BR112019018296A2

BR112019018296A2 - Artigo revestido que tem revestimento de baixa emissividade (baixa e) com camada(s) refletora(s) de infravermelho (iv) e camada de alto índice à base de nióbio e bismuto e método para fabricação do mesmo

Info

Publication number: BR112019018296A2
Application number: BR112019018296-9A
Authority: BR
Inventors: SARAF Gaurav; JEWHURST Scott; Ding Guowen; Schweigert Daniel; Le Minh; Zhang Guizhen; Lee Daniel; CLAVERO Cesar; Frank Marcus; Boyce Brent
Original assignee: Guardian Glass, LLC
Priority date: 2017-03-03
Filing date: 2018-03-01
Publication date: 2020-03-31
Also published as: EP3589593A1; US20180251890A1; WO2018160783A1; CA3054933A1; US10179946B2; MX2019010433A; RU2759399C2; RU2019130987A; RU2019130987A3

Abstract

um artigo revestido inclui um revestimento de baixa emissividade (baixa e) em um substrato de vidro. o revestimento de baixa e inclui pelo menos uma camada refletora de infravermelho (ir) de um material como prata, ouro ou semelhante e pelo menos uma camada de alto índice de refração de ou incluindo nbbi. a camada de alto índice (por exemplo, nbbiox) é projetada e depositada de modo a ser amorfa no revestimento de baixa e, de modo a suportar melhor o tratamento térmico opcional (ht), como a têmpera térmica. a camada de alto índice pode ser uma camada dielétrica transparente de alto índice.

Description

ARTIGO REVESTIDO QUE TEM REVESTIMENTO DE BAIXA EMISSIVIDADE (BAIXA E) COM CAMADA(S) REFLETORA(S) DE INFRAVERMELHO (IV) E CAMADA DE ALTO ÍNDICE À BASE DE ΝΙΟΒΙΟ E BISMUTO E MÉTODO PARA FABRICAÇÃO DO MESMO [0001] Este pedido se refere a um artigo revestido que inclui um revestimento de baixa emissividade (baixa E) que tem pelo menos uma camada refletora de infravermelho (IV) de um material como prata, ouro, ou similares, e pelo menos uma camada de alto índice de refração de ou que inclui NbBi. A camada de alto índice (por exemplo, NbBiOx) é projetada e depositada de modo a ser amorfa no revestimento de baixa E, para melhor suportar o tratamento por calor (HT) opcional como a têmpera térmica. A camada de alto índice pode ser uma camada dielétrica transparente de alto índice em modalidades preferenciais, que é fornecida para propósitos de antirreflexo e/ou de ajuste de cor, além de ter estabilidade térmica. Em certas modalidades exemplificadoras, o revestimento de baixa E pode ser usado em aplicações como unidade de janela de vidro monolítico ou isolante (VI), janelas de veículo ou similares.

ANTECEDENTES E SUMÁRIO DE MODALIDADES EXEMPLIFICADORAS DA INVENÇÃO [0002] Artigos revestidos são conhecidos na técnica para uso em aplicações de janela como unidades de janela de vidro isolante (VI), janelas de veículo, janelas monolíticas, e/ou similares.

[0003] Revestimentos de baixa E convencionais são revelados, por exemplo e sem limitação, nas patentes US n°s. 6.576.349, 9.212.417, 9.297.197, 7.390.572, 7.153.579 e 9.403.345, cujas revelações estão aqui incorporadas por referência.

[0004] Certos revestimentos de baixa E utilizam pelo menos uma camada dielétrica transparente de óxido de titânio (por exemplo, T1O2), que tem um alto índice de refração (n), para propósitos de antirreflexo e/ou coloração. Consulte, por exemplo, as patentes US n°s. 9.212.417, 9.297.197, 7.390.572, 7.153.579 e

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9.403.345. Embora os materiais dielétricos de alto índice de retração como T1O2 sejam conhecidos e usados em revestimentos de baixa E, estes materiais não são tipicamente estáveis ao calor após 0 processo de têmpera de cerca de 650°C por 8 minutos, devido à cristalização de filme (ou alteração na cristalinidade) no estado conforme depositado ou no estado pós-têmpera, que por sua vez pode induzir tensão térmica ou de reticula em camadas adjacentes na pilha de filme. [0005] Tal tensão pode ainda causar alteração nas propriedades físicas ou de material da pilha e, portanto, causar impacto sobre a camada de Ag, 0 que resulta em deterioração no desempenho da pilha de baixa E.

[0006] Exemplos de modalidades da presente invenção resolvem esses problemas através do fornecimento de uma camada de alto índice para uso em revestimentos de baixa E que tem tanto um alto índice de refração (n) como é substancialmente estável mediante tratamento por calor (HT).

[0007] Tratamento por calor (HT) e termos similares como tratamento térmico e tratado por calor, como por têmpera térmica, reforço por calor e/ou flexão por calor, para uso na presente invenção, significa um tratamento por calor do substrato de vidro e revestimento no mesmo a uma temperatura de pelo menos 580 °C por pelo menos 5 minutos. Um exemplo de tratamento por calor é tratar por calor a uma temperatura de cerca de 600 a 650 °C por pelo menos 8 minutos.

[0008] Em modalidades exemplificadoras da presente invenção, é fornecida uma camada de alto índice para uso em revestimentos de baixa E que tem tanto um alto índice de refração (n) como é substancialmente estável mediante tratamento por calor (HT). Um artigo revestido inclui um revestimento de baixa emissividade (baixa E) que tem ao menos uma camada refletora de infravermelho (IV) de um material como prata, ouro ou similar, e ao menos uma camada com alto índice de refração de ou que inclui óxido de NbBi. A camada de alto índice (por exemplo, NbBiOx) é projetada e depositada de modo a ser amorfa no revestimento de baixa E, para melhor suportar 0 tratamento por

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3/20 calor (HT) opcional como a têmpera térmica. A camada de alto índice pode ser uma camada dielétrica transparente de alto índice em modalidades preferenciais, que é fornecida para propósitos de antirreflexo e/ou de ajuste de cor, além de ter estabilidade térmica. Em certas modalidades exemplificadoras, o revestimento de baixa E pode ser usado em aplicações como unidade de janela de vidro monolítico ou isolante (VI), janelas de veículo ou similares.

