclusivamente para o propósito de diferenciar entre dois ou mais itens e, salvo indicação em contrário, não pretende implicar em qualquer sequência ou ordem ou importância de um item sobre outro ou qualquer ordem de adição.
[0018] Como usado aqui, as palavras “compreendendo” (e qualquer forma de compreender, tal como “compreendem” e “compreende”), “tendo” (e qualquer forma de ter, tal como “têm” e “tem”), “incluindo” (e qualquer forma de incluir, como “inclui” e “incluem”) ou “contendo” (e qualquer forma de conter, como “contém” e “contêm”) são inclusivas ou abertas e não excluem elementos ou etapas do método não citados ou adicionais.
[0019] As expressões “ou combinações dos mesmos” e “e combinações dos mesmos”, como usadas aqui, referem-se a todas as permutações e combinações dos itens listados que precedem o termo. Por exemplo, “A, B, C ou combinações dos mesmos” pretende incluir pelo menos um de: A, B, C, AB, AC, BC ou ABC e, se a ordem for importante em um contexto específico, também BA, CA, CB, CBA, BCA, ACB, BAC ou CAB. Continuando com esse exemplo, estão expressamente incluídas as combinações que contêm repetições de um ou mais itens ou termos, como BB, AAA, CC, AABB, AACC, ABCCCC, CBBAAA, CABBB e assim por diante. O versado na técnica entenderá que, tipicamente, não há limite para o número de itens ou termos em qualquer combinação, a menos que de outra forma aparente a partir do contexto. À mesma luz, o termo “e suas combinações” quando usado com a expressão “selecionado do grupo que consiste em” refere-se a todas as permutações e combinações dos itens listados que precedem a expressão.
[0020] As expressões “em uma modalidade”, “de acordo com uma modalidade” e similares geralmente significam que o recurso, estrutura ou característica particular após a expressão está incluído em pelo menos uma modalidade da presente descrição, e pode ser incluído em mais de uma modalidade da presente descrição. É importante notar que tais expressões não são limitativas e não se referem necessariamente à mesma modalidade, mas, é claro, podem se referir a uma ou mais modalidades anteriores e/ou posteriores. Por exemplo, nas reivindicações anexas, qualquer uma das modalidades reivindicadas pode ser usada em qualquer combinação.
[0021] Como usado aqui, os termos “% em peso” ou “porcentagem em peso” são usados intercambiavelmente.
[0022] Como usado aqui, a expressão “temperatura ambiente” refere- se à temperatura ambiente do ambiente de trabalho circundante (por exemplo, a temperatura da área, edifício ou sala onde a composição curável é usada), excluindo quaisquer mudanças de temperatura que ocorram como resultado da aplicação direta de calor à composição curável para facilitar a cura. A temperatura ambiente é tipicamente entre cerca de 5°C a cerca de 30°C, ou entre cerca de 10°C e cerca de 30°C, ou mais especificamente cerca de 15°C e cerca de 25°C, e ou ainda mais especificamente cerca de 20°C a cerca de 25°C.
[0023] De acordo com um aspecto, a presente descrição é direcionada a uma mistura de eteramina compreendendo uma ou mais poliéter diaminas de fórmula (I): em que: R é um radical de um diol hidrofóbico após a remoção dos dois grupos hidroxila do diol hidrofóbico; n está em uma faixa de 1 a 3; x e y estão cada um em uma faixa de 1 a 9; e a soma de x e y está em uma faixa de 2 a 10. Em uma outra modalidade, x e y estão cada um em uma faixa de 0 a 9 com a ressalva de que se um de x ou y for 0, então o outro está em uma faixa de 1 a 9; e a soma de x e y está em uma faixa de 1 a 10.
[0024] O diol hidrofóbico pode ser selecionado de um diol cicloalifático, um diol aromático hidrogenado, um alquil diol linear e combinações dos mesmos.
[0025] Em uma modalidade, o diol hidrofóbico compreende 6 a 15 átomos de carbono. Em uma outra modalidade, o diol hidrofóbico compreende 6 a 12 átomos de carbono. Ainda em uma outra modalidade, o diol hidrofóbico compreende 6 a 10 átomos de carbono.
[0026] Exemplos não limitativos do diol cicloalifático incluem ciclopentano dióis e ciclo-hexano dióis, tais como, por exemplo, mas sem limitação, 1,3-ciclopentanodiol, 1,2-ciclo-hexanodiol, 1,3-ciclo-hexanodiol, 1,3-ciclo-hexanodimetanol, 1,4-ciclo-hexanodiol, 1,4-ciclo-hexanodimetanol, 1,5-ciclo-octanodiol, derivados hidrogenados de: bisfenol F, bisfenol A, hidroquinona, catecol e resorcinol e combinações dos mesmos. Um ciclo- hexanodiol particularmente preferido é 1,4-ciclo-hexanodimetanol (CHDM).
[0027] Exemplos não limitativos do alquil diol linear incluem 1,6- hexanodiol, 1,7-heptanodiol, 1,8-octanodiol, 1,9-nonanodiol e 1,10- decanodiol. Um alquil diol linear particularmente preferido é 1,8-octanodiol.
[0028] Em outra modalidade, o diol hidrofóbico pode ser neopentil glicol.
[0029] A soma de x e y pode estar em uma faixa de 1 a 9, ou de 1 a 8, ou de 2 a 8, ou de 2 a 7, ou de 3 a 7, ou de 3 a 6, ou de 4 a 5, ou cerca de 4,5. Em uma outra modalidade, n está em uma faixa de 1 a 2.
[0030] Em uma modalidade particularmente preferida, “R” na fórmula (I) é um radical do diol hidrofóbico 1,4-ciclo-hexanodimetanol após a remoção dos dois grupos hidroxila, conforme representado pela fórmula (II): em que x, y e n são iguais aos definidos anteriormente para a fórmula (I).
[0031] Em uma modalidade, os grupos amina de uma ou mais poliéter diaminas de fórmula (I) são pelo menos 60%, ou pelo menos 65%, ou pelo menos 70%, ou pelo menos 75% aminas primárias. Em uma modalidade particular, cerca de 75 a 80% dos grupos amina de uma ou mais poliéter diaminas de fórmula (I) são aminas primárias.
[0032] Em uma outra modalidade, a mistura de eteramina compreende menos de 10% em peso de uma monoéter diamina com base no peso total da mistura de eteramina.
