ATE2979T1 - Verfahren zur herstellung hochwaermebestaendiger reliefstrukturen, danach hergestellte reliefstrukturen und deren verwendung. - Google Patents

Verfahren zur herstellung hochwaermebestaendiger reliefstrukturen, danach hergestellte reliefstrukturen und deren verwendung.

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ATE2979T1
ATE2979T1 AT80104644T AT80104644T ATE2979T1 AT E2979 T1 ATE2979 T1 AT E2979T1 AT 80104644 T AT80104644 T AT 80104644T AT 80104644 T AT80104644 T AT 80104644T AT E2979 T1 ATE2979 T1 AT E2979T1
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AT
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relief structures
highly heat
foil
layer
resistant
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AT80104644T
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German (de)
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Hellmut Dr. Ahne
Eberhard Kuehn
Roland Dr. Rubner
Erwin Schmidt
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Siemens Aktiengesellschaft
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0387—Polyamides or polyimides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L79/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
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