[0009] Em uma modalidade exemplificadora desta invenção, é apresentado um artigo revestido que inclui um revestimento suportado por um substrato vítreo, sendo que o revestimento compreende: uma primeira camada dielétrica transparente sobre o substrato vítreo; uma camada refletora de infravermelho (IV) que compreende prata no substrato vítreo, situada sobre pelo menos a primeira camada dielétrica transparente; uma segunda camada dielétrica transparente no substrato vítreo, situada sobre pelo menos a camada refletora de IV; e sendo que pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas transparentes é amorfa e compreende um óxido de Nb e Bi.

[0010] Em uma modalidade exemplificadora da presente invenção, é apresentado um método de fabricação de um artigo revestido que inclui um revestimento suportado por um substrato vítreo, sendo que o método compreende: depositar por bombardeamento com íons uma primeira camada dielétrica transparente no substrato vítreo; depositar por bombardeamento com íons uma camada refletora de infravermelho (IV) que compreende prata no substrato vítreo, situada sobre pelo menos a primeira camada dielétrica transparente; depositar por bombardeamento com íons uma segunda camada dielétrica transparente no substrato vítreo, situada sobre pelo menos a camada refletora de IV; e sendo que pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas transparentes é depositada por bombardeamento com íons de modo a ser amorfa ou substancialmente amorfa, e compreende um óxido de Nb e Bi.

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4/20 [0011] Em uma modalidade exemplificadora da presente invenção, é apresentado um método de fabricação de um artigo revestido que inclui uma camada suportada por um substrato vítreo, sendo que o método compreende: ter um substrato vítreo; depositar por bombardeamento com íons uma camada amorfa ou substancialmente amorfa compreendendo um óxido de Nb e Bi (direta ou indiretamente) no substrato vítreo. A camada pode ser depositada por bombardeamento com íons em uma atmosfera esgotada de oxigênio (uma atmosfera incluindo menos gás oxigênio do que o necessário para formar uma camada de óxido totalmente estequiométrica) de modo que uma diferença em raios catiônicos para o Nb e Bi cause desordem na reticula levando a uma estrutura amorfa ou substancialmente amorfa da camada.

BREVE DESCRIÇÃO DOS DESENHOS [0012] A Figura 1 é uma vista em seção transversal de um artigo revestido, de acordo com uma modalidade exemplificadora da presente invenção.

DESCRIÇÃO DETALHADA DE MODALIDADES EXEMPLIFICADORAS DA INVENÇÃO [0013] Agora será feita referência aos desenhos, nos quais números de referência similares indicam partes similares ao longo das diversas vistas.

[0014] Os artigos revestidos da presente invenção podem ser usados em aplicações como janelas monolíticas, unidades de janela de VI como janelas residenciais, janelas de pátio, janelas de veículo e/ou qualquer outra aplicação adequada que inclua um único ou múltiplos substratos como substratos vítreos.

[0015] Um material com alto índice de refração como T1O2 com baixa ou nenhuma absorção de luz na faixa visível é frequentemente usado em revestimentos de baixa E em aplicações de janela. No entanto, ο T1O2 é tipicamente não estável ao calor após um processo de têmpera térmica como 0 que envolve HT a cerca de 650°C por 8 minutos, devido à cristalização de filme (ou alteração na cristalinidade) no estado conforme depositado ou no estado

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5/20 pós-têmpera, que por sua vez pode induzir tensão térmica ou de reticula em camadas adjacentes na pilha de filme. Essa tensão pode ainda causar alteração nas propriedades físicas ou de material da pilha e, portanto causar impacto na camada à base de Ag refletora de IV, o que resulta em deterioração no desempenho da pilha de baixa E.

[0016] Modalidades exemplificadoras da presente invenção apresentam uma camada (ou camadas) de alto índice projetada para suprimir a cristalinidade nas camadas de baixa absorção de alto índice, independentemente das condições do HT, como têmpera térmica. É fornecida uma camada 3 de alto índice para uso em revestimentos de baixa E que tem tanto um alto índice de refração (n) como é substancialmente estável mediante tratamento por calor (HT). Um artigo revestido inclui um revestimento de baixa emissividade (baixa E) que tem ao menos uma camada refletora de infravermelho (IV) 9 de um material como prata, ouro ou similar, e ao menos uma camada com alto índice de refração 3 de ou que inclui óxido de NbBi. A camada de alto índice (por exemplo, NbBiOx) é projetada e depositada de modo a ser amorfa ou substancialmente amorfa (ao contrário de cristalina) no revestimento de baixa E, para melhor suportar o tratamento por calor (HT) opcional como a têmpera térmica. Substancialmente amorfa, como usado na presente invenção, significa a maior parte amorfa, e mais amorfa que cristalina. Por exemplo, substancialmente amorfa inclui pelo menos 60% amorfa, pelo menos 80% amorfa, pelo menos 90% amorfa, e totalmente amorfa. A camada de alto índice 3 pode ser uma camada dielétrica transparente de alto índice, e pode ser oxidada e/ou nitrificada, nas modalidades preferenciais, e pode ser fornecida para propósitos de antirreflexo e/ou para propósitos de ajuste de cor, além de ter estabilidade térmica.