[0033] Em ainda uma outra modalidade, a mistura de eteramina pode compreender uma ou mais poliéter diaminas de fórmula (III): em que: R é um radical de um diol hidrofóbico (conforme descrito acima) após a remoção dos dois grupos hidroxila do diol hidrofóbico; n está em uma faixa de 1 a 3; x e y estão cada um em uma faixa de 1 a 9; e a soma de x e y está em uma faixa de 2 a 10. Em uma modalidade alternativa, x e y estão cada um em uma faixa de 0 a 9 com a ressalva de que se um de x ou y for 0, então o outro está em uma faixa de 1 a 9; e a soma de x e y está em uma faixa de 1 a 10.
[0034] A presente descrição também é direcionada a um método para produzir uma mistura de eteramina compreendendo: (i) carregar um diol hidrofóbico (conforme descrito acima) a uma zona de reação de alcoxilação; (ii) contactar o diol hidrofóbico com um óxido de etileno na zona de reação de alcoxilação para prover um diol precursor, em que a razão molar de óxido de etileno para diol hidrofóbico está em uma faixa de cerca de 1:1 a cerca de 10:1, ou de cerca de 2:1 a cerca de 10:1, ou de cerca de 2:1 a cerca de 9:1, ou de cerca de 2:1 a cerca de 8:1, ou de cerca de 2:1 a cerca de 7:1, ou de cerca de 2:1 a cerca de 6:1, ou de cerca de 3:1 a cerca de 6:1, ou de cerca de 3:1 a cerca de 5:1, ou de cerca de 4:1 a cerca de 5:1, ou cerca de 4,5:1; e (iii) carregar o diol precursor a uma zona de aminação redutiva e aminar redutivamente o diol precursor para formar a mistura de eteramina contendo uma ou mais poliéter diaminas de fórmula (I).
[0035] A quantidade de tempo que o diol hidrofóbico é contactado com o óxido de alquileno é tal que é suficiente para formar o diol precursor e em algumas modalidades pode variar de cerca de 0,5 hora a cerca de 24 horas.
[0036] A zona de reação de alcoxilação pode ser um vaso de reação fechado, em que a alcoxilação é realizada sob temperatura e pressão elevadas e na presença de um catalisador básico. Dessa forma, a alcoxilação pode ser conduzida a uma temperatura que varia de cerca de 50°C a cerca de 150°C e a uma pressão que varia de cerca de 40 psi a cerca de 100 psi (275,79 kPa a 689,47 kPa). O catalisador básico pode ser qualquer composto alcalino normalmente usado para reações catalisadas por base, por exemplo, um hidróxido de metal alcalino, como hidróxido de sódio, hidróxido de lítio, hidróxido de potássio ou hidróxido de césio, ou uma amina terciária, como dimetil ciclo-hexilamina ou 1,1,3,3-tetrametilguanidina. Após a alcoxilação, a mistura resultante pode ser removida a vácuo para remover quaisquer componentes desnecessários, tais como excesso de óxido de alquileno não reagido, água e/ou catalisador básico, enquanto deixa o diol precursor resultante.
[0037] Em algumas modalidades, antes da aminação redutiva, o diol precursor pode ser neutralizado com qualquer ácido ou adsorvente químico adequado, como, por exemplo, ácido oxálico ou silicato de magnésio, e filtrado para a remoção de materiais insolúveis.
[0038] Em uma modalidade particular, a etapa de aminação redutiva do diol precursor é realizada na presença de um catalisador de aminação redutiva, hidrogênio e amônia. Mais particularmente, a etapa de aminação redutiva do diol precursor inclui carregar o diol precursor para uma zona de aminação redutiva onde é colocado em contato com um catalisador de aminação redutiva, às vezes referido como um catalisador de hidrogenação- desidrogenação, e redutivamente aminado na presença de amônia e hidrogênio sob condições de aminação redutiva. Tais condições de aminação redutiva podem incluir, por exemplo, uma temperatura dentro da faixa de cerca de 150°C a cerca de 275°C e uma pressão dentro da faixa de cerca de 500 a cerca de 5000 psi (3,44 a cerca de 34,47 MPa) com temperaturas dentro da faixa de cerca de 180°C a cerca de 220°C e as pressões dentro da faixa de cerca de 1500 a cerca de 2500 psi (10,34 a cerca de 17,23 MPa) sendo preferidas.
[0039] Qualquer catalisador de hidrogenação adequado pode ser usado para a etapa de aminação redutiva, como aqueles descritos na Patente U.S. n° 3.654.370, cujos conteúdos são aqui incorporados por referência. Em algumas modalidades, o catalisador de hidrogenação pode compreender um ou mais dos metais do grupo VIIIB da Tabela Periódica, tais como ferro, cobalto, níquel, rutênio, ródio, paládio, platina, misturado com um ou mais metais do grupo VIB da Tabela Periódica como cromo, molibdênio ou tungstênio. Um promotor do grupo IB da Tabela Periódica, como cobre, também pode ser incluído. Como um exemplo, um catalisador pode ser usado compreendendo de cerca de 60 por cento em mol a cerca de 85 por cento em mol de níquel, cerca de 14 por cento em mol a cerca de 37 por cento em mol de cobre e cerca de 1 por cento em mol a cerca de 5 por cento em mol de cromo (como crômia), tal como um catalisador do tipo descrito na Pat. U.S. n° 3.152.998. Como um outro exemplo, um catalisador do tipo descrito na Patente U.S. n° 4.014.933 pode ser usado contendo de cerca de 70% em peso a cerca de 95% em peso de uma mistura de cobalto e níquel e de cerca de 5% em peso a cerca de 30% em peso de ferro. Como um outro exemplo, um catalisador do tipo descrito na Patente U.S. n°4.152.353 pode ser usado, compreendendo níquel, cobre e um terceiro componente que pode ser ferro, zinco, zircônio ou uma mistura dos mesmos, por exemplo, um catalisador contendo de cerca de 20% em peso a cerca de 49% em peso de níquel, cerca de 36% em peso a cerca de 79% em peso de cobre e cerca de 1% em peso a cerca de 15% em peso de ferro, zinco, zircônio ou uma mistura dos mesmos. Ainda como um outro exemplo, um catalisador do tipo descrito na Patente U.S. n° 4.766.245 pode ser usado compreendendo cerca de 60% em peso a cerca de 75% em peso de níquel e cerca de 25% em peso a cerca de 40% em peso de alumínio.
