BR112019018624A2

BR112019018624A2 - artigo revestido que tem revestimento de baixa emissividade com camada (ou camadas) refletora de iv e camada dielétrica nitrada de alto índice inclusiva de ítrio

Info

Publication number: BR112019018624A2
Application number: BR112019018624-7A
Authority: BR
Inventors: Cesar Clavero; Nestor P. Murphy; Guowen Ding; Daniel Lee; Scott Jewhurst; Daniel Schweigert; Gaurav SARAF; Guizhen Zhang; Minh Le; Marcus Frank
Original assignee: Guardian Glass, LLC
Priority date: 2017-03-07
Filing date: 2018-03-06
Publication date: 2020-07-14
Also published as: US20180258524A1; WO2018165136A1; DE112018000835B4; DE112018000835T5; US10287673B2; BR112019018624B1; CN110520391A

Abstract

Um artigo revestido inclui um revestimento de baixa emissividade (baixa E) tendo pelo menos uma camada refletora de infravermelho (IR) de um material como prata, ouro ou semelhante e pelo menos uma camada dielétrica nitrítica de alto índice incluindo ítrio (Y). Em certas modalidades exemplificativas, a(s) camada(s) dielétrica(s) nitrítica(s) de alto índice com ítrio pode(m) ser de ou incluir um ou mais dentre YZrSiAlN, YZrSiN, YSiN e/ou YSiAlN. A camada de alto índice pode ser uma camada dielétrica transparente de alto índice, com um alto índice de refração (n) e baixo valor de k, em modalidades preferidas, e pode ser fornecida para fins de antirreflexo e/ou fins de transmissão visível e/ou para melhorar a estabilidade térmica. Em certas modalidades exemplificativas, o revestimento de baixa E pode ser usado em aplicações como unidades de janelas monolíticas ou de vidro isolante (IG), janelas de veículos ou similares.

Description

"ARTIGO REVESTIDO QUE TEM REVESTIMENTO DE BAIXA EMISSIVIDADE COM CAMADA (OU CAMADAS) REFLETORA DE IV E CAMADA DIELÉTRICA NITRADA DE ALTO ÍNDICE INCLUSIVA DE ÍTRIO"

[0001] Este pedido se refere a um artigo revestido que inclui um revestimento de baixa emissividade (baixa E) tendo ao menos uma camada refletora de infravermelho (IV) de um material como prata, ouro ou similar, e ao menos uma camada dielétrica nitrada de alto índice inclusiva de ítrio (Y). Em certas modalidades exemplificativas, a camada (ou camadas) dielétrica nitrada de alto índice inclusiva de ítrio pode ser de ou pode incluir um ou mais dentre YZrISiAIN, YZrSiN, YSiN e/ou YSiAIN. A camada de alto índice pode ser uma camada de alto índice dielétrica transparente com um alto índice de refração (n) e baixo valor k em modalidades preferenciais e pode ser fornecida para propósitos de antirreflexo e/ou transmissão visível, e/ou para melhorar a estabilidade térmica. Em certas modalidades exemplificativas, o revestimento de baixa emissividade pode ser usado em aplicações, como unidades de janela de vidro isolante (VI) ou monolíticas, janelas de veículos ou similares.

ANTECEDENTES E SUMÁRIO DE MODALIDADES EXEMPLIFICADORAS DA INVENÇÃO

[0002] Artigos revestidos são conhecidos na técnica para uso em aplicações de janela como unidades de janela de vidro isolante (VI), janelas de veículo, janelas monolíticas, e/ou similares.

[0003] Revestimentos de baixa emissividade convencionais são revelados, por exemplo, e sem limitação, nos documentos de Patente U.S. nº 6.576.349,

9.212.417, 9.297.197, 7.390.572, 7.153.579 e 9.403.345, cujas revelações estão incorporadas a título de referência na presente invenção.

[0004] Certos revestimentos de baixa E utilizam pelo menos uma camada dielétrica transparente de óxido de titânio (por exemplo, TiO2), que tem um alto índice de refração (n), para fins de coloração e/ou antirreflexo. Consultar, por exemplo, os documentos de Patente U.S. nº 9.212.417, 9.297.197, 7.390.572,

7.153.579 e 9.403.345. Embora materiais dielétricos de alto índice de refração como TiO> sejam conhecidos e usados em revestimentos de baixa emissividade, esses materiais não são termicamente estáveis e não são tipicamente estáveis ao calor após processo de têmpera de cerca de 650ºC por 8 minutos, devido à cristalização de filme (ou alteração da cristalinidade) em estado de pós-têmpera ou conforme depositado, que, por sua vez, pode induzir estresse térmico ou de retícula em camadas adjacentes na pilha de filme. Tal estresse pode causar ainda alteração em propriedades físicas ou materiais da pilha e, portanto, impacta na camada de Ag, que resulta em desempenho de pilha de baixa E deteriorado. Além disso, camadas dielétricas de TiO2 em revestimentos de baixa emissividade sofrem por ter uma taxa de deposição muito baixa durante a deposição por bombardeamento com íons de revestimentos de baixa emissividade, assim levando a custos significativamente altos associados à produção de revestimentos de baixa emissividade.

[0005] Modalidades exemplificadoras desta invenção solucionam esses problemas ao fornecer uma camada dielétrica nitrada inclusiva de ítrio (y) de alto Índice (valor n de alto índice de refração, medido a 550 nm) e baixa absorção (baixo valor k, medido a 400 nm) para uso em revestimentos de baixa emissividade. Diferente das camadas dielétricas de TiO>, foi constatado que as camadas dielétricas inclusivas de ítrio de alto índice da presente invenção são tratáveis termicamente, de modo a serem substancialmente estáveis termicamente mediante tratamento térmico (TT), e podem ser depositadas por bombardeamento com íons em taxas de deposição por bombardeamento com íons muito mais altas do que podem com TiO2. Em certas modalidades exemplificativas, a camada (ou camadas) dielétrica nitrada de alto índice inclusiva de ítrio pode ser de ou pode incluir um ou mais dentre YZrSiAIN, YZrSiN, YSiN e/ou YSiAIN. Foi constatado que a adição de Y a ZrSiAIN, por exemplo, permite alargamento da sua lacuna de banda, e assim, reduz consideravelmente a absorção óptica (k) enquanto se tem um alto índice de refração (n). O mesmo se aplica à adição de Y a ZrSiN, SiN e SiAIN em certas modalidades exemplificadoras. Esses materiais também se mostraram estáveis termicamente (por exemplo, a variação do índice de refração n pode ser não maior que 0,1 devido ao TT, como têmpera térmica em cerca de 650 ºC). Em certas modalidades exemplificativas, o revestimento de baixa emissividade pode ser usado em aplicações, como unidades de janela de vidro isolante (VI) ou monolíticas, janelas de veículos ou similares. Embora as camadas dielétricas nitradas de alto índice inclusivas de Y abordadas na presente invenção sejam, de preferência, usadas em revestimentos de baixa emissividade, esta invenção não é tão limitada e essas camadas podem ser usadas em outros revestimentos de filme fino como para camadas de alto índice em revestimentos antirreflexivos (RA).

[0006] "Tratamento térmico" (TT) e termos semelhantes como "tratar termicamente" e "tratado termicamente", como têmpera térmica, reforço térmico e/ou flexão térmica, conforme usados na presente invenção significam tratar termicamente o substrato vítreo e revestimento nele a uma temperatura de ao menos 580 graus C por ao menos 5 minutos. Um tratamento térmico exemplificador é tratar termicamente em temperatura de cerca de 600 a 650 graus C por pelo menos 8 minutos.

