BR112015013016B1 - Kit para maquiagem e método para remoção de maquiagem - Google Patents

Abstract

kit para a maquilagem e método para a remoção da maquilagem a presente invenção trata de um kit para a maquilagem elou o cuidado das unhas elou das unhas postiças, que compreende: - uma composição cl para a maquilagem elou o cuidado das unhas elou das unhas postiças que compreende pelo menos um polímero filmogênio, o qual polímero é insolúvel acetona, acetato de metila, e acetato de etila, e - a remoção da composição de maquilagem c2 que compreende pelo menos um solvente volátil s2 escolhido no grupo que consiste de álcoois com c2-05, alcanos com c5-c12, e suas misturas, e o referido solvente s2 é capaz de solubilizar o polímero filmogênio de composição cl

Description

“KIT PARA MAQUIAGEM E MÉTODO PARA REMOÇÃO DE MAQUIAGEM” [001] A presente invenção trata de um kit para a maquiagem e/ou o cuidado das unhas e/ou das unhas postiças, bem como de um método para a maquiagem e/ou o cuidado das unhas e/ou das unhas postiças.

[002] Convencionalmente, a maquiagem ou o cuidado das unhas ou das unhas postiças é realizada por meio de composições de maquiagem ou de cuidado líquidas também chamadas de esmaltes de unhas. Esse esmalte de unha é geralmente aplicado na forma de camadas superpostas sobre a superfície da unha (ou da unha postiça) a ser maquilada ou cuidada, observando ao mesmo tempo uma etapa de secagem intermediária entre cada camada de esmalte aplicada.

[003] A fim de evitar, em particular, que os pigmentos das composições de esmalte de unha deixem manchas sobre as unhas (ou unhas postiças) ou as tornem amareladas, a aplicação de uma composição de base transparente, ou “base-coat’, é recomendada. Entretanto, esse método de maquiagem e cuidado não demonstrou ser inteiramente satisfatório.

[004] As composições base-coat convencionais são solúveis nos solventes de removedores de maquiagem convencionais. Portanto, quando se deseja trocar a cor do esmalte, é preciso remover a maquiagem da totalidade da camada de esmalte de unhas e da camada base-coat, e então aplicar novamente uma nova camada de base-coat sobre a unha (ou a unha postiça) antes de uma nova maquiagem ou um novo cuidado das unhas (ou das unhas postiças). Isso representa uma perda de tempo e causa um consumo excessivo da composição base-coat.

[005] Além disso, remoções sucessivas da maquiagem com os removedores de maquiagem convencionais tais como a acetona ou o acetato de etila tendem a tornar as unhas frágeis.

[006] Assim, existe uma necessidade de um novo método para a maquiagem e/ou o cuidado das unhas e/ou das unhas postiças com o qual seja possível superar os inconvenientes dos métodos de maquiagem descritos acima.

[007] A presente invenção visa a propor um método para a maquiagem e/ou o cuidado das unhas e/ou das unhas postiças que permita que as unhas ou as unhas postiças sejam rapidamente maquiladas novamente.

[008] A presente invenção visa a propor um método para a maquiagem e/ou o cuidado das unhas e/ou unhas postiças com o qual seja possível reduzir o contato dos solventes com a unhas.

[009] A presente invenção visa também a propor um método para a maquiagem e/ou o cuidado das unhas com o qual seja possível evitar a fragilidade das unhas causadas por remoções de maquiagem repetidas.

[010] Mais especificamente, a presente invenção visa a fornecer um kit que compreende uma composição de base que não pode ser removida com removedores de maquiagem convencionais, mas que é removível com um removedor de maquiagem específico, de um lado, e um removedor de maquiagem específico para remover a referida composição de base, do outro lado.

[011] A presente invenção trata de um kit para a maquiagem e/ou o cuidado das unhas e/ou das unhas postiças, que compreende: - uma composição C1 para a maquiagem e/ou o cuidado das unhas e/ou unhas postiças que compreende pelo menos um polímero formador de filme, o qual polímero é insolúvel em acetona, acetato de metila e acetato de etila, e - uma composição C2 para a remoção da maquiagem que compreende pelo menos um solvente volátil S2 escolhido no grupo formado por álcoois C2-C5, alcanos com C5-C12, e suas misturas, e o referido solvente S2 é capaz de solubilizar o polímero formador de filme de composição C1.

[012] O polímero formador de filme de composição C1 é insolúvel em acetona.

[013] De acordo com um modo de realização, ele é também insolúvel em cetona líquidas à temperatura ambiente tais como a metiletilcetona, a metilisobutilcetona, a diisobutilcetona, a isoforona e a ciclohexanona.

[014] O polímero formador de filme da composição C1 é insolúvel em acetato de metila e acetato de etila.

[015] De acordo com um modo de realização, ele é também insolúvel em acetato de alquila com C3-C4, tal como acetato de propila, acetato de n-propila, acetato de isopropila, acetato de n-butila, acetato de isobutila e acetato de terc-butila.

[016] De preferência, o polímero formador de filme da composição C1 é insolúvel em acetato de etila.

[017] Os solventes da presente invenção são solventes orgânicos ou minerais, que são fisiologicamente aceitáveis.

[018] Por “solvente volátil”, entende-se no sentido da presente invenção um solvente que pode evaporar em contato com as matérias queratínicas em menos de uma hora, à temperatura ambiente e à pressão atmosférica. O ou os solventes voláteis da presente invenção são solventes líquidos à temperatura ambiente, que possuem uma pressão de vapor não nula, à temperatura ambiente e à pressão atmosférica, que varia, em particular, de 0.13 Pa a 40.000 Pa (10-3 a 300 mm Hg), que varia em particular de 1.3 Pa a 13.000 Pa (0.01 a 100 mm Hg), e mais particularmente que varia de 1.3 Pa a 1300 Pa (0.01 a 10 mm Hg).