[0040] A aminação redutiva é preferivelmente conduzida em uma base contínua com o diol precursor, amônia e hidrogênio sendo continuamente carregados para um reator contendo um leito fixo de catalisador de aminação redutiva e com o produto da reação sendo continuamente retirado.
[0041] O produto da reação é adequadamente despressurizado de modo a recuperar o excesso de hidrogênio e amônia para reciclagem e é então fracionado para remover o subproduto da água da reação e para prover a mistura de eteramina desejada.
[0042] Na condução da aminação redutiva, as condições de aminação redutiva a serem utilizadas podem incluir adequadamente o uso de cerca de 4 moles a cerca de 150 moles de amônia por equivalente de hidroxila da matéria-prima de diol precursor. O hidrogênio é preferivelmente usado em uma quantidade que varia de cerca de 0,5 equivalentes molares a cerca de 10 equivalentes molares de hidrogênio por equivalente de hidroxila da matéria- prima de diol precursor. Os tempos de contato dentro da zona de reação, quando a reação é conduzida em lote, podem adequadamente estar dentro da faixa de cerca de 0,1 hora a cerca de 6 horas e mais preferivelmente de cerca de 0,15 hora a cerca de 2 horas.
[0043] Quando a reação é conduzida em uma base contínua usando glóbulos de catalisador, as taxas de reação podem ser adequadamente de cerca de 0,1 grama a cerca de 2 gramas de matéria-prima por hora por centímetro cúbico de catalisador e, mais preferivelmente, de cerca de 0,3 grama a cerca de 1,6 gramas de matéria-prima por hora por centímetro cúbico de catalisador.
[0044] Além disso, a aminação redutiva pode ser conduzida na presença de cerca de 1 mol a cerca de 200 moles de amônia por mol de diol precursor e mais preferivelmente, de cerca de 4 moles a cerca de 130 moles de amônia por mol de diol precursor. Podem ser utilizados de cerca de 0,1 mol a cerca de 50 moles de hidrogênio por mol de diol precursor e, mais preferivelmente, de cerca de 1 mol a cerca de 25 moles de hidrogênio por mol de diol precursor.
[0045] Em outro aspecto, a presente descrição é direcionada à mistura de eteramina produzida de acordo com o método como presentemente descrito.
[0046] Devido às suas propriedades favoráveis, a mistura de eteramina de acordo com a presente descrição pode ser usada como um agente de cura para resinas epóxi ou como um reagente na preparação de compostos de poliureia e poliamidas, que podem ser utilizados em uma variedade de aplicações industriais, incluindo a preparação de, por exemplo, revestimentos de piso autonivelantes (e autocuráveis), tampos de mesa de alta espessura e outras aplicações de revestimento decorativo.
[0047] Em ainda um outro aspecto, a presente descrição é direcionada a um sistema de resina epóxi compreendendo uma resina epóxi e a mistura de eteramina como aqui descrito. A presente descrição também é direcionada a um método de formação de um sistema de resina epóxi compreendendo o contato de uma resina epóxi com a mistura de eteramina presentemente descrita.
[0048] A resina epóxi pode ser qualquer uma ou uma mistura de resina(s) epóxi reativa(s) com uma equivalência de 1,2-epóxi (funcionalidade), em média, de pelo menos 1 grupo epóxido por molécula, preferivelmente pelo menos 1,3 grupos epóxido por molécula, e mais preferivelmente pelo menos 1,6 grupos epóxido por molécula, e ainda mais preferivelmente com resinas epóxi com uma funcionalidade de pelo menos 2 grupos epóxi por molécula, de modo que a mistura polimerize para formar um material útil com as poliéter diaminas da mistura de eteramina presentemente descrita ou sua mistura com outros endurecedores de amina. Em outra modalidade, a resina epóxi tem uma funcionalidade em média variando de pelo menos 1,3 grupos epóxido por molécula a cerca de 8 grupos epóxido por molécula, preferivelmente de pelo menos cerca de 1,6 grupos epóxido por molécula a cerca de 5 grupos epóxido por molécula. A resina epóxi pode ser saturada ou insaturada, linear ou ramificada, alifática, cicloalifática, aromática ou heterocíclica, e pode conter substituintes como bromo ou flúor. Pode ser monomérico ou polimérico, líquido ou sólido, mas é preferivelmente líquido ou um sólido de baixo ponto de fusão à temperatura ambiente.
[0049] De acordo com uma modalidade, a resina epóxi é um composto de poliglicidil epóxi, tal como um poliglicidil éter, poli(β- metilglicidil) éter, poliglicidil éster ou poli(β-metilglicidil) éster. A síntese e exemplos de poliglicidil éteres, poli(β-metilglicidil) éteres, poliglicidil ésteres e poli(β-metilglicidil) ésteres são descritos na Pat. U.S. n° 5.972.563, que é aqui incorporada por referência. Por exemplo, os éteres podem ser obtidos por reação de um composto com pelo menos um grupo hidroxila alcoólica livre e/ou grupo hidroxila fenólico com uma epicloridrina adequadamente substituída sob condições alcalinas ou na presença de um catalisador ácido seguido por tratamento alcalino. Os álcoois podem ser, por exemplo, álcoois acíclicos, tais como etileno glicol, dietileno glicol e poli(oxietileno) glicóis superiores, propano-1,2-diol ou poli(oxipropileno) glicóis, propano-1,3-diol, butano-1,4-diol, poli(oxitetrametileno) glicóis, pentano-1,5-diol, hexano-1,6- diol, hexano-2,4,6-triol, glicerol, 1,1,1-trimetilolpropano, bistrimetilolpropano, pentaeritritol e sorbitol. Glicidil éteres adequados também podem ser obtidos, no entanto, a partir de álcoois cicloalifáticos, tais como 1,3- ou 1,4-di-hidroxiciclo-hexano, bis(4-hidroxiciclo-hexil)metano, 2,2-bis(4-hidroxiciclo-hexil)propano ou 1,1-bis(hidroximetil)ciclo-hex-3-eno, ou podem possuir anéis aromáticos, tais como N,N-bis(2-hidroxietil)anilina ou p,p’-bis(2-hidroxietilamino)difenilmetano.