[0017] A Figura 1 é uma vista em seção transversal de um artigo revestido, de acordo com uma modalidade exemplificadora da presente invenção. O artigo revestido inclui o substrato vítreo 1 (por exemplo, um substrato de vidro

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6/20 transparente, verde, bronze ou verde azulado de cerca de 1,0 a 10,0 mm de espessura, com mais preferência, de cerca de 1,0 mm a 6,0 mm de espessura) e um revestimento multicamadas (ou sistema de camadas) fornecido sobre o substrato 1 de forma direta ou indireta. Conforme mostrado na Figura 1, o revestimento de baixa E 25 exemplificador é de ou inclui uma camada dielétrica transparente opcional 2 de ou que inclui nitreto de silício (por exemplo, SÍ3N4, ou alguma outra estequiometria adequada), camada dielétrica transparente de alto índice amorfa ou substancialmente amorfa 3 à base de Nb e Bi que pode ser oxidada e/ou nitrificada, camada dielétrica transparente 5 de ou que inclui nitreto de silício (por exemplo, SÍ3N4, ou alguma outra estequiometria adequada), camada de contato inclusive de óxido de zinco 7 (por exemplo, ZnO_x em que x pode ser cerca de 1; ou ZnAIOx), camada refletora de IV (infravermelho) 9 de ou que inclui prata, ouro, ou similares, camada de contato superior 11 de ou que inclui um óxido de Ni e/ou Cr (por exemplo, NiCrO_x), e um revestimento externo de ou que inclui camada dielétrica inclusive de óxido de estanho 13 e a camada dielétrica inclusive de nitreto de silício 15. As camadas inclusivas de nitreto de silício 2, 5 e/ou 15 podem incluir adicionalmente Al, oxigênio ou similares, e a camada de óxido de estanho 13 pode, de modo semelhante, incluir adicionalmente ou ser de outros materiais como nitrogênio, zinco, óxido de zinco ou similares. Outras camadas e/ou materiais podem também ser fornecidos no revestimento, em certas modalidades exemplificadoras da presente invenção, e também é possível que certas camadas possam ser removidas ou divididas, em certos casos exemplificadores. Além disso, uma ou mais dentre as camadas discutidas acima podem ser dopadas com outros materiais, em certas modalidades exemplificadoras da presente invenção. A presente invenção não se limita à pilha de camadas mostrada na Figura 1, uma vez que a pilha da Figura 1 é apresentada apenas para propósitos de exemplo para ilustrar um local exemplificador para uma camada de alto índice 3.

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7/20 [0018] Em casos de artigos monolíticos, o artigo revestido inclui apenas um substrato como um substrato vítreo 1 (consulte a Figura 1). Entretanto, os artigos revestidos monolíticos da presente invenção podem ser usados em dispositivos como unidades de janela de VI, por exemplo. Tipicamente, uma unidade de janela de VI pode incluir dois ou mais substratos espaçados com um vão definido entre os mesmos. Unidades de janela de VI exemplificadoras são ilustradas e descritas, por exemplo, nas patentes US n°s 5.770.321, 5.800.933, 6.524.714, 6.541.084 e US 2003/0150711, cujas revelações estão aqui incorporadas a título de referência na presente invenção. Por exemplo, o substrato de vidro revestido 1 mostrado na Figura 1 pode ser acoplado a um outro substrato vítreo através de espaçador (ou espaçadores), selante (ou selantes) ou similares, com um vão sendo definido entre os mesmos em uma unidade de janela de VI. Em certos casos exemplificadores, o revestimento pode ser fornecido sobre o lado do substrato vítreo 1 voltado para o vão, isto é, a superfície n° 2 ou a superfície n° 3. Em outras modalidades exemplificadoras, a unidade de janela de VI pode incluir folhas de vidro adicionais (por exemplo, a unidade de VI pode incluir três folhas de vidro espaçadas entre si em vez de duas).

[0019] A camada dielétrica transparente de alto índice 3 tem de preferência um índice de refração (n, medido a 550 nm) de pelo menos 2,2, com mais preferência de pelo menos 2,25. Nas modalidades exemplificadoras da presente invenção, a camada de baixa absorção de alto índice 3 é projetada por meio de formação de ligas de NbO_x de alto índice (n a 550 nm de cerca de 2,2 a 2,4, k a 400 nm de cerca de 0,001 a 0,005, Eg ~ 3,4 eV) e BiO_x (n a 550 nm de cerca de 2,5 a 2,6, k a 400 nm de cerca de 0,01 a 0,05, Eg ~ 2,9 eV) em uma faixa de composição adequada para produzir uma liga ternária de NbBiOx de alto índice que pode incluir opcionalmente algum nitrogênio, como não mais que 15%, com mais preferência não mais que 10%, e com a máxima preferência não mais que 5% de nitrogênio (porcentagem atômica). O NbO_x e o BiO_x são cristalinos para

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8/20 quase todas as faixas de composição nas regiões de temperatura de interesse (por exemplo, temperatura de têmpera de cerca de 650 °C). De modo similar, as fases de solução sólida mais estáveis de NbBiOx foram determinadas como cristalinas a 650 °C. No entanto, as camadas de NbBiOx cristalinas são problemáticas porque são instáveis mediante HT como têmpera térmica. Técnicas convencionais de deposição por bombardeamento com íons de oxidação completa resultarão em camadas cristalinas. Para manter a estrutura da camada à base de NbBi ou NbBiOx 3 amorfa ou substancialmente amorfa, a diferença de raios iônicos de Nb e Bi pode ser usada em condições de oxigênio subestequiométricas. O uso de uma condição de esgotamento de oxigênio para deposição de NbBiOx, Nb (5+) pode ser forçado para uma coordenação mais baixa (coordenação 4) com raios iônicos ~48 pm, enquanto Bi (3+) na coordenação 6 tem raios iônicos ~ 103 pm ou Nb (5+) na coordenação 6 com raios iônicos ~ 64 pm enquanto Bi (3+) na coordenação 6 tem raios iônicos ~ 103 pm. A diferença em raios catiônicos para Nb e Bi causa desordem na reticula causada pelo esgotamento de oxigênio na câmara (ou câmaras) de bombardeamento com íons (por exemplo, mais gás argônio e menos gás oxigênio) que leva a uma estrutura amorfa ou substancialmente amorfa para a camada 3 que é estável mesmo com têmpera em alta temperatura. Dessa forma, é apresentada uma camada dielétrica transparente de alto índice de ou que inclui NbBiOx, que é de preferência suboxidada (subestequiométrica), que é amorfa ou substancialmente amorfa (ao contrário de cristalina) conforme depositada, como por meio de bombardeamento com íons, sendo, dessa forma, estável mediante HT. A propriedade de material da camada 3 é estável ao calor no sentido de que a inclusão do material na pilha de baixa emissividade não causará uma alteração significativa em seu desempenho em relação à não funcionalidade nem altera significativamente a aparência mediante HT opcional. Em certas modalidades exemplificadoras, uma camada 3 de NbBiOx pode ser

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9/20 depositada por bombardeamento com íons usando um ou mais alvos de cerâmica de ou que inclui NbBiOx.