[0007] Em uma modalidade exemplificadora da presente invenção, é fornecido um artigo revestido que inclui um revestimento suportado por um substrato vítreo, sendo que o revestimento compreende: uma primeira camada dielétrica no substrato vítreo; uma camada refletora de infravermelho (IV) que compreende prata sobre o substrato vítreo, situada sobre ao menos a primeira camada dielétrica; uma segunda camada dielétrica sobre o substrato vítreo, situada sobre pelo menos a camada refletora de IV; e sendo que ao menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas compreende um nitreto de ítrio (Y), contém de O a 10% de oxigênio (% atômica), tem um índice de refração (n) de ao menos 2,21 a 550 nm e compreende adicionalmente ao menos um dentre Zr, Si e Al. Uyoouyio

[0008] Em uma modalidade exemplificadora da presente invenção, é fornecido um artigo revestido que inclui um revestimento suportado por um substrato vítreo, sendo que o revestimento compreende: uma primeira camada dielétrica no substrato vítreo; uma camada refletora de infravermelho (IV) sobre o substrato vítreo, situada sobre pelo menos a primeira camada dielétrica; uma segunda camada dielétrica sobre o substrato vítreo, situada sobre pelo menos a camada refletora de IV; uma terceira camada dielétrica sobre o substrato vítreo e situada sobre pelo menos a primeira e a segunda camadas dielétricas; e sendo que ao menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas compreende um nitreto de ítrio (Y), e compreende adicionalmente ao menos um dentre Zr, Si e Al.

[0009] Em uma modalidade exemplificadora desta invenção, é fornecido um método para produzir um artigo revestido que inclui um revestimento suportado por um substrato vítreo, sendo que o método compreende: depositar por bombardeamento com íons uma primeira camada dielétrica que sobre o substrato vítreo; depositar por bombardeamento com íons uma segunda camada dielétrica sobre o substrato vítreo, situada sobre pelo menos a primeira camada dielétrica; depositar por bombardeamento com íons uma terceira camada dielétrica sobre o substrato vítreo e situada sobre pelo menos a primeira e a segunda camadas dielétricas; e sendo que ao menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas compreende um nitreto de ítrio (Y), e compreende adicionalmente ao menos um dentre Zr, Si e Al. O revestimento pode ser um revestimento de baixa emissividade ou um revestimento antirreflexivo (RA).

BREVE DESCRIÇÃO DOS DESENHOS

[0010] Esta patente ou depósito de pedido contém pelo menos um desenho colorido. As cópias desta patente ou publicação de pedido de patente com desenho (ou desenhos) colorido serão fornecidas pelo Escritório mediante pedido e pagamento da taxa necessária.

[0011] A Figura 1 é uma vista em seção transversal de um artigo revestido, de acordo com uma modalidade exemplificadora da presente invenção.

[0012] A Figura 2 é uma vista em seção transversal de um artigo revestido, de acordo com outra modalidade exemplificadora desta invenção.

[0013] A Figura 3 é um gráfico de porcentagem (%) versus comprimento de onda (nm) que plota a % de transmissão (T), % de reflexo de lado vítreo (V) e % de reflexo de lado de filme (F) de uma pilha de camada que inclui uma camada de TiO> de alto índice versus comprimento de onda (nm) em ambos os estados conforme revestido (CR) e pós TT (TT).

[0014] A Figura 4 é um gráfico de porcentagem (%) versus comprimento de onda (nm) que plota % de transmissão (T), % de reflexo de lado vítreo (V) e % de reflexo de lado de filme (F) de uma pilha de camada que inclui uma camada de YSiN de alto índice versus comprimento de onda (nm) em ambos os estados conforme revestido (CR) e pós TT (TT).

[0015] A Figura 5 é um gráfico de porcentagem (%) versus comprimento de onda (nm) que plota a % de transmissão (T), % de reflexo de lado vítreo (V) e % de reflexo de lado de filme (F) de uma pilha de camada que inclui uma camada de YSiAIN de alto índice versus comprimento de onda (nm) em ambos os estados conforme revestido (CR) e pós TT (TT).

[0016] A Figura 6 é um gráfico que apresenta dados térmicos/ópticos para um artigo revestido exemplificador, de acordo com uma modalidade exemplificadora desta invenção.

[0017] A Figura 7 é um gráfico que apresenta dados térmicos/ópticos para o artigo revestido do Exemplo 4.

DESCRIÇÃO DETALHADA DE MODALIDADES EXEMPLIFICADORAS DA INVENÇÃO

[0018] Agora será feita referência aos desenhos, nos quais números de referência similares indicam partes similares ao longo das diversas vistas.

[0019] Os artigos revestidos na presente invenção podem ser usados em aplicações como janelas monolíticas, unidades de janela de VI como janelas residenciais, portas de pátio, janelas de veículo, e/ou qualquer outra aplicação adequada que inclua um único ou múltiplos substratos, como substratos vítreos.

[0020] O material de alto índice de refração convencional como TiO2 com baixa ou nenhuma absorção de luz na faixa visível é frequentemente usado em revestimentos de baixa emissividade em aplicações de janela. No entanto, TiO, não é tipicamente estável termicamente após um processo de têmpera térmica como que envolve TT em cerca de 650ºC por 8 minutos, devido à cristalização de filme (ou alteração em cristalinidade) em estado conforme depositado ou pós- têmpera, que pode, por sua vez, induzir estresse térmico ou de retícula em camadas adjacentes na pilha de filmes. Tal estresse pode causar ainda alteração em propriedades físicas ou materiais da pilha e, portanto, impacta na camada à base de Ag que reflete IV, que resulta em desempenho de pilha de baixa E deteriorado. As camadas de TiO> também sofrem de uma taxa muito baixa de deposição por bombardeamento com íons.

[0021] A Figura 3 ilustra que TiO>2 não é termicamente estável, e assim não é termicamente tratável a partir de um ponto de vista prático. A Figura 3 é um gráfico de porcentagem (%) versus comprimento de onda (nm) que plota a % de transmissão (T), % de reflexo de lado vítreo (V) e % de reflexo de lado de filme (F) de uma pilha de camada que inclui uma camada de óxido de titânio de alto índice versus comprimento de onda (nm) em ambos os estados conforme revestido (CR) e pós TT. A pilha de camada foi de vidro/TiO2 (27 nm)/ZnO (4 nm)/Ag (11 nm)/NITINDOx(24 nm)/ZnSnO (10 nm)/ZnO (4 nm)/SiN (10 nm), em que as camadas de ZnO foram dopadas com Al nessa pilha de Exemplo Comparativo (EC). Assim, as curvas de CR são anteriores ao TT, e as curvas de TT são posteriores ao tratamento térmico em cerca de 650 graus C por cerca de oito minutos. Na Figura 3, no lado direito onde as curvas estão listadas, as três superiores são conforme revestidas (CR), o que significa anteriores ao TT, e as três inferiores são seguintes ao tratamento térmico e, assim, são identificadas "TT". A Figura 3 mostra que a pilha de camada com o TiO, cristalino não é termicamente estável e, assim, praticamente não tratável termicamente. Em particular, o Exemplo Comparativo (EC) da Figura 3 mostra uma mudança significativa na faixa de IV dos espectros de transmissão e refletância, e aumentos na emissividade e embaçamento também foram encontrados. Na Figura 3, na área de comprimento de onda de cerca de 1.500 a 2.400 nm, houve uma mudança devido ao TT da curva de "T CR" (transmissão, conforme revestido antes de TT) para a curva de "T TT" (transmissão, após TT) de cerca de 6%, houve uma mudança devido ao TT da curva de "V CR" (refletância de lado de vidro, conforme revestido antes de TT) para a curva de 'V TT" (refletância de lado de vidro, após TT) de cerca de 12 a 14%; e houve uma mudança devido ao TT da curva de "F CR" (refletância de lado de filme, conforme revestido antes de TT) para a curva de "F TT" (refletância de lado de filme, após TT) de cerca de 12 a 13%. De modo geral, tido em combinação, há uma mudança significativa em espectros de transmissão e reflexão mediante TT que indica uma falta de estabilidade térmica.