[0050] Exemplos representativos de poliglicidil éteres ou poli(β- metilglicidil) éteres incluem aqueles baseados em fenóis monocíclicos, por exemplo, em resorcinol ou hidroquinona, em fenóis policíclicos, por exemplo, em bis(4-hidroxifenil)metano (Bisfenol F), 2,2-bis(4-hidroxifenil)propano (Bisfenol A), bis(4-hidroxifenil)S (Bisfenol S), Bisfenol A, F ou S alcoxilado, Bisfenol A, F ou S estendido com triol e Bisfenóis A, F ou S bromados, Bisfenol A, F ou S hidrogenado, glicidil éteres de fenóis e fenóis com grupos ou cadeias pendentes, em produtos de condensação, obtidos em condições ácidas, de fenóis ou cresóis com formaldeído, tais como novolacas de fenol e novolacas de cresol, ou em diglicidilas de siloxano.
[0051] Poliglicidil ésteres e poli(β-metilglicidil) ésteres podem ser produzidos por reação de epicloridrina ou glicerol dicloridrina ou β- metilepicloridrina com um composto de ácido policarboxílico. A reação é convenientemente realizada na presença de bases. Os compostos de ácido policarboxílico podem ser, por exemplo, ácido glutárico, ácido adípico, ácido pimélico, ácido subérico, ácido azelaico, ácido sebácico ou ácido linoleico dimerizado ou trimerizado. Da mesma forma, no entanto, também é possível utilizar ácidos policarboxílicos cicloalifáticos, por exemplo ácido tetra- hidroftálico, ácido 4-metiltetra-hidroftálico, ácido hexa-hidroftálico ou ácido 4-metilhexa-hidroftálico. Também é possível usar ácidos policarboxílicos aromáticos, como, por exemplo, ácido ftálico, ácido isoftálico, ácido trimelítico ou ácido piromelítico, ou então adutos terminados em carboxila, por exemplo de ácido trimelítico e polióis, por exemplo glicerol ou 2,2-bis(4- hidroxiciclo-hexil)propano, podem ser usados.
[0052] Em uma outra modalidade, a resina epóxi é um composto não glicidil epóxi. Os compostos não glicidil epóxi podem ter estrutura linear, ramificada ou cíclica. Por exemplo, podem ser incluídos um ou mais compostos de epóxido em que os grupos epóxido fazem parte de um sistema de anel alicíclico ou heterocíclico. Outros incluem um composto contendo epóxi com pelo menos um grupo epoxiciclo-hexila que está ligado direta ou indiretamente a um grupo contendo pelo menos um átomo de silício. Exemplos são descritos na Pat. U.S. n° 5.639.413, que é aqui incorporada por referência. Ainda outros incluem epóxidos que contêm um ou mais grupos de óxido de ciclo-hexeno e epóxidos que contêm um ou mais grupos de óxido de ciclopenteno. Compostos não glicidil epóxi particularmente adequados incluem os seguintes compostos não glicidil epóxido difuncionais nos quais os grupos epóxido fazem parte de um sistema de anel alicíclico ou heterocíclico: bis(2,3-epoxiciclopentil) éter, 1,2-bis(2,3- epoxiciclopentiloxi)etano, 3,4-epoxiciclo-hexanocarboxilato de 3,4- epoxiciclo-hexil-metila, 3,4-epoxi-6-metilciclo-hexanocarboxilato de 3,4- epoxi-6-metil-ciclo-hexilmetila, di(3,4-epoxiciclo-hexilmetil)hexanodioato, di(3,4-epoxi-6-metilciclo-hexilmetil) hexanodioato, etilenobis(3,4-epoxiciclo- hexanocarboxilato), etanodiol di(3,4-epoxiciclo-hexilmetil)éter, dióxido de vinilciclo-hexeno, diepóxido de diciclopentadieno ou 2-(3,4-epoxiciclo-hexil- 5,5-espiro-3,4-epoxi)ciclo-hexano-1,3-dioxano, e 2,2’-bis-(3,4-epoxi-ciclo- hexil)-propano.
[0053] Em uma outra modalidade, a resina epóxi é um composto novolaca epóxi obtido pela reação de, preferivelmente na presença de um catalisador básico, como hidróxido de sódio ou potássio, uma epihalohidrina, tal como epicloridrina, com um condensado resinoso de um aldeído, tal como formaldeído e um fenol mono-hídrico ou fenol poli-hídrico.
[0054] Em outras modalidades, a resina epóxi é um composto de poli(N-glicidil) ou poli(S-glicidil). Os compostos de poli(N-glicidil) são obtidos, por exemplo, por desidrocloração dos produtos da reação de epicloridrina com aminas contendo pelo menos dois átomos de hidrogênio de amina. Essas aminas podem ser, por exemplo, n-butilamina, anilina, toluidina, m-xililenodiamina, bis(4-aminofenil)metano ou bis(4- metilaminofenil)metano. Outros exemplos de compostos de poli(N-glicidil) incluem derivados de N,N’-diglicidil de cicloalquilenureia, como etilenoureia ou 1,3-propilenureia, e derivados de N,N’-diglicidil de hidantoína, como de 5,5-dimetil-hidantoína. Exemplos de compostos de poli(S-glicidil) são derivados de di-S-glicidil derivados de ditióis, por exemplo etano-1,2-ditiol ou bis(4-mercaptometilfenil) éter.
[0055] Também é possível utilizar compostos contendo epóxi nos quais os grupos 1,2-epóxido estão ligados a diferentes heteroátomos ou grupos funcionais. Exemplos desses compostos incluem o derivado de N,N,O- triglicidil de 4-aminofenol, o glicidil éter/glicidil éster de ácido salicílico, N- glicidil-N’-(2-glicidiloxipropil)-5,5-dimetil-hidantoína ou 2-glicidiloxi-1,3- bis(5,5-dimetil-1-glicidil-hidantoin-3-il)propano.
[0056] Outros derivados de epóxido podem ser utilizados, tais como dióxido de vinil ciclo-hexeno, dióxido de limoneno, monóxido de limoneno, monóxido de vinil ciclo-hexeno, 3,4-epoxiciclo-hexilmetil acrilato, 3,4-epoxi- 6-metil ciclo-hexilmetil 9,10-epoxiestearato, e 1,2-bis(2,3-epoxi-2- metilpropoxi)etano. Também é concebível o uso de oxetanos ou adutos líquidos pré-reagidos de compostos contendo epóxi, tais como aqueles mencionados acima, com endurecedores para as resinas epóxi.