[0020] A diferença nos raios atômicos entre Nb e Bi pode ser melhorada e ajustada alterando-se os estados de oxidação de ambos os átomos pela redução do teor de oxigênio na atmosfera de gás por bombardeamento com íons usado ao depositar a camada 3 por bombardeamento com íons, e esse esgotamento de oxigênio na atmosfera de bombardeamento com íons causa uma desordem na reticula (por exemplo, a ruptura na formação de reticula) e impede a formação de cristais na camada depositada, levando assim a uma estrutura amorfa ou substancialmente amorfa para a camada (ou camadas) 3 depositada por bombardeamento com íons que é estável mesmo em têmpera térmica em alta temperatura. Uma grande diferença em raios iônicos de Nb e Bi pode romper a reticula e impedir o crescimento cristalino do composto. Os raios iônicos dependem do estado de oxidação e do número de coordenação (por exemplo, ver gráfico acima). As condições com teor de oxigênio mais baixo na atmosfera gasosa de bombardeamento com íons forçam o Nb para uma co-coordenação e coordenação mais baixas que, por sua vez, resulta em uma diferença maior nos raios iônicos entre Nb e Bi. A tabela acima mostra que em estados de oxidação 5+ o Nb e o Bi têm raios iônicos bastante próximos de 64 e 76 pm, mas quando a coordenação se desloca para 4 e/ou os estados de oxidação mudam para 3+ mediante

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10/20 esgotamento de oxigênio, o Nb e o Bi têm raios iônicos muito diferentes à medida que os raios de Bi aumentam para 103 pm, de modo a impedir o crescimento cristalino. Como resultado, a camada 3 depositada por bombardeamento com íons em uma atmosfera esgotada de oxigênio é depositada em um estado amorfo ou substancialmente amorfo devido à grande diferença entre raios iônicos e a ruptura de reticula e, dessa forma, tem estabilidade térmica mediante HT opcional como têmpera térmica ou flexão por calor.

[0021] Dessa forma, a camada de alto índice 3 de ou que inclui NbBiOx pode ser depositada por bombardeamento com íons em uma atmosfera esgotada de oxigênio (uma atmosfera que inclui menos gás oxigênio do que o necessário para formar uma camada de óxido totalmente estequiométrica, incluindo, por exemplo, o uso de não mais que 60% do oxigênio necessário para formar uma camada de óxido totalmente estequiométrica, com mais preferência, não mais que 50% do oxigênio necessário para formar uma camada de óxido totalmente estequiométrica, e possivelmente não mais que 30% do oxigênio necessário para formar uma camada de óxido totalmente estequiométrica) de modo que uma diferença em raios catiônicos para Nb e Bi cause desordem na reticula levando à estrutura amorfa e/ou substancialmente amorfa da camada 3. Se Nb (+5) e Bi (+5) estão na coordenação 6 durante o bombardeamento com íons, qualquer diferença em raios iônicos será pequena e não haverá ruptura de reticula e a camada 3 será cristalina e, dessa forma, instável mediante HT opcional. Entretanto, se uma atmosfera esgotada de oxigênio, como principalmente gás Ar, e uma pequena quantidade de gás oxigênio for usada durante a deposição por bombardeamento com íons da camada 3, então o Nb será forçado para uma coordenação 4 e a cocoordenação de Bi (3+) resultará em uma grande diferença nos raios iônicos entre Nb e Bi, de modo a causar a deposição de uma camada 3 amorfa ou substancialmente amorfa que é mais estável mediante HT opcional.

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11/20 [0022] Descobriu-se que o fornecimento de mais Nb do que Bi na camada 3 de alto índice inclusive de NbBiOx é benéfico. Em certas modalidades exemplificadoras da presente invenção, o teor de metal da camada de alto índice 3 inclusive de NbBiOx é de 55 a 99% de Nb, com mais preferência de 60 a 95% de Nb, ainda com mais preferência de 70 a 90% de Nb, e de 1 a 45% de Bi, com mais preferência de 5 a 40% de Bi, ainda com mais preferência de 10 a 30% de Bi (porcentagem atômica). Descobriu-se que esses teores de metal melhoram a durabilidade e/ou a estabilidade térmica. Conforme explicado acima, esses metais são de preferência oxidados até certo ponto, e podem ser ligeiramente nitrificados opcionalmente em certos casos exemplificadores.

[0023] As camadas dielétricas transparentes inclusivas de nitreto de silício 2 e 5 são fornecidas para propósitos de antirreflexo, e descobriu-se que permitem que mudanças de cor sejam reduzidas. Uma ou ambas as camadas de nitreto de silício 2 e/ou 5 podem ser SÍ3N4.

[0024] Alternativamente, uma ou ambas as camadas de nitreto de silício 2 e/ou 5 podem ser do tipo ricas em Si (não totalmente estequiométricas). Além disso, uma ou ambas as camadas de nitreto de silício 2 e/ou 5 podem incluir adicionalmente um dopante como alumínio ou aço inoxidável e/ou pequenas quantidades de oxigênio. Essas camadas podem ser depositadas através de bombardeamento com íons em certas modalidades exemplificadoras ou através de qualquer outra técnica adequada.

[0025] A camada de contato dielétrica transparente 7 é de ou inclui óxido de zinco (por exemplo, ZnO). O óxido de zinco da camada (ou camadas) 7 pode conter também outros materiais, como Al (por exemplo, para formar ZnAIOx) ou Sn em certas modalidades exemplificadoras. Por exemplo, em certas modalidades exemplificadoras da presente invenção, a camada de óxido de zinco 7 pode ser dopada com cerca de 1 a 10% de Al (ou B), com mais preferência cerca de 1 a 5% de Al (ou B), e com a máxima preferência cerca de 2 a 4% de Al

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12/20 (ou B). O uso de óxido de zinco 7 sob a prata na camada 9 permite a obtenção de uma excelente qualidade de prata. Em certas modalidades exemplificadoras (por exemplo, a serem discutidas abaixo) a camada inclusive de óxido de zinco 7 pode ser formada por meio de bombardeamento com ions de um alvo de cerâmica de Zn ou alvo metálico através de bombardeamento com íons por magnétron giratório. Descobriu-se que o uso do alvo de cerâmica em certas modalidades exemplificadoras (por exemplo, de ZnO, que pode ou não ser dopado com Al, F ou similares) permite a obtenção de uma alta qualidade de prata, resultando assim em um revestimento de emissividade mais baixa. Embora o ZnO no alvo de cerâmica possa ser estequiométrico em certas modalidades exemplificadoras, ao menos um alvo de cerâmica subestequiométrico que compreende ZnO_x (por exemplo, em que 0,25 < x < 0,99, com mais preferência 0,50 < x < 0,97 e com ainda mais preferência 0,70 < x < 0,96), pode em vez disso, ser usado na deposição por bombardeamento com íons de uma camada inclusive de óxido de zinco 7 que pode ser subestequiométrica em certos casos.

