JP2008091253A - Image display device and manufacturing method therefor - Google Patents

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Akiyoshi Yamada
晃義 山田
Masataka Tsunemi
政貴 常味
Masanori Uchitsubo
雅則 内坪
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  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an image display device which can maintain high display performance for a long period, and to provide a manufacturing method therefor for reducing the manufacturing cost. <P>SOLUTION: The image display device includes an enclosing unit 10 having a front board 11 and a rear board 12 placed opposite to the front board 11, and a nonvaporizing getter placed inside the enclosing unit 10; and according to the manufacturing method for the image display device, a nonvaporizing getter member 23 is made out of powder of nonvaporizing getter and a metal alkoxide in the enclosing unit 10, and the metal alkoxide is heated to fix the powder of nonvaporizing getter to the inside of the enclosing unit 10. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

この発明は、対向配置された基板を有する外囲器と、外囲器内に内部に設けられたゲッタとを備えた画像表示装置の製造方法、および画像形成装置に関する。   The present invention relates to a method of manufacturing an image display apparatus including an envelope having substrates disposed opposite to each other and a getter provided inside the envelope, and an image forming apparatus.

近年、軽量・薄型の画像表示装置として、液晶の配向を利用して光の強弱を制御する液晶ディスプレイ(以下、LCDと称する)、プラズマ放電の紫外線により蛍光体を発光させるプラズマディスプレイパネル(以下、PDPと称する)、電界放出型電子放出素子の電子ビームにより蛍光体を発光させるフィールドエミッションディスプレイ(以下、FEDと称する)、表面伝導型電子放出素子の電子ビームにより蛍光体を発光させる表面伝導型電子放出ディスプレイ(以下、SEDと称する)などが開発されている。   In recent years, as a lightweight and thin image display device, a liquid crystal display (hereinafter referred to as LCD) that controls the intensity of light using the orientation of liquid crystal, a plasma display panel (hereinafter referred to as LCD) that emits phosphors by ultraviolet rays of plasma discharge. (Referred to as PDP), field emission display (hereinafter referred to as FED) that emits a phosphor with an electron beam of a field emission electron emitter, and surface conduction electron that emits a phosphor with an electron beam of a surface conduction electron emitter. Emission displays (hereinafter referred to as SEDs) have been developed.

例えばFEDでは、一般に、所定の隙間を置いて対向配置された前面基板および背面基板を有し、これらの基板は、矩形枠状の側壁を介して周辺部同士を互いに接合することにより真空外囲器を構成している。前面基板の内面には蛍光体スクリーンが形成され、背面基板の内面には蛍光体を励起して発光させる電子放出源として多数の電子放出素子が設けられている。   For example, an FED generally has a front substrate and a rear substrate that are opposed to each other with a predetermined gap, and these substrates are surrounded by a vacuum by surrounding each other through a rectangular frame-shaped side wall. Make up the vessel. A phosphor screen is formed on the inner surface of the front substrate, and a number of electron-emitting devices are provided on the inner surface of the rear substrate as electron emission sources that excite the phosphor to emit light.

背面基板および前面基板に加わる大気圧荷重を支えるために、これら基板の間には複数の支持部材が配設されている。背面基板側の電位はほぼアース電位であり、蛍光面にはアノード電圧として例えば10kVが印加される。蛍光体スクリーンを構成する赤、緑、青の蛍光体に電子放出素子から放出された電子ビームを照射し、蛍光体を発光させることによって画像を表示する。   In order to support an atmospheric pressure load applied to the back substrate and the front substrate, a plurality of support members are disposed between these substrates. The potential on the back substrate side is almost the ground potential, and 10 kV, for example, is applied as an anode voltage to the phosphor screen. An image is displayed by irradiating the phosphors of red, green, and blue constituting the phosphor screen with the electron beams emitted from the electron-emitting devices and causing the phosphors to emit light.

このようなFEDにおいては、外囲器内部を高い真空度に維持することが重要となる。真空度が低いと、安定した電子放出ができず、画像表示装置の寿命が低下する。また、PDPでは、外囲器の内部を満たした不活性ガスを高純度に保つことが重要な技術となっている。   In such an FED, it is important to maintain a high degree of vacuum inside the envelope. If the degree of vacuum is low, stable electron emission cannot be performed, and the life of the image display device is reduced. Further, in PDP, it is an important technique to keep the inert gas filling the inside of the envelope with high purity.

