JP2013538942A - 環境保護のためのイオン衝撃表面を備えた合金 - Google Patents

環境保護のためのイオン衝撃表面を備えた合金 Download PDF

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Abstract

物品は、ニッケル合金を含む基材を含むことができる。この基材は、変性された表面下領域およびバルク領域を含むことができる。この変性された表面下領域は、第1の組成を含むことができ、そしてバルク領域は、第1の組成とは異なる第2の組成を含むことができる。この変性された表面下領域は、反応性元素または貴金属の少なくとも1種を含むことができ、変性された表面下領域は、基材の表面に実質的に垂直な方向に測定して、約0.3μm未満の厚さを含んでいる。変性された表面下領域は、基材の表面上に、反応性元素または貴金属の少なくとも1種を層として含む層を堆積すること、および反応性元素または貴金属の少なくとも1種を、イオン衝撃を用いて、変性された表面下領域中に導入することによって形成することができる。

Description

本開示は、高温の機械システムに用いられる合金および、合金のためのコーティングに関する。
高温の機械システム、例えばガスタービンエンジンの部品は、厳しい環境で作動しなければならない。例えば、高圧タービンブレード、ベーン、ブレードトラック、およびブレードシュラウドは、商業的航空エンジンの高温の流路ガスに直接に暴露され、そして典型的には、1100℃もの高温の短期間のピークを含めた、約800℃の金属表面温度を経験する。タービンディスクの縁部は、約600℃〜約750℃の範囲の高温を経験する可能性がある。場合によっては、高温の流路ガスは、酸化性および/または腐食性の化学種、例えば酸素、硫黄などを含む可能性があり、それらにタービンディスクの縁部が暴露される可能性がある。この縁部が暴露される高温は、縁部の酸化性および/または腐食性化学種への暴露によって、酸化もしくは腐食を促進する可能性があり、それが縁部の化学的および機械的性質に影響を与える可能性がある。
包括的には、本開示は、アロイ部品に、変性された表面および/または表面下領域を形成する技術、ならびに変性された表面および/または表面下領域を含む合金部品に向けられている。幾つかの例では、合金は、ニッケルディスク合金、例えば、γ−Ni+γ’−NiAl合金であることができる。幾つかの例では、この合金は、ガスタービンエンジン、例えばタービンディスクの部品に形成することができる。変性された表面および/または表面下領域は、少なくとも1種の元素を含む層を合金の表面上に堆積させること、そしてこの層を、イオン衝撃を用いて不活性イオンでこの層に衝撃を与えて、この層中の元素を合金の表面および/または表面下領域に導入することによって形成することができる。
1つの態様では、本開示は、ニッケル合金を含む基材の表面上に複数の原子を層に堆積させる方法に向けられている。本開示のこの態様によれば、複数の原子としては、少なくとも1種の反応性元素、例えばイットリウム(Y)、ハフニウム(Hf)、ジルコニウム(Zr)、ランタン(La)、セリウム(Ce)、ケイ素(Si)、またはクロム(Cr);あるいは貴金属、例えば白金(Pt)、パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)、ルテニウム(Ru),イリジウム(Ir)、オスミウム(Os)、金(Au)または銀(Ag)が挙げられる。本方法は、この層に、不活性イオンで衝撃を与え、複数の原子の少なくとも一部を、基材の約0.3マイクロメートル以内の、基材の表面下領域に埋め込むことを更に含んでいる。
他の態様では、本開示は、ニッケル合金を含む基材を含む物品に向けられている。本開示のこの態様によれば、この基材は、変性された表面化領域およびバルク領域を含んでいる。変性された表面下領域は、第1の組成を含むことができ、そしてパルク領域は、第1の組成とは異なる第2の組成を含むことができる。幾つかの態様では、変性された表面下領域は、反応性元素または貴金属の少なくとも一方を含んでいる。更に、変性された表面下領域は、基材の表面に対して実質的に垂直な方向に測定して、約0.3マイクロメートル未満の厚さを含むことができる。
1つまたは2つ以上の例の詳細が、添付の図面および以下の記載中に説明されている。本開示の他の特徴、目的および利点が、明細書および図面から、そして特許請求の範囲から明らかとなる。
図1は、例示の合金部品を説明する、概念的な断面図である。 図2は、イオン衝撃を用いて、合金基材に変性された表面下領域を形成するための、例示的技術を説明するフロー図である。 図3Aは、例示的な合金基材および合金基材の表面上に堆積された複数の原子の層を示す概念的な断面図である。 図3Bは、変性された表面下領域を含む例示的な合金基材を示す概念的な断面図である。 図4は、イオン衝撃を用いて、合金基材に、変性された表面下領域を形成する例示的な技術を示すフロー図である。 図5Aは、例示的な合金基材および、合金基材の表面上に堆積された、それぞれが複数の原子を含む2つの層を示す概念的な断面図である。 図5Bは、変性された表面下領域を含む例示的な合金基材を示す概念的な断面図である。 図6は、イオン衝撃を用いて、合金基材に、変性された表面下領域を形成するための例示的な技術を示すフロー図である。 図7Aは、例示的な合金基材および、合金基材の表面上に堆積された複数の原子を含む層を示す概念的な断面図である。 図7Bは、変性された表面下領域を含む例示的な合金基材を示す概念的な断面図である。 図7Cは、例示的な合金基材および、合金基材の表面上に、変性された表面下領域を覆って堆積された、複数の原子を含む層を示す概念的な断面図である。 図7Dは、変性された表面下領域を含む例示的な合金基材を示す概念的な断面図である。 図8は、合金基材を熱処理して、合金基材から実質的に全ての三次γ’−NiAl沈殿物を除去する例示的な技術を示すフロー図である。 図9は、合金基材が暴露される例示的な熱処理を示す時間−温度図である。