[0057] O sistema de resina epóxi pode conter adicionalmente aditivos e auxiliares habituais, tais como estabilizantes, modificadores, agentes antiespuma, agentes de endurecimento, aceleradores, agentes de cocura, agentes de nivelamento, agentes de espessamento, retardantes de chama, antioxidantes, pigmentos, corantes, cargas e combinações dos mesmos. Por exemplo, um acelerador como a guanidina ou um derivado da mesma pode ser usado no sistema de resina epóxi. Exemplos de derivados de guanidina incluem, sem limitação, uma alquilguanidina tal como dimetilguanidina ou tetrametil guanidina, ou um sal de guanidínio derivado de qualquer um destes. Exemplos de sais de guanidínio incluem, sem limitação, carbonatos de guanidina, acetatos de guanidina e nitratos de guanidina. Aquele versado na técnica com o benefício desta descrição reconhecerá aditivos e auxiliares apropriados para uso em modalidades da presente descrição.
[0058] Em algumas modalidades da presente descrição, as misturas de eteramina podem não exigir o uso de agente de cocura, como diaminas cicloalifáticas, como isoforona diamina. Nessas modalidades, menos materiais seriam necessários para fabricar a resina epóxi, bem como menos energia necessária para atingir a temperatura de cura mais baixa.
[0059] Uma vez preparado, o sistema de resina epóxi pode ser aplicado a uma ou mais superfícies de um artigo, por exemplo, escovação, pulverização, imersão, pulverização eletrostática, etc., o sistema de resina epóxi ao mesmo e, em seguida, submetendo o artigo revestido a condições adequadas para fazer com que o sistema de resina epóxi cure.
[0060] O sistema de resina epóxi descrito acima, uma vez preparado e/ou aplicado a uma ou mais superfícies, pode então ser submetido a condições suficientes para fazer com que o sistema de resina epóxi cure.
[0061] Em uma modalidade, o sistema de resina epóxi é substancialmente curado à temperatura ambiente. Foi surpreendentemente verificado que a mistura de eteramina presentemente descrita tem baixa viscosidade e sistemas de resina epóxi contendo-a são capazes de ser substancialmente curados à temperatura ambiente em cerca de 12 horas sem aquecimento adicional. Em uma modalidade particular, o sistema de resina epóxi é substancialmente curado a uma temperatura que varia de cerca de 20°C a cerca de 30°C por um tempo que varia de cerca de 6 a cerca de 24 horas, ou de cerca de 6 a cerca de 22 horas, ou de cerca de 6 a cerca de 20 horas, ou de cerca de 12 a cerca de 24 horas, ou de cerca de 16 a cerca de 22 horas, ou de cerca de 6 a 12 horas, ou qualquer intervalo de tempo entre as faixas aqui estabelecidas.
[0062] Em modalidades alternativas, o sistema de resina epóxi é curado a uma temperatura elevada, por exemplo, a uma temperatura dentro da faixa de cerca de 40°C a cerca de 220°C. Em algumas modalidades, o tempo de cura pode ser de cerca de 2 horas a cerca de 24 horas, incluindo qualquer quantidade individual de tempo entre eles.
[0063] A presente descrição, em um aspecto, é direcionada a um compósito formado pela cura do sistema de resina epóxi conforme descrito neste documento.
[0064] Em uma modalidade particular, o sistema de resina epóxi é substancialmente livre de metil 3-metoxipropionato (“MMP”) e/ou álcool benzílico.
[0065] A presente descrição é adicionalmente direcionada a um método de produção de uma poliureia que compreende a reação de um poli- isocianato orgânico com a mistura de eteramina presentemente descrita. A presente descrição também é direcionada a uma poliureia formada pela reação de poli-isocianatos orgânicos com a mistura de eteramina presentemente descrita.
[0066] Os poli-isocianatos orgânicos incluem, por exemplo, mas sem limitação, compostos de isocianato padrão e composições conhecidas dos versados na técnica. Exemplos não limitativos de tais poli-isocianatos orgânicos incluem quase pré-polímeros à base de MDI, tais como aqueles comercialmente disponíveis como RUBINATE® 9480, RUBINATE® 9484 e produtos das marcas RUBINATE® 9495 que estão todos disponíveis na Huntsman Corporation ou uma afiliada desta (The Woodlands, TX). MDI liquefeito, como o isocianato MONDUR® ML, disponível na Bayer MaterialScience, também pode ser usado como todo ou parte do isocianato.
[0067] Outros poli-isocianatos orgânicos que podem ser utilizados incluem aqueles geralmente conhecidos por um versado na técnica. Assim, por exemplo, podem incluir isocianatos alifáticos do tipo descrito na Patente U.S. n° 4.748.192, que é totalmente incorporada neste documento por referência. Por conseguinte, eles são tipicamente di-isocianatos alifáticos e, mais particularmente, são a forma trimerizada ou biurética de um di- isocianato alifático, tal como di-isocianato de hexametileno, ou o monômero bifuncional do di-isocianato de tetra-alquil xileno, tal como o di-isocianato de tetrametil xileno. Outro exemplo de um isocianato alifático é o di-isocianato de ciclo-hexano. Outros isocianatos alifáticos úteis são descritos na Pat. U.S. n° 4.705.814 que é totalmente incorporada aqui por referência. Eles incluem di-isocianatos alifáticos, por exemplo, di-isocianatos de alquileno com 4 a 12 átomos de carbono no radical alquileno, tais como di-isocianato de 1,12- dodecano e di-isocianato de 1,4-tetrametileno. Também são descritos di- isocianatos cicloalifáticos, tais como di-isocianato de 1,3 e 1,4-ciclo-hexano, bem como qualquer mistura desejada desses isômeros, 1-isocianato-3,3,5- trimetil-5-isocianato metilciclo-hexano (di-isocianato de isoforona); di- isocianato de 4,4’-, 2,2’- e 2,4’-diciclo-hexilmetano, bem como as correspondentes misturas de isômeros e similares.