長期間に渡って外囲器内を高真空に維持するため、外囲器内には放出ガスを吸着するゲッタ材が設けられ重要な役割を果たしている。従来、ゲッタ材のガス吸着特性を向上させるため、真空処理装置内でゲッタ材を前面基板または背面基板の内面、あるいはその他の構造物に蒸着し、更に、両基板を真空中で封着して外囲器を形成する画像表示装置の製造方法および製造装置が提案されている(例えば、特許文献1参照)。また、例えば、PDPのパネル側辺に隣り合う領域に非蒸発型ゲッタ層を形成する方法が提案されている(例えば、特許文献2参照)。
特開2001−229824号公報 特開平11−191378号公報
In order to maintain a high vacuum in the envelope for a long period of time, a getter material that adsorbs the released gas is provided in the envelope and plays an important role. Conventionally, in order to improve the gas adsorption characteristics of the getter material, the getter material is deposited on the inner surface of the front substrate or the rear substrate or other structure in a vacuum processing apparatus, and both the substrates are sealed in a vacuum. A manufacturing method and a manufacturing apparatus for an image display device forming an envelope have been proposed (see, for example, Patent Document 1). For example, a method of forming a non-evaporable getter layer in a region adjacent to the panel side of the PDP has been proposed (see, for example, Patent Document 2).
JP 2001-229824 A JP-A-11-191378

真空処理装置内でゲッタ膜の形成、および外囲器の封着を行う方法では、不所望なガス分子は効率的にゲッタ膜に吸着される。そのため、FEDの真空外囲器内部は長期間にわたって高い真空度に維持される。   In the method of forming a getter film and sealing an envelope in a vacuum processing apparatus, undesired gas molecules are efficiently adsorbed on the getter film. For this reason, the inside of the vacuum envelope of the FED is maintained at a high degree of vacuum over a long period of time.

しかしながら、この方法では大型の真空処理装置を使用するため、製造コストが高くなり、結果として画像表示装置のコストも高くなる。蛍光体スクリーンの全面に亘って蒸発型のゲッタ膜を蒸着形成すると、輝度が低下するという性能上の問題も生じる。また、背面基板側に設けられた電子放出素子や配線に重ねてゲッタ膜を設けた場合、耐圧が劣化し、あるいは、配線が短絡する問題を生じる。   However, since this method uses a large vacuum processing apparatus, the manufacturing cost increases, and as a result, the cost of the image display apparatus also increases. When an evaporative getter film is deposited over the entire surface of the phosphor screen, there is a problem in performance that the luminance is lowered. In addition, when a getter film is provided over the electron-emitting device and the wiring provided on the back substrate side, the breakdown voltage is deteriorated, or the wiring is short-circuited.

また、パネル側辺に隣り合う領域に非蒸発型のゲッタ膜を形成する方法では、ゲッタから離れた領域、すなわち蛍光体スクリーンの中央部に存在する不所望なガス分子を効率的にゲッタに吸着することができない。そのため、真空外囲器の中央部のガス圧が高くなり、表示装置中央部の輝度が低下する。更に、コンダクタンスの小さい排気管や排気孔から外囲器内を排気している状態で基板を加熱すると、放出ガスによって外囲器内の圧力が上昇し、十分なゲッタ特性を得られるまでゲッタを活性化することが困難となる。   In addition, in the method of forming a non-evaporable getter film in the area adjacent to the side of the panel, undesired gas molecules existing in the area away from the getter, that is, in the central part of the phosphor screen are efficiently adsorbed to the getter. Can not do it. Therefore, the gas pressure at the center of the vacuum envelope increases, and the brightness at the center of the display device decreases. Furthermore, if the substrate is heated with the exhaust pipe or exhaust hole having a small conductance being exhausted, the pressure inside the envelope rises due to the released gas, and the getter is removed until sufficient getter characteristics are obtained. It becomes difficult to activate.

この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、長期にわたって良好な表示性能を維持することができ、製造コストの低減を図ることが可能な画像表示装置の製造方法および画像表示装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide an image display device manufacturing method and an image display device capable of maintaining good display performance over a long period of time and reducing the manufacturing cost. Is to provide.