[0026] A camada refletora de infravermelho (IV) 9 é de preferência substancial ou inteiramente metálica e/ou condutiva, e pode compreender ou consistir essencialmente em prata (Ag), ouro ou qualquer outro material refletor de IV adequado. A prata da camada refletora de IV 9 pode ser dopada com outro material (ou materiais), como com Pd, Zn ou Cu, em certas modalidades exemplificadoras. A camada refletora de IV 9 ajuda a permitir que o revestimento tenha baixa E e/ou boas características de controle solar como baixa emitância, baixa resistência de folha, e assim por diante. A camada refletora de IV pode, no entanto, ser levemente oxidada em certas modalidades da presente invenção.

[0027] A camada de contato superior 11 pode ser de ou incluir um óxido de Ni e/ou Cr. Em certas modalidades exemplificadoras, a camada de contato superior 11 pode ser de ou incluir óxido de níquel (Ni), cromo/óxido de cromo (Cr), ou um óxido de liga de níquel como óxido de níquel-cromo (NiCrOx), ou outro material (ou

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13/20 materiais) adequado como NiCrMoOx, TiOx, NiCr metálico ou similares. O uso de, por exemplo, NiCrO _x nessa camada (ou camadas) 11 permite melhoria da durabilidade. A camada (ou camadas) de NiCrOx 11,11 pode ser completamente oxidada em certas modalidades da presente invenção (isto é, totalmente estequiométrica), ou alternativamente, pode ser apenas parcialmente oxidada subestequiométrica (antes e/ou após HT opcional). Em certos casos, a camada 11 de NiCrOx pode ser pelo menos cerca de 50% oxidada. A camada de contato 11 (por exemplo, de ou incluindo um óxido de Ni e/ou Cr) pode ou não ser classificada quanto à oxidação em diferentes modalidades da presente invenção. A classificação de oxidação significa que o grau de oxidação na camada muda através da espessura da camada de modo que, por exemplo, uma camada de contato pode ser classificada como menos oxidada na interface de contato com a camada refletora de IV imediatamente adjacente 9 do que em uma porção da camada de contato além ou mais/o mais distante da camada refletora de IV imediatamente adjacente. As descrições de vários tipos de camadas de contato classificadas quanto à oxidação são apresentadas na patente US n° 6.576.349, cuja revelação está aqui incorporada por referência. A camada de contato 11 (por exemplo, de ou incluindo um óxido de Ni e/ou Cr) pode ou não ser contínua em diferentes modalidades desta invenção ao longo de toda a camada refletora IV 9. [0028] Em certas modalidades exemplificadoras da presente invenção, a camada de contato superior pode ser de um material metálico de alto índice ou de NbBi substancialmente metálico, ou de ou incluindo NbBiOx que pode estar sob a forma suboxidada conforme discutido acima para que seja de preferência amorfa.

[0029] O revestimento externo é de ou inclui camadas dielétricas 13 e 15 em certas modalidades exemplificadoras. A camada dielétrica transparente opcional 13 pode ser de ou incluir um óxido metálico como óxido de estanho em certas modalidades exemplificadoras desta invenção. A camada inclusive de óxido metálico 13 é fornecida para propósitos de antirreflexo, e também

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14/20 melhora a emissividade do artigo revestido e a estabilidade e eficiência do processo de fabricação. A camada de óxido de estanho 13 pode ser dopada com outros materiais como nitrogênio e/ou zinco em certas modalidades exemplificadoras desta invenção. A camada à base de óxido de estanho 13 fornece boa durabilidade e melhora a transmissão de luz. A camada dielétrica 15 pode ser de ou incluir nitreto de silício (por exemplo, SÍ3N4 ou outra estequiometria adequada) ou qualquer outro material adequado em certas modalidades exemplificadoras desta invenção, como oxinitreto de silício. A camada de nitreto de silício 15 pode incluir adicionalmente outro material, como um alumínio como um dopante ou pequenas quantidades de oxigênio em certas modalidades exemplificadoras desta invenção. Opcionalmente, outras camadas, como óxido de zircônio, podem ser fornecidas acima da camada 15 no revestimento externo em certos casos exemplificadores. A camada 15 é fornecida para propósitos de durabilidade, e para proteger as camadas subjacentes. Em certas modalidades exemplificadoras, a camada (ou camadas) à base de nitreto de silício 2, 5 e/ou 15 pode ter um índice de refração (n) de cerca de 1,8 a 2,2, com mais preferência de cerca de 1,9 a 2,05. Em certas modalidades exemplificadoras, Zr pode ser fornecido no nitreto de silício da camada 15 (ou camada 2 ou camada 5). Dessa forma, uma ou mais das camadas 2, 5 e/ou 15 podem ser de ou incluir SiZrNx e/ou óxido de zircônio em certas modalidades exemplificadoras desta invenção.

[0030] Outra camada (ou camadas) abaixo ou acima do revestimento ilustrado da Figura 1 também pode ser fornecida. Dessa forma, embora 0 sistema de camadas ou 0 revestimento se situe no ou seja suportado pelo substrato 1 (direta ou indiretamente), outra camada (ou camadas) podem ser fornecidas entre os mesmos. Dessa forma, por exemplo, 0 revestimento da Figura 1 pode ser considerado sobre 0 ou suportado pelo substrato 1, mesmo se uma ou mais outras camadas estiverem dispostas entre a camada 2 e 0 substrato 1.

