JP2008235220A - Image display apparatus and its manufacturing method - Google Patents

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Takashi Enomoto
貴志 榎本
Yusuke Kasahara
佑介 笠原
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Toshiba Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an image display apparatus which can adsorb undesired gas molecules for a long period and has an inexpensive price and a favorable vacuum life, and its manufacturing method. <P>SOLUTION: The image display apparatus has an envelope 10 having a first substrate 11 and a second substrate 12 whose peripheries are joined, a display surface 16 disposed on the first substrate, a plurality of electron sources disposed on the second substrate, and as a getter box, a first getter box 50 joined to the envelope and defining a first getter chamber 54, and a second getter box 60 installed overlappingly on the first getter box and defining a second getter chamber 62. The fist getter chamber communicates with the envelope through a first opening 29 formed on the envelope; and the second getter chamber communicates with the first getter chamber through a second opening 63 formed on the first getter box; and the first and second openings are installed at positions different from each other in the plane direction of the envelope. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

この発明は、表示面が設けられた外囲器と、外囲器内のガスを吸着するゲッタとを備えた画像表示装置に関する。   The present invention relates to an image display device including an envelope provided with a display surface and a getter that adsorbs gas in the envelope.

近年、軽量・薄型の画像表示装置として、液晶の配向を利用して光の強弱を制御する液晶ディスプレイ(以下、LCDと称する)、プラズマ放電の紫外線により蛍光体を発光させるプラズマディスプレイパネル(以下、PDPと称する)、電界放出型電子放出素子の電子ビームにより蛍光体を発光させるフィールドエミッションディスプレイ(以下、FEDと称する)、表面伝導型電子放出素子の電子ビームにより蛍光体を発光させる表面伝導型電子放出ディスプレイ(以下、SEDと称する)などが開発されている。   In recent years, as a lightweight and thin image display device, a liquid crystal display (hereinafter referred to as LCD) that controls the intensity of light using the orientation of liquid crystal, a plasma display panel (hereinafter referred to as LCD) that emits phosphors by ultraviolet rays of plasma discharge. (Referred to as PDP), field emission display (hereinafter referred to as FED) that emits a phosphor with an electron beam of a field emission electron emitter, and surface conduction electron that emits a phosphor with an electron beam of a surface conduction electron emitter. Emission displays (hereinafter referred to as SEDs) have been developed.

例えばFEDでは、一般に、所定の隙間を置いて対向配置された前面基板および背面基板を有し、これらの基板は、矩形枠状の側壁を介して周辺部同士を互いに接合することにより真空外囲器を構成している。前面基板の内面には蛍光体スクリーンが形成され、背面基板の内面には蛍光体を励起して発光させる電子放出源として多数の電子放出素子が設けられている。   For example, an FED generally has a front substrate and a rear substrate that are opposed to each other with a predetermined gap, and these substrates are surrounded by a vacuum by surrounding each other through a rectangular frame-shaped side wall. Make up the vessel. A phosphor screen is formed on the inner surface of the front substrate, and a number of electron-emitting devices are provided on the inner surface of the rear substrate as electron emission sources that excite the phosphor to emit light.

背面基板および前面基板に加わる大気圧荷重を支えるために、これら基板の間には複数の支持部材が配設されている。背面基板側の電位はほぼアース電位であり、蛍光面にはアノード電圧として例えば10kVが印加される。蛍光体スクリーンを構成する赤、緑、青の蛍光体に電子放出素子から放出された電子ビームを照射し、蛍光体を発光させることによって画像を表示する。   In order to support an atmospheric pressure load applied to the back substrate and the front substrate, a plurality of support members are disposed between these substrates. The potential on the back substrate side is almost the ground potential, and 10 kV, for example, is applied as an anode voltage to the phosphor screen. An image is displayed by irradiating the phosphors of red, green, and blue constituting the phosphor screen with the electron beams emitted from the electron-emitting devices and causing the phosphors to emit light.

このようなFEDにおいては、真空外囲器内部を高い真空度に維持することが重要となる。真空度が低いと、安定した電子放出ができず、画像表示装置の寿命が低下する。   In such an FED, it is important to maintain a high degree of vacuum inside the vacuum envelope. If the degree of vacuum is low, stable electron emission cannot be performed, and the life of the image display device is reduced.

そこで、長期間にわたって真空外囲器内部を高い真空度に維持するため、真空外囲器内部には不所望なガス分子を吸着するゲッタを設けることが通常行われる。このようなゲッタの配置構成として、例えば、蛍光表示管の外囲器周辺部にゲッタ室を設け、このゲッタ室内にゲッタを設ける構成が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
実用新案登録2547509号公報
Therefore, in order to maintain a high degree of vacuum inside the vacuum envelope for a long period of time, it is usual to provide a getter that adsorbs undesired gas molecules inside the vacuum envelope. As an arrangement configuration of such getters, for example, a configuration has been proposed in which a getter chamber is provided in the periphery of the envelope of a fluorescent display tube, and a getter is provided in the getter chamber (see, for example, Patent Document 1).
Utility Model Registration No. 2547509

上述した画像表示装置では、ゲッタ室を小さくするためにチタンまたはジルコニウムを主成分とする非蒸発型ゲッタを用いることが通常行われる。しかし、チタンまたはジルコニウムを主成分とする非蒸発型ゲッタは、一酸化炭素および二酸化炭素の吸着量が小さいため、外囲器内で発生した不所望なガスの吸着量を十分に確保することが困難となる。   In the image display device described above, it is usual to use a non-evaporable getter whose main component is titanium or zirconium in order to reduce the getter chamber. However, non-evaporable getters mainly composed of titanium or zirconium have a small amount of adsorption of carbon monoxide and carbon dioxide, so that it is possible to sufficiently secure the amount of adsorption of undesired gas generated in the envelope. It becomes difficult.

この場合、一酸化炭素および二酸化炭素の吸着量が大きいバリウムゲッタを補助的に用いることが考えられる。しかし、ガス分子は選択的にゲッタに対して吸着されるものではないため、バリウムゲッタを設けた場合であっても、非蒸発型ゲッタは一酸化炭素および二酸化炭素を吸着する。従って、真空寿命を長くするためには、結局、非蒸発型ゲッタの量を増やす必要がある。非蒸発型ゲッタは一般に高価であるため、設置量を増やすと画像表示装置のコストが上昇する問題が生じる。   In this case, it can be considered that a barium getter having a large adsorption amount of carbon monoxide and carbon dioxide is used as an auxiliary. However, since gas molecules are not selectively adsorbed to the getter, the non-evaporable getter adsorbs carbon monoxide and carbon dioxide even when a barium getter is provided. Therefore, in order to increase the vacuum life, it is necessary to increase the amount of non-evaporable getter after all. Since non-evaporable getters are generally expensive, there is a problem that the cost of the image display device increases when the installation amount is increased.

