FI89725C - Foerfarande och anordning foer anvaendning vid en ytbelaeggningsanordning - Google Patents
Foerfarande och anordning foer anvaendning vid en ytbelaeggningsanordning Download PDFInfo
- Publication number
- FI89725C FI89725C FI920122A FI920122A FI89725C FI 89725 C FI89725 C FI 89725C FI 920122 A FI920122 A FI 920122A FI 920122 A FI920122 A FI 920122A FI 89725 C FI89725 C FI 89725C
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- electrode
- arc
- coating
- cathode
- released
- Prior art date
Links
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 title 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 27
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 26
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 7
- 238000010304 firing Methods 0.000 abstract 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 abstract 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 15
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 7
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 2
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32055—Arc discharge
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0605—Carbon
- C23C14/0611—Diamond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
- C23C14/325—Electric arc evaporation
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/48—Generating plasma using an arc
- H05H1/50—Generating plasma using an arc and using applied magnetic fields, e.g. for focusing or rotating the arc
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Tone Control, Compression And Expansion, Limiting Amplitude (AREA)
- Saccharide Compounds (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Description
69 725
MENETELMÄ JA LAITTEISTO KÄYTETTÄVÄKSI PINNOITUSLAITTEISTOSSA FÖRFARANDE OCH ANORDNING FÖR ANVÄNDNING VID EN YTBELÄGG-NINGSANORDNING
5 Tämän keksinnön kohteena on patenttivaatimuksen 1 johdannon mukainen menetelmä ja laitteisto käytettäväksi timanttipin-noitukseen käytettävässä pinnoituslaitteistossa.
Timantti- ja timantinkaltaisilla kalvoilla on ominaisuuksia, 10 jotka muistuttavat vastaavien perinteisten timanttien ominaisuuksia. Ensimmäinen ominaisuus on kovuus. Toinen merkittävä mekaaninen ominaisuus on pieni kitkakerroin. Myös kulumiskestävyys on erinomainen. Lisäksi tällainen pinnoite pysyy muuttumattomana kaikissa tunnetuissa emäksissä ja 15 hapoissa. Timantinkaltaiset pinnoitteet ja kalvot soveltuvat siten erityisesti kulumiselle ja korroosiolle alttiiden kappaleiden, esimerkiksi voitelemattomien laakereiden, pinnoitukseen. Vielä voidaan mainita timantin suuri valon taitekerroin.
20 WO-julkaisussa 89/06708 on esitetty timanttipinnoituksessa käytettävä pinnoituslaitteisto. Mainitun julkaisun mukaisella laitteistolla muodostetaan hiilestä plasmakiihdyttimellä materiaalin pinnoittamiseksi plasmapilvi, jota kiihdytetään 25 ja taivutetaan kohti pinnoitettavaa kappaletta. Plasmakiih-dyttimessä on sylinterinmuotoinen grafiittikatodi. Sytytti-menä toimiva johtava sauva on sijoitettu katodin sisään.
Pinnoituksen aikana katodista irtoaa hiiltä varautuneina 30 ioneina sekä varauksettomina atomeina. Pinnoituksen aikana katodin se pinta, josta hiiltä irtoaa, kuluu. Kuluminen voi tapahtua esimerkiksi siten, että ko. pintaan syntyy mikroskooppisen pieniä koloja, jolloin syntyy sienimäisiä rakenteita. Valokaaren syttyminen tapahtuu aluksi normaalisti 35 katodin pinnalla, mutta kulumisen seurauksena valokaari alkaa syttyä yhä enenevässä määrin kolojen pohjalla. Vähi- 8 9 725 2 telien käy niin, että kolot umpeutuvat, eikä katodi enää pysty lähettämään plasmapulssia.
Tästä syystä katodin pinta on tasoitettava. Yleensä tämä 5 suoritetaan siten, että koko katodi irrotetaan, ja tasoitus suoritetaan esimerkiksi sorvaamalla katodiin uusi pinta. Tämä on monimutkaista. Lisäksi pinnoituslaitteistoa on mahdotonta käyttää yhtäjaksoisesti pitkiä aikoja. Tyypillisesti katodi on sorvattava muutaman käyttötunnin välein.
10 Tämän keksinnön tarkoituksena on parantaa tunnetun tekniikan mukaisia timanttipinnoituslaitteistoja. Keksinnön mukaiselle menetelmälle käytettäväksi pinnoituslaitteistossa on tunnusomaista se, että katodin plasmapintaa hiotaan jatkuvasti 15 siihen kosketuksissa olevalla hiontaterällä tai vastaavalla sen mukaisesti, mitä oheisissa patenttivaatimuksissa on esitetty.