[019] Por “solvente não volátil”, entende-se um solvente que permanece sobre as unhas à temperatura ambiente e à pressão atmosférica durante pelo menos várias horas e, em particular, que possui uma pressão de vapor inferior a 10-3 mm Hg (0.13 Pa).

[020] Por “solvente capaz de solubilizar o polímero formador de filme de composição C1”, entende-se que um solvente é capaz de remover a maquiagem de uma unha ou de uma unha postiça recoberta com uma camada seca de composição C1.

[021] Geralmente, um solvente é “capaz de solubilizar” um polímero quando uma mistura do referido solvente e do referido polímero forma uma solução homogênea, e não uma dispersão ou mistura bifásica.

[022] O solvente volátil S2 da composição C2 é escolhido no grupo que consiste de álcoois com C2-C5, alcanos com C5-C12 e suas misturas.

[023] Por “álcool com C2-C5”, entende-se um composto orgânico que compreende pelo menos um grupo hidroxila -OH, de preferência exatamente um grupo hidroxila -OH, e com 2 a 5 átomos de carbono e que é, além disso, líquido à temperatura ambiente, isto é, de 15°C a 30°C.

[024] Os álcoois com C2-C5 apropriados para a presente invenção incluem, em particular, o etanol e isopropanol.

[025] Por “alcano com C5-C12” entende-se um composto hidrocarboneto cíclico ou acíclico, linear ou ramificado, saturado, que consiste exclusivamente de átomos de carbono e átomos de hidrogênio, que é, além disso, líquido à temperatura ambiente, isto é, de 15°C a 30°C.

[026] Dentro do âmbito da presente invenção, os alcanos compreendem, de preferência de 5 a 12, preferencialmente de 5 a 10, vantajosamente de 5 a 8 átomos de carbono.

[027] Os alcanos com C5-C12 apropriados para a presente invenção incluem, em particular, o heptano e seus isômeros, o decano e seus isômeros, o ciclohexano e o dodecano e seus isômeros.

[028] A composição de remoção de maquiagem C2 é diferente da composição de maquiagem C1.

[029] As composições C1 e C2 estão contidas, dentro do kit da presente invenção, em diferentes recipientes.

[030] Tipicamente, a composição de remoção de maquiagem C2 consiste essencialmente de solvente voláteis.

[031] Tipicamente, a composição de remoção de maquiagem C2 compreende pelo menos 80%, de preferência pelo menos 90%, preferencialmente pelo menos 95%, vantajosamente pelo menos 99% em peso de solventes voláteis, tais como o solvente S2.

[032] A composição C2 consiste essencialmente do solvente volátil S2. A composição C2 pode compreender ainda um agente hidratante e/ou um agente perfumante, tal como um óleo essencial, por exemplo.

[033] De preferência, a composição C2 consiste exclusivamente do solvente volátil S2.

[034] Na composição C1 do kit de acordo com a presente invenção, o polímero formador de filme está geralmente em solução em pelo menos um solvente volátil S1 escolhido no grupo que consiste de álcoois com C2-C5, alcanos com C5-C12 e suas misturas.

[035] O solvente S1 é, portanto, capaz de solubilizar o polímero formador de filme de composição C1.

[036] O solvente S1 da composição C1 é de preferência idêntico ao solvente S2 da composição C2.

[037] Como solvente S1 apropriado para a presente invenção, podem ser citados o etanol e o isopropanol, o decano, o heptano, o dodecano, o ciclohexano e seus isômeros, e suas misturas.

[038] Tipicamente, a composição C1 compreende de 10 a 95% em peso, de preferência de 30 a 80% em peso, mais preferencialmente de 50 a 80% em peso, ou mesmo de 60 a 80% em peso de solvente S1, com base no peso total da referida composição.

[039] O polímero formador de filme da composição C1 é escolhido de preferência no grupo que consiste de poliamidas, poliureias, poliuretanos, resinas de silicone e polímeros hidrocarbonetos alifáticos e cicloalifáticos.

[040] O polímero formador de filme de composição C1 é escolhido de preferência no grupo que consiste de poliamidas e polímeros hidrocarbonetos alifáticos e cicloalifáticos.

[041] Na composição C1, um polímero formador de filme único, ou uma mistura de polímeros formadores de filme, pode ser usado.

[042] De acordo com um modo de realização, a composição C1 compreende um teor total de polímero ou polímeros formadores de filme superior ou igual a 5%, em particular compreendido de 5 a 50% em peso, em especial de 10 a 45% em peso, em particular de 20 a 45% em peso com base no peso total da referida composição C1.

[043] Por “polímero formador de filme” entende-se um polímero capaz de formar por si ou na presença de um agente auxiliar de formação de filme, um filme isolável, em particular contínuo, sobre um suporte, em especial sobre matérias queratínicas.

[044] O polímero formador de filme da composição C1 é de preferência um polímero sintético, do tipo radicalar do tipo policondensado.

[045] Ele pode ser um polímero estatístico ou um polímero sequenciado, também conhecido como “copolímero em bloco”.

[046] Dentro do âmbito da presente invenção, o termo “copolímero em bloco” designa um copolímero de consiste de blocos de diferentes composições, conectados entre si em sequências lineares. Esses copolímeros podem também ser designados como “copolímeros sequenciados”.