通常、非蒸発型ゲッタは、動作前に加熱して表面の酸化膜を内部に拡散させ、清浄な金属表面を露出させる活性化を行う必要がある。この活性化を、装置の製造過程において、外囲器内部の不所望なガスを排気する排気工程で行うと、そのガスにより非蒸発型ゲッタが汚染され十分に活性化できない問題がある。そこで、排気後に非蒸発型ゲッタを外部から加熱して活性化を行うことが考えられる。外部から加熱する方法として、例えば、高周波による加熱、あるいは、通電による加熱が考えられる。   Usually, the non-evaporable getter needs to be activated before being operated to diffuse the surface oxide film to the inside and expose a clean metal surface. If this activation is performed in the exhaust process of exhausting an undesired gas inside the envelope in the manufacturing process of the device, there is a problem that the non-evaporable getter is contaminated by the gas and cannot be activated sufficiently. Therefore, it is conceivable to activate the non-evaporable getter by heating it from the outside after exhausting. As a method of heating from the outside, for example, heating by high frequency or heating by energization can be considered.

しかし、高周波による加熱の場合、画像表示装置を構成する材料も一緒に加熱されるため、前面基板および背面基板が温度上昇して破壊されるおそれが生じる。また、通電による加熱では、ゲッタ室に通電導線を設けておく必要があるが、その通電導線はゲッタボックスを構成するガラスと熱膨張が近い鉄−ニッケル合金である必要がある。このような合金は電気抵抗が大きいため通電による発熱が大きくなり、ゲッタボックスが熱応力により破壊されるおそれが生じる。   However, in the case of heating by high frequency, since the materials constituting the image display device are also heated together, there is a risk that the front substrate and the rear substrate will rise in temperature and be destroyed. In heating by energization, it is necessary to provide a conducting wire in the getter chamber, but the conducting wire needs to be an iron-nickel alloy having a thermal expansion close to that of the glass constituting the getter box. Since such an alloy has a large electric resistance, heat generation due to energization increases and the getter box may be destroyed by thermal stress.

この発明は以上の点に鑑みなされたもので、長期にわたって不所望なガス分子を吸着することができ、安価で真空寿命が良好な画像表示装置、およびその製造方法を提供するものである。   The present invention has been made in view of the above points, and provides an image display device that can adsorb undesired gas molecules over a long period of time, is inexpensive and has a good vacuum life, and a manufacturing method thereof.

この発明の態様に係る画像表示装置は、周辺部同士が接合された第1基板および第2基板を有する外囲器と、前記第1基板上に配置された表示面と、前記第2基板上に配置された複数の電子源と、前記外囲器に接合され、前記外囲器内部に連通するゲッタ室を規定したゲッタボックスと、前記ゲッタ室内に設けられたゲッタと、を備え、
前記ゲッタボックスは、前記外囲器に接合され第1ゲッタ室を規定した第1ゲッタボックスと、前記第1ゲッタボックスに重ねて設けられ、第2ゲッタ室を規定した第2ゲッタボックスと、を有し、前記第1ゲッタ室は、前記外囲器に形成された第1開孔を介して前記外囲器内に連通し、前記第2ゲッタ室は、前記第1ゲッタボックスおよび第2ゲッタボックスに連続して形成された第2開孔を通して第1ゲッタ室に連通し、前記第1開孔および第2開孔は、前記外囲器の面方向において互いに異なる位置に設けられている。
An image display device according to an aspect of the present invention includes an envelope having a first substrate and a second substrate whose peripheral portions are joined to each other, a display surface disposed on the first substrate, and the second substrate. A plurality of electron sources disposed in the envelope, a getter box which is joined to the envelope and defines a getter chamber communicating with the inside of the envelope, and a getter provided in the getter chamber,
The getter box includes a first getter box joined to the envelope and defining a first getter chamber, and a second getter box provided to overlap the first getter box and defining a second getter chamber. And the first getter chamber communicates with the envelope through a first opening formed in the envelope, and the second getter chamber includes the first getter box and the second getter chamber. The first opening and the second opening communicate with the first getter chamber through a second opening formed continuously in the box, and the first opening and the second opening are provided at different positions in the surface direction of the envelope.

この発明の他の態様に係る画像表示装置の製造方法は、周辺部同士が接合された第1基板および第2基板を有する外囲器と、前記第1基板上に配置された表示面と、前記第2基板上に配置された複数の電子源と、前記外囲器に接合され、前記外囲器内部に連通するゲッタ室を規定したゲッタボックスと、前記ゲッタ室内に設けられたゲッタと、を備えた画像表示装置の製造方法であって、
第1ゲッタボックス内および第2ゲッタボックス内にそれぞれゲッタを配置し、前記ゲッタが配置された第1ゲッタボックスを前記外囲器に気密に接合し、前記第1ゲッタボックスにより、前記外囲器に形成された第1排気孔を通して外囲器内に連通する第1ゲッタ室を規定し、前記外囲器内および外囲器内に連通した第1ゲッタ室内を排気し、前記第2ゲッタボックス内を前記外囲器とは独立して排気し、前記排気が終了した後、前記第2ゲッタボックスを第1ゲッタボックスに重ねて気密に接合して第2ゲッタ室を規定し、前記第2ゲッタボックスを気密に接合した後、前記第1ゲッタ室と第2ゲッタ室とを連通させることを特徴とする画像表示装置の製造方法である。
An image display device manufacturing method according to another aspect of the present invention includes an envelope having a first substrate and a second substrate whose peripheral portions are bonded to each other, a display surface disposed on the first substrate, A plurality of electron sources disposed on the second substrate; a getter box which is joined to the envelope and defines a getter chamber communicating with the interior of the envelope; and a getter provided in the getter chamber; A method of manufacturing an image display device comprising:
A getter is disposed in each of the first getter box and the second getter box, the first getter box in which the getter is disposed is hermetically joined to the envelope, and the envelope is formed by the first getter box. A first getter chamber that communicates with the inside of the envelope through a first exhaust hole formed in the envelope, exhausts the first getter chamber that communicates with the inside of the envelope, and the second getter box. The interior is evacuated independently of the envelope, and after the evacuation is completed, the second getter box is defined by overlapping the second getter box over the first getter box and hermetically joining the second getter chamber, After the getter box is hermetically joined, the first getter chamber and the second getter chamber are communicated with each other.