Keksinnön mukaisella menetelmällä voidaan ratkaisevasti 20 parantaa timanttipinnoituslaitteiston käytettävyyttä. Keksinnön mukainen menetelmä mahdollistaa pinnoituslaitteiston jatkuvan käytön, koska katodia ei tarvitse irrottaa hiomista tai sorvaamista varten.
25 Seuraavassa keksintöä selostetaan yksityiskohtaisesti esimerkin avulla viittaamalla oheiseen piirustukseen, jossa kuvio 1 esittää WO-julkaisun 89/060708 mukaista timanttipin-noituslaitteistoa ja kuvio 2 keksinnön mukaista parannusta.
30 Plasmakiihdyttimellä muodostetaan materiaalin pinnoittamiseksi hiilestä plasmapilvi, ja tätä pilveä kiihdytetään kohti pinnoitettavaa kappaletta ja taivutetaan magneettikentällä, jonka jälkeen plasmasuihku iskeytyy käsiteltävän kappaleen pintaan. Sekä plasmakiihdytin että pinnoitettava 35 kappale sijaitsevat tyhjössä.
3 3 9 72 5
Plasmakiihdyttimessä on kiinteää hiiltä oleva sylinterinmuotoinen katodi 1, joka on yhdistetty ensimmäisen jännitelähteen 2 —napaan sekä ensimmäisen kondensaattorin Cl ensimmäiseen napaan. Kiekkomainen anodi 3, jonka keskellä on 5 reikä, on kytketty kuparijohtimesta valmistettuun sylinteri-mäiseen kelaan 4. Kela on taivutettu ja kytketty toisesta päästä ensimmäisen jännitelähteen 2 +-napaan ja ensimmäisen kondensaattorin Cl toiseen napaan. Kondensaattorin Cl napoihin on kytketty myös diodi D sekä säätövastus R. Katodi 1 on 10 osittain ja anodi 3 kokonaan kelan 4 sisällä.
Katodin 1 sisällä on johtava metallisauva 5. Katodi 1 ja sauva 5 muodostavat yhdessä toisen jännitelähteen 6 ja toisen kondensaattorin C2 kanssa sytytinpiirin. Toinen 15 jännitelähde 6 on säädettävä. Katodi 1 on kytketty toisen jännitelähteen 6 +-napaan ja toisen kondensaattorin C2 ensimmäiseen napaan. Metallisauva 5 taas on kytketty toisen jännitelähteen 6 —napaan ja toisen kondensaattorin C2 toiseen napaan.
20
Pinnoitettava levyn 7 pinnoitus plasmakiihdyttimellä tapahtuu seuraavasti. Ensimmäisellä jännitelähteellä 2 varataan sen rinnalle kytkettyä ensimmäistä kondensaattoria Cl. Toisella jännitelähteellä 6 varataan sen rinnalle kytkettyä 25 toista kondensaattoria C2, kunnes katodin 1 ja sauvan 5 muodostamassa ilmavälissä tapahtuu ylilyönti, jolloin mainittuun ilmaväliin syntyy valokaari. Tämä valokaari purkaa toisen kondensaattorin C2 varauksen ja sytyttää vastaavasti katodin 1 ja anodin 3 välille valokaaren. Tällöin katodista :.3θ 1 alkaa irrota hiiltä varautuneina ioneina sekä varauksetto mina atomeina. Katodin 1 ja anodin 3 välisen valokaaren seurauksena purkautuu ensimmäisen kondensaattorin Cl varaus ja valokaari sammuu kondensaattorin jännitteen pienentyessä pienemmäksi kuin valokaaren palamiseen tarvittava jännite. 35 Näin hiiliatomeista ja -ioneista syntyy pulssimuotoinen 4 -9 725 plasmasuihku. Pulssin pituus määräytyy ensimmäisen kondensaattorin Cl kapasitanssin perusteella.
Ensimmäisen kondensaattorin Cl rinnalle on kytketty diodi D, 5 jonka tehtävänä on poistaa ensimmäisen kondensaattorin Cl ja käämin 4 muodostaman värähtelypiirin aiheuttama vastakkaismerkkinen jännite ensimmäisen kondensaattorin Cl navoissa, ja säätövastus R, joka suojaa diodia D.
