BR112018075435B1

BR112018075435B1 - Processo para proteger uma peça de superliga de cristal único à base de níquel livre de háfnio

Info

Publication number: BR112018075435B1
Application number: BR112018075435-8A
Authority: BR
Inventors: Amar Saboundji; Virginie Jaquet
Original assignee: Safran
Priority date: 2016-06-10
Filing date: 2017-06-09
Publication date: 2022-06-14
Also published as: JP6931008B2; EP3469112A1; FR3052464B1; RU2742919C2; FR3052464A1; RU2019100057A; EP3469112B1; US20190194800A1; BR112018075435A2; RU2019100057A3; CN109312445A; WO2017212193A1; CN109312445B; JP2019524983A; CA3026710A1; US11473185B2

Abstract

A presente invenção refere-se a um processo para proteger uma peça de superliga de cristal único à base de níquel livre de háfnio (1), contra corrosão e oxidação, que compreende pelo menos as seguintes etapas, que consistem em: - fabricar uma peça de superliga de cristal único à base de níquel livre de háfnio (1), - depositar, na peça (1), uma primeira camada (2) compreendendo háfnio, depois uma camada base de revestimento de uma liga compreendendo pelo menos 10% em razão atômica de alumínio e uma segunda camada compreendendo háfnio, simultaneamente ou alternadamente, de modo a formar uma camada mista (3) e finalmente uma terceira camada compreendendo háfnio (4), - difundir a primeira camada compreendendo háfnio (2), de modo a formar uma primeira zona de interdifusão (21) na parte superior da peça de superliga de cristal único à base de níquel livre de háfnio (1) e difundir a terceira camada (4) compreendendo háfnio, de modo a formar uma segunda zona de interdifusão (41) na superfície da camada mista (3), - após o tratamento de difusão, realizar um tratamento de oxidação da segunda zona de interdifusão (41), de modo a obter uma camada de alumina dopada com háfnio (42) na superfície da segunda zona de interdifusão (41).

Description

CAMPO DA INVENÇÃO

[001] A invenção está no campo de superligas de cristal único à base de níquel.

[002] Mais especificamente, a presente invenção refere-se a um processo para proteger uma peça de superliga de cristal único à base de níquel livre de háfnio contra a corrosão e a oxidação.

ANTECEDENTES DA INVENÇÃO

[003] O termo “superligas” refere-se a ligas complexas que, a altas temperaturas e pressões, exibem muito boa resistência à oxidação, corrosão, fluência e tensões cíclicas (particularmente, mecânicas ou térmicas). Uma aplicação particular dessas superligas é na fabricação de peças usadas na aeronáutica.

[004] Peças que compreendem, sucessivamente do interior para o exterior, um substrato de superliga de cristal único à base de níquel, uma camada base de revestimento e uma barreira térmica já são conhecidas no estado da técnica.

[005] A adição de háfnio é conhecida por melhorar a resistência à corrosão e oxidação de superligas, bem como a adesão da barreira térmica.

[006] Existem várias técnicas para adicionar háfnio à peça acima mencionada.

[007] Uma primeira técnica consiste em adicionar uma pequena quantidade de háfnio diretamente ao substrato, ou seja, durante a produção da superliga que compõe o substrato. No entanto, isso torna a solução dessa superliga mais difícil.

[008] As superligas são submetidas a tratamento térmico, incluindo uma fase de solução e fases de têmpera. Tais tratamentos consistem em aquecer a liga a uma temperatura apropriada, abaixo da temperatura eutética, e manter esta temperatura durante um tempo suficiente para homogeneizar as concentrações elementares dos seus constituintes e controlar o tamanho dos precipitados intermetálicos. Isso otimiza as propriedades microestruturais do material.

[009] A presença de háfnio na superliga, no entanto, torna a solução completa ou quase completa dos eutéticos mais difícil e causa defeitos do tipo queimaduras.

[010] Além disso, esta primeira técnica não melhora a adesão da barreira térmica ao substrato, porque a quantidade de háfnio contida na superliga é baixa e a quantidade de háfnio que se difunde na camada base de revestimento é ainda menor. No entanto, esta primeira técnica melhora a resistência à oxidação da peça assim obtida.

