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Einrichtung zur Aufladung elektrophotographischer Schichten
Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zur Aufladung elektrophotographischer Schichten mit einer Corona-Sprühelektrode, die sich während der Ladeperiode in einer Relativbewegung zu der aufzuladenden Schicht befindet und die aus einzelnen, an Hochspannung anlegbarcn Nadel-Elektroden besteht, deren Verbindungslinien mit der Richtung der besagten Relativbewegung einen von 90 abweichenden Winkel einschliessen.
Es ist bereits eine Vielzahl von Einrichtungen zur Aufladung elektrophotographischer Schichten bekannt, bei denen entweder die stillstehende Schicht über ihre gesamte Fläche hin gleichzeitig durch eine ausgedehnte und ebenfalls stillstehende Corona-Sprühelektrode oder bei Relativbewegung zwischen Schicht und Elektrode die erstere zonenweise aufgeladen wird. Bei den Einrichtungen ohne Relativbewegung zwischen Schicht und ladeelektrode sind zur Vermeidung eines Ladungsmusters mehrere Teilelektroden vorhanden, die zeitlich nacheinander an Hochspannung gelegt werden. Bei den Ladeein- richtungen mit Relativbewegung sind dünne parallele Drähte in geringem Abstand zur Schicht senkrecht zu deren Bewegungsrichtung gespannt.
Es ist auch bekannt, diese Drähte durch Spitzenelektroden zu ersetzen, die auf umlaufenden Bändern oder Walzen in verschiedenen Formen angeordnet sind und über die aufzuladende Schicht bewegt werden, um Ladungsmuster zu vermeiden und eine gleichmässige Aufladung der Schicht zu erreichen.
Die Nachteile dieser bekannten ladeeinrichtungen bestehen darin, dass bei denen ohne Relativbewegung besondere schaltungstechnische Massnahmen zur Hochspannungsumschaltung auf die einzelnen Teilelektroden notwendig sind und die Methode nur dann erfolgreich ist, wenn bis zur Sättigung aufgeladen wird. Die Ladeeinrichtungen mit Relativbewegung zwischen Schicht und Ladeelektrode besitzen den Nachteil hoher Herstellungskosten, die noch dadurch erhöht werden, dass der gelinge Abstand der verhältnismässig langen, möglichst dünnen Drähte zu der aufzuladenden Schicht im Interesse einer gleichmässigen Aufladung genau eingehalten werden muss. Eine weitere Verteuerung erfährt die Einrichtung noch durch eventuell notwendige Aufrauhungen der genannten Drähte. Ein weiterer Nachteil ergibt sich daraus, dass infolge des geringen Elektrodenabstandes erhöhte Durchschlagsgefahr besteht.
Auch die bekannten Anordnungen von Spitzenelektroden auf bewegten Bändern oder rotierenden Walzen sind sehr aufwenidg. Gleiches trifft für eine Einrichtung zu, bei welcher die ladeelektrode als Nadelkissen-Elektrode ausgebildet ist, deren Nadeln entlang von mehreren Geraden angeordnet sind, die mit der Richtung der Relativbewegung der Elektrode bezüglich der photoleitenden Schicht einen spitzen Winkel einschliessen.
Aufgabe der Erfindung ist es deshalb, unter Anwendung des Spitzenelektroden-Prinzips eine Einrichtung zur Aufladung elektrophotographischer Schichten zu schaffen, die bei wesentlich verringertem Aufwand gegenüber den bekannten Einrichtungen eine mindestens ebenbürtige Aufladung der elektro-
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photographischen Schicht hinsichtlich Gleichmässigkeit gewährleistet.
Erfindungsgemäss wird die Aufgabe bei einer Einrichtung mit Relativbewegung zwischen einer Coronaentladungs-Nadelelektrode und aufzuladender Schicht dadurch gelöst, dass die Nadeln in einer einzigen, sich über die gesamte Breite der aufzuladenden Schicht erstreckenden Linie angeordnet sind, die mit der Richtung der Relativbewegung einen Winkel von annähernd 750 bildet, und dass sich die Nadeln in einem Abstand von der aufzuladenden Schicht befinden, welcher die Bewegung einer Entwicklungseinrichtung zwischen Sprühelektrode und Schicht zulässt.