包括的には、本開示は、ニッケルアロイを含む物品に変性された表面および/または表面下領域を形成する技術、ならびに変性された表面および/または表面下領域を含む物品に向けられている。幾つかの例では、この物品は、タービンディスクを含むことができる。変性された表面および/または表面下領域は、基材の表面上に少なくとも1種の元素の層を先ず堆積することによって形成することができる。幾つかの例では、この層は、基材の一部の上に形成することができ、基材の他の部分を、この層によって被覆されないままにしておくことができる。他の例では、この層は、基材の実質的に全ての表面上に形成することができる。この層は、複数の原子を含むことができ、そしてこの複数の原子は、単一の元素または少なくとも2種の元素の混合物を含むことができる。この元素または複数の元素は、物品に酸化および/または腐食への保護を与えるように選択することができる。例えば、これらの元素は、反応性元素または貴金属から選択することができる。
この元素またはこれらの元素は、元素の変性された表面下領域中への導入の後に、変性された表面下領域中に所定の組成をもたらす、厚さ(基材の表面に実質的に垂直な方向で測定した)または被覆密度(coverage density)(例えば、表面領域の平方センチメートル当たりの材料のグラムで測定された(g/cm))に堆積することができる。
一度この層が基材の表面上に堆積されたら、この層は、不活性(非反応性)イオン、例えばキセノン(Xe)、ヘリウム(He)、ネオン(Ne)、アルゴン(Ar)、クリプトン(Kr)、またはラドン(Rn)、で衝撃を与えることができる。このイオン衝撃は、この層中の原子が、表面下領域中へ導入されることをもたらすことができる。幾つかの例では、このイオン衝撃および、変性された表面下領域中への元素の導入は、表面下領域の相の組成および/またはミクロ構造に実質的に影響を与えないことができる。例えば、表面下領域は、表面下領域中への元素の導入の前に、γ−Ni+γ’−NiAl相組成を含むことでき、そして表面下領域中へ元素を導入して、変性された表面下領域を形成した後にもまた、γ−Ni+γ’−NiAl相組成を含むことができる。また、幾つかの例では、表面下領域中への元素の導入は、表面下領域中に残留応力を生じる可能性がある。
図1は、例示的な合金部品の断面を示す概念図である。この図示した例では、合金部品は、ガスタービンエンジンに用いられるガスタービンエンジンディスク10を含んでいる。ガスタービンエンジンディスク10は、縁部12、ウェブ部14、および穴部16を含んでいる。種々の例において、ガスタービンエンジンディスク10は、低圧、中圧、または高圧コンプレッサディスク(LPCディスク、IPCディスク、またはHPCディスク)、低圧、中圧、または高圧タービンディスク(LPTディスク、IPTディスク、またはHPTディスク)、またはファンディスクであることができる。
以下の説明は、γ−Ni+γ’−NiAl合金で作られたガスタービンエンジンディスク10を指向しているけれども、他の例においては、この合金部品は、ガスタービンエンジンディスク10以外の他の物品または部品を構成してもよく、あるいは他の合金を含んでいてもよい。例えば、この合金部品は、高温機械システムの他の部品、例えばタービンブレードまたは航空エンジンの軸であることができ、あるいは変性された表面下領域から利益を得ることができる他の合金物品を含むことができる。更に、ここに記載された技術は、他の合金、例えば、鋼、アルミニウム合金、コバルト合金、チタン合金などに適用することができる。幾つかの例では、この部品は、共に結合された2種もしくは3種以上の合金、例えば二相合金(dual alloy)ガスタービンエンジンディスクを含むことができる。
ガスタービンエンジンに用いられた場合には、ガスタービンエンジンディスク10の縁部12は、ガスタービンエンジンディスク10の穴部16とは異なる動作条件を経験する可能性がある。例えば、穴部16は、ガスタービンエンジンを通過するガスからは隔離される可能性があるが、一方で縁部12は、このガスに暴露される可能性がある。このことの故に、縁部12は、穴部16よりも、より高温のおよび/またはより腐食性のおよび/または酸化性の環境に暴露される可能性がある。従って、穴部16および縁部12は、異なる機械的および/または化学的性質、例えば穴部16および縁部12の表面および/または表面下領域に沿った性質、から利益を受ける可能性がある。例えば、穴部16は、より低温における高い引張強度および高い疲労強度を有することによって利益を受けることができ、一方で、縁部12は、より高温での向上したクリープ抵抗、向上した損傷許容性、およびドウェル疲労への向上した抵抗を有することによって利益を受けることができる。更に、もしくは、あるいは、縁部12は、縁部12に、例えば腐食および/または酸化からの、環境保護を与えるコーティングもしくは表面領域から利益を受けることができ、一方で、穴部16は、高温ガスから実質的に隔離されている可能性があり、そして環境保護を与えるコーティングおよび表面領域からは利益を受けない可能性がある。
縁部12と穴部16の化学的および機械的性質は、化学的および冶金学的組成、相組成、および/または対応する部分12もしくは16のミクロ構造によって影響を受ける可能性がある。ガスタービンエンジンディスク10は、広範囲の合金、例えばニッケル系超合金で形成することができる。幾つかの例では、ガスタービンエンジンディスク10は、γ−Ni+γ’−NiAl相組成を有するニッケル系超合金で形成することができる。そのような例では、γ−Niは、連続相、例えばマトリックス、であることができ、そしてγ’−NiAlは、不連続相、例えば沈殿であることができる。γ’−NiAl相は、γ−Niマトリックス内で、別個の、実質的に均質なドメインに分離することができる。