[0022] As modalidades exemplificadoras desta invenção solucionam esses problemas ao fornecerem uma camada dielétrica nitrada inclusiva de ítrio (y) de alto índice (alto índice de refração n, medido a 550 nm) e baixa absorção (baixo valor k, medido a 400 nm) 2 (e possivelmente camada 6) para uso em revestimentos de baixa emissividade. Diferente das camadas dielétricas de TiO,, foi constatado que as camadas dielétricas inclusivas de ítrio de alto índice 2 (e possivelmente 6) da presente invenção são tratáveis termicamente, de modo a serem substancialmente estáveis termicamente mediante tratamento térmico (TT), e podem ser depositadas por bombardeamento com íons em taxas de deposição por bombardeamento com íons muito mais altas do que podem com TiO2. Em certas modalidades exemplificadoras, a camada (ou camadas) dielétrica nitrada de alto índice inclusiva de ítrio 2 (e possivelmente 6) pode ser de ou pode incluir um ou mais dentre YZrSiAIN, YZISiN, YSIN e/ou YSIAIN (em várias estequiometrias). As representações químicas da presente invenção, em que qualquer um dentre Y, Zr e/ou N está incluído, são fornecidas para propósitos de simplicidade e entendimento, e não são necessariamente estequiométricas. Por exemplo, YZrSiAIN não significa que quantidades iguais de Y, Zr, Si, Al e N são fornecidos. Em vez disso, por exemplo e sem limitação, uma camada de YZrSiAIN pode incluir mais ou menos Y do que qualquer um dentre Zr, Si ou Al.

[0023] Foi constatado que a adição de Y em ZrSiAIN, por exemplo, permite alargamento da sua lacuna de banda, e assim, reduz consideravelmente a absorção óptica (k) enquanto se tem um alto índice de refração (n). O mesmo se aplica à adição de Y em ZrSiN, SIN e SIAIN em certas modalidades exemplificadoras. Esses materiais também se mostraram estáveis termicamente (por exemplo, a variação do índice de refração n pode ser de não mais que 0,1 devido ao TT, como têmpera térmica em cerca de 650 ºC). Em certas modalidades exemplificativas, o revestimento de baixa emissividade pode ser usado em aplicações, como unidades de janela de vidro isolante (VI) ou monolíticas, janelas de veículos ou similares. Embora as camadas dielétricas nitradas de alto índice inclusivas de Y abordadas na presente invenção sejam, de preferência, usadas em revestimentos de baixa emissividade, esta invenção não é tão limitada e essas camadas podem ser usadas em outros revestimentos de filme fino como para camadas de alto índice em revestimentos antirreflexivos (RA).

[0024] O ZrSiAIN exibe um coeficiente de absorção k que pode ser muito grande para certas aplicações de revestimento óptico. Em certas modalidades desta invenção, foi constatado que a adição de quantidades de Y em ZrSiAIN (ou em SiAIN, ou em SiN, ou em ZrSiN) permite alargar sua lacuna de banda, e assim reduz consideravelmente a absorção óptica enquanto fornece um alto índice de refração. O coeficiente de extinção k em um comprimento de onda de 400 nm (3,1 eV) nesses nitretos está relacionado à sua lacuna de banda. Fótons com comprimentos de onda de cerca de 400 nm não podem ser razoavelmente absorvidos em materiais com lacunas de banda maiores que 3,1 eV, que resulta em baixa ou nenhuma absorção. Por outro lado, as lacunas de banda de cerca de 3,1 eV resultam em absorção óptica significativa. À largura da lacuna de banda se correlaciona com a diferença de eletronegatividade entre o elemento de metal e nitrogênio. Y exibe uma grande diferença de eletronegatividade com um valor de 1,82 (N = 3,04), que permite aumentar a lacuna de banda de ZrSiAIN e outros nitretos similares, e assim reduzir a absorção, desse modo, aumentando a transmissão. Embora YN seja um nitreto semelhante a sal não estável, foi constatado que a adição de Y em ZISiAIN e nitretos similares resulta em um nitreto de alto índice de refração termicamente estável com menor absorção óptica e, assim, maior transmissão.

[0025] Em certas modalidades exemplificadoras desta invenção, a camada (ou camadas) dielétrica nitrada de alto índice inclusiva de ítrio 2 (e possivelmente 6) de ou que inclui YZrSiAIN, YZrSiN, YSiN e/ou YSiAIN pode ter um alto índice de refração (n) de ao menos 2,21, com mais preferência de ao menos 2,23, com mais preferência de ao menos 2,25, com mais preferência ainda de ao menos 2,30 (a 550 nm), e um baixo coeficiente de absorção (k) de não mais que 0,02, com mais preferência de não mais que 0,015, ainda com mais preferência de não mais que 0,010 (a 400 nm). Além disso, os artigos revestidos de acordo com as modalidades exemplificadoras desta invenção são termicamente estáveis, e compreende uma alteração de índice de refração (n) após tratamento térmico a 650 ºC por 8 minutos de não mais que 0,10, com mais preferência de não mais que 0,04, e com máxima preferência de não mais que 0,01. Tal camada (ou camadas) dielétrica nitrada de alto índice inclusiva de ítrio de ou que inclui YZISIAIN, YZrSiN, YSiN e/ou YSiAIN pode ser usada para substituir camadas de TiO> ou óxido de nióbio (por exemplo, Nb2Os) de alto índice em qualquer pilha de revestimento de CR ou baixa E em modalidades exemplificadoras desta invenção, de modo a obter vantagens abordadas na presente invenção.

[0026] Foi constatado que o teor razoavelmente alto de ítrio (Y) funciona melhor para alcançar as vantagens abordadas na presente invenção. Por exemplo, e sem limitação, o teor de metal de uma camada de YZrSiAIN exemplificadora 2 e/ou 6 é 37% de Y, 54,4% de Si, 5,6% de Zr e 2,7% de Al (% atômica). Nota-se que Si é considerado um metal na presente invenção. Em certas modalidades exemplificadoras desta invenção, o teor de metal da camada dielétrica nitrada de alto índice inclusiva de ítrio 2 e/ou 6 de ou que inclui um ou mais dentre YZrSiAIN, YZrSiN, YSiN e/ou YSiAIN, pode conter um ou mais dentre: (i) de 20 a 70% de Y, com mais preferência de 25 a 65% de Y, com mais preferência ainda de 30 a 50% de Y, e com máxima preferência de 33 a 45% de Y (% atômica); (ii) de O a 30% de Zr, com mais preferência de 1 a 30% de Zr, com mais preferência ainda de 3 a 13% de Zr, e com máxima preferência de 4 a 10% de Zr (% atômica); (iii) de 30 a 80% de Si, com mais preferência de 40 a 70% de Si, com mais preferência ainda de 45 a 65% de Si (% atômica); e (iv) de O a 30% de Al, com mais preferência de 1 a 30%

de Al, com mais preferência ainda de 1 a 8% de Al, e com máxima preferência de 2 a 6% de Al (% atômica). Em certas modalidades exemplificadoras, a camada inclusiva de Y contém mais Si do que Y, como ao menos 10% mais de Si do que Y (% atômica). Em certas modalidades exemplificadoras, Y tem o teor de metal em % atômica mais alto dentre qualquer metal na camada 2 e/ou 6 quando a camada compreende um nitreto de Y como YZrSiAIN, YZrSiN, YSiN e/ou YSiAIN.

[0027] Em certas modalidades exemplificadoras desta invenção, o teor de metal da camada dielétrica nitrada de alto índice inclusiva de ítrio 2 e/ou 6 de ou que inclui um ou mais dentre YZrSiAIN, YZrSiN, YSiN e/ou YSiAIN, é isento de ou substancialmente isento de Ti e Nb. Em certas modalidades exemplificadoras, a camada dielétrica nitrada 2 e/ou 6 de ou que inclui um ou mais dentre YZrSiAIN, YZrISiN, YSiN e/ou YSiAIN, contém de O a 10% de Ti, com mais preferência de O a 5% de Ti, e com máxima preferência de O a 2% de Ti. Em certas modalidades exemplificadoras, a camada dielétrica nitrada 2 e/ou 6 de ou que inclui um ou mais dentre YZrSiAIN, YZrSiN, YSiN e/ou YSiAIN, contém de O a 10% de Nb, com mais preferência de O a 5% de Nb, e com máxima preferência de O a 2% de Nb.