Durch die Anwendung des Spitzenelektrodenprinzips ist es möglich, die Sprühelektrode in relativ grosser Entfernung von der aufzuladenden Schicht anzuordnen, so dass an die Führungsgenauigkeit der Schicht bzw. der Elektrode nur geringe Anforderungen gestellt werden müssen.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird an Hand der Zeichnungen nachstehend erläutert. Es zeigen : Fig. 1 Ausbildung und Anordnung der Sprühelektrode über der aufzuladenden Schicht, Fig. 2 An-
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anordnung in Richtung B der Fig. 1 (Seitenansicht).
Auf einem durch nicht dargestellte Mittel in Pfeilrichtung bewegbaren Träger-l-ist eine aufzuladende elektrophotographische Schicht --2-- gelagert. Über die Breitseite dieser Schicht erstreckt sich eine Sprühelektrode-3-, deren Spitzen --4-- untereinander elektrisch verbunden und an ein Hochspannungsgerät --5-- angeschlossen sind. Die Linie, in der die Spitzen --4-- angeordnet sind, im vorliegenden Fall gleich der Verbindungsleitung --6-- der Spitzen --4--, bildet mit der Vorschubrichtung der Schicht --2-- einen von 900 abweichenden Winkel cc. In dem Ausführungsbeispiel ist Cl < 900. vorzugsweise beträgt Cl 1'$ 750 (s. insbes. Fig. 2).
An Stelle einer derartigen linienhaften Anordnung der Spitzen können auch davon abweichende Spitzenanordnungen getroffen werden. Wichtig ist dabei nur, dass sich deren Verbindungslinien zueinander nicht senkrecht zu der Vorschubrichtung der Schicht --2-erstrecken. Die Sprühelektrode --3-- ist auf einer Platte --7-- befestigt und befindet sich in einem Abstand von der Schicht --2--, der eine grössere Bewegungsfreiheit für die Anwendung anderer im elektrophotographischen Prozess erforderlichen Aggregate und Manipulationen schafft. So ist es beispielsweise möglich, zwischen Sprühelektrode und Schicht eine Entwicklungseinrichtung zu bewegen.
Zum Zwecke der Aufladung wird der Träger-l-mit der Schicht --2-- in an sich bekannter Weise in Pfeilrichtung unter der Sprühelektrode--3-hindurchgeführt. Während bei den bekannten Einrichtungen mit sehr geringem Elektrodenabstand von der Schicht--2-- jede Abweichung von diesem Abstand zu relativ grossen Ungleichmässigkeiten der Aufladung der Schicht führte, beeinflussen diesbezügliche Abweichungen bei der erfindungsgemässen Ladeeinrichtung infolge des grossen Elektrodenabstandes den Grad der Ladungsgleichmässigkeit überhaupt nicht mehr. Wenn bei diesem Abstand, der z. B.
80 mm betragen kann, an die Spitzen --4-- eine Hochspannung von 8 bis 10 kV angelegt wird, erfolgt eine genügend gleichmässige Aufladung der Schicht, ohne dass bis zur Sättigung geladen werden muss.
Wird eine derart aufgeladene Schicht nachfolgend belichtet und entwickelt, so sind infolge der erfindungsgemässen Anordnung der einzelnen Spitzen der Elektrode zu der Vorschubrichtung keinerlei Ladungsmuster in dem Bild zu erkennen. Eine ebenso gleichmässige Aufladung der Schicht --2-- ergibt sich selbstverständlich auch bei stillstehender Schicht und bewegter Elektrode. Ausserdem ist es mit dem gleichen Ergebnis möglich, die Spitzen der Elektrode waagrecht anzuordnen und die dann senkrechtliegende Schicht --2-- in entsprechendem Abstand seitlich an der Elektrode entlangzuführen.