10 Plasmasuihkua kiihdytetään käämin 4 synnyttämässä magneettikentässä. Koska käämi 4 on taivutettu, kääntyvät anodissa 3 olevan reiän 8 läpi kulkeutuvat varautuneet ionit magneettikentän mukana. Sensijaan varautumattomat hiukkaset kulkevat suoraan kohtaamatta levyä 7 ja erottuvat näin varautuneista 15 ioneista. Pinnoitettava levy 7 sijaitsee käämin 4 ensimmäiseen jännitelähteeseen 2 ja ensimmäiseen kondensaattorin Cl kytketyn pään lähellä. Koska käämin 4 synnyttämä magneettikenttä kääntää varautuneita ioneja, mutta ei varautumattoroia hiukkasia, pinnoitettavaan levyyn iskeytyy ainoastaan mag-20 neettikentän kiihdyttämiä ioneja.
Kuviossa 2 on esitetty keksinnön mukainen parannus timantti-pinnoituslaitteistoon. Siinä on yhtenäinen tankomainen grafiittikatodi 1'. Sytytinelektrodi 5'on sijoitettu katodin 25 päätypinnan (irtoamispinta) 10', josta pinnoituksessa käytettävä hiili irtoaa, lähelle. Sytytinelektrodi on lähes katodin säteen levyinen suorakaide, jonka alapinta on kiinni katodissa. Plasmapintaan on myös sijoitettu raaputusterä 11', jossa on terävä raaputuspinta, joka on leveydeltään 30 hieman katodin sädettä suurempi, ja joka on kosketuksissa katodin päätypintaan (irtoamispinta).
Pinnoituksen aikana katodia 1' pyöritetään pituusakselinsa 12' ympäri pyörityskoneiston (ei esitetty) avulla. Tällöin J5 raaputusterä koko ajan hioo katodin päätypintaa (irtoamis-pintaa) 10', jolloin pinta koko ajan säilyy tasaisena. Myös 5 ‘97: 5 sytytinelektrodi hioo katodin pintaa. Pyörityskoneiston yhteyteen voidaan järjestää esimerkiksi hydraulilaitteisto, ‘ joka työntää katodia sen plasmapinnan kulumisen verran eteenpäin esimerkiksi raaputinterään 11' asti, joka tällöin 5 samalla toimii liikkeenrajoittimena.
Alan ammattimiehelle on selvää, että keksinnön eri sovellu-tusmuodot eivät rajoitu yksinomaan edellä esitettyyn esimerkkiin, vaan ne voivat vaihdella jäljempänä esitettävien 10 patenttivaatimusten puitteissa.
Claims (8)
1. Menetelmä käytettäväksi timanttipinnoituksessa käytettä-5 vässä pinnoituslaitteistossa, jossa pinnoituksessa sytytetään ensimmäinen valokaari ensimmäisen elektrodin (1') ja sen yhteyteen järjestetyn sytyttimen (5') välillä, sytytetään toinen valokaari ensimmäisen valokaaren avulla ensimmäisen elektrodin (l') ja toisen elektrodin (3) välille ja 10 ohjaamalla ensimmäisestä elektrodista (1') irtoavasta materiaalista muodostuva plasmasuihku kohti pinnoitettavaa materiaalia (7) , tunnettu siitä, että ensimmäisen elektrodin sitä pintaa (10'), josta materiaalia irtoaa, hiotaan pinnoituksen aikana saattamalla irtoamispinta ja ainakin yksi 15 siihen kosketuksissa oleva hiomiselin (11', 5') liikkeeseen toistensa suhteen.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että liike on kiertoliike. 20
3. Patenttivaatimuksen 1 mukaisen menetelmän soveltamiseen tarkoitettu laitteisto käytettäväksi timanttipinnoituksessa käytettävässä pinnoituslaitteistossa, jossa pinnoituslaitteistossa on elektrodit (1',3) ja sytytin (5'), jonka ensim- 25 mäisen elektrodin (1') ja sen yhteyteen järjestetyn sytyttimen (5') välillä sytytetään ensimmäinen valokaari, jonka ensimmäisen valokaaren avulla ensimmäisen elektrodin (1') ja toisen elektrodin (3) välille sytytetään toinen valokaari, ja jossa laitteistossa ohjataan ensimmäisestä elektrodista 30 (1') irtoavasta materiaalista muodostuva plasmasuihku kohti pinnoitettavaa materiaalia (7), tunnettu siitä, että laitteistossa on ainakin yksi hiomiselin (11',5'), jolla ensimmäisen elektrodin sitä pintaa (10'), josta materiaalia irtoaa, hiotaan pinnoituksen aikana saattamalla irtoamis-35 pinta ja siihen kosketuksissa oleva hiomiselin (11',5') liikkeeseen toistensa suhteen. :: 70c • / c
4. Patenttivaatimuksen 3 mukainen laitteisto, tunnettu siitä, että ensimmäiseen elektrodiin (1') on yhdistetty • pyörityskoneisto, jonka avulla se saatetaan kiertoliikkee seen, ja että hiomiselin on asennettu kiinteästi. 5