[011] Uma segunda técnica consiste em adicionar háfnio à camada base de revestimento enquanto ele está sendo depositado. No entanto, esta técnica apenas melhora a adesão da barreira térmica ao substrato. Na verdade, o háfnio difunde-se principalmente nos limites de grão da camada base de revestimento e, portanto, não melhora a proteção do substrato de superliga contra a corrosão e a oxidação.

[012] Finalmente, uma terceira técnica conhecida consiste em adicionar uma pequena quantidade de háfnio ao substrato e durante a deposição da camada base de revestimento.

[013] No entanto, esta solução tem os mesmos problemas que os mencionados para a primeira técnica.

DESCRIÇÃO DA INVENÇÃO

[014] O objetivo da invenção é, portanto, superar as desvantagens acima mencionadas do estado da técnica.

[015] Em particular, o objetivo da invenção é melhorar a proteção contra a corrosão e a oxidação de peças feitas de uma superliga de cristal único à base de níquel que não contém háfnio.

[016] Além disso, quando a peça é revestida com um revestimento de barreira térmica, então a invenção também tem o objetivo de melhorar a adesão do último à peça e aumentar a vida útil de toda a peça assim formada.

[017] Para esse fim, a invenção refere-se a um processo para proteger uma peça de superliga de cristal único à base de níquel livre de háfnio contra corrosão e oxidação.

[018] De acordo com a invenção, este processo compreende pelo menos as etapas que consistem em: - fabricar uma peça de superliga de cristal único à base de níquel livre de háfnio, - depositar, na referida peça, uma primeira camada compreendendo háfnio, depois uma camada base de revestimento de uma liga compreendendo pelo menos 10% em razão atômica de alumínio e uma segunda camada compreendendo háfnio, simultaneamente ou alternadamente, de modo a formar uma camada mista e finalmente uma terceira camada compreendendo háfnio, - difundir a referida primeira camada compreendendo háfnio, de modo a formar uma primeira zona de interdifusão na parte superior da referida peça de superliga de cristal único à base de níquel livre de háfnio e difundir a terceira camada compreendendo háfnio, de modo a formar uma segunda zona de interdifusão na superfície da referida camada mista, - após o tratamento de difusão, realizar um tratamento de oxidação da referida segunda zona de interdifusão, de modo a obter uma camada de alumina dopada com háfnio na superfície da referida segunda zona de interdifusão.

[019] Graças a estas características da invenção, a peça obtida apresenta uma melhor resistência à corrosão e oxidação.

[020] De acordo com outras características vantajosas e não limitativas da invenção, tomadas isoladamente ou em combinação: - o processo consiste em depositar primeiro as várias camadas e camada base de revestimento, antes de prosseguir com o tratamento de difusão, - o processo compreende pelo menos as seguintes etapas que consistem em: - fabricar uma peça de superliga de cristal único à base de níquel livre de háfnio, - depositar, na referida peça, uma primeira camada compreendendo háfnio, - difundir esta primeira camada compreendendo háfnio, de modo a formar uma primeira zona de interdifusão na superfície da referida peça de superliga de cristal único à base de níquel livre de háfnio, - depositar, simultaneamente ou alternadamente, na referida primeira zona de interdifusão, uma camada base de revestimento de uma liga compreendendo pelo menos 10% em razão atômica de alumínio e uma segunda camada compreendendo háfnio, de modo a formar uma camada mista, - depositar, na referida camada mista, uma terceira camada compreendendo háfnio, - difundir esta terceira camada compreendendo háfnio, de modo a formar uma segunda zona de interdifusão na superfície da referida camada mista, - realizar um tratamento de oxidação da referida segunda zona de interdifusão, de modo a obter uma camada de alumina dopada com háfnio na superfície da referida segunda zona de interdifusão, - o processo compreende uma etapa que consiste em depositar um revestimento de barreira térmica na referida camada de alumina dopada com háfnio, - pelo menos uma das etapas de deposição é realizada por deposição física de vapor (PVD), de preferência por pulverização catódica, - a deposição é realizada por pulverização catódica a uma temperatura compreendida entre 100 °C e 900 °C, sob uma pressão compreendida entre 0,1 Pa e 1 Pa, com uma densidade de potência compreendida entre 2 e 15 W/cm2 e uma polarização negativa compreendida entre -150 V e -500 V e sob bombardeio iônico entre -200V e 500V por 10 a 30 minutos, - o tratamento de difusão é realizado por tratamento térmico sob vácuo ou na presença de uma mistura de argônio e 5% em volume de hélio, este tratamento térmico compreendendo uma etapa de aumento de temperatura até que uma temperatura compreendida entre 800 °C e 1200 °C seja atingida, uma etapa de manutenção desta temperatura durante 1 hora a 4 horas e uma etapa de arrefecimento diminuindo a temperatura até a temperatura ambiente ser atingida, - o tratamento de oxidação da segunda zona de interdifusão (41) é realizado por tratamento térmico sob pressão parcial de oxigênio ou argônio, este tratamento térmico compreendendo uma etapa de aumento de temperatura até que uma temperatura compreendida entre 900 °C e 1200 °C seja atingida, uma etapa de manutenção desta temperatura durante menos de uma hora e uma etapa de arrefecimento até a temperatura ambiente ser atingida.