本発明の様態によれば、長期にわたって不所望なガス分子を吸着することができ、安価で真空寿命が良好な画像表示装置、およびその製造方法を提供することができる。   According to the aspects of the present invention, it is possible to provide an image display device that can adsorb undesired gas molecules over a long period of time, has a low vacuum, and has a good vacuum life, and a manufacturing method thereof.

以下図面を参照しながら、この発明の画像表示装置をFEDに適用した実施形態について詳細に説明する。
図1および図2に示すように、FEDは、それぞれ矩形状のガラス板からなる前面基板11、および背面基板12を備え、これらの基板は所定の間隔で対向配置されている。第2基板としての背面基板12は、第1基板としての前面基板11よりも大きな寸法に形成されている。前面基板11および背面基板12は、矩形枠状の側壁18を介して周縁部同士が接合され、内部が真空状態に維持された偏平な外囲器10を構成している。接合部材として機能する側壁18は、例えば、低融点ガラス、低融点金属等の封着材19、23により、前面基板11の周縁部および背面基板12の周縁部に封着され、これらの基板同士を接合している。
Hereinafter, an embodiment in which an image display device of the present invention is applied to an FED will be described in detail with reference to the drawings.
As shown in FIGS. 1 and 2, the FED includes a front substrate 11 and a rear substrate 12 each made of a rectangular glass plate, and these substrates are arranged to face each other at a predetermined interval. The back substrate 12 as the second substrate is formed with a size larger than that of the front substrate 11 as the first substrate. The front substrate 11 and the back substrate 12 constitute a flat envelope 10 whose peripheral portions are joined to each other through a rectangular frame-shaped side wall 18 and the inside is maintained in a vacuum state. The side wall 18 functioning as a bonding member is sealed to the peripheral portion of the front substrate 11 and the peripheral portion of the back substrate 12 by sealing materials 19 and 23 such as low melting point glass and low melting point metal, for example. Are joined.

外囲器10の内部には、前面基板11および背面基板12に加わる大気圧荷重を支えるため、複数の板状の支持部材14が設けられている。これらの支持部材14は、外囲器10の一辺と平行な方向にそれぞれ延在しているとともに、上記一辺と直交する方向に沿って所定の間隔を置いて配置されている。各支持部材14の長手方向両端部は、それぞれ側壁18と隙間を置いて対向している。なお、支持部材は、板状に限らず、柱状としてもよい。   A plurality of plate-like support members 14 are provided inside the envelope 10 in order to support an atmospheric pressure load applied to the front substrate 11 and the rear substrate 12. These support members 14 extend in a direction parallel to one side of the envelope 10 and are arranged at a predetermined interval along a direction orthogonal to the one side. Both ends in the longitudinal direction of each support member 14 are opposed to the side wall 18 with a gap. The support member is not limited to a plate shape, and may be a column shape.

図2および図3に示すように、前面基板11の内面には、表示面として機能する蛍光体スクリーン16が形成されている。この蛍光体スクリーン16は、赤、緑、青の蛍光体層R、G、B、およびこれらの蛍光体層間に位置した黒色の遮光層20を並べて構成されている。赤、緑、青の3色の蛍光体層R、G、Bは、第1方向に隙間を置いて交互に並んで形成され、同一色の蛍光体層が第1方向と直交する第2方向に隙間を置いて配列されている。蛍光体層R、G、Bはそれぞれ、赤、緑、青の単色でサブピクセルを構成し、3色のサブピクセルを合わせて一画素を構成している。   As shown in FIGS. 2 and 3, a phosphor screen 16 that functions as a display surface is formed on the inner surface of the front substrate 11. The phosphor screen 16 is configured by arranging red, green, and blue phosphor layers R, G, and B, and a black light-shielding layer 20 positioned between the phosphor layers. The phosphor layers R, G, and B of three colors of red, green, and blue are formed alternately with a gap in the first direction, and the phosphor layers of the same color are in the second direction orthogonal to the first direction. Are arranged with a gap in between. Each of the phosphor layers R, G, and B constitutes a subpixel with single colors of red, green, and blue, and constitutes one pixel by combining the subpixels of three colors.

蛍光体スクリーン16上には、アルミニウム膜等からなるメタルバック層17が形成されている。本実施形態によれば、メタルバック層17は、縦方向および横方向に分断され、互いに電気的に分離した複数の分断領域を有している。電気的に分断したメタルバック層17は、蛍光体層R、G、Bに夫々重なって設けられている。   A metal back layer 17 made of an aluminum film or the like is formed on the phosphor screen 16. According to the present embodiment, the metal back layer 17 has a plurality of divided regions that are divided in the vertical direction and the horizontal direction and are electrically separated from each other. The electrically separated metal back layer 17 is provided so as to overlap the phosphor layers R, G, and B, respectively.

図2に示すように、背面基板12の内面上には、画像表示面の蛍光体層R、G、Bを励起する電子源として、それぞれ電子ビームを放出する多数の電子放出素子22が設けられている。すなわち、背面基板12の内面上には、導電性カソード層24が形成され、この導電性カソード層上には多数のキャビティ25を有した二酸化シリコン膜26が形成されている。二酸化シリコン膜26上には、モリブデンやニオブ等からなるゲート電極28が形成されている。背面基板12の内面上において各キャビティ25内にはモリブデンなどからなるコーン状の電子放出素子22が設けられている。これらの電子放出素子22は、画素に対応して複数列および複数行に配列されている。   As shown in FIG. 2, on the inner surface of the back substrate 12, a large number of electron-emitting devices 22 each emitting an electron beam are provided as electron sources for exciting the phosphor layers R, G, and B on the image display surface. ing. That is, a conductive cathode layer 24 is formed on the inner surface of the back substrate 12, and a silicon dioxide film 26 having a large number of cavities 25 is formed on the conductive cathode layer. On the silicon dioxide film 26, a gate electrode 28 made of molybdenum, niobium or the like is formed. A cone-shaped electron-emitting device 22 made of molybdenum or the like is provided in each cavity 25 on the inner surface of the back substrate 12. These electron-emitting devices 22 are arranged in a plurality of columns and a plurality of rows corresponding to the pixels.