5. Patenttivaatimuksen 3 mukainen laitteisto, tunnettu siitä, että hiomiselin on raaputusterä (11') tai vastaava.
6. Patenttivaatimuksen 3 mukainen laitteisto, tunnettu 10 siitä, että hiomiselin on sytytin (5').
7. Patenttivaatimuksen 3 mukainen laitteisto, tunnettu siitä, että laitteistossa on elimet ensimmäisen elektrodin kulumisen kompensoimiseksi, jotka elimet liikuttavat ensim- 15 mäistä elektrodia kulmista vastaavasti siten, että irtoamis-pinta pysyy olennaisesti samassa paikassa.
8 25
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FI920122A FI89725C (fi) | 1992-01-10 | 1992-01-10 | Foerfarande och anordning foer anvaendning vid en ytbelaeggningsanordning |
| PCT/FI1992/000366 WO1993014239A1 (en) | 1992-01-10 | 1992-12-30 | Procedure and apparatus for improving a plasma accelerator plating apparatus used for diamond plating |
| AT93900217T ATE135750T1 (de) | 1992-01-10 | 1992-12-30 | Verfahren und vorrichtung zur verbesserung eines beschichtungsapparates mit plasmabeschleuniger für diamantbeschichtung |
| US08/256,256 US5518596A (en) | 1992-01-10 | 1992-12-30 | Procedure and apparatus for improving a plasma accelerator plating apparatus used for diamond plating |
| DE69209320T DE69209320T2 (de) | 1992-01-10 | 1992-12-30 | Verfahren und vorrichtung zur verbesserung eines beschichtungsapparates mit plasmabeschleuniger für diamantbeschichtung |
| JP5512168A JPH07506624A (ja) | 1992-01-10 | 1992-12-30 | ダイヤモンドメッキをするために用いるプラズマ加速器型メッキ装置を改良する方法及び装置 |
| AU31614/93A AU3161493A (en) | 1992-01-10 | 1992-12-30 | Procedure and apparatus for improving a plasma accelerator plating apparatus used for diamond plating |
| EP93900217A EP0620867B1 (en) | 1992-01-10 | 1992-12-30 | Procedure and apparatus for improving a plasma accelerator plating apparatus used for diamond plating |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FI920122A FI89725C (fi) | 1992-01-10 | 1992-01-10 | Foerfarande och anordning foer anvaendning vid en ytbelaeggningsanordning |
| FI920122 | 1992-01-10 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FI920122A0 FI920122A0 (fi) | 1992-01-10 |
| FI89725B FI89725B (fi) | 1993-07-30 |
| FI89725C true FI89725C (fi) | 1993-11-10 |
Family
ID=8533928
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FI920122A FI89725C (fi) | 1992-01-10 | 1992-01-10 | Foerfarande och anordning foer anvaendning vid en ytbelaeggningsanordning |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5518596A (fi) |
| EP (1) | EP0620867B1 (fi) |
| JP (1) | JPH07506624A (fi) |
| AT (1) | ATE135750T1 (fi) |
| AU (1) | AU3161493A (fi) |
| DE (1) | DE69209320T2 (fi) |
| FI (1) | FI89725C (fi) |
| WO (1) | WO1993014239A1 (fi) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AUPM365594A0 (en) * | 1994-02-02 | 1994-02-24 | Australian National University, The | Method and apparatus for coating a substrate |
| US5711773A (en) * | 1994-11-17 | 1998-01-27 | Plasmoteg Engineering Center | Abrasive material for precision surface treatment and a method for the manufacturing thereof |
| RU2153782C1 (ru) * | 1999-06-02 | 2000-07-27 | Закрытое акционерное общество "Патинор Коутингс Лимитед" | Импульсный источник углеродной плазмы |
| WO2002062113A1 (fr) * | 2001-02-01 | 2002-08-08 | Zakrytoe Aktsionernoe Obschestvo 'patinor Coatings Limited' | Source d'impulsions du plasma de carbone |
| GB0404436D0 (en) * | 2004-02-27 | 2004-03-31 | Nanofilm Technologies Int | Continuous arc deposition apparatus and method with multiple available targets |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL8700620A (nl) * | 1987-03-16 | 1988-10-17 | Hauzer Holding | Kathode boogverdampingsinrichting alsmede werkwijze voor het bedrijven daarvan. |