[0068] Uma grande variedade de poli-isocianatos aromáticos também pode ser usada para formar a poliureia da presente descrição. Os poli- isocianatos aromáticos típicos incluem di-isocianato de p-fenileno, polifenilisocianato de polimetileno, di-isocianato de 2,6-tolueno, di-isocianato de dianisidina, di-isocianato de bitolileno, naftaleno-1,4-diisocianato, bis(4- isocianatofenil)metano, bis(3-metil-3-iso-cianatofenil)metano, bis(3-metil-4- isocianatofenil)metano e di-isocianato de 4,4’-difenilpropano. Outros poli- isocianatos aromáticos que podem ser usados são misturas de poli-isocianato de polifenila com ponte de metileno que têm uma funcionalidade de cerca de 2 a cerca de 4. Esses últimos compostos de isocianato são geralmente produzidos pela fosgenação das correspondentes polifenil poliaminas com ponte de metileno, que são convencionalmente produzidas pela reação de formaldeído e aminas aromáticas primárias, como a anilina, na presença de ácido clorídrico e/ou outros catalisadores ácidos. Os processos conhecidos para a preparação de poliaminas e correspondentes poli-isocianatos de polifenila com pontes de metileno das mesmas são descritos na literatura e em muitas patentes, por exemplo, Pat. U.S. n° 2.683.730; 2.950.263; 3.012.008; 3.344.162 e 3.362.979, todos os quais são totalmente incorporados aqui por referência. Normalmente, as misturas de poli-isocianato de polifenila com ponte de metileno contêm cerca de 20 a cerca de 100 por cento em peso de isômeros de di-isocianato de metileno difenila, com o restante sendo di- isocianatos de polimetileno polifenila com funcionalidades mais elevadas e pesos moleculares mais elevados. Típico destes são misturas de poli- isocianato de polifenila contendo cerca de 20 a cerca de 100 por cento em peso de isômeros de di-isocianato de difenila, dos quais cerca de 20 a cerca de 95 por cento em peso do mesmo é o isômero 4,4’ com o restante sendo poli- isocianatos de polimetileno polifenila de maior peso molecular e funcionalidade que têm uma funcionalidade média de cerca de 2,1 a cerca de 3,5. Essas misturas de isocianato são materiais conhecidos, disponíveis comercialmente e podem ser preparadas pelo processo descrito na Pat. U.S. n° 3.362.979. Um poli-isocianato aromático preferido é bis(4-fenilisocianato) de metileno ou “MDI”. MDI puro, quase-pré-polímeros de MDI, MDI puro modificado, etc. são úteis para preparar uma poliureia de acordo com a presente descrição. Uma vez que o MDI puro é um sólido e, portanto, frequentemente inconveniente de usar, produtos líquidos à base de MDI ou bis(4-fenilisocianato) de metileno são usados aqui. A Pat. U.S. n° 3.394.164, aqui incorporada por referência, descreve um produto de MI líquido. Mais geralmente, também está incluído MDI puro modificado com uretonimina. Esse produto é feito aquecendo MDI destilado puro na presença de um catalisador. O produto líquido é uma mistura de MDI puro e MDI modificado. O termo poli-isocianato orgânico também inclui quase-pré-polímeros de isocianatos ou poli-isocianatos com materiais contendo hidrogênio ativo.
[0069] Exemplos são providos abaixo. No entanto, a presente descrição deve ser entendida como não sendo limitada em sua aplicação aos experimentos, resultados e procedimentos laboratoriais específicos descritos aqui abaixo. Em vez disso, os exemplos são simplesmente providos como uma das várias modalidades e pretendem ser exemplificativos e não exaustivos.
[0070] Uma mistura de eteramina exemplificativa foi preparada adicionando cerca de 3,27 kg (7,2 lbs.) de 1,4-ciclo-hexanodimetanol (CHDM) e 100 g de dimetil ciclo-hexilamina (DMCHA) a uma chaleira de reator de quatro galões. A mistura de CHDM e DMCHA foi aquecida sob nitrogênio a 90°C e, em seguida, 3,99 kg (8,8 lbs.) de óxido de etileno (“EO”) foram adicionados lentamente ao reator a 90 - 100°C a uma pressão máxima de 40 psig. A mistura de CHDM, DMCHA e EO foi então digerida a 100°C durante 2 a 3 horas para formar uma mistura digerida contendo um polieterdiol da reação de CHDM e EO. Após a digestão, a mistura digerida foi purificada com nitrogênio e então submetida a vácuo a 100°C para remover o excesso de EO e DMCHA. O polieterdiol restante foi acondicionado em um jarro de um galão. O polieterdiol era um líquido límpido e móvel com um número de hidroxila de 363, teor de água de 0,07% em peso e um peso molecular médio ponderal de 309 Daltons.
[0071] O polieterdiol da reação de CHDM e EO foi então submetido à aminação redutiva contínua sobre um catalisador de níquel/cobre/zircônia em um reator de fluxo ascendente, com hidrogênio e amônia, a uma temperatura de cerca de 200°C e pressão de cerca de 2.000 psi (13,7 MPa) durante cerca de 24 a 36 horas para formar a mistura de eteramina compreendendo uma ou mais poliéter diaminas. A mistura de etileno foi coletada em recipientes de galão, os quais foram ventilados com o excesso de amônia e separados por vácuo até cerca de 1 a 2 mmHg para remover água e amônia residual. A mistura de etileno final era um líquido de cor muito fraca com baixa viscosidade e mostrou solubilidade completa em água.
[0072] Uma análise posterior mostrou que a mistura de eteramina tinha um valor total de amina de 5,17 meq./g. e uma conversão de amina de 96,4%, 78,5% das quais eram aminas primárias e 21,5% de aminas principalmente secundárias. O peso molecular médio ponderal da mistura de eteramina era de cerca de 650 Daltons e o peso equivalente de hidrogênio da amina calculado (AHEW) era de 109.
[0073] O exemplo descrito acima apresenta uma razão molar de 4:1 de EO para CHDM. O mesmo processo conforme descrito foi usado para dois exemplos adicionais, mas em razões molares de EO para CHDM de 2:1 e 3,33:1.
[0074] Várias propriedades dos três exemplos são apresentadas na Tabela 1 abaixo. Os três exemplos são diferenciados pelas razões molares de EO para CHDM. Tabela 1
[0075] Um sistema de resina epóxi curável foi preparado pela adição de (i) 59 g da mistura de eteramina descrita acima, preparada usando uma razão molar de 4:1 de EO para CHDM, e (ii) 100 g de resina epóxi ARALDITE® 6010 disponível na Huntsman Corporation ou uma de suas afiliadas (The Woodlands, TX). A mistura resultante foi bem agitada com uma espátula até se formar uma solução límpida e homogênea. A solução homogênea era então despejada em moldes e também sobre uma superfície de madeira com uma imagem afixada. Depois de curar durante a noite em temperatura ambiente, tanto as peças de fundição quanto o revestimento de madeira eram materiais duros e claros, que eram brilhantes na superfície sem quaisquer defeitos aparentes, como manchas de amina ou manchas de água.