幾つかの例では、γ’−NiAl沈殿相ドメインは、一次沈殿相ドメイン、二次沈殿相ドメイン、三次沈殿相ドメイン、またはそれらの組み合わせとして分類することができる。一次、二次または三次の名称は、このγ’−NiAl沈殿相ドメインが形成される方法、またはこの沈殿相ドメインが熱処理にどのように応答するかの方法を表すことができる。例えば、一次γ’−NiAl沈殿相ドメインは、合金が、その合金の転移温度未満での熱処理に暴露された場合に、実質的に溶融せず、そして粗大化さえする可能性がある。幾つかの例では、一次γ’−NiAl沈殿相ドメインの体積分率は、熱処理が行われる温度によって制御することができ、そして一次γ’−NiAl沈殿相ドメインの大きさは、熱処理の継続時間によって制御される。対照的に、二次γ’−NiAl沈殿相ドメインは、その合金が、その合金の低温閾値超および転移温度未満の熱処理に暴露された場合に、マトリックス相中に実質的に溶融する。二次γ’−NiAl沈殿相ドメインは、比較的に高温からの合金の冷却の間に形成される。三次γ’−NiAl沈殿相ドメインもまた、その合金が、その合金の低温閾値超および転移温度未満の熱処理に暴露された場合に、マトリックス相中に溶融することができる。三次γ’−NiAl沈殿相ドメインは、比較的により低温からの合金の冷却の間に形成される。更に、三次γ’−NiAl沈殿相ドメインは、エージングの間に粗大化することができ、一方で、一次および二次γ’−NiAl沈殿相ドメインは、エージングによって比較的に影響を受けないことができる。
また、幾つかの例では、γ’−NiAl沈殿相ドメインは、沈殿相ドメインの平均直径に基づいて分類される。例えば、三次γ’−NiAl沈殿相ドメインは、約10ナノメートル(nm)〜約50nmの範囲(約0.01マイクロメートル(μm)〜約0.05μm)の平均直径を含むことができ、そして二次γ’−NiAl沈殿相ドメインは、約100nm〜約300nm(約0.1μm〜約0.3μm)の範囲の平均直径を有することができる。一次γ’−NiAl沈殿相ドメインは、約1μm〜約3μmの範囲の平均直径を有することができる。
幾つかの例では、γ’−NiAl沈殿相ドメインの体積分率およびγ’−NiAl沈殿相ドメインの種類(例えば、一次、二次、三次)は、ガスタービンエンジンディスク10の性質、例えば引張強度、疲労強度、クリープ抵抗、損傷許容性、またはドウェル疲労に影響を与える可能性がある。
また、合金の特定の化学組成は、単一相組成の中でさえも、ガスタービンエンジンディスク10の性質に影響を与える可能性がある。例えば、合金中の元素の相対量は、合金の機械的性質、例えば引張強度、疲労強度、クリープ抵抗、損傷許容性、またはドウェル疲労抵抗に影響を与える可能性がある。同様に、合金中の元素の相対量は、合金の化学的性質、例えば抗酸化、耐腐食などに影響を与える可能性がある。幾つかの場合には、合金の化学組成は、競合する効果を生み出すことができ、例えば、少なくとも1種の機械的もしくは化学的性質に悪影響を与え、一方で、少なくとも1種の他の機械的もしくは化学的性質に有益な影響を与えることができる。上記のように、異なる組成物の効果を釣り合わせるための1つの技術は、表面および/または表面下領域に、所定の特徴をもたらす変性された表面および/または表面下領域を形成することであり、一方で、その合金の全体の中に、異なる組成を維持して、そしてそれ故に、潜在的に異なる所定の特徴を維持することである。
幾つかの例では、ここに記載した技術は、合金部品の幾つかの部分、例えばガスタービンエンジンディスク10のみに適用することができる。例えば、上記のように、実質的に、ガスタービンエンジンディスク10の縁部12のみが、ガスタービンエンジンを通過するガスに暴露される可能性がある。このことのために、縁部12は、変性された表面および/または表面下領域を含むことができ、それが縁部12に酸化および/または腐食抵抗を与えることができ、一方で、穴部16は、変性された表面および/または表面下領域を含まないでよい。他の例では、穴部16、ウェブ部14、および縁部12を含む、ガスタービンエンジンディスク10の実質的に全ての表面が、変性された表面および/または表面下領域を含むことができる。
図2は、合金基材、例えばガスタービンエンジンディスク10に、変性された表面および/または表面下領域を形成するための技術の例のフロー図である。図2は、説明を容易にするために、図3Aおよび3Bを同時に参照して記載した。しかしながら、図3Aおよび3Bの合金基材32は、ガスタービンエンジンディスク10の縁部12、ウェブ部14および/または穴部16の一部を形成することができることが理解されなければならない。
図1に示された技術は、多くの原子を含む層36を、合金基材32(22)の表面34に形成することを含んでいる。上記のように、合金基材32は、ニッケル合金、例えばニッケル系超合金を含むことができる。幾つかの例では、合金基材32は、γ’−NiAl相組成を含むニッケル合金を含むことができる。図8および9について以下に説明するように、幾つかの例では、合金基材32を、変性された表面および/または表面下領域を含む合金基材32の少なくとも1部から、実質的に全ての三次γ’−NiAl取り除く熱処理もしくは他の処理工程に暴露することができる。他の例では、合金基材32は、例えば、一次γ’−NiAl、二次γ’−NiAl、および/または三次γ’−NiAlの少なくとも1種を含む、いずれかの所定の相組成およびミクロ構造を含むことができる。
層36は、少なくとも1種の元素を含むことができ、そして幾つかの例では、本質的に単一の元素からなっていることができる。他の例では、層36は、少なくとも2種の元素を含むことができる。層36中のこの元素もしくはこれらの元素は、例えば反応性元素または貴金属から選ぶことができる。ここで用いられる貴金属としては、Ru、Rh、Pd、Ag、Os、Ir、Pt、およびAuが挙げられる。ここで用いられる反応性元素としては、Y、La、Hf、Zr、Ce、Si、およびCrが挙げられる。幾つかの例では、この反応性元素は、主要合金元素(Cr)、少量合金元素(Si)、および微量合金元素(Y、Hf、Zr、La、およびCe、総称して、希土類反応性元素と表される)に小分類することができる。