BREVE DESCRIÇÃO DOS DESENHOS

[021] Outras características e vantagens da invenção se tornarão evidentes a partir da descrição que será agora feita, com referência às figuras anexas, as quais representam, por meio de ilustração não limitativa, uma possível forma de realização.

[022] Nestas figuras: - As Figuras 1 a 8 são diagramas representando as várias etapas de uma primeira forma de realização do processo de acordo com a invenção, e - As Figuras 9 a 15 são diagramas representando as várias etapas de uma segunda forma de realização do processo de acordo com a invenção.

DESCRIÇÃO DE REALIZAÇÕES DA INVENÇÃO

[023] As várias etapas do processo de acordo com a invenção serão agora descritas com referência às figuras.

[024] A Figura 1 representa a primeira etapa do processo, que consiste na fabricação de uma peça de superliga de cristal único à base de níquel livre de háfnio (1).

[025] Esta peça (1) é, por exemplo, obtida por fundição ou fabricação aditiva e tem a forma desejada.

[026] A Tabela 1 abaixo mostra várias superligas úteis no processo de acordo com a invenção. Elas são identificadas pelas letras A a F. TABELA 1 SUPERLIGAS DE CRISTAL ÚNICO À BASE DE NÍQUEL LIVRE DE HÁFNIO

[027] O termo “restante” corresponde, para cada superliga, à porcentagem de massa residual para atingir 100% com os vários outros componentes mencionados.

[028] A segunda etapa do processo, mostrada na Figura 2, consiste em depositar, na referida peça (1), uma primeira camada (2) compreendendo háfnio. De preferência, tem uma espessura compreendida entre 50 nm e 800 nm, mais preferivelmente compreendida entre 50 nm e 300 nm.

[029] A deposição da primeira camada de háfnio (2) pode ser realizada por deposição química de vapor (CVD).

[030] No entanto, de preferência, é realizada por deposição física de vapor (PVD), mais preferencialmente por pulverização catódica, o que permite um bom controle das espessuras depositadas.

[031] A PVD é realizada dentro de um invólucro contendo a peça (1) e um ou mais alvos correspondentes ao(s) material(is) a ser(em) depositado(s), particularmente o háfnio. Sob a aplicação de uma diferença de potencial entre as paredes do reator e o(s) alvo(s), forma-se um plasma cujas espécies positivas são atraídas para o cátodo (alvo) e colidem com elas. Os átomos do(s) alvo(s) são pulverizados e então condensam-se na peça (1).

[032] De preferência, as condições de deposição são as seguintes: - Aquecimento durante a deposição: 100 °C a 900 °C - Pressão: 0,1 Pa a 1 Pa, - Densidade de potência: 2 a 15 W/cm2 - Polarização: -500 V a -150 V.

[033] O bombardeio iônico é realizado durante 10 a 30 minutos entre -200 V e 500 V.

[034] Uma etapa de difusão desta primeira camada de háfnio (2) é então realizada (ver Figura 3), de modo a formar, na superfície da referida peça (1), uma primeira zona de interdifusão (21), na qual o háfnio está presente. Embora não seja mostrado nessas figuras, é possível que toda a camada de háfnio não tenha se difundido e que uma camada fina de háfnio permaneça acima da camada de interdifusão (21).

[035] De preferência, o tratamento de difusão é realizado colocando a peça (1) revestida com a primeira camada de háfnio (2) dentro de um invólucro, trazendo-o sob vácuo ou introduzindo dentro dele uma atmosfera contendo uma mistura de argônio e 5% em volume de hélio.