導電性カソード層24およびゲート電極28は、それぞれ直交する方向にストライプ状に形成され、背面基板12の周縁部には、これら導電性カソード層およびゲート電極に電位を供給する多数本の配線21が形成されている。   The conductive cathode layer 24 and the gate electrode 28 are formed in stripes in directions orthogonal to each other, and a large number of wirings 21 for supplying a potential to the conductive cathode layer and the gate electrode are provided on the periphery of the back substrate 12. Is formed.

このようなFEDでは、画像を表示する場合、蛍光体スクリーン16およびメタルバック層17にアノード電圧を印加して、電子放出素子22から放出された電子ビームをアノード電圧により加速して蛍光体スクリーンへ衝突させる。これにより、蛍光体スクリーン16の蛍光体層R、G、Bが励起されて発光し、カラー画像を表示する。   In such an FED, when displaying an image, an anode voltage is applied to the phosphor screen 16 and the metal back layer 17, and the electron beam emitted from the electron-emitting device 22 is accelerated by the anode voltage to the phosphor screen. Collide. Thereby, the phosphor layers R, G, and B of the phosphor screen 16 are excited to emit light, and a color image is displayed.

図2に示すように、FEDは、外囲器10の周辺部外面に取り付けられた第1ゲッタボックス50、および第1ゲッタボックスに重ねて取り付けられた第2ゲッタボックス60を備えている。第1ゲッタボックス50は、例えば、前面基板11および背面基板12と同じ材料のガラスにより矩形箱状に形成され、封着材52により、背面基板12の外面の側縁部に接合されている。この第1ゲッタボックス50および背面基板12により、第1ゲッタ室54が規定されている。第1ゲッタ室54は、背面基板12に形成された第1排気孔(第1開孔)29を通して外囲器10内部に連通している。   As shown in FIG. 2, the FED includes a first getter box 50 attached to the outer peripheral surface of the envelope 10 and a second getter box 60 attached to the first getter box. The first getter box 50 is formed, for example, in a rectangular box shape using the same glass material as that of the front substrate 11 and the rear substrate 12, and is joined to a side edge portion of the outer surface of the rear substrate 12 by a sealing material 52. The first getter chamber 54 is defined by the first getter box 50 and the back substrate 12. The first getter chamber 54 communicates with the inside of the envelope 10 through a first exhaust hole (first opening) 29 formed in the back substrate 12.

第2ゲッタボックス60は、例えば、前面基板11および背面基板12と同じ材料のガラスにより矩形箱状に形成され、封着材53により、第1ゲッタボックス50の外面に接合されている。この第2ゲッタボックス60および第1ゲッタボックス50の底壁により第2ゲッタ室62が規定されている。第2ゲッタ室62は、第1ゲッタボックス50の底壁および第2ゲッタボックス60の上面に形成された第2排気孔(第2開孔)64を通して第1ゲッタ室54に連通している。これにより、第1ゲッタ室54および第2ゲッタ室62は、外囲器10内部に連通した真空空間を構成している。第2ゲッタボックス60の底壁には、ゲッタボックス内を排気するための第3排気孔67が形成されている。この第3排気孔67は、蓋部材68により気密に閉塞されている。   The second getter box 60 is formed, for example, in a rectangular box shape using the same glass as the front substrate 11 and the rear substrate 12, and is joined to the outer surface of the first getter box 50 by a sealing material 53. A second getter chamber 62 is defined by the bottom walls of the second getter box 60 and the first getter box 50. The second getter chamber 62 communicates with the first getter chamber 54 through a second exhaust hole (second opening) 64 formed in the bottom wall of the first getter box 50 and the upper surface of the second getter box 60. Thus, the first getter chamber 54 and the second getter chamber 62 constitute a vacuum space communicating with the inside of the envelope 10. A third exhaust hole 67 for exhausting the inside of the getter box is formed in the bottom wall of the second getter box 60. The third exhaust hole 67 is airtightly closed by the lid member 68.

第1排気孔29と第2排気孔64とは、その配設位置が外囲器10の面方向に互いにずれた異なる位置に形成されている。これは後述するゲッタ室の連通工程において第1ゲッタボックス50の飛散材が外囲器10の内部に入り込まないようにするためである。また、外囲器10の第1ゲッタ室54と反対側の端部には、後述する排気工程で外囲器10内部を排気するための第4排気孔30(図4参照)が設けられている。   The first exhaust hole 29 and the second exhaust hole 64 are formed at different positions where the arrangement positions thereof are shifted from each other in the surface direction of the envelope 10. This is to prevent the scattering material of the first getter box 50 from entering the inside of the envelope 10 in the communication process of the getter chamber described later. In addition, a fourth exhaust hole 30 (see FIG. 4) for exhausting the inside of the envelope 10 in an exhaust process to be described later is provided at the end of the envelope 10 opposite to the first getter chamber 54. Yes.

第1ゲッタ室54内において、ゲッタボックス50の内面上には、例えば、バリウムからなる蒸発型ゲッタ56が成膜されている。第2ゲッタ室62の内部には、例えば、ジルコニウムを主成分とする非蒸発型ゲッタ66が配設されている。   In the first getter chamber 54, an evaporation type getter 56 made of, for example, barium is formed on the inner surface of the getter box 50. Inside the second getter chamber 62, for example, a non-evaporable getter 66 mainly composed of zirconium is disposed.

上記のように構成されたFEDによれば、動作時に外囲器10内に放出されたガスは、第1排気孔29を通して第1ゲッタ室54内に入り、更に、第2排気孔64を通して第2ゲッタ室62に流入する。放出ガスの内、一酸化炭素および二酸化炭素は、第1ゲッタ室54内で蒸発型ゲッタ56に吸着され、この蒸発型ゲッタ56に吸着されなかった水素を主成分とするガスが第2ゲッタ室62に到達して非蒸発型ゲッタ66に吸着される。これにより、蒸発型ゲッタ56および非蒸発型ゲッタ66により、不所望なガスをそれぞれ選択的に吸着できるようになる。そのため、非蒸発型ゲッタ66が一酸化炭素および二酸化炭素を吸着する量が小さくなり、少ないゲッタ量で真空寿命の長いFEDとすることができる。   According to the FED configured as described above, the gas released into the envelope 10 during operation enters the first getter chamber 54 through the first exhaust hole 29, and further passes through the second exhaust hole 64 to the second exhaust port 64. It flows into the two getter chamber 62. Among the released gases, carbon monoxide and carbon dioxide are adsorbed by the evaporative getter 56 in the first getter chamber 54, and the gas mainly composed of hydrogen that has not been adsorbed by the evaporable getter 56 is the second getter chamber. 62 and is adsorbed by the non-evaporable getter 66. Thereby, the evaporative getter 56 and the non-evaporable getter 66 can selectively adsorb undesired gases. Therefore, the amount of the non-evaporable getter 66 that adsorbs carbon monoxide and carbon dioxide is reduced, and an FED with a long vacuum life can be obtained with a small amount of getter.