[0076] A partir da descrição acima, é claro que a presente descrição é bem adaptada para realizar o objetivo e obter as vantagens mencionadas neste documento, bem como aquelas inerentes à presente descrição. Embora modalidades exemplificativas da presente descrição tenham sido descritas para os fins da invenção, será entendido que inúmeras mudanças podem ser feitas, as quais serão prontamente sugeridas para aqueles versados na técnica que podem ser realizadas sem se afastar do escopo da presente descrição e as reivindicações anexas.
Claims (18)
1. Mistura de eteramina caracterizada por compreender uma ou mais poliéter diaminas de fórmula (I): em que: R é um radical de um diol hidrofóbico após a remoção dos dois grupos hidroxila do diol hidrofóbico tendo 6 a 15 átomos de carbono para cada uma das uma ou mais poliéter diaminas de fórmula (I) e fórmula (III); n está na faixa de 1 a 3; x e y estão cada um em uma faixa de 0 a 9 com a ressalva de que se um de x ou y for 0, então o outro está em uma faixa de 1 a 9; e a soma de x e y está na faixa de 1 a 10, pelo menos uma das uma ou mais poliéter diaminas de fórmula (III): em que: R é um radical de um diol hidrofóbico após a remoção dos dois grupos hidroxila do diol hidrofóbico; n está em uma faixa de 1 a 3; x e y estão, cada um, numa faixa de 1 a 9; e a soma de x e y está na faixa de 2 a 10; e menos de 10% em peso de uma monoéter diamina com base no peso total da mistura de eteramina.
2. Mistura de eteramina, de acordo com a reivindicação 1, caracterizada pelo fato de que x e y estão cada um em uma faixa de 1 a 9 e a soma de x e y está em uma faixa de 2 a 10 para cada uma das uma ou mais poliéter diaminas de fórmula (I) e fórmula (III).
3. Mistura de eteramina, de acordo com a reivindicação 1, caracterizada pelo fato de que o diol hidrofóbico é selecionado a partir de um diol cicloalifático, um diol aromático hidrogenado, um alquil diol linear ou uma combinação dos mesmos.
4. Mistura de eteramina, de acordo com a reivindicação 1, caracterizada pelo fato de que o diol hidrofóbico é um ciclopentanodiol ou um ciclo-hexanodiol.
5. Mistura de eteramina, de acordo com a reivindicação 1, caracterizada pelo fato de que a soma de x e y está em uma faixa de 3 a 6 para cada uma das uma ou mais poliéter diaminas de fórmula (I) e fórmula (III).
6. Mistura de eteramina, de acordo com a reivindicação 1, caracterizada pelo fato de que pelo menos 60% dos grupos amina de uma ou mais poliéter diaminas de fórmula (I) são aminas primárias.
7. Método para produzir uma mistura de eteramina caracterizado por compreender: - carregar um diol hidrofóbico a uma zona de reação de alcoxilação; - contactar o diol hidrofóbico com um óxido de etileno na zona de reação de alcoxilação para prover um diol precursor, em que a razão de moles de óxido de etileno para diol hidrofóbico está em uma faixa de mais de 2:1 a 10:1; e - carregar o diol precursor a uma zona de aminação redutiva e aminar redutivamente o diol precursor para formar uma mistura de eteramina contendo uma ou mais poliéter diaminas de fórmula (I): em que: R é um radical de um diol hidrofóbico após a remoção dos dois grupos hidroxila do diol hidrofóbico; n está em uma faixa de 1 a 3; x e y estão cada um em uma faixa de 0 a 9 com a ressalva de que se um de x ou y for 0, então o outro está em uma faixa de 1 a 9; e a soma de x e y está na faixa de 1 a 10 uma ou mais poliéter diaminas de fórmula (III) em que: R é um radical de um diol hidrofóbico após a remoção dos dois grupos hidroxila do diol hidrofóbico; n está em uma faixa de 1 a 3; x e y estão, cada um, numa faixa de 1 a 9; e a soma de x e y está na faixa de 2 a 10; e menos de 10% em peso de uma monoéter diamina com base no peso total da mistura de eteramina.
8. Método, de acordo com a reivindicação 7, caracterizado pelo fato de que x e y estão cada um em uma faixa de 1 a 9 e a soma de x e y está em uma faixa de 2 a 10 para cada uma das uma ou mais poliéter diaminas de fórmula (I) e fórmula (III).
9. Método, de acordo com a reivindicação 7, caracterizado pelo fato de que o diol hidrofóbico tem 6 a 15 átomos de carbono para cada uma das uma ou mais poliéter diaminas de fórmula (I) e fórmula (III).
10. Método, de acordo com a reivindicação 9, caracterizado pelo fato de que o diol hidrofóbico é selecionado a partir de um diol cicloalifático, um diol aromático hidrogenado, um alquil diol linear ou uma combinação dos mesmos.
11. Método para produzir um sistema de resina epóxi caracterizado por compreender: - prover a mistura de eteramina como definida na reivindicação 1; - prover uma resina epóxi; - contactar a mistura de eteramina e a resina epóxi para formar um sistema de resina epóxi.
12. Método para produzir um sistema de resina epóxi curada caracterizado por compreender: - prover uma mistura de eteramina como definida na reivindicação 1; - prover uma resina epóxi; - contactar a mistura de eteramina e a resina epóxi para formar um sistema de resina epóxi; e - curar o sistema de resina epóxi.
13. Método, de acordo com a reivindicação 12, caracterizado pelo fato de que a etapa de cura do sistema de resina epóxi compreende submeter o sistema de resina epóxi a uma temperatura que varia de 5°C a 30°C por um tempo que varia de 6 a 24 horas.
14. Método para produzir uma poliureia caracterizado por compreender a reação da mistura de eteramina, como definida na reivindicação 1 ,com um poli-isocianato orgânico.