層36は、層36中の原子の、変性された表面および/または表面下領域中への導入の後に、変性された表面および/または表面下領域中に、この元素もしくはこれらの元素の所定の濃度をもたらすのに十分な厚さ(基材34に実質的に垂直な方向で測定される)または被覆密度(g/cmで測定される)に堆積することができる。例えば、この元素の所定の濃度をもたらす厚さもしくは被覆密度は、表面34に実質的に垂直な方法に測定された、変性された表面および/または表面下領域の深さ、ならびに変性された表面および/または表面下領域の体積内の元素の所定の濃度、を基に定めることができる。
層36は、層36を、制御された厚さまたは被覆密度に堆積することができる、いずれかの方法を用いて堆積することができる。幾つかの例では、層36を比較的に低温、例えば約1500°F(約815℃)未満または、好ましくは約1400°F(約760℃)未満で堆積することができる堆積技術を用いることができる。比較的に低温での堆積は、基材32のミクロ構造または層組成に実質的に影響を与えることなく、層36の堆積を促進することができる。更には、もしくは、あるいは、比較的に低温での堆積は、層36と合金基材32との間の元素の相互拡散を低減させるか、または実質的に排除することができる。幾つかの例では、層36は、直接蒸着(DVD)、電気メッキ、ナノスケール電気メッキ、有機金属化学蒸着(MO−CVD)、プラズマ支援物理蒸着(PA−PVD)などによって堆積することができる。
層36が、表面34上に一度堆積されると、層36に、イオン衝撃(24)を用いて、不活性イオンで衝撃を与えられる。幾つかの例では、この不活性イオンとしては、希ガス、例えばHe、Ne、Ar、Kr、Xe、またはRnが挙げられる。幾つかの実施態様では、より重いイオン、例えばXeまたはRn、が好ましい可能性がある。
不活性イオンは、層36中の原子に衝撃を与え、そしてその原子が、合金基材32中に所定の深さに導入されるのに十分な水準のエネルギーで、層36に向けて加速することができる。例えば、不活性イオンは、層36中の原子を、合金基材32中に、約0.3μm以下の深さ(表面34に実質的に垂直な方向に測定して)に導入するのに十分なエネルギーの水準に加速することができる。他の例では、不活性イオンは、層36中の原子を、合金基材32中に、より浅い深さ、例えば零(0)μm〜約0.3μmの範囲のいずれかの深さまで導入するのに十分なエネルギーの水準に加速することができる。
幾つかの例では、不活性イオンは、層36中の原子が、合金基材32中の異なる深さに導入されるように、異なるエネルギーの水準に加速することができる。例えば、不活性イオンは、層36中の原子が、合金基材32中に、0μmから、変性された表面下領域38の最大の深さまでに、実質的に連続的に及ぶ深さに導入される結果となるようなエネルギーの水準に加速することができる。他の例では、変性された表面下領域38の最大深さは、約0.01μm〜約0.3μmの範囲であることができる。このようにして、イオン衝撃を、変性された表面下領域38の深さを実質的に通じて、原子を層36中に導入するために用いることができる。
幾つかの実施態様では、層36からの原子の、変性された表面下領域38中への導入は、合金基材32中に、少なくとも変性された表面下領域38で、応力を生じる可能性がある。この応力は、圧縮表面応力を生じさせる他の方法、例えばピーニング、と同様に、表面領域を強靭にする可能性がある。強靭化された変性された表面下領域38は、そのような応力に暴露されていない合金基材32に比べて、変性された表面下領域38の高温クリープへの向上した抵抗またはクラック成長への向上した抵抗をもたらす可能性がある。
場合によっては、合金基材32に変性された表面下領域38を形成するためにイオン衝撃を用いることは、変性された表面化領域38中の合金基材32のミクロ構造および/または相組成を実質的に変更することなく、変性された表面下領域38の形成を促進することができる。例えば、上記のように、合金基材32は、イオン衝撃による、層36中の原子の、変性された表面下領域38中への導入の前に、γ−Ni+γ’−NiAl相組成を含むことができる。幾つかの例では、イオン衝撃による、層36からの、原子の変性された表面化領域38中への導入は、変性された表面下領域38中のγ−Ni+γ’−NiAl相組成を、実質的に変化しない状態のままとする。
幾つかの実施態様では、変性された表面下領域38を形成するためにイオン衝撃の使用することは、合金基材32の外形寸法は、実質的に変わらないままで、変性された表面下領域38の形成を促進することができる。このことは、合金基材32の寸法が、小さな許容誤差を有しており、そして精確に作られる用途においては有益である可能性がある。
イオン衝撃工程(24)は、比較的に低温、例えば約1500°F(約815℃)未満、または好ましくは約1400°F(約760℃)未満で行うことができ、このことは、上記のように、合金基材32のミクロ構造または相組成に実質的に影響を与えないことができる。更には、層36および合金基材32を比較的に低温に維持することは、合金基材32および層36中の元素の相互拡散を低減させるか、もしくは実質的に排除することができる。
イオン衝撃および層36中の元素(単数)もしくは元素(複数)の、変性された表面下領域38中への導入の完了の後に、変性された表面下領域38は、層36に堆積されていた元素(単数)もしくは元素(複数)の所定の量を含むことができる。例えば、層36は、少なくとも1種の貴金属および/または少なくとも1種の反応性元素を含むことができる。変性された表面下領域38が少なくとも1種の反応性元素を含む幾つかの例では、この少なくとも1種の反応性元素は、主要合金元素(Cr)、少量合金元素(Si)、または微量合金元素(Y、Hf、Zr、La、およびCe、総称として、希土類反応元素)の少なくとも1つであることができる。