次に、上記構成を有するFEDの製造方法について詳細に説明する。
まず、前面基板11となる板ガラスに蛍光体スクリーン16を形成する。これは、前面基板11と同じ大きさの板ガラスを準備し、この板ガラスにプロッターマシンで蛍光体ストライプパターンを形成する。この蛍光体ストライプパターンを形成した板ガラスと前面基板用の板ガラスとを位置決め治具に載せて露光台にセットする。この状態で、露光、現像することにより、前面基板11となるガラス板上に蛍光体スクリーンを形成する。その後、蛍光体スクリーン16に重ねてメタルバック層17を形成する。
Next, the manufacturing method of FED which has the said structure is demonstrated in detail.
First, the phosphor screen 16 is formed on the plate glass to be the front substrate 11. In this method, a plate glass having the same size as the front substrate 11 is prepared, and a phosphor stripe pattern is formed on the plate glass by a plotter machine. The plate glass on which the phosphor stripe pattern is formed and the plate glass for the front substrate are placed on a positioning jig and set on an exposure table. In this state, the phosphor screen is formed on the glass plate which becomes the front substrate 11 by exposing and developing. Thereafter, a metal back layer 17 is formed on the phosphor screen 16.

続いて、背面基板12用の板ガラスに電子放出素子22を形成する。これはまず、導電性カソード層24を板ガラス上に形成し、このカソード層上に例えば熱酸化法やCVD法あるいはスパッタリング法により2酸化シリコン膜の絶縁膜を形成する。この後、この絶縁膜上に、例えばスパッタリング法や電子ビーム蒸着法によりモリブデンやニオブなどのゲート電極形成用の金属膜を形成する。次に、この金属膜上に、形成すべきゲート電極に対応した形状のレジストパターンをリソグラフィーにより形成する。このレジストパターンをマスクとして金属膜をウェットエッチング法またはドライエッチング法によりエッチングし、ゲート電極28を形成する。   Subsequently, the electron-emitting device 22 is formed on the plate glass for the back substrate 12. First, a conductive cathode layer 24 is formed on a plate glass, and an insulating film of a silicon dioxide film is formed on the cathode layer by, for example, a thermal oxidation method, a CVD method or a sputtering method. Thereafter, a metal film for forming a gate electrode such as molybdenum or niobium is formed on the insulating film by, for example, sputtering or electron beam evaporation. Next, a resist pattern having a shape corresponding to the gate electrode to be formed is formed on the metal film by lithography. Using this resist pattern as a mask, the metal film is etched by wet etching or dry etching to form the gate electrode 28.

この後、レジストパターン及びゲート電極28をマスクとして絶縁膜をウェットエッチングまたはドライエッチング法によりエッチングして、キャビティ25を形成する。そして、レジストパターンを除去した後、背面基板表面に対して所定角度傾斜した方向から電子ビーム蒸着を行うことにより、ゲート電極28上に例えばアルミニウムやニッケルからなる剥離層を形成する。その後、背面基板表面に対して垂直な方向からカソード形成用の材料として例えばモリブデンを電子ビーム蒸着法により蒸着する。これによって、キャビティ25の内部に電子放出素子22が形成される。次に、剥離層をその上に形成された金属膜とともにリフトオフ法により除去する。   After that, the cavity 25 is formed by etching the insulating film by wet etching or dry etching using the resist pattern and the gate electrode 28 as a mask. Then, after removing the resist pattern, a peeling layer made of, for example, aluminum or nickel is formed on the gate electrode 28 by performing electron beam evaporation from a direction inclined by a predetermined angle with respect to the back substrate surface. After that, for example, molybdenum is deposited by electron beam deposition as a material for forming the cathode from a direction perpendicular to the surface of the back substrate. As a result, the electron-emitting device 22 is formed inside the cavity 25. Next, the release layer is removed together with the metal film formed thereon by a lift-off method.

続いて、上面が開口した第1ゲッタボックス50および密閉型の第2ゲッタボックス60を用意する。第1ゲッタボックス50および第2ゲッタボックス60の第2排気孔64を形成する部分の壁、ここでは、第1ゲッタボックス50の底壁の一部および第2ゲッタボックス60の天井壁74の一部をブラスト処理し、周囲の壁の厚さよりも薄くしておく。また、第2ゲッタボックス60の底壁には、第3排気孔67を予め形成しておく。第1ゲッタボックス50内に、バリウムを主成分とする蒸発型ゲッタ材料を配置し、第2ゲッタボックス60内に、ジルコニウムおよびチタンの少なくとも一方を主成分とする非蒸発型ゲッタ66を第3排気孔67から投入して配置する。   Subsequently, a first getter box 50 having an upper surface opened and a sealed second getter box 60 are prepared. The wall of the portion of the first getter box 50 and the second getter box 60 that forms the second exhaust hole 64, here, a part of the bottom wall of the first getter box 50 and the ceiling wall 74 of the second getter box 60. Blast the part and keep it thinner than the surrounding wall. A third exhaust hole 67 is formed in advance in the bottom wall of the second getter box 60. An evaporable getter material mainly composed of barium is disposed in the first getter box 50, and a non-evaporable getter 66 mainly composed of at least one of zirconium and titanium is disposed in the second getter box 60 in the third exhaust. It is inserted from the hole 67 and arranged.

次いで、支持部材14および側壁18を背面基板12に対してフリットガラスを用いて取り付け、更に、背面基板の側壁上と、対応する前面基板11の外周部に封着材としてのフリットガラスを塗布して仮焼成する。また、第1ゲッタボックス50の背面基板12に相対する端部、および第2ゲッタボックス60に相対する底部に、それぞれ封着材としてのフリットガラスを塗布して仮焼成しておく。   Next, the support member 14 and the side wall 18 are attached to the rear substrate 12 using frit glass, and further, frit glass as a sealing material is applied on the side wall of the rear substrate and the outer periphery of the corresponding front substrate 11. And calcining. Further, frit glass as a sealing material is applied to the end portion of the first getter box 50 facing the back substrate 12 and the bottom portion facing the second getter box 60 and pre-baked.