15. Poliureia caracterizada por ser produzida pelo método conforme definido na reivindicação 14.
16. Mistura de eteramina caracterizada por ser produzida por um método que compreende as etapas de: - carregar um diol hidrofóbico a uma zona de reação de alcoxilação; - contactar o diol hidrofóbico com um óxido de etileno na zona de reação de alcoxilação para prover um diol precursor, em que a razão de moles de óxido de etileno para diol hidrofóbico está em uma faixa de mais de 2:1 a 10:1; e - carregar o diol precursor a uma zona de aminação redutiva e aminar redutivamente o diol precursor para formar a mistura de eteramina contendo uma ou mais poliéter diaminas de fórmula (I): em que: R é um radical de um diol hidrofóbico após a remoção dos dois grupos hidroxila do diol hidrofóbico; n está na faixa de 1 a 3; x e y estão cada um em uma faixa de 0 a 9 com a ressalva de que se um de x ou y for 0, então o outro está em uma faixa 1 a 9; e a soma de x e y está na faixa de 1 a 10, uma ou mais poliéter diaminas de fórmula (III) em que: R é um radical de um diol hidrofóbico após a remoção dos dois grupos hidroxila do diol hidrofóbico; n está em uma faixa de 1 a 3; x e y estão, cada um, numa faixa de 1 a 9; e a soma de x e y está na faixa de 2 a 10; e menos de 10% em peso de uma monoéter diamina com base no peso total da mistura de eteramina.
17. Método, de acordo com a reivindicação 16, caracterizado pelo fato de que x e y estão cada um em uma faixa de 1 a 9 e a soma de x e y está em uma faixa de 2 a 10 para cada uma das uma ou mais poliéter diaminas de fórmula (I) e fórmula (III).
18. Compósito caracterizado por ser formado pelo método como definido na reivindicação 12.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201862644848P | 2018-03-19 | 2018-03-19 | |
US62/644,848 | 2018-03-19 | ||
PCT/US2019/022683 WO2019182941A1 (en) | 2018-03-19 | 2019-03-18 | Etheramine mixture containing polyether diamines and method of making and using the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
BR112020017267A2 BR112020017267A2 (pt) | 2020-12-22 |
BR112020017267B1 true BR112020017267B1 (pt) | 2023-12-26 |
Family
ID=67987504
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
BR112020017267-7A BR112020017267B1 (pt) | 2018-03-19 | 2019-03-18 | Mistura de eteramina, métodos para produzir uma mistura de eteramina, um sistema de resina epóxi e uma poliureia, poliureia, e, compósito |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11566107B2 (pt) |
EP (1) | EP3768743A4 (pt) |
JP (1) | JP7275158B2 (pt) |
KR (1) | KR20210005581A (pt) |
CN (1) | CN111902444B (pt) |
BR (1) | BR112020017267B1 (pt) |
CA (1) | CA3092507A1 (pt) |
MX (1) | MX2020009701A (pt) |
WO (1) | WO2019182941A1 (pt) |
ZA (1) | ZA202005386B (pt) |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5247078A (en) * | 1991-05-02 | 1993-09-21 | Texaco Chemical Company | Synthesis of diaza crown ethers |
US5241016A (en) * | 1992-05-29 | 1993-08-31 | Texaco Chemical Company | Epoxy adhesives containing aminated, long chain monoepoxide capped polyols |
JPH08311194A (ja) * | 1995-05-22 | 1996-11-26 | Huntsman Corp | ポリエーテルアミドの界面活性剤 |
JP2001181384A (ja) | 1999-12-27 | 2001-07-03 | Tosoh Corp | ポリオキシアルキレンアミン製造触媒の再賦活化方法 |
CN102665402B (zh) * | 2009-12-22 | 2014-09-10 | 亨斯迈石油化学有限责任公司 | 含有柔性片段和刚性片段的醚胺及其作为用于聚合物合成的中间体的用途 |
EP2725632B8 (en) * | 2009-12-23 | 2017-02-22 | Merck Patent GmbH | Use of compositions comprising polymeric inert binders for the fabrication of light-emitting diode |
EP2842936A1 (en) * | 2013-08-26 | 2015-03-04 | Basf Se | Etheramines based on alkoxylated glycerine or trimethylolpropane. |
AR098050A1 (es) * | 2013-10-18 | 2016-04-27 | Huntsman Petrochemical Llc | Eteraminas con mayor estabilidad térmica y su uso como curativos o intermediarios para la síntesis de polímeros |
US10513578B2 (en) * | 2013-11-05 | 2019-12-24 | Huntsman Petrochemical Llc | Etheramines and their use as curatives or intermediates for polymer synthesis |
RU2017113966A (ru) | 2014-09-25 | 2018-10-25 | Басф Се | Простые полиэфирамины на основе 1, 3-диспиртов |
-
2019
- 2019-03-18 MX MX2020009701A patent/MX2020009701A/es unknown
- 2019-03-18 CA CA3092507A patent/CA3092507A1/en active Pending
- 2019-03-18 JP JP2020550680A patent/JP7275158B2/ja active Active
- 2019-03-18 BR BR112020017267-7A patent/BR112020017267B1/pt active IP Right Grant
- 2019-03-18 EP EP19772328.1A patent/EP3768743A4/en active Pending
- 2019-03-18 CN CN201980020115.8A patent/CN111902444B/zh active Active
- 2019-03-18 WO PCT/US2019/022683 patent/WO2019182941A1/en unknown
- 2019-03-18 KR KR1020207029810A patent/KR20210005581A/ko not_active Application Discontinuation
- 2019-03-18 US US16/980,485 patent/US11566107B2/en active Active
-
2020
- 2020-08-28 ZA ZA2020/05386A patent/ZA202005386B/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA3092507A1 (en) | 2019-09-26 |
WO2019182941A1 (en) | 2019-09-26 |
CN111902444A (zh) | 2020-11-06 |
KR20210005581A (ko) | 2021-01-14 |
ZA202005386B (en) | 2021-08-25 |
MX2020009701A (es) | 2020-10-07 |
CN111902444B (zh) | 2023-07-04 |
US20210017334A1 (en) | 2021-01-21 |
EP3768743A4 (en) | 2021-12-15 |
BR112020017267A2 (pt) | 2020-12-22 |
US11566107B2 (en) | 2023-01-31 |
JP2021518467A (ja) | 2021-08-02 |
EP3768743A1 (en) | 2021-01-27 |
JP7275158B2 (ja) | 2023-05-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
B350 | Update of information on the portal [chapter 15.35 patent gazette] | ||
B06W | Patent application suspended after preliminary examination (for patents with searches from other patent authorities) chapter 6.23 patent gazette] | ||
B06A | Patent application procedure suspended [chapter 6.1 patent gazette] | ||
B09A | Decision: intention to grant [chapter 9.1 patent gazette] | ||
B16A | Patent or certificate of addition of invention granted [chapter 16.1 patent gazette] |
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