層36が少なくとも1種の貴金属を含む場合には、変性された表面下領域38は、層36が単一の貴金属を含むか、または2種もしくは3種以上の貴金属を含むかに関わらず、約20質量%(wt.%)未満の少なくとも1種の貴金属を含むことができる。幾つかの例では、変性された表面下領域38は、層36が単一の貴金属を含むか、または2種もしくは3種以上の貴金属を含むかに関わらず、約10質量%未満の少なくとも1種の貴金属を含むことができる。層36が、少なくとも1種の貴金属を含む例では、変性された表面下領域38は、少なくとも約1質量%の少なくとも1種の貴金属(例えば、約1質量%〜約20質量%の範囲、または約1質量%〜約10質量%の範囲)を含むことができる。幾つかの例では、変性された表面下領域38は、少なくとも約2.5質量%の少なくとも1種の貴金属(例えば、約2.5質量%〜約20質量%の範囲、または約2.5質量%〜約10質量%の範囲)を含むことができる。
層36がCrを含む場合には、変性された表面下領域38は、約30質量%未満のCrを含むことができる。幾つかの例では、変性された表面下領域38は、約20質量%未満のCrを含むことができる。他の例では、変性された表面下領域38は、約10質量%未満のCrを含むことができる。層36がCrを含む例では、変性された表面下領域38は、少なくとも約1質量%のCr(例えば、約1質量%〜約30質量%の範囲、または約1質量%〜約20質量%の範囲、または1質量%〜約10質量%の範囲)を含むことができる。幾つかの例では、変性された表面下領域38は、少なくとも約5質量%のCr(例えば、約5質量%〜約30質量%の範囲、または約5質量%〜約20質量%の範囲、または5質量%〜約10質量%の範囲)を含むことができる。
層36が、少なくとも1種の希土類反応性元素(例えば、Y、Hf、Zr、La、および/またはCe)を含む場合には、変性された表面下領域38は、層36が、単一の希土類反応元素を含むか、または少なくとも2種の希土類反応性元素を含むかに関わらず、約1質量%未満の少なくとも1種の希土類反応性元素を含むことができる。幾つかの例では、層36が、単一の希土類反応元素を含むか、または少なくとも2種の希土類反応性元素を含むかに関わらず、変性された表面下領域38は約0.1質量%未満の少なくとも1種の希土類反応性元素を含むことができる。層36が、少なくとも1種の希土類反応性元素を含む例では、変性された表面下領域38は、少なくとも約0.005質量%(例えば、0.005質量%〜約1質量%の範囲、または0.005質量%〜約0.1質量%の範囲)の少なくとも1種の希土類反応性元素を含むことができる。幾つかの例では、変性された表面下領域38は、少なくとも約0.01質量%(例えば、0.01質量%〜約1質量%の範囲、または0.01質量%〜約0.1質量%の範囲)の少なくとも1種の希土類反応性元素を含むことができる。
層36がSiを含む場合には、変性された表面下領域38は、約2質量%未満のSiを含むことができる。幾つかの例では、変性された表面下領域38は、約1質量%未満のSiを含むことができる。層36がSiを含む例では、変性された表面下領域38は、少なくとも約0.005質量%のSi(例えば、0.005質量%〜約2質量%の範囲、または0.005質量%〜約1質量%の範囲)を含むことができる。幾つかの例では、変性された表面下領域38は、少なくとも約0.01質量%のSi(例えば、0.01質量%〜約2質量%の範囲、または0.01質量%〜約1質量%の範囲)を含むことができる。
幾つかの例では、層36は、少なくとも1種の希土類反応性元素およびSiを含んでいることができる。変性された表面下領域38は、次いで、少なくとも1種の希土類反応性元素およびSiを合計で、約2質量%未満含むことができる。幾つかの例では、少なくとも1種の希土類反応性元素およびSiを合計で、約1質量%未満含むことができる。
幾つかの例では、変性された表面下領域38の組成は、合金基材32内の深さの関数として変化することができる。例えば、変性された表面下領域38の組成は、変性された表面下領域38と合金基材32との境界では、合金基材32の組成とより類似していることができ、そして表面34により近くでは、合金基材32の組成よりもより異なっていることができる。いくつかの例では、このような傾斜組成は、変性された表面下領域38の、合金基材32からの剥離または剥落の危険性を低減することができ、例えば変性された表面下領域38と合金基材32との間の接着力を向上させることができる。幾つかの例では、上記に列挙された組成は、変性された表面下領域38内の平均組成を表している可能性がある。
図2中には示されていないが、幾つかの実施態様では、本技術は、イオン衝撃後の熱処理工程を含むことができる。この熱処理工程は、変性された表面化領域38中に存在するCrまたはAlを酸化して、表面34上に酸化物スケールを形成するために実施することができる。この酸化物スケールは、合金基材32の更なる酸化および/または腐食を低減する、もしくは排除することができ、そしてそのようにして、合金基材32に、環境からの保護を与えることができる。変性された表面下領域38中に存在する元素は、酸化物スケールの形成に貢献することができ、酸化物スケールの表面34への接着力を向上することができ、あるいは更なる酸化の速度を低下させることができる。例えば、Crは、酸化して、酸化物スケールを形成することができる。反応性元素は、酸化抵抗を与えることができ、例えば更なる酸化の速度を低下させ、そして更に、もしくは、あるいは、酸化物スケールの基材34への接着力を増加させることができる。また、貴金属は、更なる酸化への抵抗に貢献することができる。
図2、3Aおよび3Bha,基材34上に単一の層36を堆積することを含む方法を説明しているが、他の実施態様では、方法は、基材34上に、複数の層を堆積することを含むことができる。幾つかの例では、複数の層は、異なる元素を含むことができる。図4、5Aおよび5Bは、そのような方法の1つの例を示している。