[047] Em particular, os copolímeros em bloco consistem de pelo menos dois blocos, de preferência dois ou três blocos. Esses copolímeros são, portanto, de preferência escolhidos entre os copolímeros dibloco ou copolímeros os tribloco.

[048] Eles podem, por exemplo, ser ilustrados da seguinte maneira: (bloco A) (bloco B) para copolímeros dibloco e (bloco A) (bloco B) (bloco A) ou (bloco B) (bloco A) (bloco B) para copolímeros tribloco.

[049] De acordo com a presente invenção, os copolímeros multibloco designam copolímeros que compreendem mais de três blocos.

[050] Os copolímeros em bloco de acordo com a presente invenção podem também ser escolhidos os copolímeros em bloco em forma de estrela ou os copolímeros em bloco radiais. Esses copolímeros possuem um único ponto de ramificação do qual emergem vários blocos. Em particular, tal copolímero em forma de estrela que possui n blocos (com n>3) ligados ao ponto de ramificação é denominado copolímero em estrela com n blocos (ou copolímero radial).

[051] Por “poliamida”, entende-se um polímero que contém grupos amida -(C=O)-NH- que resultam da polimerização de uma mistura de monômeros que compreendem compostos diácidos alifáticos, cicloalifáticos, ou aromáticos, que incluem duas funções -COOH, de um lado, e compostos diamina alifáticos, cicloalifáticos ou aromáticos, incluindo funções -NH2.

[052] Por exemplo, a poliamida de fórmula: que resulta da polimerização de diácidos de fórmula HOOC-R-COOH e de diaminas de fórmula H2N-R'-NH2.

[053] De acordo com a composição dos monômeros diácido e diamina, as poliamidas são classificadas em poliamidas alifáticas, cicloalifáticas, semiaromáticas e aromáticas. Dependendo do tipo de unidades de repetição, as poliamidas podem ser homopolímeros ou copolímeros.

[054] De preferência, o polímero formador de filme é escolhido entre as poliamidas de fórmula (I): na qual: - R1 e R2 representam grupos hidrocarbonetos C1-C50, de preferência com C1-C20, ou unidades poliamida, - R3 e R4 representam grupos hidrocarbonetos bivalentes com C1-C20, de preferência com C1-C10, e - R5 representa um radical hidrocarboneto bivalente com C1-C100, de preferência com C10-C50.

[055] Na fórmula (l), R1 e/ou R2 são tipicamente grupos alquila lineares ou ramificados.

[056] Na fórmula (l), R3, R4 e/ou R5 são tipicamente grupos alquila lineares ou ramificados.

[057] Na fórmula (l), R3 e/ou R4 podem ser grupos alifáticos, cicloalifáticos ou aromáticos.

[058] Na fórmula (l), R5 pode ser um grupo alifático, cicloalifático ou aromático.

[059] Por “poliureia” entende-se um polímero que contém grupos ureia -NH-(C=O)-NH- que resultam da polimerização de uma mistura de monômeros que compreendem compostos diisocianato alifáticos, cicloalifáticos ou aromáticos, incluindo duas funções -NCO, de um lado, e compostos diamina alifáticos ou aromáticos, incluindo duas funções -NH2, do outro lado.

[060] Por exemplo, a poliureia de fórmula: resulta da polimerização de diisocianatos de fórmula OCN-R-NCO e de diaminas de fórmula H2N-R'-NH2.

[061] De preferência, o polímero formador de filme da composição C1 é escolhido entre as poliureias de fórmula (II): na qual: - R6 e R8 representam um radical hidrocarboneto bivalente com C1-C50 de preferência com C1-C20, ou unidades polissiloxano com Si1-Si100 de preferência com SÍ1-SÍ50, - R7 representa um radical hidrocarboneto bivalente alifático, cicloalifático ou aromático com C1-C30, de preferência com C1-C20, e - m está compreendido entre 1 e 1000, de preferência entre 1 e 500.

[062] Na fórmula (II), R6 e/ou R8 são tipicamente grupos alquila lineares ou ramificados.

[063] Por “poliuretano”, entende-se um polímero que contém grupos uretano ou carbamato -NH-(C=O)-O- que resultam da polimerização de uma mistura de monômeros que compreendem compostos diisocianato alifáticos, cicloalifáticos ou aromáticos, que incluem duas funções -NCO, de um lado, e compostos diol alifáticos, cicloalifáticos, ou aromáticos, que incluem duas funções -OH, do outro lado.

[064] Por exemplo, um poliuretano de fórmula: resulta da polimerização de diisocianatos de fórmula OCN-R-NCO e de dióis de fórmula HO-R'-OH.

[065] De preferência, o polímero formador de filme de composição C1 é escolhido entre os poliuretanos de fórmula (III): na qual: - R9 e R11 representam grupos hidrocarbonetos bivalentes com C1-C50, de preferência com C1-C20, ou unidades polissiloxano com SÍ1-SÍ100, de preferência com SÍ1-SÍ50, - R10 representa um radical hidrocarboneto bivalente alifático, cicloalifático ou aromático com C1-C30, de preferência com C1-C20, e - n está compreendido entre 1 e 1,000, de preferência entre 1 e 500.

[066] Na fórmula (III), R9 e/ou R11 são tipicamente grupos alquila lineares ou ramificados.