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15/20 [0031] Além disso, certas camadas do revestimento ilustrado podem ser removidas em certas modalidades, enquanto outras podem ser adicionadas entre as várias camadas, ou as várias camadas podem ser divididas por outra camada (ou camadas) adicionada entre as seções divididas em outras modalidades desta invenção sem que se afaste do espírito geral de certas modalidades desta invenção. Por exemplo e sem limitação, camada de nitreto de silício 5 pode ser removida. Como outro exemplo, a camada de nitreto de silício 2 pode ser removida e a camada 5 pode ser de óxido de estanho (por exemplo, SnO2) em vez de nitreto de silício em certas modalidades alternativas desta invenção. Como ainda outro exemplo, a camada 5 pode ser de óxido de estanho (por exemplo, SnO2) em vez de nitreto de silício em ainda outras modalidades alternativas da presente invenção. [0032] Embora várias espessuras possam ser usadas em diferentes modalidades da presente invenção, espessuras e materiais exemplificadores para as respectivas camadas no substrato vítreo 1 na modalidade da Figura 1 podem ser conforme exposto a seguir: a partir do substrato vítreo para fora (por exemplo, o teor de Al na camada de óxido de zinco e nas camadas de nitreto de silício pode ser de cerca de 1 a 10%, com mais preferência de cerca de 1 a 3% em certos casos exemplificadores):

Tabela 1 (Materiais/espessuras exemplificadores; modalidade da figura 1)

Camada	Faixa preferencial (A)	Mais preferencial (A)	Exemplo (A)
SixNy (camada 2)	20-300 Á	60-160 Á	135 Á
NbBiO_x(camada 3)	30-200 Á	40-120 Á	95 Á
SixNy (camada 5)	20-300 Á	40-140 Á	65 Á
ZnAIOx (camada 7)	10-200 Á	40-120 Á	90 Á
Ag (camada 9)	40-150 Á	65-120 Á	85 Á
NiCrOx (camada 11)	10-70 Á	20-50 Á	30 Á
SnOs (camada 13)	80-210Á	160-180 Á	170 Á
SixNy (camada 15)	100-250 Á	160-180 Á	170 Á

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16/20 [0033] Em certas modalidades exemplificadoras desta invenção, os artigos revestidos na presente invenção (por exemplo, consulte a Figura 1) podem ter as seguintes características de baixa E (baixa emissividade), solar e/ou óptica apresentadas na Tabela 2 quando medidas monoliticamente.

Tabela 2: Características de baixa E/solar (Monolíticas)

Característica

Rt (ohms/quadrado):

E_n:

Tvis (%):

Geral <=11,0 <= 0,2 >= 50

Mais preferencial <= 10 <= 0,15 >= 60

De máxima preferência <= 9 <= 0,11 >= 70 [0034] Embora a camada dielétrica transparente de alto índice 3 à base de NbBi, ou de um óxido do mesmo, seja mostrada e descrita em conexão com o revestimento de baixa E da Figura 1 acima, a presente invenção não é tão limitada. A camada 3 à base de NbBi ou NbBiOx, conforme descrito acima e na presente invenção, pode ser usada como uma camada (ou camadas) de alto índice em qualquer revestimento de baixa E acima ou abaixo de uma camada (ou camadas) refletoras de IV. Uma ou mais de tais camadas à base de NbBi ou NbBiOx 3 podem ser fornecidas em qualquer revestimento de baixa E. Por exemplo e sem limitação, a camada à base NbBi ou NbBiOx amorfa ou substancialmente amorfa 3, conforme descrito acima e na presente invenção, pode ser usada para substituir qualquer camada de alto índice (por exemplo, TiOx ou T1O2) em qualquer um dos revestimentos de baixa E em qualquer uma das patentes US n°s. 9.212.417, 9.297.197, 7.390.572, 7.153.579, 9.365.450 e

9.403.345, todas as quais estão aqui incorporadas por referência.

[0035] Em uma modalidade exemplificadora desta invenção, é apresentado um artigo revestido que inclui um revestimento suportado por um substrato vítreo,

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17/20 sendo que o revestimento compreende: uma primeira camada dielétrica transparente sobre o substrato vítreo; uma camada refletora de infravermelho (IV) que compreende prata no substrato vítreo, situada sobre pelo menos a primeira camada dielétrica transparente; uma segunda camada dielétrica transparente no substrato vítreo, situada sobre pelo menos a camada refletora de IV; e sendo que pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas transparentes é amorfa ou substancialmente amorfa, e compreende um óxido de Nb e Bi.

[0036] No artigo revestido do parágrafo imediatamente anterior, a pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas transparentes compreendendo um óxido de Nb e Bi pode compreender um subóxido de Nb e Bi.

[0037] No artigo revestido de qualquer dos dois parágrafos anteriores, a pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas transparentes compreendendo um óxido de Nb e Bi pode ter um índice de refração (n) de pelo menos 2,2, com mais preferência, pelo menos 2,25.

[0038] No artigo revestido, de acordo com qualquer dos três parágrafos anteriores, a primeira camada dielétrica transparente pode ser amorfa ou substancialmente amorfa e compreender um óxido de Nb e Bi.

[0039] No artigo revestido, de acordo com qualquer dos quatro parágrafos anteriores, a segunda camada dielétrica transparente pode ser amorfa ou substancialmente amorfa e compreender um óxido de Nb e Bi.

[0040] No artigo revestido, de acordo com qualquer dos cinco parágrafos anteriores, o revestimento pode ser um revestimento de baixa E e ter uma emissividade normal (E_n) de no máximo 0,2, com mais preferência, de no máximo 0,15, e com a máxima preferência, de no máximo 0,11.

[0041] No artigo revestido, de acordo com qualquer dos seis parágrafos anteriores, o revestimento pode ter uma resistência de folha (R_s) de no máximo 11 ohms/quadrado, com mais preferência de no máximo 10 ohms/quadrado, e com a máxima preferência de no máximo 9 ohms/quadrado.

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18/20 [0042] No artigo revestido, de acordo com qualquer dos sete parágrafos anteriores, o revestimento pode compreender um revestimento externo incluindo uma camada que compreende óxido de estanho e uma camada que compreende nitreto de silício.