図4に示すように、これら背面基板12、前面基板11、第1ゲッタボックス50をそれぞれ所定位置に配置し、排気カートに設置してインライン型の連続炉に投入する。また、第2ゲッタボックス60は、背面基板等とは独立に排気カートに設置してインライン型の連続炉に投入する。この際、第2ゲッタボックス60内の所定位置に壁面破壊部材76を導入しておく。壁面破壊部材76としては、例えば、先の尖った針状の金属部材を用いることができる。   As shown in FIG. 4, the back substrate 12, the front substrate 11, and the first getter box 50 are respectively arranged at predetermined positions, installed in an exhaust cart, and put into an inline type continuous furnace. In addition, the second getter box 60 is installed in an exhaust cart independently of the rear substrate or the like and placed in an in-line continuous furnace. At this time, the wall surface breaking member 76 is introduced at a predetermined position in the second getter box 60. As the wall breaking member 76, for example, a needle-like metal member having a sharp point can be used.

図4に示すように、背面基板12は、外囲器内部を排気するための第4排気孔30に排気カートの排気ライン70に接続された状態で載置される。排気カートは本引き用ポンプおよび粗引き用ポンプにより排気ライン70および第4排気孔30を通して外囲器内部を排気する。それらの構造は公知のものを使用することができ、詳細な説明は省略する。また、第2ゲッタボックス60の第3排気孔67には、上記とは別の排気ライン72が接続され、外囲器とは別に、第2ゲッタボックス60内部が排気できる状態とする。   As shown in FIG. 4, the back substrate 12 is placed in a state of being connected to the exhaust line 70 of the exhaust cart in the fourth exhaust hole 30 for exhausting the inside of the envelope. The exhaust cart exhausts the inside of the envelope through the exhaust line 70 and the fourth exhaust hole 30 by the main pulling pump and the rough pulling pump. As those structures, known structures can be used, and detailed description thereof is omitted. Further, an exhaust line 72 different from the above is connected to the third exhaust hole 67 of the second getter box 60 so that the inside of the second getter box 60 can be exhausted separately from the envelope.

その後、背面基板12、前面基板11、第1ゲッタボックス50は連続炉内を移動しながら450℃まで加熱される。この際、電子放出素子22の酸化を防ぐため、連続炉の加熱部は窒素が導入および循環されて非酸化性雰囲気を形成し、酸素濃度が所定の割合以下になるように制御されている。   Thereafter, the back substrate 12, the front substrate 11, and the first getter box 50 are heated to 450 ° C. while moving in the continuous furnace. At this time, in order to prevent oxidation of the electron-emitting device 22, the heating unit of the continuous furnace is controlled so that nitrogen is introduced and circulated to form a non-oxidizing atmosphere and the oxygen concentration becomes a predetermined ratio or less.

第2ゲッタボックス60は外囲器と一緒に連続炉内を移動しながら450℃まで加熱される。第2ゲッタボックス60は内部が昇温直後から廃棄され、非蒸発型ゲッタ66の活性化が始まる300℃以上において、第2ゲッタボックス60内部が10-2Pa以下の圧力となり、非蒸発型ゲッタ66は不所望なガスによる汚染がほとんどなく効率的に活性化される。 The second getter box 60 is heated to 450 ° C. while moving in the continuous furnace together with the envelope. The inside of the second getter box 60 is discarded immediately after the temperature rises, and the pressure inside the second getter box 60 becomes 10 −2 Pa or less at 300 ° C. or higher when the activation of the non-evaporable getter 66 starts. 66 is activated efficiently with little unwanted gas contamination.

一方、加熱によりフリットガラスが溶融し、このフリットガラスにより、背面基板12、前面基板11、側壁18、支持部材14、第1ゲッタボックス50が互いに封着され、第1ゲッタボックスを有した外囲器10が形成される。フリットガラスが固化した後、排気ライン70を通して外囲器10内部の排気を開始する。   On the other hand, the frit glass is melted by heating, and the back substrate 12, the front substrate 11, the side wall 18, the support member 14, and the first getter box 50 are sealed to each other by the frit glass, and the enclosure having the first getter box. A vessel 10 is formed. After the frit glass is solidified, the exhaust inside the envelope 10 is started through the exhaust line 70.

排気中は加熱温度を400℃に設定し、所定速度で外囲器10を移動させながら排気を継続する。これにより、前面基板11および背面基板12の表面から脱離したガス成分が外囲器10の外部へ排出される。また、第2ゲッタボックス60内に配置された非蒸発型ゲッタ66の活性化も継続され、表面清浄な金属面が露出される。   During exhaust, the heating temperature is set to 400 ° C., and exhaust is continued while moving the envelope 10 at a predetermined speed. As a result, gas components desorbed from the surfaces of the front substrate 11 and the back substrate 12 are discharged to the outside of the envelope 10. In addition, the activation of the non-evaporable getter 66 disposed in the second getter box 60 is continued, and a surface-clean metal surface is exposed.

図5に示すように、外囲器10内を所定の真空度まで排気した後、排気カートの排気ライン70内部に予め設置しておいた蓋部材80により第4排気孔30を気密封止する。また、第2ゲッタボックス60内を所定の真空度まで排気した後、同じく別の排気ライン72内部に予め設置しておいた蓋部材68により、第3排気孔67を気密封止する。   As shown in FIG. 5, after the inside of the envelope 10 is evacuated to a predetermined degree of vacuum, the fourth exhaust hole 30 is hermetically sealed by a lid member 80 previously installed in the exhaust line 70 of the exhaust cart. . Further, after the inside of the second getter box 60 is evacuated to a predetermined degree of vacuum, the third exhaust hole 67 is hermetically sealed by a lid member 68 that is also set in advance in another exhaust line 72.

次いで、図6に示すように、第2ゲッタボックス60を第1ゲッタボックス50の底面上に配置し、450℃で局所加熱して第1ゲッタボックス50に接合する。その後、外囲器10全体を降温し、外囲器全体の温度が所望の温度まで下がった時点で、外囲器を連続炉から取り出す。これにより、第1および第2ゲッタボックス50、60を備えた外囲器が形成される。   Next, as shown in FIG. 6, the second getter box 60 is disposed on the bottom surface of the first getter box 50 and is locally heated at 450 ° C. to be joined to the first getter box 50. Thereafter, the temperature of the entire envelope 10 is lowered, and when the temperature of the entire envelope is lowered to a desired temperature, the envelope is taken out from the continuous furnace. Thereby, an envelope including the first and second getter boxes 50 and 60 is formed.