[0028] Embora o oxigênio não seja preferencial em camada (ou camadas) dielétrica nitrada de alto índice inclusiva de ítrio 2 (e possivelmente 6) de ou que inclui YZrSiAIN, YZrSiN, YSiN e/ou YSiAIN abordados na presente invenção, é possível que essas camadas possam conter uma pequena quantidade de oxigênio. Por exemplo, a camada (ou camadas) dielétrica nitrada de alto índice inclusiva de ítrio 2 (e possivelmente 6) de ou que inclui YZrSiAIN, YZrSiN, YSiN e/ou YSiAIN pode conter de O a 10% de oxigênio, com mais preferência de 0 a 5% de oxigênio e com a máxima preferência de O a 2% de oxigênio (% atômica).

[0029] A Figura 1 é uma vista em seção transversal de um artigo revestido, de acordo com uma modalidade exemplificadora da presente invenção. O artigo revestido inclui o substrato vítreo 1 (por exemplo, um substrato de vidro transparente, verde, bronze ou verde azulado de cerca de 1,0 a 10,0 mm de espessura, com mais preferência, de cerca de 1,0 mm a 6,0 mm de espessura) e um revestimento multicamadas (ou sistema de camadas) fornecido sobre o substrato 1 direta ou indiretamente.

O revestimento de baixa emissividade exemplificador de acordo com a modalidade da Figura 1 pode conter camada (ou camadas) dielétrica nitrada de alto índice inclusiva de ítrio 2 de ou que inclui YZISIAIN, YZrSiN, YSiN e/ou YSiAIN conforme abordado na presente invenção, camada de contato inclusiva de óxido de zinco e/ou estanato de zinco 3 (por exemplo, ZnOx em que "x" pode ser aproximadamente 1; ou ZnAIOx), camada refletora de IV (infravermelho) 4 que inclui ou é de prata, ouro, ou similares, a camada de contato superior 5 de, ou que inclui um óxido de Ni e/ou Cr (por exemplo, NÍCrOx) ou outro material adequado, e um revestimento superior dielétrico de ou que inclui camada dielétrica 6 que pode ser uma camada de índice médio, como óxido de zinco ou estanato de zinco, ou pode ser uma camada de alto índice, como camada dielétrica nitrada de alto índice inclusiva de óxido de titânio (por exemplo, TiO>2), óxido de titânio dopado com zircônio ou ítrio de ou que inclui YZrSiAIN, YZrSiN, YSiN e/ou YSiAIN abordado na presente invenção, camada de índice médio opcional 7 de ou que inclui óxido de zinco, óxido de estanho e/ou estanato de zinco ou outro material adequado, e camada dielétrica 8 de ou que inclui nitreto de silício e/ou oxinitreto de silício ou outro material adequado.

As camadas de nitreto de silício (por exemplo, camada 8) podem incluir adicionalmente Al, oxigênio ou similares, e as camadas à base de óxido de zinco podem também incluir estanho e/ou alumínio.

Outras camadas e/ou materials podem também ser fornecidos no revestimento, em certas modalidades exemplificadoras da presente invenção, e também é possível que certas camadas possam ser removidas ou divididas, em certos casos exemplificadores.

Por exemplo, uma camada de óxido de zircônio ou uma camada de AISIBOx (não mostrada) poderia ser fornecida diretamente sobre e em contato com a camada de nitreto de silício 8. Como outro exemplo, uma camada de índice médio como nitreto de silício poderia ser fornecida entre o substrato vítreo 1 e a camada de alto índice 2. Como outro exemplo, duas camadas refletoras de IV à base de prata, separadas por uma pilha de camada dielétrica que inclui óxido de estanho, por exemplo, podem ser fornecidas e o revestimento superior e/ou revestimento inferior da Figura 1 podem ser usados nelas. Além disso, uma ou mais dentre as camadas discutidas acima podem ser dopadas com outros materiais, em certas modalidades exemplificadoras da presente invenção. Esta invenção não se limita à pilha de camada mostrada na Figura 1, na medida em que a pilha da Figura 1 é fornecida apenas para fins exemplificadores, de modo a ilustrar um local (ou locais) exemplificador para a camada inclusiva de Y de alto índice 2 (e possivelmente 6) abordada na presente invenção.

[0030] Em casos de artigos monolíticos, o artigo revestido inclui apenas um substrato como um substrato vítreo 1 (consultar a Figura 1). Entretanto, os artigos revestidos monolíticos da presente invenção podem ser usados em dispositivos como unidades de janela de VI, por exemplo. Tipicamente, uma unidade de janela de VI pode incluir dois ou mais substratos separados com um intervalo de ar definido entre eles. Unidades de janela de VI exemplificadoras são ilustradas e descritas, por exemplo, nas patentes US nºs 5.770.321,

5.800.933, 6.524.714, 6.541.084 e US 2003/0150711, cujas revelações estão aqui incorporadas a título de referência na presente invenção. Por exemplo, o substrato vítreo revestido mostrado na Figura 1 pode ser acoplado a outro substrato vítreo por meio de espaçador (ou espaçadores), vedante (ou vedantes) ou similares, em que um intervalo é definido entre eles em uma unidade de janela de VI. Em certos exemplos, o revestimento pode ser fornecido no lado do substrato vítreo 1 voltado para o intervalo, isto é, superfície nº 2 ou superfície nº

3. Em outras modalidades exemplificadoras, a unidade de janela de VI pode incluir folhas de vidro adicionais (por exemplo, a unidade de VI pode incluir três folhas de vidro espaçadas entre si em vez de duas).

[0031] Camada de contato inferior dielétrica transparente 3 pode ser de ou incluir óxido de zinco (por exemplo, ZnO), estanato de zinco ou outro material adequado. O óxido de zinco da camada 3 pode conter outros materiais também, como Al (por exemplo, para formar ZnAIO,.) ou Sn, em certas modalidades exemplificadoras. Por exemplo, em certas modalidades exemplificadoras desta invenção, a camada de óxido de zinco 3 pode ser dopada com cerca de 1 a 10% de Al (ou B), mais de preferência, de cerca de 1 a 5% de Al (ou B), e com máxima preferência cerca de 2 a 4% de Al (ou B). O uso de óxido de zinco 3 sob a prata na camada 4 permite que uma qualidade excelente de prata seja obtida. A camada de óxido de zinco 3 é tipicamente depositada em um estado cristalino. Em certas modalidades exemplificadoras (por exemplo, a serem abordadas abaixo), a camada inclusiva de óxido de zinco 3 pode ser formada por meio de bombardeamento com íons de um alvo de bombardeamento com íons de magnétron giratório de metal ou ZnO de cerâmica.

[0032] A camada refletora de infravermelho (IV) 4 é de preferência substancial ou inteiramente metálicas e/ou condutivas, e podem compreender ou consistir essencialmente em prata (Ag), ouro ou qualquer outro material refletor de IV adequado. A prata de camada refletora de IV 4 pode ser dopada com outro material (ou materiais), como com Pd, Zn ou Cu, em certas modalidades exemplificadoras. A camada refletora de IV 4 ajuda a permitir que o revestimento tenha baixa E e/ou boas características de controle solar, como baixa emitância, baixa resistência de folha e assim por diante. A camada refletora de IV pode, no entanto, ser levemente oxidada em certas modalidades desta invenção. Múltiplas camadas refletoras de IV à base de prata 4 podem ser fornecidas, separadas em revestimento de baixa emissividade por ao menos uma camada dielétrica, em pilhas de prata duplas ou triplas que incluem camadas de alto índice abordadas na presente invenção em certas modalidades exemplificadoras desta invenção.