[067] Por “resina de silicone”, entende-se um polímero silsesquioxano que contém de preferência unidades de fórmula (IV): na qual: - R12 representa um grupo alquila com C1-C6, de preferência com C1-C3, preferencialmente um grupo metila, e - p está compreendido entre 1 e 2000, de preferência entre 5 e 1,000, e o referido polímero é tal que pelo menos 50% dos átomos de silício do referido polímero estão presentes nas unidades idênticas ou diferentes de fórmula (IV).

[068] Em uma unidade de fórmula (IV), cada átomo de oxigênio está ligado a dois átomos de silício e cada átomo de silício da unidade de fórmula (IV) está ligado a três átomos de oxigênios e a um grupo R12.

[069] De preferência, o polímero formador de filme de composição C1 é escolhido entre as resinas de silicone nas quais pelo menos 60%, preferencialmente pelo menos 70%, vantajosamente pelo menos 80%, dos átomos de silício do referido polímero estão presentes em unidades idênticas ou diferentes de fórmula (IV).

[070] Por composto “hidrocarboneto” entende-se um composto que compreende predominantemente átomos de carbono e hidrogênio e opcionalmente heteroátomos tais como oxigênio, nitrogênio ou enxofre. Um composto hidrocarboneto consiste, de preferência, exclusivamente de átomos de carbono e hidrogênio.

[071] Por “polímeros hidrocarbonetos alifáticos”, entende-se um polímero que resulta predominantemente da polimerização de uma mistura de monômeros olefínicos acíclicos idênticos ou diferentes, tais como alcenos C2-C6, incluindo uma ou duas insaturações, por exemplo escolhidos entre etileno, propileno, butileno, butadieno, penteno, pentadieno e isopreno.

[072] Por “polímeros hidrocarbonetos cicloalifáticos”, entende-se um polímero que resulta predominantemente da polimerização de uma mistura de monômeros olefínicos cíclicos idênticos ou diferentes, tais como ciclopentadieno, diciclopentadieno, e metildiciclopentadieno, ou um polímero que resulta predominantemente da polimerização de uma mistura de monômeros hidrocarbonetos aromáticos, sendo que o polímero é então parcial ou totalmente hidrogenado.

[073] O polímero formador de filme de composição C1 é de preferência um polímero hidrocarboneto alifático ou cicloalifático escolhido entre as resinas taquificantes hidrocarbonetos alifáticas ou cicloalifáticas.

[074] Por “resina taquificante hidrocarboneto cicloalifática ou alifática”, entende-se um polímero ou um copolímero de olefinas ou um polímero ou um copolímero de monômeros hidrocarbonetos aromáticos parcial ou totalmente hidrogenados.

[075] Elas podem ser copolímeros hidrogenados indeno/metilestireno/estireno comercializados com o nome de “REGALITE” pela Eastman Chemical, em particular REGALITE R1090, REGALITE R1100, REGALITE S1100, e REGALITE S5100, ou com o nome de ARKON P-90, ARKON P-100, e ARKON P-115, pela Arakawa.

[076] Elas podem também ser resinas de pentadieno alifáticas tais as que resultam da polimerização de uma maioria de monômeros 1,3-pentadieno (trans ou cis piperileno) e de uma minoria de monômeros escolhidos entre isopreno, butano, 2-metil-2-buteno, penteno, 1,4-pentadieno e suas misturas. Essas resinas podem ter um peso molecular que varia de 1000 a 2500 g/mol. Tais resinas de 1,3-pentadieno são, por exemplo, comercializadas com os nomes de referência de PICCOTAC 95 pela Eastman Chemical, ESCOREZ 1102, ESCOREZ 1304, ESCOREZ 1310LC, ESCOREZ 1315 pela Exxon Chemicals, Wingtack 95 pela Cray Valley.

[077] Elas podem também ser resinas de dieno de dímeros ciclopentadieno tais como os que resultam da polimerização de diciclopentadieno, de metildiciclopentadieno, de outros dímeros pentadieno, e suas misturas. Essas resinas possuem geralmente um peso molecular que varia de 500 a 800 g/mol, tais como, por exemplo, as que são comercializadas com a referência de ESCOREZ 5380, ESCOREZ 5300, ESCOREZ 5400, ESCOREZ 5415, ESCOREZ 5490, pela Exxon Mobil Chem., e as resinas SUKOREZ SU-90, SUKOREZ SU-100, SUKOREZ SU-110, SUKOREZ SU-100S, SUKOREZ SU-200, SUKOREZ SU-210, SUKOREZ SU-490, SUKOREZ SU-400, pela Kolon.

[078] Elas podem também ser resinas hidrogenadas que resultam da polimerização de pentadieno tais como as que são comercializadas com o nome de EASTOTAC H-100E, EASTOTAC H-115E, EASTOTAC C-100L, EASTOTAC C-115L, EASTOTAC H-100L, EASTOTAC H-115L, EASTOTAC C-100R, EASTOTAC C-115R, EASTOTAC H-100R, EASTOTAC H-115R, EASTOTAC C-100W, EASTOTAC C-115W, EASTOTAC H-100W, EASTOTAC H-115W, pela Eastman Chemical Co.

[079] De modo alternativo, ela pode ser uma mistura de resinas taquificantes hidrocarbonetos alifáticas ou cicloalifáticas tais como descritas acima.

[080] De acordo com uma alternativa, o kit da presente invenção é tal que: - o polímero formador de filme de composição C1 é uma poliamida, em particular de fórmula (l) tal como descrita acima, e - o solvente volátil S2 da composição C2 é um álcool com C2-C5, opcionalmente em uma mistura com um alcano com C5-C12.

[081] De acordo com essa alternativa, S2 é de preferência o etanol.