図4に示されているように、この方法は、第1層52を合金基材32(42)の表面34上に堆積することを含んでいる。第1層52は、複数の原子を含むことができ、そして少なくとも1種の元素を含んでいる。幾つかの例では、第1層52は、単一の原子から本質的になることができ、一方で、他の例では、第1層52は、少なくとも2種の元素を含むことができる。上記のように、この元素またはこれらの元素は、反応性元素および/または貴金属から選ぶことができる。
第1層52は、第1層52中の原子の、変性された表面および/または表面下領域中への導入の後に、変性された表面および/または表面下領域中に、この元素もしくはこれらの元素の所定の濃度がもたらされるのに十分な厚さ(表面34に実質的に垂直な方向に測定して)または被覆密度(g/cmで測定して)に堆積することができる。例えば、この元素の所定の濃度をもたらすのに必要な厚さまたは被覆密度は、変性された表面および/または表面下領域の、表面34に実質的に垂直な方向に測定した深さ、ならびに変性された表面および/または表面下領域の体積内のこの元素の所定の濃度を基に定めることができる。
第1層52は、第1層52を、制御された厚さまたは被覆密度に堆積することができるいずれかの方法を用いて堆積することができる。幾つかの例では、比較的に低温、例えば、約1500°F(約815℃)未満、または好ましくは約1400°F(約760℃)未満で第1層52を堆積することができる堆積方法を用いることができる。比較的に低温での堆積は、合金基材32のミクロ構造または相組成に実質的に影響を与えることなく、第1層52の堆積を促進することができる。更には、もしくは、あるいは、比較的に低温での堆積は、第1層51および合金基材32の間の元素の相互拡散を低減するか、または実質的に排除することができる。幾つかの例では、第1層52は、DVD、電気メッキ、ナノスケール電気メッキ、MO−CVD、PA−PVDなどによって堆積することができる。
第1層52の堆積の完了の後に、第2層54を、第1層52(44)上に堆積することができる。幾つかの例では、第2層54は、第1層52中には存在しない、少なくとも1種の元素を含むことができる。第1層52と同様に、第2層54は、少なくとも1種の元素を含むことができ、そして幾つかの例では、単一の元素から本質的になることができる。他の例では、第2層54は、少なくとも2種の元素を含むことができる。第2層54中のこの元素またはこれらの元素は、反応性元素または貴金属から選択することができる。
第2層54は、第2層54中の原子の、変性された表面および/または表面下領域中への導入の後に、変性された表面および/または表面下領域中のこの元素もしくはこれらの元素の所定の濃度がもたらされるのに十分な厚さ(表面34に実質的に垂直な方向に測定して)または被覆密度(g/cmで測定して)に堆積することができる。例えば、元素の所定の濃度をもたらすのに必要な厚さまたは被覆密度は、表面34に実質的に垂直な方向に測定した変性された表面および/または表面下領域の深さ、ならびに変性された表面および/または表面下領域の体積内のこの元素の所定の濃度を基に定めることができる。
第2層54は、第2層54を、制御された厚さまたは被覆密度に堆積することができるいずれかの方法を用いて堆積することができる。幾つかの例では、第2同54を比較的に低温、例えば約1500°F(約815℃)未満または、好ましくは約1400°F(約760℃)未満で堆積することができる堆積方法を用いることができる。比較的に低温での堆積は、合金基材32のミクロ構造または相組成に実質的に影響を与えることなく、第2層54の堆積を促進することができる。更には、もしくは、あるいは、比較的に低温での堆積は、第2層54と合金基材32の間の元素の相互拡散を低減させる、または実質的に排除することができる。幾つかの例では、第2層54は、DVD、電気メッキ、ナノスケール電気メッキ、MO−CVD、PA−PVDなどによって堆積することができる。幾つかの例では、第1層52および第2層54は、同様の方法を用いて堆積することができるが、一方で他の例では、第1層52は、第1の方法を用いて堆積することができ、そして第2層54は、第2の方法を用いて堆積することができる。
幾つかの例では、第1層52および第2層54を堆積することを含む方法は、表面34上に堆積され、そして変性された表面下領域56中に導入される第1の元素および第2の元素の量の独立した制御を促進することができる。例えば、第1層52は、第1の元素を含むことができ、そして第2層54は、第2の元素を含むことができる。幾つかの場合には、第1層52への第1の元素および第2層54への第2の元素の堆積は、第1および第2の元素を混合物として単一の層に堆積することに比べて、堆積される第1および第2の元素の量のより精確な制御を促進することができる。
第1層52および第2層54が一度表面34上に堆積されると、第1層52および第2層54は、イオン衝撃(46)を用いて不活性イオンで衝撃を与えられる。幾つかの例では、不活性イオンとしては、希ガス、例えばHe、Ne、Ar、Kr、Xe、またはRnが挙げられる。幾つかの実施態様では、より重いイオン、例えばXeまたはRnが好ましい可能性がある。
この不活性イオンは、第1層52および第2層54中の原子に衝撃を与えて、それらの原子が合金基材32中に、所定の深さに導入されるのに十分なエネルギーの水準で、第1層52および第2層54へと加速されることができる。例えば、この不活性イオンは、第1層52および第2層54中の原子を、合金基材32中に約0.3μm(表面34に実質的に垂直な方向で測定して)の深さに導入するのに十分なエネルギー水準に加速されることができる。他の例では、この不活性イオンは、第1層52および第2層54中の原子を、合金基材32中に、より少ない深さ、例えば零(0)μm〜約0.3μm範囲のいずれかの深さに導入するのに十分なエネルギー水準に加速されることができる。