[0033] A camada de contato superior 5 está situada sobre e diretamente em contato com a camada refletora de IV 4, e pode ser de ou incluir um óxido de Ni e/ou Cr em certas modalidades exemplificadoras. Em certas modalidades exemplificadoras, a camada de contato superior 5 pode ser de ou incluir óxido de níquel (Ni), óxido de cromo (Cr) ou um óxido de liga de níquel, como óxido de cromo e níquel (NiCrOx), ou outro material (ou materiais) adequado, como NICrMoO,, NICrMo, Ti, NITINDO,, TiOx, NiCr metálico ou semelhante. A camada de contato 5 pode ou não ser classificada por oxidação em diferentes modalidades desta invenção. Classificação por oxidação significa que o grau de oxidação na camada se altera através da espessura da camada de modo que, por exemplo, uma camada de contato possa ser classificada de modo a ser menos oxidada na interface de contato com a camada refletora de IV imediatamente adjacente 4 que em uma porção da camada de contato mais distante da camada refletora de IV imediatamente adjacente. A camada de contato 5 pode ou não ser contínua em diferentes modalidades desta invenção através da camada refletora de IV inteira 4.

[0034] Outra camada (ou camadas) abaixo ou acima do revestimento da Figura 1 ilustrado pode também ser fornecida. Dessa forma, embora o sistema de camadas ou o revestimento se situe "no" ou seja "suportado pelo" substrato 1 (direta ou indiretamente), outra camada (ou camadas) podem ser fornecidas entre os mesmos. Dessa forma, por exemplo, o revestimento da Figura 1 pode ser considerado "sobre o" ou "suportado pelo" substrato 1, mesmo se uma ou mais outras camadas estiverem dispostas entre a camada 2 e o substrato 1. Além disso, certas camadas do revestimento ilustrado podem ser removidas em certas modalidades, enquanto outras podem ser adicionadas entre as várias camadas,

Ou as várias camadas podem ser divididas por outra camada (ou camadas) adicionada entre as seções divididas em outras modalidades desta invenção sem que se afaste do espírito geral de certas modalidades desta invenção.

[0035] Embora várias espessuras possam ser usadas em diferentes modalidades da presente invenção, espessuras e materiais exemplificadores para as respectivas camadas sobre o substrato vítreo 1 nas modalidade da Figura 1 podem ser conforme exposto a seguir: a partir do substrato vítreo para fora (por exemplo, o teor de Al nas camadas de óxido de zinco e nitreto de silício pode ser de cerca de 1 a 10%, com mais preferência, de cerca de 1 a 5% em certos casos exemplificadores). A espessura está em unidades de ângstrôms (À). Tabela 1 (Materiais/espessuras exemplificadores; modalidade da figura 1) Camada Faixa Preferencial Mais Preferencial Exemplo (À) (A) (A) Inclusiva de Y (camada 2) 40 a 500 À 150 a 350 À 270 À ZnO ou ZnAIOx (camada 3) 10 a 240 À 35a 120 À 40 À Ag (camada 4) 40 a 160 À 65a125À 110 À Contato (camada 5) 10a70 À 20 a50 À 34 À Camada 6 30 a 350 À 80 a 200 À 100 À ZnO ou ZnAIO, ou SIN 10 a 240 À 35a 120 À 40 À (camada 7) SIN, (camada 8) 50 a 250 À 80 a 180 À 100 À

[0036] Em certas modalidades exemplificadoras desta invenção, os artigos revestidos na presente invenção (por exemplo, consultar a Figura 1) podem ter as características de baixa E (baixa emissividade), energia solar e/ou ópticas apresentadas na Tabela 2 quando medidas monoliticamente.

Tabela 2: Características de baixa E/Solar (Monolíticas) Característica Geral Mais Preferencia Com Máxima Preferência R: (ohms/sq.): <= 11,0 <= 10 <=9 En: <= 0,2 <= 0,15 <= 0,10 Tvis (%): >= 50 >= 60 >= 70 CcGcs >= 50 >= 53 >= 55

[0037] Embora camada inclusiva de Y dielétrica transparente de alto índice 2 (e possivelmente 6) seja mostrada e descrita em combinação com o revestimento de baixa emissividade da Figura 1 acima, esta invenção não se limita a isso. A camada dielétrica nitrada de alto índice inclusiva de ítrio 2 (e possivelmente 6) de ou que inclui YZrSiAIN, YZrSiN, YSiN e/ou YSiAIN descrita na presente invenção pode ser usada como uma camada (ou camadas) de alto índice em qualquer revestimento de baixa emissividade adequado seja acima ou abaixo de uma camada (ou camadas) refletora de IV. Uma ou mais das tais camadas dielétricas nitradas de alto índice inclusivas de ítrio de ou que incluem YZrSiAIN, YZrSiN, YSIN e/ou YSIiAN podem ser fornecidas em qualquer revestimento de baixa emissividade adequado. Por exemplo e sem limitação, as camadas dielétricas nitradas de alto índice inclusivas de ítrio abordadas na presente invenção de ou que incluem YZrSiAIN, YZrSiN, YSiN e/ou YSiAIN podem ser usadas para substituir qualquer camada de alto índice (por exemplo, TiOx ou TiO2) em qualquer um dos revestimentos de baixa emissividade em qualquer um dos documento de Patente U.S. Nº 9.212.417, 9.297.197, 7.390.572, 7.153.579, 9.365.450 e 9.403.345, em que todos estão incorporados na presente invenção a título de referência.

[0038] A Figura 2 é uma vista em seção transversal de um artigo revestido, de acordo com uma outra modalidade exemplificadora da presente invenção. A Figura 2 é similar à Figura 1, exceto pelo fato de que na modalidade da Figura 2

A A A A O A O A AA A A A AAA PDA A A silício ou óxido de zinco é fornecida entre e diretamente em contato com o substrato vítreo 1 e a camada inclusiva de Y 2, e uma camada de baixo índice 21 de um material, como SiO» é fornecida no lugar da camada 8.

[0039] Exemplos de acordo com certas modalidades exemplificadoras desta invenção são como a seguir. Exemplo 1

[0040] O Exemplo 1 teve uma pilha de camadas da seguinte forma, de acordo com um exemplo da modalidade da Figura 1, com espessuras de camada em unidades de nm.

DO

[0041] A Figura 6 mostra os dados ópticos/térmicos para o artigo revestido do Exemplo 1. "CR" na Figura 6 corresponde a conforme revestido (isto é, antes de TT), e "TT" na Figura 6 corresponde a após ser tratado termicamente, que no Exemplo 1 foi tratamento térmico a cerca de 650 graus por cerca de 8 minutos. O desempenho foi excelente. A cor é quase neutra, e a mudança de cor foi muito pequena que nenhuma alteração de cor significativa ocorreu devido ao tratamento térmico. A estabilidade térmica também é demonstrada pelo fato de que a emissividade normal (En) se alterou apenas de 0,044 para

Além disso, CGCS AT 55,7 (CR) e 55,8 (TT) foi maior que revestimentos convencionais que usam TiO2 como um material de alto índice (49), que é desejável em aplicações em clima frio Em certas modalidades exemplificadoras desta invenção, artigos revestidos com uma camada inclusiva de Y têm capacidade para atingir um valor de CGCS de ao menos 50, com mais preferência de ao menos 53, e com máxima preferência de ao menos 55. Exemplo 2

[0042] O Exemplo 2 foi um revestimento de baixa emissividade sobre um substrato vítreo, de acordo com a modalidade da Figura 1, em comparação com o Exemplo Comparativo (EC) da Figura 3. A pilha de camadas do Exemplo 2 foi semelhante à pilha de camadas do EC da Figura 3, exceto pelo fato de que a camada de TiO2 no EC foi substituído no Exemplo 2 por uma camada de YSiN. A Figura 4 mostra os dados do Exemplo 2, antes e após TT, e devem ser comparados com o EC da Figura 3. Nas Figuras 3 e 4 no lado direito onde as curvas estão listadas, as três superiores são conforme revestidas (CR), o que significa anteriores ao TT, e as três inferiores são seguintes ao tratamento térmico e, assim, são identificadas "TT". Assim, as curvas de CR são anteriores ao TT, e as curvas de TT são posteriores ao tratamento térmico em cerca de 650 graus C por cerca de oito minutos.