上述した製造方法とすることにより、排気工程中に同時に非蒸発型ゲッタ66を活性化することができ、安価なプロセスとすることができるとともに、排気後に非蒸発型ゲッタを加熱して活性化する場合の不具合を避けることができる。   With the manufacturing method described above, the non-evaporable getter 66 can be activated simultaneously during the exhaust process, and an inexpensive process can be achieved, and the non-evaporable getter is heated and activated after exhaust. You can avoid troubles.

外囲器10を取り出した後、第1ゲッタボックス50内に配置された蒸発型ゲッタ56を高周波加熱により加熱し、ゲッタボックス内面にゲッタ膜を蒸着形成する。このゲッタ材料はバリウムが主成分であるため、蒸着温度が比較的低く、加熱時間も30秒以内でよい。そのため、FEDの構成部材が上記の高周波加熱によって加熱される割合は小さく、構成部材に悪影響を及ぼすことはない。   After the envelope 10 is taken out, the evaporation type getter 56 disposed in the first getter box 50 is heated by high frequency heating to form a getter film on the inner surface of the getter box. Since this getter material is mainly composed of barium, the deposition temperature is relatively low and the heating time may be within 30 seconds. Therefore, the rate at which the constituent members of the FED are heated by the high-frequency heating is small, and the constituent members are not adversely affected.

ゲッタ膜の蒸着形成後、第2ゲッタボックス60内に予め導入してあった壁面破壊部材76により第1ゲッタボックス50および第2ゲッタボックス60の第2排気孔64に対応する部分の壁を破壊して第2排気孔を形成し、第2ゲッタボックス60と第1ゲッタボックス50とを同一の真空空間に連通する。この際、第1排気孔29と第2排気孔64との配設位置を外囲器10の面方向において異なる位置に形成しているため、第1ゲッタボックス壁の破壊による破片が外囲器10内部に入り込むことはなく、この飛散材による耐圧劣化などの問題を防ぐことができる。   After the getter film is deposited, the wall of the first getter box 50 and the portion corresponding to the second exhaust hole 64 of the second getter box 60 is destroyed by the wall-breaking member 76 introduced in advance into the second getter box 60. Thus, the second exhaust hole is formed, and the second getter box 60 and the first getter box 50 are communicated with the same vacuum space. At this time, since the disposition positions of the first exhaust hole 29 and the second exhaust hole 64 are formed at different positions in the surface direction of the envelope 10, debris caused by the breakage of the first getter box wall is caused by the envelope. 10 does not enter inside, and problems such as deterioration of pressure resistance due to the scattering material can be prevented.

以上のことから、本実施形態によれば、長期にわたって不所望なガス分子を吸着することができ、安価で真空寿命が良好な画像表示装置、およびその製造方法を提供することができる。   From the above, according to the present embodiment, it is possible to provide an image display device that can adsorb undesired gas molecules over a long period of time, has a low vacuum, and has a good vacuum life, and a method for manufacturing the same.

この発明は上述した実施の形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。実施の形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよいし、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be embodied by modifying the constituent elements without departing from the scope of the invention in the implementation stage. In addition, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of components disclosed in the embodiment. Some constituent elements may be deleted from all the constituent elements shown in the embodiments, or constituent elements over different embodiments may be appropriately combined.

上述した実施形態では、内面に蛍光体スクリーンを有する前面基板を備えたFEDを例にとって説明したが、この発明はこれに限定されること無く、SED、PDP、蛍光表示管など他のデバイスに対しても適用することができる。また、ゲッタはバリウム、ジルコニウムに限らず、使用するデバイスの真空特性や放出ガス特性などに合わせ、種々選択することができる。   In the above-described embodiment, the FED having the front substrate having the phosphor screen on the inner surface has been described as an example. However, the present invention is not limited to this, and other devices such as SED, PDP, and fluorescent display tube are used. Even can be applied. Further, the getter is not limited to barium and zirconium, but can be variously selected according to the vacuum characteristics and emission gas characteristics of the device used.

ゲッタ室およびゲッタボックスの大きさ、形状、設置数は、上記実施形態に限られるものではなく、変更可能であり、例えば側壁の一部を切り欠いてゲッタ室を真空外囲器の側面に設けても良い。FEDを構成する構造物の形状、寸法、配置、あるいは材料など、好適なものを選択することができることは言うまでもない。   The size, shape, and number of getter chambers and getter boxes are not limited to the above embodiment, and can be changed. For example, the getter chamber is provided on the side surface of the vacuum envelope by cutting out a part of the side wall. May be. Needless to say, suitable shapes such as the shape, size, arrangement, and material of the structure constituting the FED can be selected.

図1は、この発明の実施形態に係るFEDを一部破断して示す斜視図。FIG. 1 is a perspective view showing a partially broken FED according to an embodiment of the present invention. 図2は、図1の線A−Aに沿ったFEDの断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view of the FED along line AA in FIG. 図3は、前記FEDの前面基板および蛍光体スクリーンの一部を拡大して示す平面図。FIG. 3 is an enlarged plan view showing a part of the front substrate and phosphor screen of the FED. 図4は、上記FEDの製造における排気工程を概略的に示す図。FIG. 4 is a diagram schematically showing an exhaust process in manufacturing the FED. 図5は、上記FEDの製造における封着工程を概略的に示す図。FIG. 5 is a diagram schematically showing a sealing step in manufacturing the FED. 図6は、上記FEDの製造において、第1ゲッタ室および第2ゲッタ室を接続する工程を概略的に示す図。FIG. 6 is a diagram schematically showing a process of connecting the first getter chamber and the second getter chamber in the manufacture of the FED.

符号の説明Explanation of symbols

10…外囲器、 11…前面基板、 12…背面基板、 14…支持部材、
16…蛍光体スクリーン、 17…メタルバック層、 18…側壁、
22…電子放出素子、 R、G、B…蛍光体層、 29…第1排気孔、
50…第1ゲッタボックス、 54…第1ゲッタ室、 56…蒸発型ゲッタ、
60…第2ゲッタボックス、 62…第2ゲッタ室、 64…第2排気孔、
66…非蒸発型ゲッタ、 67…第3排気孔
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Envelope, 11 ... Front substrate, 12 ... Back substrate, 14 ... Support member,
16 ... phosphor screen, 17 ... metal back layer, 18 ... side wall,
22 ... Electron-emitting device, R, G, B ... Phosphor layer, 29 ... First exhaust hole,
50 ... first getter box, 54 ... first getter chamber, 56 ... evaporative getter,
60 ... second getter box, 62 ... second getter chamber, 64 ... second exhaust hole,
66 ... Non-evaporable getter, 67 ... Third exhaust hole