[036] Este invólucro é de preferência diferente daquele utilizado para deposição, mas pode ser o mesmo.

[037] A difusão é então realizada preferencialmente como descrito abaixo.

[038] Em seguida, trata-se de um tratamento térmico que inclui uma fase de aumento de temperatura até se atingir uma temperatura compreendida entre 800 °C e 1200 °C, sendo esta fase de temperatura mantida durante um período de 1 hora a 4 horas.

[039] Esta fase é então seguida por uma etapa de resfriamento que consiste em reduzir a temperatura dentro do invólucro até que ela retorne à temperatura ambiente.

[040] A primeira zona de interdifusão (21) assim formada protege a peça de superliga de cristal único à base de níquel livre de háfnio (1) contra corrosão e oxidação.

[041] A quarta etapa do processo, mostrada na Figura 4, consiste em depositar na primeira zona de interdifusão (21), simultaneamente ou alternadamente, uma camada base de revestimento de uma liga compreendendo pelo menos 10% em razão atômica de alumínio e de preferência menos de 50% em razão atômica de alumínio, preferivelmente selecionada a partir de NiAlCrSi, NiAlCrSiPt, NiCoAlCrSiPt, NiAl, NiPtAl ou MCrAlY com M igual a cobalto, níquel ou cobalto-níquel, e uma segunda camada compreendendo háfnio, de modo a formar uma camada mista (3).

[042] Preferencialmente, a camada base de revestimento compreendendo pelo menos 10% em razão atômica de alumínio tem uma espessura compreendida entre 5 μm e 30 μm. Também preferencialmente, a segunda camada compreendendo háfnio tem uma espessura compreendida entre 20 nm e 700 nm.

[043] Quando a deposição é simultânea, é obtida uma liga. Assim, por exemplo, se a camada base de revestimento for NiAlPt, então a camada mista (3) obtida será NiAlPtHf.

[044] Esta deposição pode ser realizada por uma das técnicas de deposição acima mencionadas.

[045] De preferência, é realizada por pulverização catódica sob as condições acima.

[046] Esta deposição simultânea pode ser realizada utilizando um alvo de háfnio para a deposição da camada de háfnio e um alvo de liga, isto é, contendo os vários componentes da liga a ser depositada, para formar a camada base de revestimento.

[047] De acordo com outra forma de realização, esta deposição pode ser realizada usando um alvo por elemento químico a ser depositado, por exemplo, cinco alvos para deposição simultânea de NiCrAlY e háfnio (deposição de co-pulverização).

[048] A tabela abaixo fornece exemplos diferentes dos pares de espessura de camada base de revestimento e háfnio que podem ser usados. TABELA 2

[049] A segunda deposição de háfnio durante a deposição da camada base de revestimento reforça os limites de grão da camada base de revestimento, bloqueando a difusão dos cátions metálicos contidos na camada base de revestimento e retardando a difusão de oxigênio nele e, assim, retardando a cinética de oxidação da camada base de revestimento. O papel desta camada mista (3) é aumentar o tempo de vida do reservatório de alumínio e o tempo de vida da camada de barreira térmica se for formada subsequentemente.

[050] A quinta etapa do processo, mostrada na Figura 5, consiste em depositar na referida camada mista (3), uma terceira camada compreendendo háfnio (4), tendo uma espessura compreendida preferencialmente entre 10 nm e 100 nm.

[051] Vantajosamente, esta deposição é realizada usando as mesmas técnicas e sob as mesmas condições que as descritas acima para a deposição da primeira camada de háfnio (2).

[052] Finalmente, como mostrado na Figura 6, o processo consiste em submeter a peça (1) a um tratamento de difusão e depois a um tratamento de oxidação.

[053] A difusão da terceira camada de háfnio (4) produz uma segunda zona de interdifusão (41). O tratamento de difusão é vantajosamente realizado sob as mesmas condições que as descritas acima para o tratamento de difusão da primeira camada de háfnio (2).

[054] O tratamento de oxidação, mostrado na Figura 7, produz uma camada de alumina e háfnio (42).

[055] A sua espessura está, de preferência, compreendida entre 200 nm e 700 nm.

[056] Mais precisamente, é uma camada de alumina que compreende háfnio nos seus limites de grão, isto é, uma camada de alumina dopada nos seus limites de grão com háfnio.