幾つかの例では、この不活性イオンは、第1層52および第2層54中の原子が、合金基材32中の異なる深さに導入されるように、異なるエネルギー水準に加速されることができる。例えば、この不活性イオンは、第1層52および第2層54中の原子が、合金基材32中に、0μmから変性された表面下領域56の最大深さまでの実質的に連続的な範囲の深さに導入される結果となるようなエネルギー水準に加速されることができる。他の例では、変性された表面下領域56の最大深さは、約0.01μm〜約0.3μmの範囲であることができる。そのようにして、イオン衝撃を、第1層52および第2層54中の原子を、実質的に変性された表面下領域56の深さを通して導入するように用いることができる。
変性された表面下領域56は、上記に記載した組成のいずれかと同様の、または実質的に同じ組成を含むことができる。例えば、変性された表面下領域56は、約1質量%未満の少なくとも1種の希土類反応性元素、約2質量%未満のSi、約30質量%未満のCr、および/または約20質量%未満の少なくとも1種の貴金属を含むことができる。また、変性された表面下領域56は、他の元素、例えば、第1層52および第2層54の堆積の前に合金基材32中に存在する元素を含むことができる。変性された表面下領域56の組成は、変性された表面下領域56内で変わることができ、例えば、変性された表面下領域56内の深さの関数として変わることができるけれども、上記のように、列挙した組成は、変性された表面下領域56の全体について計算された平均組成であることができる。
イオン衝撃工程(46)は、比較的に低温、例えば約1500°F(約815℃)未満または、好ましくは約1400°F(約760℃)未満で行うことができ、このことは、上記のように、合金基材32のミクロ構造または相組織に実質的に影響を与えないことができる。更には、第1層52、第2層54、および合金基材32を比較的に低温に維持することは、合金基材32と層36中の原子の相互拡散を低減するか、または実質的に排除することができる。随意選択的に、イオン衝撃工程(46)の後に、変性された表面下領域56を含めた合金基材32は、熱処理工程に暴露することができる。この熱処理工程は、変性された表面下に存在するCrまたはAlを酸化して、表面34上に酸化物スケールを形成するために実施することができる。この酸化物スケールは、合金基材32の更なる酸化および/または腐食を低減させるか、あるいは実質的に排除して、そしてそれによって、合金基材32に環境への保護を与えることができる。
幾つかの例では、図6、7A、7B、7Cおよび7Dに示されているように、イオン衝撃を行う前の、第1層52と第2層54の両方の堆積の代わりに、第1層72を、表面34(62)上に堆積することができ、そしてイオン衝撃(64)を用いて合金基材32の表面下領域中に導入して、変性された表面下領域74を形成することができる。次いで、第2層76を、表面34(66)上に堆積することができ、そして第2層76からの元素(単数)または元素(複数)を、イオン衝撃(68)を用いて変性された表面下領域74中に導入して、更なる変性された表面下領域78を形成することができ、これは第1層72および第2層76からの元素を含んでいる。
第1層72は、例えば、反応性元素および/または貴金属から選ばれた少なくとも1種の元素を含むことができる。同様に、第2層76は、反応性元素および/または貴金属から選ばれた少なくとも1種の元素を含むことができる。幾つかの例では、第1層72および第2層76は、少なくとも1種の異なる元素を含んでおり、そして幾つかの例では、第1層72は、単一の、第1の元素を含むことができ、そして第2層76は、単一の、別の、第2の元素を含むことができる。
上記のように、第1層72および第2層76のそれぞれは、第1層72および第2層76中の元素が導入された後に、変性された表面下領域78中に所定の組成をもたらすような厚さまたは被覆密度に堆積することができる。例えば、第1層72および第2層76は、変性された表面下領域78が、約1質量%未満の少なくとも1種の希土類反応性元素、約2質量%未満のSi、約30質量%未満のCr、および/または約20質量%未満の少なくとも1種の貴金属を含むか、あるいはここに列挙した範囲内のいずれかの他の所定の組成を含むのに十分な量の少なくとも1種の元素を含むことができる。
幾つかの例では、ここに記載した方法は、合金部品(例えば、合金基材)中に所定のミクロ構造を形成する初期の熱処理工程を含むことができる。例えば、図8および9に示したように、合金部品は、92から熱処理温度94へと加熱することができ、熱処理温度94は、合金(82)の転移温度100未満である。幾つかの例では、上記のように、合金部品は、γ−Ni+γ’−NiAl合金で形成れていることができる。γ−Ni+γ’−NiAl合金の転移温度100は、γ’−NiAlソルバス温度と表され、これは、この温度超の温度では、γ’−NiAl、例えば一次γ’−NiAl沈殿相ドメイン、二次γ’−NiAl沈殿相ドメイン、および三次γ’−NiAl沈殿相ドメインが、γ−Ni相中に実質的に完全に溶融して、固溶体を形成する。幾つかの例では、γ’−NiAlソルバス温度は、約1915°F(約1046℃)〜約2150°F(約1177℃)の範囲であることができ、そして融点98は、約2150°F(約1177℃)〜約2350°F(約1288℃)の範囲であることができる。γ’−NiAlソルバス温度および融点98は、合金の正確な組成に依存し、そして他のγ−Ni+γ’−NiAl合金は、異なる転移温度100および/または異なる融点98を有することができる。
幾つかの例では、合金の転移温度100未満の温度での熱処理は、沈殿相ドメインの少なくとも一部の溶融をもたらす可能性がある。1つの例として、γ−Ni+γ’−NiAl合金は、一次、二次または三次沈殿相ドメインの少なくとも1種に分類されるγ’−NiAlを含むことができる。γ−Ni+γ’−NiAl合金が、合金(82)の転移温度100未満の温度94で熱処理された場合には、合金中に存在するいずれかの二次もしくは三次γ’−NiAl沈殿相ドメインは、γ−Niマトリックス中に実質的に溶融することができ、一方で、いずれかの一次γ’−NiAl一次沈殿相ドメインは、実質的に溶融されないままでいて、そして粗大化されさえすることができる。例えば、γ−Ni+γ’−NiAl合金部品は、γ’−NiAlソルバス温度よりも約75°F(約41.67℃)〜約150°(約83.33℃)の範囲低い温度に加熱することができる。γ−Ni+γ’−NiAl合金が、熱処理温度94(84)から冷却された場合には、二次γ’−NiAl沈殿相ドメインが、比較的に低温での冷却96の間に、生じることができ、一方で、三次γ’−NiAl沈殿相ドメインは、より低温での冷却96の間に生じることができる。幾つかの例では、合金部品の冷却速度が、十分に遅い場合には、三次沈殿相ドメインは生じない可能性がある。