Claims (8)

周辺部同士が接合された第1基板および第2基板を有する外囲器と、
前記第1基板上に配置された表示面と、
前記第2基板上に配置された複数の電子源と、
前記外囲器に接合され、前記外囲器内部に連通するゲッタ室を規定したゲッタボックスと、
前記ゲッタ室内に設けられたゲッタと、を備え、
前記ゲッタボックスは、前記外囲器に接合され第1ゲッタ室を規定した第1ゲッタボックスと、前記第1ゲッタボックスに重ねて設けられ、第2ゲッタ室を規定した第2ゲッタボックスと、を有し、前記第1ゲッタ室は、前記外囲器に形成された第1開孔を介して前記外囲器内に連通し、前記第2ゲッタ室は、前記第1ゲッタボックスおよび第2ゲッタボックスに連続して形成された第2開孔を通して第1ゲッタ室に連通し、前記第1開孔および第2開孔は、前記外囲器の面方向において互いに異なる位置に設けられている画像表示装置。
An envelope having a first substrate and a second substrate joined together at the periphery;
A display surface disposed on the first substrate;
A plurality of electron sources disposed on the second substrate;
A getter box that is joined to the envelope and defines a getter chamber communicating with the inside of the envelope;
A getter provided in the getter chamber,
The getter box includes a first getter box joined to the envelope and defining a first getter chamber, and a second getter box provided to overlap the first getter box and defining a second getter chamber. And the first getter chamber communicates with the envelope through a first opening formed in the envelope, and the second getter chamber includes the first getter box and the second getter chamber. An image which communicates with the first getter chamber through a second opening formed continuously in the box, and the first opening and the second opening are provided at different positions in the surface direction of the envelope. Display device.
前記ゲッタは、前記第1ゲッタ室内に配設されたバリウムを含む蒸発型ゲッタと、前記第2ゲッタ室内に配設されたジルコニウムまたはチタンを主成分とする非蒸発型ゲッタとを有している請求項1に記載の画像表示装置。   The getter has an evaporable getter containing barium disposed in the first getter chamber and a non-evaporable getter mainly composed of zirconium or titanium disposed in the second getter chamber. The image display device according to claim 1. 周辺部同士が接合された第1基板および第2基板を有する外囲器と、前記第1基板上に配置された表示面と、前記第2基板上に配置された複数の電子源と、前記外囲器に接合され、前記外囲器内部に連通するゲッタ室を規定したゲッタボックスと、前記ゲッタ室内に設けられたゲッタと、を備えた画像表示装置の製造方法であって、
第1ゲッタボックス内および第2ゲッタボックス内にそれぞれゲッタを配置し、
前記ゲッタが配置された第1ゲッタボックスを前記外囲器に気密に接合し、前記第1ゲッタボックスにより、前記外囲器に形成された第1排気孔を通して外囲器内に連通する第1ゲッタ室を規定し、
前記外囲器内および外囲器内に連通した第1ゲッタ室内を排気し、
前記第2ゲッタボックス内を前記外囲器とは独立して排気し、
前記排気が終了した後、前記第2ゲッタボックスを第1ゲッタボックスに重ねて気密に接合して第2ゲッタ室を規定し、
前記第2ゲッタボックスを気密に接合した後、前記第1ゲッタ室と第2ゲッタ室とを連通させることを特徴とする画像表示装置の製造方法。
An envelope having a first substrate and a second substrate bonded together at peripheral portions, a display surface disposed on the first substrate, a plurality of electron sources disposed on the second substrate, A getter box that defines a getter chamber that is joined to an envelope and communicates with the inside of the envelope, and a getter provided in the getter chamber.
Place getters in the first getter box and the second getter box,
A first getter box in which the getter is arranged is hermetically joined to the envelope, and the first getter box communicates with the inside of the envelope through a first exhaust hole formed in the envelope. Define a getter room,
Exhausting the first getter chamber communicating with the inside of the envelope and the envelope;
Exhausting the inside of the second getter box independently of the envelope;
After the exhaust is finished, the second getter box is defined by overlapping the second getter box on the first getter box and airtightly joining the two.
A method of manufacturing an image display device, wherein the first getter chamber and the second getter chamber are communicated after the second getter box is airtightly joined.
前記第1ゲッタボックス内に蒸発型ゲッタを配置し、前記外囲器内および第1ゲッタ室内を排気した後、前記蒸発型ゲッタを加熱して前記第1ゲッタ室内にゲッタ膜を形成する請求項3に記載の画像表示装置の製造方法。   An evaporable getter is disposed in the first getter box, and after exhausting the envelope and the first getter chamber, the evaporative getter is heated to form a getter film in the first getter chamber. A method for manufacturing the image display device according to 3. 前記第2ゲッタボックス内に非蒸発型ゲッタを配置し、前記前記第2ゲッタボックス内を排気しながら前記非蒸発型ゲッタを加熱して活性化する請求項3又は4に記載の画像表示装置の製造方法。   5. The image display device according to claim 3, wherein a non-evaporable getter is disposed in the second getter box, and the non-evaporable getter is heated and activated while exhausting the second getter box. Production method. 前記第1ゲッタボックスおよび第2ゲッタボックスに第2開孔を形成して前記第2ゲッタ室を前記第1ゲッタ室に連通する請求項3に記載の画像表示装置の製造方法。   4. The method of manufacturing an image display device according to claim 3, wherein a second opening is formed in the first getter box and the second getter box so that the second getter chamber communicates with the first getter chamber. 前記第2ゲッタボックス内に前記ゲッタおよび壁面破壊部材を配置し、前記第2ゲッタボックスを前記第1ゲッタボックスに気密に接合した後、前記壁面破壊部材により、前記第1ゲッタボックスおよび第2ゲッタボックスの一部を破壊して前記第2開孔を形成する請求項6に記載の画像表示装置の製造方法。   The getter and the wall-breaking member are disposed in the second getter box, and the second getter box is hermetically joined to the first getter box, and then the first getter box and the second getter are joined by the wall-breaking member. The method for manufacturing an image display device according to claim 6, wherein a part of the box is broken to form the second opening. 前記排気の前に、前記第1ゲッタボックスおよび第2ゲッタボックスの壁面の前記第2開孔形成予定部位を周辺の壁厚よりも薄く形成する請求項7に記載の画像表示装置の製造方法。   The method for manufacturing an image display device according to claim 7, wherein the second opening formation scheduled portion of the wall surface of the first getter box and the second getter box is formed thinner than a peripheral wall thickness before the exhaust.
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