[082] Alternativamente, de acordo com essa alternativa, S2 é de preferência uma mistura de etanol e heptano, em particular uma mistura 50/50.

[083] De acordo com essa alternativa, a composição C1 compreende de preferência pelo menos um solvente volátil S1 que compreende pelo menos um álcool com C2-C5, opcionalmente em uma mistura com um alcano com C5-C12.

[084] De preferência, o solvente volátil S1 é o etanol.

[085] De acordo com essa alternativa, S1 é de preferência idêntico a S2.

[086] De acordo com outra alternativa, o kit da presente invenção é tal que: - o polímero formador de filme da composição C1 é escolhido no grupo que consiste de polímeros hidrocarbonetos alifáticos e cicloalifáticos, e - o solvente volátil S2 da composição C2 é um alcano com C5-C12, opcionalmente em uma mistura com um álcool com C2-C5.

[087] De acordo com essa alternativa, S2 é de preferência o heptano.

[088] De acordo com essa alternativa, a composição C1 compreende de preferência pelo menos um solvente volátil S1 que compreende pelo menos um alcano com C5-C12, opcionalmente em uma mistura com um álcool com C2-C5.

[089] De preferência, o solvente volátil S1 é o heptano.

[090] De acordo com essa alternativa, S1 é de preferência idêntico a S2.

[091] De acordo com um modo de realização, o kit da presente invenção compreende ainda: - uma composição C3 de esmalte de unha que compreende pelo menos um polímero formador de filme diferente do polímero formador de filme de composição C1, e de preferência pelo menos um pigmento, e opcionalmente - a composição de remoção de maquiagem C4 que compreende um solvente volátil escolhido no grupo que consiste em acetatos e cetonas de alquilas com C2-C4.

[092] A composição de remoção de maquiagem C4 é diferente de uma composição de remoção de maquiagem C2.

[093] De preferência, a composição C4 consiste predominantemente de acetona ou acetato de etila.

[094] De preferência, a composição C4 não é capaz de solubilizar o polímero formador de filme de composição C1.

[095] De preferência, a composição C4 é isenta de alcanos com e de álcoois C5-C12.

[096] A composição de remoção de maquiagem C4 compreende tipicamente pelo menos 80%, de preferência pelo menos 90%, preferencialmente pelo menos 95%, vantajosamente 99% em peso de solventes voláteis.

[097] O polímero formador de filme da composição C3 não pode ser removido como uma maquiagem pela composição C2 do kit da presente invenção.

[098] O polímero formador de filme da composição C3 é tipicamente escolhido entre os derivados de polissacarídeos, tais como os derivados de celulose e a goma de guar. Um derivado preferencial de polissacarídeos, apropriado para a presente invenção, pode ser a nitrocelulose ou um éster de polissacarídeo ou alquiléter.

[099] Por “éster ou alquiléter de polissacarídeo”, entende-se um polissacarídeo formado com unidades de repetição que incluem pelo menos dois ciclos idênticos ou diferentes e que possuem um grau de substituição por unidade sacarídea que compreende entre 1,9 e 3 e de preferência compreendida entre 2,2 e 2,9 e mais particularmente entre 2,4 e 2,8. A funcionalização dos grupos hidroxila em funções éster e/ou alquiléter e/ou a funcionalização de grupos carboxílicos em funções éster são designadas por substituição.

[0100] Em outras palavras, ele pode ser um polissacarídeo, parcial ou totalmente substituído por grupos éster e/ou alquiléter. De preferência, os grupos hidroxila podem ser substituídos por funções éster e/ou alquiléter com C2-C4.

[0101] Em particular, podem ser citados os ésteres de celulose, tais como os acetobutiratos de celulose ou os acetopropionatos de celulose; os alquiléteres de celulose tais como as etilceluloses e os etilguars.

[0102] De acordo com um modo de realização particular preferido, o polímero formador de filme da composição C3 é escolhido entre os polissacarídeos e derivados de polissacarídeo, de preferência de entre a nitrocelulose e os éteres e ésteres de polissacarídeos, em particular com C2-C4, e mais preferencialmente é escolhido entre os acetobutiratos de celulose, os acetopropionato de celulose, as etilceluloses, os etilguars e suas misturas.

[0103] De acordo com um modo de realização particularmente preferido, o polímero formador de filme é escolhido entre os derivados de celulose tais como a nitrocelulose, o acetobutirato de celulose, o acetopropionato de celulose e a etilcelulose.

[0104] De acordo com um modo de realização, a composição C3 compreende um teor total de polímero(s) formador(es) de filme superior ou igual a 5%, em particular compreendida entre 1 e 30% em peso, em especial entre 5 e 25% em peso, em particular entre 10 e 20% em peso, com base no peso total da referida composição C3.

[0105] A composição C3 compreende geralmente pelo menos um solvente, escolhido entre os solventes orgânicos e minerais fisiologicamente aceitáveis.

[0106] Os solventes orgânicos podem ser escolhidos, em particular, entre: - as cetonas líquidas à temperatura ambiente tais como metiletilcetona, metilisobutilcetona, diisobutilcetona, isoforona, ciclohexanona e acetona, e - os ésteres de cadeia curta (que incluem um total de 3 a 8 átomos de carbono) tais como acetato de etila, acetato de metila, acetato de propila, acetato de n-propila, acetato de isopropila, acetato de n butila, acetato de isobutila, acetato de terc-butila, e acetato de isopentila e suas misturas.

[0107] De preferência, o solvente da composição C3 é a acetona, o acetato de etila ou o acetato de butila.