所定の相組成およびミクロ構造、例えば三次γ’−NiAl沈殿相ドメインを実質的に含まないミクロ構造が一度形成されたら、この方法を、変性された表面下領域の形成を伴って継続することができる。例えば、図8に示した通り、層36を、表面34(22)上に堆積することができ、そして層36からの元素(単数)もしくは元素(複数)を、イオン衝撃(24)を用いて、変性された表面下領域38中に導入することができる。他の例では、図8および9に示した方法は、図4と5および図6と7に示したように、表面34上に第1層および第2層を堆積することを含むことができる。
種々の例を記載してきた。これらの例および他の例は、添付の特許請求の範囲内にある。

Claims (20)

  1. ニッケル合金を含む基材の表面上に、複数の原子を層に堆積すること、該複数の原子は、反応性元素または貴金属の少なくとも1種を含み;および、
    該層に、不活性イオンで衝撃を与えて、該複数の原子の少なくとも一部を、該基材の約0.3μm以内の、該基材の表面下領域中に埋め込むこと、
    を含んでなる方法。
  2. 前記不活性イオンが、Xe、He、Ne、Ar、Kr、またはRnの少なくとも1種を含む、請求項1記載の方法。
  3. 前記複数の原子が、前記反応性元素を含み、かつ該反応性元素が、Y、La、Hf、Zr、Ce、Si、またはCrの少なくとも1種を含む、請求項1または2記載の方法。
  4. 前記複数の原子が、前記貴金属を含み、かつ該貴金属が、Ru、Rh、Pd、Pt、Os、Ir、Ag、またはAuの少なくとも1種を含む、請求項1〜3のいずれか1項記載の方法。
  5. 前記複数の原子が、前記反応性元素または前記貴金属からなる群から選ばれた単一の元素から本質的になる、請求項1〜4のいずれか1項記載の方法。
  6. 前記基材の前記表面下領域が、前記層に不活性イオンで衝撃を与える前に、γ−Ni+γ’−NiAl相組成を有しており、かつ該層の不活性イオンでの衝撃が、該基材中の表面下領域中のγ−Ni+γ’−NiAl相組成を実質的に変化しないままにする、請求項1〜5のいずれか1項記載の方法。
  7. 前記複数の原子が、前記反応性元素を含み、該反応性元素が、少なくとも1種の希土類反応性元素を含み、かつ前記表面下領域が、約1質量%未満の少なくとも1種の希土類反応性元素を含む、請求項1〜6のいずれか1項記載の方法。
  8. 前記複数の原子が、前記反応性元素を含み、該反応性元素がSiを含み、前記表面下領域が約2質量%未満のSiを含む、請求項1〜7のいずれか1項記載の方法。
  9. 前記複数の原子が、前記反応性元素を含み、該反応性元素がCrを含み、前記表面下領域が約30質量%未満のCrを含む、請求項1〜8のいずれか1項記載の方法。
  10. 前記複数の原子が、前記貴金属を含み、前記表面下領域が約20質量%未満の貴金属を含む、請求項1〜9のいずれか1項記載の方法。
  11. 前記超合金基材が、γ−Ni+γ’−NiAl相組成を含み、更に、
    該超合金基材を熱処理して、該超合金基材の表面上の該層への前記複数の原子の堆積の前に、前記表面下領域が、三次γ’−NiAlを本質的に含まないように、該表面下領域中に存在する実質的に全ての三次γ’−NiAlを溶融する、請求項1〜10のいずれか1項記載の方法。
  12. 前記表面下領域を含む前記基材を熱処理して、該表面下領域中に存在するCrまたはAlを酸化して、該表面下領域の表面上に酸化物スケールを形成することを更に含む、請求項1〜11のいずれか1項記載の方法。
  13. ニッケル合金を含む基材を含む物品であって、該基材が、変性された表面下領域およびバルク領域を含み、該変性された表面下領域が、第1の組成を含み、かつ該バルク領域が、該第1の組成とは異なる第2の組成を含み、該変性された表面下領域が、反応性元素または貴金属の少なくとも1種を含み、かつ該変性された領域が、該基材の表面に実質的に垂直な方向で測定して、約0.3μm未満の厚さを含む、物品。
  14. 前記変性された表面下領域が、γ−Ni+γ’−NiAl相組成を含む、請求項13記載の物品。
  15. 前記変性された表面下領域が、前記反応性元素を含み、該反応性元素が、Y、La、Hf、ZrまたはCeの少なくとも1種を含み、かつ前記変性された表面下領域が、約1質量%未満のY、La、Hf、ZrまたはCeの少なくとも1種を含む、請求項13または14記載の物品。
  16. 前記変性された表面下領域が、前記反応性元素を含み、該反応性元素がSiを含み、かつ前記変性された表面下領域が、約2質量%未満のSiを含む、請求項13〜15のいずれか1項記載の物品。
  17. 前記変性された表面下領域が、前記反応性元素を含み、該反応性元素がCrを含み、かつ前記変性された表面下領域が、約30質量%未満のCrを含む、請求項13〜16のいずれか1項記載の物品。
  18. 前記変性された表面下領域が、前記貴金属を含み、かつ前記変性された表面下領域が、約20質量%未満の貴金属を含む、請求項13〜17のいずれか1項記載の物品。
  19. 前記貴金属が、Ru、Rh、Pd、Ag、Os、Ir、Pt、およびAuの少なくとも1種を含む、請求項18記載の物品。
  20. 前記変性された表面下領域の表面上に形成された酸化物スケールを更に含み、該酸化物スケールが、酸化クロム(Cr)または酸化アルミニウム(Al)の少なくとも一方を含む、請求項13〜19のいずれか1項記載の物品。
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