[0043] No artigo revestido, de acordo com qualquer dos oito parágrafos anteriores, o revestimento pode compreender adicionalmente uma camada compreendendo nitreto de silício situada entre pelo menos o substrato vítreo e a primeira camada dielétrica transparente.

[0044] No artigo revestido, de acordo com qualquer dos nove parágrafos anteriores, o revestimento pode compreender adicionalmente uma camada que compreende óxido de zinco situada sob e diretamente em contato com a camada refletora de IV.

[0045] No artigo revestido, de acordo com qualquer dos dez parágrafos anteriores, o revestimento pode compreender adicionalmente uma camada que compreende óxido de Ni e/ou Cr situada sobre e diretamente em contato com a camada refletora de IV. Essa camada pode ser, por exemplo, NiCrOx ou NiCrMoOx. [0046] No artigo revestido, de acordo com qualquer dos onze parágrafos anteriores, o artigo revestido pode ser termicamente temperado.

[0047] No artigo revestido, de acordo com qualquer dos doze parágrafos anteriores, o artigo revestido pode ter uma transmissão visível de ao menos 50%, com mais preferência de ao menos 60% e com a máxima preferência de ao menos 70%.

[0048] No artigo revestido, de acordo com qualquer dos treze parágrafos anteriores, o teor de metal da camada que compreende o óxido de Nb e Bi pode ser de 55 a 99% de Nb (com mais preferência de 60 a 95% de Nb, com ainda mais preferência de 70 a 90% de Nb) e de 1 a 45% de Bi (com mais preferência de 5 a 40% de Bi, com ainda mais preferência de 10 a 30% de Bi (porcentagem atômica).

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19/20 [0049] Em uma modalidade exemplificadora da presente invenção, é apresentado um método de fabricação de um artigo revestido que inclui um revestimento suportado por um substrato vítreo, sendo que o método compreende: depositar por bombardeamento com íons uma primeira camada dielétrica transparente no substrato vítreo; depositar por bombardeamento com íons uma camada refletora de infravermelho (IV) que compreende prata no substrato vítreo, situada sobre pelo menos a primeira camada dielétrica transparente; depositar por bombardeamento com íons uma segunda camada dielétrica transparente no substrato vítreo, situada sobre pelo menos a camada refletora de IV; e sendo que pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas transparentes é depositada por bombardeamento com íons de modo a ser amorfa ou substancialmente amorfa, e compreende um óxido de Nb e Bi.

[0050] No método, de acordo com o parágrafo imediatamente anterior, a pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas transparentes compreendendo um óxido de Nb e Bi pode ser depositada por bombardeamento com íons de modo a compreender um subóxido de Nb e Bi.

[0051] No método, de acordo com qualquer dos dois parágrafos anteriores, a pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas transparentes compreendendo um óxido de Nb e Bi pode ter um índice de refração (n) de pelo menos 2,2, com mais preferência, de pelo menos 2,5.

[0052] No método, de acordo com quaisquer dos três parágrafos anteriores, a pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas transparentes depositada por bombardeamento com íons de modo a compreender um óxido de Nb e Bi pode ser depositada por bombardeamento com íons em uma atmosfera esgotada de oxigênio de modo que uma diferença nos raios catiônicos para Nb e Bi cause uma desordem na reticula levando a uma estrutura amorfa ou substancialmente amorfa da camada.

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20/20 [0053] No método, de acordo com quaisquer dos quatro parágrafos anteriores, a pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas transparentes depositadas por bombardeamento com íons de modo a compreender um óxido de Nb e Bi pode ser depositada por bombardeamento com íons usando pelo menos um alvo de cerâmica compreendendo Nb, Bi e O e/ou usando pelo menos um alvo metálico compreendendo Nb e Bi.

[0054] No método, de acordo com quaisquer dos cinco parágrafos anteriores, o revestimento pode ser um revestimento de baixa E e ter uma emissividade normal (E_n) de no máximo 0,2, com mais preferência, de no máximo 0,15, e com a máxima preferência, de no máximo 0,11.

[0055] O método, de acordo com quaisquer dos seis parágrafos anteriores, pode compreender adicionalmente a têmpera térmica do substrato vítreo com o revestimento sobre o mesmo.

[0056] No método, de acordo com quaisquer dos sete parágrafos anteriores, o artigo revestido pode ter uma transmissão visível de ao menos 50%, com mais preferência de ao menos 60%, e com a máxima preferência de ao menos 70%.

[0057] No método, de acordo com quaisquer dos oito parágrafos anteriores, o teor de metal da camada que compreende o óxido de Nb e Bi pode ser de 55 a 99% de Nb (com mais preferência de 60 a 95% de Nb, com ainda mais preferência de 70 a 90% de Nb, e de 1 a 45% de Bi (com mais preferência de 5 a 40% de Bi, com ainda mais preferência de 10 a 30% de Bi (porcentagem atômica).

[0058] Embora a invenção tenha sido descrita em conexão com o que é considerado atualmente como a modalidade mais prática e preferencial, devese entender que a invenção não deve ser limitada à modalidade revelada, mas pelo contrário, tem por objetivo cobrir várias modificações e disposições equivalentes incluídas no espírito e no escopo das reivindicações anexas.

Claims

REIVINDICAÇÕES

1. Artigo revestido, caracterizado por incluir um revestimento suportado por um substrato vítreo, sendo que o revestimento compreende:

uma primeira camada dielétrica transparente sobre o substrato vítreo;

uma camada refletora de infravermelho (IV) que compreende prata no substrato vítreo, situada sobre pelo menos a primeira camada dielétrica transparente;

uma segunda camada dielétrica transparente no substrato vítreo, situada sobre pelo menos a camada refletora de IV; e sendo que pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas transparentes é amorfa ou substancialmente amorfa, e compreende um óxido de Nb e Bi.
2. Artigo revestido, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por a pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas transparentes compreendendo um óxido de Nb e Bi compreender um subóxido de Nb e Bi.
3. Artigo revestido, de acordo com a reivindicação 1 ou 2, caracterizado por a pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas transparentes compreendendo um óxido de Nb e Bi ter um índice de refração (n) de pelo menos 2,2.
4. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3, caracterizado por a pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas transparentes compreendendo um óxido de Nb e Bi ter um índice de refração (n) de pelo menos 2,25.
5. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 4, caracterizado por a primeira camada dielétrica transparente ser amorfa ou substancialmente amorfa e compreender o óxido de Nb e Bi.

