ATE139805T1 - Vorrichtung und verfahren zur beschichtung von materialien durch einen pulsierenden plasmastrahl - Google Patents

Vorrichtung und verfahren zur beschichtung von materialien durch einen pulsierenden plasmastrahl

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ATE139805T1
ATE139805T1 AT89901560T AT89901560T ATE139805T1 AT E139805 T1 ATE139805 T1 AT E139805T1 AT 89901560 T AT89901560 T AT 89901560T AT 89901560 T AT89901560 T AT 89901560T AT E139805 T1 ATE139805 T1 AT E139805T1
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plasma beam
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pulsating
coating materials
plasma jet
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AT89901560T
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Asko Anttila
Juha-Pekka Hirvonen
Jari Koskinen
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Sitra Foundation
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32055Arc discharge
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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