[0043] Ao comparar a Figura 4 com o Exemplo Comparativo (EC) na Figura 3, diferenças inesperadas significativas são demonstradas, que resultam do uso da camada de YSiN 2. Na Figura 3, na área de comprimento de onda de cerca de

1.500 a 2.400 nm, houve uma mudança devido ao TT da curva de "T CR" (transmissão, conforme revestido antes de TT) para a curva de "T TT" (transmissão, após TT) de cerca de 6%, houve uma mudança devido ao TT da curva de "V CR" (refletância de lado de vidro, conforme revestido antes de TT) para a curva de "V TT" (refletância de lado de vidro, após TT) de cerca de 12 a

14%; houve uma mudança devido ao TT da curva de "V CR" (refletância de lado de vidro, conforme revestido antes de TT) para a curva de "V TT" (refletância de lado de vidro, após TT) de cerca de 12 a 14%; De modo geral, tomado em combinação, há uma mudança significativa em espectros de transmissão e reflexão mediante TT que indica uma falta de estabilidade térmica para o EC da Figura 3. O Exemplo Comparativo (EC) da Figura 3 mostra uma mudança significativa na faixa de IV dos espectros de transmissão e refletância, e aumentos em emissividade e embaçamento também foram encontrados. Em contrapartida, mediante substituição da camada de óxido de titânio do EC pela camada de YSiN do Exemplo 2, a Figura 4 mostra que na área de comprimento de onda de cerca de 1.500 a 2.400 nm houve muito pouca mudança devido ao TT da curva de "T CR" (transmissão, conforme revestido antes de TT) para a curva de "T TT" (transmissão, após TT) é menor que 2%; houve muito pouca mudança devido ao TT da curva de "V CR" (refletância de lado de vidro, conforme revestido antes de TT) para a curva de "V TT" (refletância de lado de vidro, após TT) ser menor que 3%; e houve muito pouca mudança devido ao TT da curva de "F CR" (refletância de lado de filme, conforme revestido antes do TT) para a curva de "F TT" (refletância de lado de filme, após TT) ser menor que 2 ou 3%. Essas mudanças muito menores para o Exemplo 2 na Figura 4 (em comparação com o EC da Figura 2) demonstram um melhoramento inesperado na estabilidade térmica e tratabilidade térmica do revestimento. Consequentemente, ao comparar a Figura 4 com a Figura 3, pode ser visto que o Exemplo 2 melhorou de maneira surpreendente e inesperada em comparação com o EC com relação à estabilidade térmica e tratabilidade térmica (por exemplo, têmpera térmica). Exemplos 3 a 4

[0044] O Exemplo 3 foi um revestimento de baixa emissividade sobre um substrato vítreo, de acordo com a modalidade da Figura 1, em comparação com o Exemplo Comparativo (EC) da Figura 3. A pilha de camadas do Exemplo 3 foi semelhante à pilha de camadas do EC da Figura 3, exceto pelo fato de que a camada de TiO>z no EC foi substituída no Exemplo 3 por uma camada de YSIAIN. A Figura 5 mostra os dados do Exemplo 3, antes e após TT, e devem ser comparados com o EC da Figura 3. Nas Figuras 3 e 5 no lado direito onde as curvas estão listadas, as três superiores são conforme revestidas (CR), o que significa anteriores ao TT, e as três inferiores são seguintes ao tratamento térmico e, assim, são identificadas "TT". Assim, as curvas de CR são anteriores ao TT, e as curvas de TT são posteriores ao tratamento térmico em cerca de 650 graus C por cerca de oito minutos.

[0045] Ao comparar a Figura 5 com o Exemplo Comparativo (EC) na Figura 3, diferenças inesperadas significativas são demonstradas, que resultam do uso da camada de YSiAIN 2. Na Figura 3, na área de comprimento de onda de cerca de 1.500 a 2.400 nm, houve uma mudança devido ao TT da curva de "T CR" (transmissão, conforme revestido antes de TT) para a curva de "T TT" (transmissão, após TT) de cerca de 6%, houve uma mudança devido ao TT da curva de "V CR" (refletância de lado de vidro, conforme revestido antes de TT) para a curva de "V TT" (refletância de lado de vidro, após TT) de cerca de 12 a 14%; houve uma mudança devido ao TT da curva de "V CR" (refletância de lado de vidro, conforme revestido antes de TT) para a curva de "V TT" (refletância de lado de vidro, após TT) de cerca de 12 a 13%. De modo geral, tomado em combinação, há uma mudança significativa em espectros de transmissão e reflexão mediante TT que indica uma falta de estabilidade térmica para o EC da Figura 3. O Exemplo Comparativo (EC) da Figura 3 mostra uma mudança significativa na faixa de IV dos espectros de transmissão e refletância, e aumentos em emissividade e embaçamento também foram encontrados. Em contrapartida, mediante substituição da camada de óxido de titânio do EC pela camada de YSiN do Exemplo 3, a Figura 5 mostra que na área de comprimento de onda de cerca de 1.500 a 2.400 nm houve muito pouca mudança devido ao TT da curva de "T CR" (transmissão, conforme revestido antes de TT) para a curva de "T TT" (transmissão, após TT) é menor que 2%; houve muito pouca mudança devido ao TT da curva de "V CR" (refletância de lado de vidro, conforme revestido antes de TT) para a curva de "V TT" (refletância de lado de vidro, após TT) ser menor que 4%; e houve muito pouca mudança devido ao TT da curva de "F CR" (refletância de lado de filme, conforme revestido antes do TT) para a curva de "FHT" (refletância de lado de filme, após TT) ser menor que 4%. Essas mudanças muito menores devido ao TT para o Exemplo 2 na Figura 5 (em comparação com o EC da Figura 2) demonstram um melhoramento inesperado na estabilidade térmica e tratabilidade térmica do revestimento. Consequentemente, ao comparar a Figura 5 com a Figura 3, pode ser visto que o Exemplo 3 melhorou de maneira surpreendente e inesperada em comparação com o EC com relação à estabilidade térmica e tratabilidade térmica (por exemplo, têmpera térmica).

[0046] O Exemplo 4 teve a seguinte pilha de camadas.

SIAIBOX SizNa YiZrAIN NITIiNDOx Ag ZnAIO YiZrAIN Vidro Transparente (4 mm)

[0047] A Figura 7 apresenta os dados ópticos/térmicos para o artigo revestido do Exemplo 4. Adicionalmente aos benefícios dos dielétricos inclusivos de Y abordados acima, foi constatado que a camada de nitreto de silício no revestimento externo do Exemplo 4 também foi particularmente vantajosa. Primeiramente, a camada de nitreto de silício (consultar a camada 7 nas Figuras 1 a 2) no revestimento externo é uma barreira de oxigênio e umidade excelente que protege eficientemente a prata da fixação de oxigênio ou umidade, mesmo em condições de alta temperatura e alta umidade. Em segundo lugar, houve uma boa adesão entre o nitreto de silício e tanto SIBAIOx quanto YZrAIN. Em terceiro lugar, sem 16 nm de nitreto de silício no Exemplo 4, o SiBAIO necessita de significativamente mais espessura para alcançar o desempenho otimizado, que reduziria significativamente a capacidade de processamento. Em quarto lugar, o desempenho óptico, em especial de CGCS, foi ligeiramente melhorado com a camada de nitreto de silício em comparação com se não estivesse presente. Assim, o projeto de pilha exclusivo que combina materials de YZISiN/SISN4/SIiAIBO., demonstrou beneficiar o bom desempenho óptico e térmico, assim como a capacidade de processamento extremamente alta.