| FI79351C (fi) * | 1988-01-18 | 1989-12-11 | Asko Anttila | Foerfarande och anordning foer ytbelaeggning av material. |
-
1992
- 1992-01-10 FI FI920122A patent/FI89725C/fi active IP Right Grant
- 1992-12-30 EP EP93900217A patent/EP0620867B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-12-30 WO PCT/FI1992/000366 patent/WO1993014239A1/en active IP Right Grant
- 1992-12-30 DE DE69209320T patent/DE69209320T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-12-30 US US08/256,256 patent/US5518596A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-12-30 AU AU31614/93A patent/AU3161493A/en not_active Abandoned
- 1992-12-30 AT AT93900217T patent/ATE135750T1/de not_active IP Right Cessation
- 1992-12-30 JP JP5512168A patent/JPH07506624A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0620867A1 (en) | 1994-10-26 |
| WO1993014239A1 (en) | 1993-07-22 |
| FI920122A0 (fi) | 1992-01-10 |
| DE69209320D1 (de) | 1996-04-25 |
| AU3161493A (en) | 1993-08-03 |
| EP0620867B1 (en) | 1996-03-20 |
| FI89725B (fi) | 1993-07-30 |
| ATE135750T1 (de) | 1996-04-15 |
| US5518596A (en) | 1996-05-21 |
| DE69209320T2 (de) | 1996-09-05 |
| JPH07506624A (ja) | 1995-07-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA1082911A (en) | Electrostatic spray coating apparatus | |
| US4512867A (en) | Method and apparatus for controlling plasma generation in vapor deposition | |
| FI79351C (fi) | Foerfarande och anordning foer ytbelaeggning av material. | |
| US5837958A (en) | Methods and apparatus for treating the surface of a workpiece by plasma discharge | |
| US4266721A (en) | Spray application of coating compositions utilizing induction and corona charging means | |
| US4171100A (en) | Electrostatic paint spraying apparatus | |
| CA1170315A (en) | Vacuum-arc plasma apparatus for producing coatings | |
| EP0054730A1 (en) | Electrodynamic painting system and method | |
| FI89725C (fi) | Foerfarande och anordning foer anvaendning vid en ytbelaeggningsanordning | |
| NL8201806A (nl) | Verbruikbare kathode voor een electrische-boog-metaalverstuiver. | |
| JPH0261547B2 (fi) | ||
| US4322601A (en) | Surface alloying method and apparatus using high energy beam | |
| ATE118375T1 (de) | Spritzpistole für elektrostatisches pulver mit einstellbarem deflektor und elektrostatischem schirm. | |
| EP0044676B1 (en) | Low capacitance airless spray apparatus | |
| CA2159140A1 (en) | High speed electrical discharge surface preparation of internal surfaces for thermal coatings | |
| EP0179593B1 (en) | Airless spray gun having tip discharge resistance | |
| US3763343A (en) | Metal treating tool | |
| US2815435A (en) | Spark machining apparatus | |
| US2449917A (en) | Surface treatment of metal | |
| US3639150A (en) | Electric explosion metal spraying for substrate | |
| RU2186151C2 (ru) | Устройство для нанесения покрытий в вакууме | |
| KR100486466B1 (ko) | 고 전압원을 갖는 회전식 스프레이 | |
| DE4011515C1 (en) | Coating substrate with metal (alloy) - by magnetic sputtering, with substrate mounted on surface held at negative voltage | |
| JPH08108106A (ja) | 静電塗装方法及び静電塗装機 | |
| DE4427259A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung oder Vorwärmung von Bauteiloberflächen |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FG | Patent granted |
Owner name: SUOMEN ITSENÄISYYDEN JUHLARAHASTO SITRA |
|
| BB | Publication of examined application | ||
| PC | Transfer of assignment of patent |
Owner name: SUOMEN ITSENÄISYYDEN JUHLARAHASTO SITRA |