[0108] O solvente da composição C3 é vantajosamente não capaz de solubilizar o polímero formador de filme de composição C1.

[0109] Em particular, a composição C3 é de preferência isenta de alcanos co, C5-C12 e de álcoois com C2-C5.

[0110] O teor total de solvente na composição C3 pode variar de 5% a 95%, de preferência de 30 a 80%, vantajosamente de 50% a 80%, ou mesmo de 60 a 80% em peso com base no peso total da referida composição.

[0111] A composição C1 é de preferência transparente.

[0112] Tal como usado aqui, o termo “transparente” significa que camada C1 possui um índice HAZEBYK menor do que 5 tal como medido com um brilhômetro do tipo KYKHAZEGLOSS.

[0113] A composição C3 de acordo com a presente invenção e opcionalmente a composição C1 de acordo com a presente invenção pode ainda compreender um agente colorante escolhido no grupo que consiste em agentes colorantes solúveis, pigmentos, madrepérolas e lantejoulas.

[0114] O ou os agentes colorantes estão presentes em um teor total de mais de 0,01% em peso com base no peso total da composição, variando de preferência de 0,1 a 5%, vantajosamente de 0,2 a 1% em peso com base no peso total da referida composição.

[0115] Por “agentes colorantes solúveis”, entende-se que compostos orgânicos, minerais ou organometálicos são solúveis na composição C3 e destinados a colorir a referida composição.

[0116] Os agentes colorantes são, por exemplo, Vermelho Sudão, DC Red 17, DC Green 6, β-caroteno, óleo de soja, Marrom Sudão, DC Yellow 11, DC Violet 2, DC Orange 5, e amarelo quinoleína.

[0117] Por “pigmentos”, entendem-se partículas de forma partículas de forma variada, brancas ou coloridas, minerais ou orgânicas, insolúveis na composição C3 e destinadas a colorir a referida composição.

[0118] Por “madrepérolas”, entendem-se partículas iridescentes de formas variadas, produzidas em particular por certos moluscos em sua concha ou então sintetizadas.

[0119] Os pigmentos podem ser brancos ou coloridos, minerais e/ou orgânicos. Podem ser citados, entre os pigmentos minerais, o dióxido de titânio, opcionalmente tratado na superfície, os óxidos de zircônio ou cério, as bem como os óxidos de zinco, os óxidos de ferro (preto, amarelo ou vermelho) ou cromo, o violeta de manganês, o azul ultramarino, o hidrato de cromo e o azul férrico, os pós metálicos tais como o pó de alumínio, o pó de cobre.

[0120] Entre os pigmentos orgânicos, podem ser citados o negro de fumo, os pigmentos do tipo D & C, e as lacas à base de carmim de cochonilha, o bário, o estrôncio, o cálcio, o alumínio.

[0121] Podem também ser citados pigmentos com um efeito tais como partículas que incluem um substrato natural ou sintético, orgânico ou mineral, por exemplo vidro, resinas acrílicas, poliéster, poliuretano, resinas de polietileno tereftalato, cerâmicas, aluminas e ser coberto ou não com substâncias metálicas tais como alumínio, ouro, cobre, bronze, ou óxidos metálicos tais como o dióxido de titânio, o óxido de ferro, o óxido de cromo, os pigmentos minerais ou orgânicos e suas misturas.

[0122] Os pigmentos de madrepérola podem ser escolhidos entre os pigmentos de madrepérola branco tais como a mica recoberta com titânio, ou o oxicloreto de bismuto, pigmentos de madrepérola colorida tais como a mica titânio recoberta com óxidos de ferro, a mica titânio recoberta com azul férrico e óxido de cromo, em particular, a mica titânio recoberta com um pigmento orgânico do tipo supracitado, bem como os pigmentos de madrepérola à base de oxicloreto de bismuto.

[0123] É também possível usar pigmentos com propriedades goniocromáticas, em particular com cristais líquidos ou pigmentos multicamada.

[0124] É também possível usar clareadores óticos ou fibras opcionalmente revestidas com clareadores óticos.

[0125] As composições C1 e C3 do kit de acordo com a presente invenção podem ainda compreender uma ou mais cargas, em particular em um teor que varia de 0,01% a 50% em peso, com base no peso total da composição, de preferência que varia de 0,01% a 30% em peso.

[0126] Por “cargas”, entendem-se partículas de forma variada, incolores ou brancas, minerais ou sintéticas, insolúveis no meio da composição independentemente da temperatura na qual a composição é feita. Essas cargas são usadas, em particular, para modificar as propriedades de fluxo ou a textura da composição.

[0127] As cargas podem ser minerais ou orgânicas de forma variada, em forma de plaquetas esféricas ou oblongas, independentemente da forma cristalográfica (por exemplo, folha, cúbica, hexagonal, ortorrômbica, etc.). Podem ser citados o talco, a mica, a sílica, o caulim, pós de poliamida (Nylon®) (Orgasol® da Atochem), a poli-p-alanina e os pós de polietileno, os pós de polímeros de tetrafluoroetileno (Teflon®), a lauroil-lisina, o amido, o nitreto de boro, as microesferas poliméricas ocas tais como as de cloreto de polivinilideno /acrilonitrila tais como o Expancel® (Nobel Industrie), os copolímeros de ácido acrílico (Polytrap® da Dow Corning) e as micropérolas de resina de silício (Tospearls® da Toshiba, por exemplo), as partículas de poliorganossiloxanos elastoméricas, o carbonato de cálcio precipitado, o carbonato e o hidrocarbonato de magnésio e, a hidroxiapatita, as microesferas de sílica oca (Silica Beads® da Maprecos), as microcápsulas de vidro ou cerâmica, os sabões metálicos derivados de ácidos carboxílicos orgânicos que possuem de 8 a 22 átomos de carbono, de preferência de 12 a 18 átomos de carbono, por exemplo o zinco, o estearato de magnésio ou lítio, o laurato de zinco, o miristato de magnésio.