[0048] Em uma modalidade exemplificadora da presente invenção, é fornecido um artigo revestido que inclui um revestimento suportado por um substrato vítreo, sendo que o revestimento compreende: uma primeira camada dielétrica no substrato vítreo; uma camada refletora de infravermelho (IV) que compreende prata sobre o substrato vítreo, situada sobre ao menos a primeira camada dielétrica; uma segunda camada dielétrica sobre o substrato vítreo, situada sobre pelo menos a camada refletora de IV; e sendo que ao menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas compreende um nitreto de ítrio (Y), contém de O a 10% de oxigênio (% atômica), tem um índice de refração (n) de ao menos 2,21 a 550 nm e compreende adicionalmente ao menos um dentre Zr, Si e Al.

[0049] No artigo revestido do parágrafo imediatamente anterior, a camada que compreende o nitreto de Y pode compreender adicionalmente Si.

[0050] No artigo revestido de qualquer um dos dois parágrafos anteriores, a camada que compreende o nitreto de Y pode compreender adicionalmente Si e Al.

[0051] No artigo revestido de qualquer um dos três parágrafos anteriores, a camada que compreende o nitreto de Y pode compreender adicionalmente Zr.

[0052] No artigo revestido de qualquer um dos quatro parágrafos anteriores, a camada que compreende o nitreto de Y pode compreender adicionalmente Zr e Si.

[0053] No artigo revestido de qualquer um dos cinco parágrafos anteriores, a camada que compreende o nitreto de Y pode compreender adicionalmente Zr, Sie Al.

[0054] No artigo revestido de qualquer um dos seis parágrafos anteriores, a camada que compreende o nitreto de Y pode ter um índice de refração de ao menos 2,25.

[0055] No artigo revestido de qualquer um dos sete parágrafos anteriores, a camada que compreende o nitreto de Y pode ter um coeficiente de absorção (k) de não mais que 0,015, com mais preferência de não mais que 0,010 (a 400 nm).

[0056] No artigo revestido de qualquer um dos oito parágrafos anteriores, o artigo revestido pode passar por uma alteração em índice de refração (n), a 550 nm, de não mais que 0,10 (com mais preferência não mais que 0,04, e com máxima preferência não mais que 0,01, devido ao tratamento térmico a 650 ºC por 8 minutos de tratamento.

[0057] No artigo revestido de qualquer um dos nove parágrafos anteriores, a camada que compreende o nitreto de Y pode conter de O a 5% de oxigênio, com mais preferência de O a 2% de oxigênio (% atômica).

[0058] No artigo revestido de qualquer um dos dez parágrafos anteriores, o revestimento pode ser um revestimento de baixa emissividade e ter uma emissividade normal (En) de não mais que 0,2, com mais preferência de não mais que 0,10.

[0059] No artigo revestido de qualquer um dos onze parágrafos anteriores, a camada que compreende o nitreto de Y pode ser amorfa ou substancialmente amorfa.

[0060] No artigo revestido de qualquer um dos doze parágrafos anteriores, a primeira camada dielétrica pode compreender o nitreto de ítrio (Y), pode conter de O a 10% de oxigênio (% atômica), pode ter um índice de refração (n) de ao menos 2,21 a 550 nm, pode ter um coeficiente de absorção k de não mais que 0,02 a 400 nm, e pode compreender adicionalmente ao menos um dentre Zr, Si e Al, e estar situado entre ao menos o substrato vítreo e a camada refletora de IV.

[0061] No artigo revestido de qualquer um dos treze parágrafos anteriores, a segunda camada dielétrica pode compreender o nitreto de ítrio (Y), pode conter de 0 a 10% de oxigênio (% atômica), pode ter um índice de refração (n) de ao menos 2,21 a 550 nm, pode ter um coeficiente de absorção k de não mais que 0,02 a 400 nm, e pode compreender adicionalmente ao menos um dentre Zr, Si e Al, e está situado sobre o substrato vítreo sobre ao menos a camada refletora de IV.

[0062] No artigo revestido de qualquer um dos catorze parágrafos anteriores, o revestimento pode compreender adicionalmente uma camada que compreende nitreto de silício situada sobre e diretamente em contato com a camada que compreende o nitreto de Y. O revestimento pode compreender adicionalmente um revestimento externo que compreende um óxido de Si e Al, e compreende adicionalmente B, situado sobre e diretamente em contato com a camada que compreende nitreto de silício.

[0063] No artigo revestido de qualquer um dos quinze parágrafos anteriores, o revestimento pode compreender adicionalmente uma camada que compreende nitreto de silício situado entre ao menos o substrato vítreo e a primeira camada dielétrica transparente.

[0064] No artigo revestido de qualquer um dos dezesseis parágrafos anteriores, o revestimento pode compreender adicionalmente uma camada que compreende óxido de zinco situada sob e diretamente em contato com a camada refletora de |V.

[0065] No artigo revestido de qualquer um dos dezessete parágrafos anteriores, o revestimento pode compreender adicionalmente uma camada que compreende um óxido de Ni e/ou Cr situado sobre e diretamente em contato com a camada refletora de IV.

[0066] No artigo revestido de qualquer um dos dezoito parágrafos anteriores, o artigo revestido pode ser temperado termicamente.

[0067] No artigo revestido de qualquer um dos dezenove parágrafos anteriores, o artigo revestido pode ter uma transmissão visível de ao menos 50%, com mais preferência de ao menos 60%, e com máxima preferência de ao menos 70%.

[0068] No artigo revestido de qualquer um dos vinte parágrafos anteriores, o artigo revestido pode ter um valor de CGCS de ao menos 50, com mais preferência de ao menos 55.

[0069] No artigo revestido de qualquer um dos vinte e um parágrafos anteriores, a camada que compreende o nitreto de Y pode ter um teor de metal que compreende um ou mais dentre: (i) de 20 a 70% de Y, com mais preferência de 25 a 65% de Y, com mais preferência ainda de 30 a 50% de Y, e com máxima preferência de 33 a 45% de Y (% atômica); (ii) de O a 30% de Zr, com mais preferência de 1 a 30% de Zr, com mais preferência ainda de 3 a 13% de Zr, e com máxima preferência de 4 a 10% de Zr (% atômica); (iii) de 30 a 80% de Si, com mais preferência de 40 a 70% de Si, com mais preferência ainda de 45 a

65% de Si (% atômica); e (iv) de O a 30% de Al, com mais preferência de 1 a 30% de Al, com mais preferência ainda de 1 a 8% de Al, e com máxima preferência de 2 a 6% de Al (% atômica). A camada que compreende o nitreto de Y pode conter mais Si do que Y, como ao menos 10% mais de Si do que Y (% atômica).

[0070] No artigo revestido de qualquer um dos vinte e dois parágrafos anteriores, a camada que compreende o nitreto de Y pode ser isenta de, ou substancialmente isenta de Ti e/ou Nb. A camada que compreende o nitreto de Y pode conter de O a 10% de Ti, com mais preferência de O a 5% de Ti, e com máxima preferência de O a 2% de Ti (% atômica). A camada que compreende o nitreto de Y pode conter de O a 10% de Nb, com mais preferência de O a 5% de Nb, e com máxima preferência de O a 2% de Nb.

[0071] Embora a invenção tenha sido descrita em conexão com o que é considerado atualmente como a modalidade mais prática e preferencial, deve- se entender que a invenção não deve ser limitada à modalidade revelada, mas pelo contrário, tem por objetivo cobrir várias modificações e disposições equivalentes incluídas no espírito e no escopo das reivindicações anexas.