[057] Este tratamento de oxidação é realizado dentro de um invólucro sob pressão parcial de oxigênio ou argônio.

[058] As várias etapas do tratamento de oxidação são preferencialmente as seguintes: - aumento da temperatura: preferencialmente 80 °C a 100 °C/ minuto, - fase de oxidação: 0,5 horas a 1 hora, a uma temperatura compreendida entre 900 °C e 1200 °C, - arrefecimento, diminuição da temperatura: preferencialmente 80 °C a 100 °C/ minuto.

[059] Finalmente, é também possível, na camada de alumina dopada com háfnio (42), prosseguir com a deposição de uma camada de barreira térmica (5) (ver Figura 8). Esta camada (5) é, por exemplo, zircônia itriada (yttriated) ou uma multicamada compreendendo uma zircônia cerâmica e itriada.

[060] Deve-se notar que as várias etapas da deposição do háfnio e da camada base de revestimento de difusão e oxidação podem ser realizadas na mesma máquina de deposição, o que simplifica a fabricação.

[061] Uma segunda forma de realização do processo de acordo com a invenção será agora descrita em ligação com as Figuras 9 a 15. É uma variante da primeira forma de realização. Consequentemente, as mesmas camadas ou camadas base de revestimento têm as mesmas referências numéricas.

[062] As duas primeiras etapas do processo mostrado nas Figuras 9 a 10 são idênticas às duas primeiras etapas da primeira forma de realização, mostradas nas Figuras 1 e 2.

[063] Em seguida está a formação da camada mista (3), como descrito acima, mas diretamente na primeira camada (2) que compreende háfnio (etapa mostrada na Figura 11).

[064] Segue-se a deposição na referida camada mista (3) da terceira camada compreendendo háfnio (4), como descrito na forma de realização anterior, como mostrado na Figura 12.

[065] Depois de todas as camadas (2), (3) e (4) terem sido formadas ou depositadas, o tratamento de difusão é então realizado, de modo a difundir a primeira camada (2) na parte superior da peça (1) e formar ali uma primeira zona de interdifusão (21) e de modo a difundir a terceira camada (4) compreendendo háfnio na superfície da referida camada mista (3) e formar uma segunda zona de interdifusão (41) (ver Figura 13). O tratamento de difusão é idêntico ao descrito acima na primeira forma de realização. Essa etapa é mostrada na Figura 13.

[066] Finalmente, as duas últimas etapas do processo, relativas ao tratamento de oxidação da segunda zona de interdifusão (41) e deposição opcional da camada de barreira térmica (5) na camada de alumina (42) previamente formada, são então realizadas de acordo com o que foi descrito para as etapas da primeira forma de realização. Estas etapas são mostradas nas Figuras 14 e 15, respectivamente.

[067] Em geral, o processo de acordo com a invenção consiste, portanto, em depositar ou formar as várias camadas (2, 3, 4) e realizar o tratamento de difusão acima mencionado. Este tratamento de difusão pode ser realizado após a deposição da primeira camada (2), então repetido após a deposição da terceira camada (4) ou realizado em uma única etapa após a deposição de todas as camadas.

Claims

1. PROCESSO PARA PROTEGER UMA PEÇA DE SUPERLIGA DE CRISTAL ÚNICO À BASE DE NÍQUEL LIVRE DE HÁFNIO (1), contra corrosão e oxidação, caracterizado por compreender pelo menos as seguintes etapas, que consistem em: - fabricar uma peça de superliga de cristal único à base de níquel livre de háfnio (1), - depositar, na peça (1), uma primeira camada (2) compreendendo háfnio, depois uma camada base de revestimento de uma liga compreendendo pelo menos 10% em razão atômica de alumínio e uma segunda camada compreendendo háfnio, simultaneamente ou alternadamente, de modo a formar uma camada mista (3) e finalmente uma terceira camada compreendendo háfnio (4), - difundir a primeira camada compreendendo háfnio (2), de modo a formar uma primeira zona de interdifusão (21) na parte superior da peça de superliga de cristal único à base de níquel livre de háfnio (1) e difundir a terceira camada (4) compreendendo háfnio, de modo a formar uma segunda zona de interdifusão (41) na superfície da camada mista (3), - após o tratamento de difusão, realizar um tratamento de oxidação da segunda zona de interdifusão (41), de modo a obter uma camada de alumina dopada com háfnio (42) na superfície da segunda zona de interdifusão (41).