[0128] As composições C1 e C3 podem ainda compreender adjuvantes ou aditivos, escolhidos, em particular, entre os plastificantes, os agentes de coalescência, os conservantes, as ceras, os espessantes, os perfumes, os filtros UV, os ativos cosméticos para o cuidado das unhas, os agentes de espalhamento, os agentes antiespumantes e os dispersantes.

[0129] A presente invenção trata ainda de um método de remoção da maquiagem para as unhas e/ou as unhas postiças que utiliza um kit de acordo com a presente invenção.

[0130] A presente invenção trata, portanto, de um método de remoção da maquiagem para as unhas e/ou unhas postiças que compreende a aplicação de uma composição de remoção de maquiagem C2 sobre uma unha ou uma unha postiça recoberta com um revestimento de base que consiste em pelo menos uma camada de composição C1, com a qual o referido revestimento de base é removido da unha ou da unha postiça, sendo que as referidas composições C1 e C2 são tais como definidas acima.

[0131] De acordo com um modo de realização, o método de remoção da maquiagem_da presente invenção compreende ainda uma etapa preliminar para a maquiagem da unhas e/ou das unhas postiças, que consiste em aplicar sobre a unha ou a unha postiça, a composição de maquiagem C1 tal como definida acima, com a qual o revestimento de base é depositado, que consiste em pelo menos uma camada de composição C1 sobre uma unha ou uma unha postiça.

[0132] O referido revestimento de base se destina a ser removido como uma maquiagem, algumas horas ou alguns dias depois, com a composição de remoção de maquiagem C2 do kit da presente invenção.

[0133] Entre a etapa de maquiagem com a qual um revestimento de base é depositado e a etapa de remoção da maquiagem com a qual o referido revestimento de base é removido, o usuário aplica tipicamente: - uma maquiagem e/ou um cuidado usando, por exemplo, a composição C3 ou qualquer outra composição de esmalte de unhas, e então algumas horas ou a alguns dias depois, - um removedor de maquiagem usando, por exemplo, a composição C4 para a remoção da maquiagem do kit da presente invenção ou qualquer outro removedor de maquiagem (desde que ele não remova a maquiagem do revestimento de base).

[0134] A sequência de ambas as etapas acima constitui um ciclo de maquiagem/remoção da maquiagem que pode ser repetido várias vezes.

[0135] O usuário pode, portanto, realizar um, dois, três, ou mesmo até dez ciclos de maquiagem/remoção da maquiagem.

[0136] O kit da presente invenção permite, assim, que o usuário remova a maquiagem e aplique novamente a maquiagem sobre uma unha fendida, ou mesmo troque a cor do esmalte à vontade, rapida e não agressivamente para a unha, o que não pode ser obtido com os métodos de maquiagem existentes.

[0137] Por exemplo, é possível contemplar a troca da cor do esmalte todos os dias da semana e realizar a remoção da maquiagem do revestimento de base com a composição C2 no fim da semana.

[0138] Além disso, o kit da presente invenção confere a possibilidade de realizar várias remoções da maquiagem da camada de esmalte sem secar a unha, uma vez que ela fica protegida do agente de remoção da maquiagem pelo revestimento de base.

[0139] De acordo com um modo de realização, cada etapa para a aplicação do método descrita acima é seguida por uma etapa de secagem, com a qual os solventes voláteis são evaporados.

[0140] As porcentagens em peso dadas neste pedido podem ser consideradas equivalentes à porcentagem de matéria seca dos compostos aplicados.

[0141] Por “compreende um” ou “inclui um” deve ser entendido como “compreende pelo menos um” ou “inclui pelo menos um”, salvo especificação contrária explícita.

Exemplos [0142] A presente invenção será agora ilustrada por meio dos exemplos a seguir.

Exemplo 1 [0143] Uma composição de revestimento de base de acordo com a presente invenção é preparada solubilizando 40% em peso de resina de poliamida (VERSAMID® 930 BASF) em 60% em peso de uma mistura 50/50 de etanol absoluto e de n-heptano.

Maquiagem [0144] Um revestimento de base é depositado sobre as unhas aplicando a composição assim preparada. Após secagem, uma camada de composição de esmalte de unhas colorido convencional à base de nitrocelulose é depositada sobre o revestimento de base.

Remoção da maquiagem [0145] Após a secagem, a camada de composição de esmalte colorida como uma maquiagem é removida com acetona, sem alterar o revestimento de base. Em seguida, o referido revestimento de base é por sua vez removido com uma mistura etanol/heptano 50/50.

Exemplo 2 [0146] Uma composição de revestimento de base de acordo com a presente invenção é preparada solubilizando 40% em peso de resina hidrocarbonetotaquificante (Eastotac™ Resin H-142W - Eastman Chemical Company) em 60% em peso de n-heptano.

Maquiagem [0147] Uma camada de base é depositada sobre as unhas aplicando a composição assim preparada. Apos secagem, uma camada de composição de esmalte colorido convencional à base de nitrocelulose é depositada sobre o revestimento de base.