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6. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 5, caracterizado por a segunda camada dielétrica transparente ser amorfa ou substancialmente amorfa e compreender o óxido de Nb e Bi.
7. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 6, caracterizado por o revestimento ser um revestimento de baixa E e ter uma emissividade normal (E_n) de no máximo 0,2.
8. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 7, caracterizado por o revestimento ter uma resistência de folha (R_s) de no máximo 9 ohms/quadrado.
9. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 8, caracterizado por o revestimento compreender um revestimento externo incluindo uma camada que compreende óxido de estanho e uma camada que compreende nitreto de silício.
10. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 9, caracterizado por o revestimento compreender adicionalmente uma camada compreendendo nitreto de silício situada entre pelo menos o substrato vítreo e a primeira camada dielétrica transparente.
11. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 10, caracterizado por o revestimento compreender adicionalmente uma camada que compreende óxido de zinco situada sob e diretamente em contato com a camada refletora de IV.
12. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 11, caracterizado por o revestimento compreender adicionalmente uma camada compreendendo um óxido de Ni e/ou Cr situada sobre e diretamente em contato direto com a camada refletora de IV.
13. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 12, caracterizado por ser termicamente temperado.

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14. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 13, caracterizado por ter uma transmissão visível de pelo menos 50%.
15. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 14, caracterizado por a pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas transparentes compreendendo um óxido de Nb e Bi conter mais Nb do que Bi em relação à porcentagem atômica.
16. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 15, caracterizado por o teor de metal da pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas transparentes compreendendo um óxido de Nb e Bi ser de 55 a 99% de Nb e de 1 a 45% de Bi (porcentagem atômica).
17. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 16, caracterizado por o teor de metal da pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas transparentes compreendendo um óxido de Nb e Bi ser de 60 a 95% de Nb e de 5 a 40% de Bi (porcentagem atômica).
18. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 17, caracterizado por o teor de metal da pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas transparentes compreendendo um óxido de Nb e Bi ser de 70 a 90% de Nb e de 10 a 30% de Bi (porcentagem atômica).
19. Método para fabricação de um artigo revestido que inclui um revestimento suportado por um substrato vítreo, sendo o método caracterizado por compreender:

depositar por bombardeamento com íons uma primeira camada dielétrica transparente sobre o substrato vítreo;

depositar por bombardeamento com íons uma camada refletora de infravermelho (IV) que compreende prata no substrato vítreo, situada sobre pelo menos a primeira camada dielétrica transparente;

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4/6 depositar por bombardeamento com íons uma segunda camada dielétrica transparente no substrato vítreo, situada sobre pelo menos a camada refletora de IV; e sendo que pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas transparentes é depositada por bombardeamento com íons de modo a ser amorfa ou substancialmente amorfa, e compreende um óxido de Nb e Bi.
20. Método, de acordo com a reivindicação 19, caracterizado por a pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas transparentes compreendendo um óxido de Nb e Bi ser depositada por bombardeamento com íons de modo a compreender um subóxido de Nb e Bi.
21. Método, de acordo com a reivindicação 19 ou 20, caracterizado por a pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas transparentes compreendendo um óxido de Nb e Bi ter um índice de refração (n) de pelo menos 2,2.
22. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 19 a 21, caracterizado por a pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas transparentes depositada por bombardeamento com íons de modo a ser amorfa e compreender um óxido de Nb e Bi ser depositada por bombardeamento com íons em uma atmosfera esgotada de oxigênio de modo que uma diferença nos raios catiônicos para Nb e Bi cause uma desordem na reticula levando a uma estrutura amorfa ou substancialmente amorfa da camada.
23. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 19 a 22, caracterizado por a pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas transparentes depositada por bombardeamento com íons de modo a compreender um óxido de Nb e Bi ser depositada por bombardeamento com íons usando um alvo de cerâmica compreendendo Nb, Bi e O.
24. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 19 a 23, caracterizado por a pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas

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5/6 dielétricas transparentes depositada por bombardeamento com íons de modo a compreender um óxido de Nb e Bi ser depositada por bombardeamento com íons usando pelo menos um alvo metálico compreendendo Nb e Bi.
25. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 19 a 24, caracterizado por o revestimento ser um revestimento de baixa E e ter uma emissividade normal (E_n) de no máximo 0,2.
26. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 19 a 25, caracterizado por compreender temperar termicamente o substrato vítreo com o revestimento sobre o mesmo.
27. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 19 a 26, caracterizado por o artigo revestido ter uma transmissão visível de pelo menos 50%.
28. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 19 a 27, caracterizado por o teor de metal da pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas transparentes compreendendo um óxido de Nb e Bi ser de 60 a 95% de Nb e de 5 a 40% de Bi (porcentagem atômica).
29. Método para fabricação de um artigo revestido que inclui uma camada suportada por um substrato vítreo, sendo o método caracterizado por compreender:

ter um substrato vítreo;

depositar por bombardeamento com íons uma camada amorfa ou substancialmente amorfa compreendendo um óxido de Nb e Bi no substrato vítreo.
30. Método, de acordo com a reivindicação 29, caracterizado por compreender adicionalmente a deposição por bombardeamento com íons de uma camada compreendendo nitreto de silício no substrato vítreo de modo que fique situada entre pelo menos o substrato vítreo e a camada amorfa compreendendo o óxido de Nb e Bi.

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31. Método, de acordo com a reivindicação 29 ou 30, caracterizado por a camada ser depositada por bombardeamento com íons em uma atmosfera esgotada de oxigênio de modo que uma diferença nos raios catiônicos para Nb e Bi cause uma desordem na reticula levando a uma estrutura amorfa ou substancialmente amorfa da camada.
32. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 29 a 31, caracterizado por o teor de metal da camada que compreende um óxido de Nb e Bi ser de 60 a 95% de Nb e de 5 a 40% de Bi (porcentagem atômica).