Claims

REIVINDICAÇÕES

1. Artigo revestido, caracterizado por incluir um revestimento suportado por um substrato vítreo, sendo que o revestimento compreende: uma primeira camada dielétrica sobre o substrato vítreo; uma camada refletora de infravermelho (IV) que compreende prata sobre o substrato vítreo, situada sobre ao menos a primeira camada dielétrica; uma segunda camada dielétrica sobre o substrato vítreo, situada sobre pelo menos a camada refletora de IV; e sendo que pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas compreende um nitreto de ítrio (Y), contém de O a 10% de oxigênio (% atômica), tem um índice de refração (n) de pelo menos 2,21 a 550 nm e compreende adicionalmente pelo menos um dentre Zr, Si e Al.

2. Artigo revestido, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y compreender adicionalmente Si.

3. Artigo revestido, de acordo com a reivindicação 1 ou 2, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y compreender adicionalmente Si e Al.

4. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y compreender adicionalmente Zr.

5. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 4, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y compreender adicionalmente Zr e Si.

6. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 5, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y compreender adicionalmente Zr, Si e Al.

7. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 6, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y ter um índice de refração de pelo menos 2,25 (a 550 nm).

8. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 7, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y ter um coeficiente de absorção (k) de no máximo 0,015 (a 400 nm).

9. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 8, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y ter um coeficiente de absorção (k) de não mais que 0,010 (a 400 nm).

10. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a9, caracterizado por passar por uma alteração no índice de refração (n), a 550 nm, de não mais que 0,04 devido ao tratamento térmico a 650 ºC por 8 minutos de tratamento.

11. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 10, caracterizado por passar por uma alteração no índice de refração (n), a 550 nm, de não mais que 0,01 devido ao tratamento térmico a 650 ºC por 8 minutos de tratamento.

12. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 11, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y conter de O a 5% de oxigênio (% atômica).

13. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 12, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y conter de O a 2% de oxigênio (% atômica).

14. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 13, caracterizado por o revestimento ser um revestimento de baixa emissividade e ter uma emissividade normal (En) de no máximo 0,2.

15. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 14, caracterizado por o revestimento ser um revestimento de baixa emissividade e ter uma emissividade normal (En) de não mais que 0,10.

16. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 15, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y ser amorfa ou substancialmente amorfa.

17. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 16, caracterizado por a primeira camada dielétrica compreender o nitreto de ítrio (Y), conter de O a 10% de oxigênio (% atômica), ter um índice de refração (n) de pelo menos 2,21 a 550 nm, ter um coeficiente de absorção k de no máximo 0,02 a 400 nm e compreender adicionalmente pelo menos um dente Zr, Si e Al, e estar situada entre pelo menos o substrato vítreo e a camada refletora de |V.

18. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 17, caracterizado por a segunda camada dielétrica compreender o nitreto de ítrio (Y), conter de O a 10% de oxigênio (% atômica), ter um índice de refração (n) de pelo menos 2,21 a 550 nm, ter um coeficiente de absorção k de no máximo 0,02 a 400 nm e compreender adicionalmente pelo menos um dente Zr, Si e Al, e estar situada sobre o substrato vítreo sobre pelo menos a camada refletora de IV.

19. Artigo revestido, de acordo com a reivindicação 18, caracterizado por o revestimento compreender adicionalmente uma camada que compreende nitreto de silício situada sobre e diretamente em contato com a camada que compreende o nitreto de Y.

20. Artigo revestido, de acordo com a reivindicação 19, caracterizado por o revestimento compreender adicionalmente um revestimento externo que compreende um óxido de Si e Al, e compreender adicionalmente B, situada sobre e diretamente em contato com a camada que compreende nitreto de silício.

21. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 20, caracterizado por o revestimento compreender adicionalmente uma camada compreendendo nitreto de silício, localizada entre ao menos o substrato vítreo e a primeira camada dielétrica transparente.

22. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 21, caracterizado por o revestimento compreender adicionalmente uma camada que compreende óxido de zinco situada sob e diretamente em contato com a camada refletora de |V.

23. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 22, caracterizado por o revestimento compreender adicionalmente uma camada que compreende um óxido de Ni e/ou Cr situada sobre e diretamente em contato com a camada refletora de |V.

24. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 23, caracterizado por ser termicamente temperado.

25. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 24, caracterizado por o artigo revestido ter uma transmissão visível de ao menos 50%.

26. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 25, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y ter um teor de metal que compreende de 25 a 65% de Y.

27. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 26, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y ter um teor de metal que compreende de 30 a 50% de Y.

28. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 27, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y ter um teor de metal que compreende de 33 a 45% de Y.

29. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 28, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y ter um teor de metal que compreende de 25 a 65% de Y, de 1 a 30% de Zr, de 30 a 80% de Si e de O a 30% de Al (% atômica).

30. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 29, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y conter mais Si que Y (% atômica).

31. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 30, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y ser substancialmente isenta de Ti e Nb.

32. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 31, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y conter de O a 5% de Ti e de O a 5% de Nb.

33. Artigo revestido, caracterizado por incluir um revestimento suportado por um substrato vítreo, sendo que o revestimento compreende: uma primeira camada dielétrica sobre o substrato vítreo; uma camada refletora de infravermelho (IV) sobre o substrato vítreo, situada sobre pelo menos a primeira camada dielétrica; uma segunda camada dielétrica sobre o substrato vítreo, situada sobre pelo menos a camada refletora de IV; uma terceira camada dielétrica sobre o substrato vítreo e situada sobre pelo menos a primeira e a segunda camadas dielétricas; e em que pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas compreende um nitreto de ítrio (Y), e compreende adicionalmente pelo menos um dentre Zr, Si e Al.

34. Artigo revestido, de acordo com a reivindicação 33, caracterizado por a terceira camada dielétrica compreender nitreto de silício.

35. Artigo revestido, de acordo com a reivindicação 33 ou 34, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y compreender adicionalmente Si.

36. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 33 a 35, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y compreender adicionalmente Si e Al.

37. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 33 a 36, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y compreender adicionalmente Zr.

38. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 33 a 37, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y compreender adicionalmente Zr e Si.

39. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 33 a 38, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y compreender adicionalmente Zr, Si e Al.

40. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 33 a 39, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y ter um índice de refração de pelo menos 2,21 (a 550 nm).

41. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 33 a 40, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y ter um teor de metal que compreende de 25 a 65% de Y.

42. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 33 a 41, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y ser substancialmente isenta de Ti e Nb.

43. Artigo revestido, de acordo com qualquer uma das reivindicações 33 a 42, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y conter de O a 5% de Ti e de 0 a 5% de Nb.

44, Método para fabricação de um artigo revestido que inclui um revestimento suportado por um substrato vítreo, sendo o método caracterizado por compreender: deposição por bombardeamento com íons de uma primeira camada dielétrica sobre o substrato vítreo; depositar por bombardeamento com íons uma segunda camada dielétrica sobre o substrato vítreo, situada sobre pelo menos a primeira camada dielétrica; depositar por bombardeamento com íons uma terceira camada dielétrica sobre o substrato vítreo e situada sobre pelo menos a primeira e a segunda camadas dielétricas; e em que pelo menos uma dentre a primeira e a segunda camadas dielétricas compreende um nitreto de ítrio (Y), e compreende adicionalmente pelo menos um dentre Zr, Si e Al.

45. Método, de acordo com a reivindicação 44, caracterizado por a terceira camada dielétrica compreender nitreto de silício.

46. Método, de acordo com a reivindicação 44 ou 45, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y compreender adicionalmente Si.

47. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 44 a 46, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y compreender adicionalmente Si e Al.

48. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 44 a 47, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y compreender adicionalmente Zr.

49. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 44 a 48, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y compreender adicionalmente Zr e Si.

50. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 44 a 49, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y compreender adicionalmente Si e Al.

51. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 44 a 50, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y ter um índice de refração de pelo menos 2,25 (a 550 nm).

52. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 44 a 51, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y ter um coeficiente de absorção (k) de no máximo 0,015 (a 400 nm).

53. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 44 a 52, caracterizado por a camada que compreende o nitreto de Y ser substancialmente isenta de Ti e Nb.