Remoção da maquiagem [0148] Após a secagem, a camada de composição de esmalte colorido é removida como uma maquiagem com acetona, sem alterar o revestimento de base. Em seguida, o referido revestimento de base é por sua vez removido com heptano.

Reivindicações

Claims (15)

1. KIT PARA MAQUIAGEM e/ou cuidado das unhas e/ou unhas postiças, caracterizado por compreender: - uma composição C1 para maquiagem e/ou cuidado das unhas e/ou unhas postiças que compreende pelo menos um polímero formador de filme, referido polímero sendo insolúvel em acetona, acetato de metila e acetato de etila, em que o polímero formado de filme da composição C1 é selecionado a partir do grupo que consiste em poliamidas, poliuréias, poliuretanos, resinas de silicone e polímeros de hidrocarboneto alifático e cicloalifático, e - uma composição de remoção de maquiagem C2 que compreende pelo menos um solvente volátil S2 selecionado do grupo que consiste em álcoois com C2-C5, alcanos com C5-C12, e suas misturas, e referido solvente S2 sendo capaz de solubilizar o polímero formador de filme da composição C1.

2. KIT, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pela composição C1 compreender ainda um solvente volátil S1 selecionado do grupo que consiste em álcoois com C2-C5, alcanos com C5-C12, e suas misturas, referido solvente S1 sendo capaz de solubilizar o polímero formador de filme da composição C1.

3. KIT, de acordo com a reivindicação 2, caracterizado pelos solventes S1 e S2 serem idênticos.

4. KIT, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo polímero formador de filme da composição C1 ser uma poliamida de fórmula (l): na qual: - Ri e R2 representam grupos hidrocarbonetos com C1-C50, ou unidades poliamida, - R3 e R4 representam radicais hidrocarbonetos bivalentes com C1-C20, e - R5 representa um radical hidrocarboneto bivalente com C1-C100.

5. KIT, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo polímero formador de filme da composição C1 ser uma poliureia de fórmula (II): na qual: - R6 e R8 representam radicais hidrocarbonetos bivalentes com C1-C50, ou unidades polissiloxano com Si1-Si100, - R7 representa um radical hidrocarboneto bivalente alifático, cicloalifático, ou aromático com C1-C30, e - m está compreendido entre 1 e 1.000.

6. KIT, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo polímero formador de filme da composição C1 ser um poliuretano de fórmula (III): na qual: - R9 e R11 representam radicais hidrocarbonetos bivalentes com C1-C50, ou unidades polissiloxano com Si1-Si100, - R10 representa um radical hidrocarboneto bivalente alifático, cicloalifático, ou aromático com C1-C30 e - n está compreendido entre 1 e 1.000.

7. KIT, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo polímero formador de filme da composição C1 ser uma resina de silicone que compreende pelo menos uma unidade de fórmula (IV): na qual: - R12 representa um grupo alquila com C1-C6, e - p está compreendido entre 1 e 2.000 referido polímero é tal que pelo menos 50% dos átomos de silício do referido polímero estão presentes nas unidades de fórmula (IV), idênticas ou diferentes.

8. KIT, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo polímero formador de filme da composição C1 ser um polímero hidrocarboneto alifático ou cicloalifático selecionado das resinas taquificantes hidrocarbonetos alifáticas ou cicloalifáticas.

9. KIT, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 4, caracterizado pelo: - polímero formador de filme da composição C1 ser uma poliamida, e - solvente volátil S2 da composição C2 ser um álcool com C2-C5, opcionalmente em uma mistura com um alcano com C5-C12.

10 . KIT, de acordo com a reivindicação 9, caracterizado pela composição C1 compreender pelo menos um solvente volátil S1 que compreende pelo menos um álcool com C2-C5, opcionalmente em uma mistura com um alcano com C5-C12.

11 . KIT, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3 ou 8, caracterizado pelo: - polímero formador de filme da composição C1 ser selecionado do grupo que consiste em polímeros hidrocarbonetos alifáticos e cicloalifáticos, e - solvente volátil S2 da composição C2 ser um alcano com C5-C12, opcionalmente em uma mistura com um álcool C2-C5.

12 . KIT, de acordo com a reivindicação 11, caracterizado pela composição C1 compreender pelo menos um solvente volátil S1 que compreende pelo menos um alcano com C5-C12, opcionalmente em uma mistura com um álcool com C2-C5.

13 . KIT, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 12, caracterizado por compreender ainda: - uma composição C3 de esmalte de unha que compreende pelo menos um polímero formador de filme, diferente do polímero formador de filme de composição C1, e de preferência pelo menos um pigmento, e, opcionalmente - a composição de remoção de maquiagem C4 que compreende um solvente volátil selecionado do grupo que consiste em acetatos e cetonas de alquila com C2-C4.

14 . MÉTODO PARA REMOÇÃO DE MAQUIAGEM das unhas e/ou das unhas postiças, caracterizado por compreender a aplicação de uma composição de remoção de maquiagem C2 sobre uma unha ou uma unha postiça coberta com um revestimento de base que consiste em pelo menos uma camada de composição C1, pela qual o referido revestimento de base é removido da unha ou da unha postiça, sendo que as referidas composições C1 e C2 são conforme definidas em qualquer uma das reivindicações 1 a 12.

15 . MÉTODO, de acordo com a reivindicação 14, caracterizado por compreender uma etapa preliminar para aplicar sobre uma unha ou uma unha postiça, uma composição de maquiagem C1, conforme definida em qualquer uma das reivindicações 1 a 12, com a qual um revestimento de base é depositado, que consiste em pelo menos uma camada de composição C1 sobre uma unha ou uma unha postiça.