2. PROCESSO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por consistir em depositar primeiro as várias camadas e camada base de revestimento antes de realizar o tratamento de difusão.

3. PROCESSO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por compreender pelo menos as seguintes etapas que consistem em: - fabricar uma peça de superliga de cristal único à base de níquel livre de háfnio (1), - depositar, na peça (1), uma primeira camada (2) compreendendo háfnio, - difundir esta primeira camada compreendendo háfnio (2), de modo a formar uma primeira zona de interdifusão (21) na superfície da peça de superliga de cristal único à base de níquel livre de háfnio (1); - depositar, simultaneamente ou alternadamente, na primeira zona de interdifusão (21), uma camada base de revestimento de uma liga compreendendo pelo menos 10% em razão atômica de alumínio e uma segunda camada compreendendo háfnio, de modo a formar uma camada mista (3), - depositar, na camada mista (3), uma terceira camada compreendendo háfnio (4) - difundir a terceira camada (4) compreendendo háfnio, de modo a formar uma segunda zona de interdifusão (41) na superfície da camada mista (3), - realizar um tratamento de oxidação da segunda zona de interdifusão (41), de modo a obter uma camada de alumina dopada com háfnio (42) na superfície da segunda zona de interdifusão (41).

4. PROCESSO, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3, caracterizado por compreender uma etapa que consiste em depositar na camada de alumina dopada com háfnio (42), uma camada de barreira térmica (5).

5. PROCESSO, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 4, caracterizado por pelo menos uma das etapas de deposição ser realizada por deposição física de vapor (PVD), de preferência por pulverização catódica.

6. PROCESSO, de acordo com a reivindicação 5, caracterizado pela deposição ser realizada por pulverização catódica a uma temperatura compreendida entre 100 °C e 900 °C, sob uma pressão compreendida entre 0,1 Pa e 1 Pa, com uma densidade de potência compreendida entre 2 e 15 W/cm2 e uma polarização negativa compreendida entre -500 V e -150 V e sob bombardeio iônico entre -200V e 500V por 10 a 30 minutos.

7. PROCESSO, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 6, caracterizado pelo tratamento de difusão ser realizado por tratamento térmico sob vácuo ou na presença de uma mistura de argônio e 5% em volume de hélio, este tratamento térmico compreendendo uma etapa de aumento de temperatura até que uma temperatura compreendida entre 800 °C e 1200 °C seja atingida, uma etapa de manutenção desta temperatura durante 1 hora a 4 horas e uma etapa de arrefecimento diminuindo a temperatura até a temperatura ambiente ser atingida.

8. PROCESSO, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 7, caracterizado pelo tratamento de oxidação da segunda zona de interdifusão (41) ser realizado por tratamento térmico sob pressão parcial de oxigênio ou argônio, este tratamento térmico compreendendo uma etapa de aumento de temperatura até que uma temperatura compreendida entre 900 °C e 1200 °C seja atingida, uma etapa de manutenção desta temperatura durante menos de uma hora e uma etapa de arrefecimento até a temperatura ambiente ser atingida.

9. PROCESSO, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 8, caracterizado pela primeira camada (2) que compreende háfnio ter uma espessura compreendida entre 50 nm e 800 nm, de preferência compreendida entre 50 nm e 300 nm.

10. PROCESSO, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 9, caracterizado pela camada base de revestimento de uma liga compreendendo pelo menos 10% em razão atômica de alumínio ser selecionada a partir de NiAlCrSi, NiAlCrSiPt, NiCoAlCrSiPt, NiAl, NiPtAl ou MCrAlY com M igual a cobalto, níquel ou cobalto-níquel.

11. PROCESSO, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 10, caracterizado pela camada base de revestimento de uma liga compreendendo pelo menos 10% em razão atômica de alumínio possuir uma espessura compreendida entre 5 μm e 30 μm.

12. PROCESSO, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 11, caracterizado pela segunda camada que compreende háfnio possuir uma espessura compreendida entre 20 nm e 700 nm.

13. PROCESSO, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 12, caracterizado pela terceira camada (4) que compreende háfnio possuir uma espessura compreendida entre 10 nm e 100 nm.