この発明の態様に係る画像表示装置の製造方法は、前面基板およびこの前面基板に対向配置され背面基板を有する外囲器と、前記外囲器内に設けられた非蒸発型のゲッタと、を備えた画像表示装置の製造方法において、非蒸発型ゲッタの粉末と金属アルコキシドとにより前記外囲器内に非蒸発型ゲッタ部材を形成し、前記金属アルコキシドを加熱して前記非蒸発型ゲッタの粉末を前記外囲器内に固着することを特徴としている。   An image display device manufacturing method according to an aspect of the present invention includes a front substrate, an envelope disposed opposite to the front substrate and having a rear substrate, and a non-evaporable getter provided in the envelope. A non-evaporable getter powder is formed in the envelope by a non-evaporable getter powder and a metal alkoxide, and the non-evaporable getter powder is heated by heating the metal alkoxide. Is fixed in the envelope.

この発明の他の形態に係る画像表示装置は、前面基板およびこの前面基板に対向配置され背面基板を有する外囲器と、非蒸発型ゲッタの粉末と金属アルコキシドとにより前記外囲器内に形成された非蒸発型ゲッタ部材と、を備えている。   An image display device according to another embodiment of the present invention is formed in the envelope by a front substrate, an envelope disposed opposite to the front substrate and having a rear substrate, non-evaporable getter powder and metal alkoxide. A non-evaporable getter member.

本発明の様態によれば、高価な真空装置を用いることなく、非蒸発型ゲッタを効果的に機能させることが可能となり、長期にわたって高い表示性能を維持することができとともに、製造コストの低減を図ることが可能な画像表示装置の製造方法および画像形成装置を提供することができる。   According to the aspect of the present invention, it is possible to effectively function a non-evaporable getter without using an expensive vacuum apparatus, and it is possible to maintain high display performance over a long period of time and to reduce manufacturing costs. It is possible to provide an image display apparatus manufacturing method and an image forming apparatus that can be realized.

以下図面を参照しながら、この発明の実施形態に係る画像表示装置の製造方法および画像表示装置について詳細に説明する。ここでは、画像表示装置の一例として、表面導電型の電子放出素子を備えたSEDについて説明する。
図1および図2に示すように、SEDは、それぞれ矩形状のガラス板からなる前面基板11、および背面基板12を備え、これらの基板は所定の間隔で対向配置されている。背面基板12は、前面基板11よりも大きな寸法に形成されている。前面基板11および背面基板12は、矩形枠状の側壁13を介して周縁部同士が接合され、内部が真空状態に維持された偏平な外囲器10を構成している。接合部材として機能する側壁13は、例えば、低融点ガラス、低融点金属等の封着材25により、前面基板11の周縁部および背面基板12の周縁部に封着され、これらの基板同士を接合している。
Hereinafter, an image display device manufacturing method and an image display device according to embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Here, as an example of the image display device, an SED including a surface-conduction electron-emitting device will be described.
As shown in FIGS. 1 and 2, the SED includes a front substrate 11 and a rear substrate 12 each made of a rectangular glass plate, and these substrates are arranged to face each other at a predetermined interval. The back substrate 12 is formed with a size larger than that of the front substrate 11. The front substrate 11 and the back substrate 12 constitute a flat envelope 10 whose peripheral portions are joined to each other through a rectangular frame-shaped side wall 13 and the inside is maintained in a vacuum state. The side wall 13 functioning as a bonding member is sealed to the peripheral edge of the front substrate 11 and the peripheral edge of the back substrate 12 by, for example, a sealing material 25 such as low melting glass or low melting metal, and these substrates are bonded to each other. is doing.

外囲器10の内部には、前面基板11および背面基板12に加わる大気圧荷重を支えるため、複数の板状の支持部材14が設けられている。これらの支持部材14は、外囲器10の一辺と平行な方向にそれぞれ延在しているとともに、上記一辺と直交する方向に沿って所定の間隔を置いて配置されている。各支持部材14の長手方向両端部は、それぞれ側壁13と隙間を置いて対向している。   A plurality of plate-like support members 14 are provided inside the envelope 10 in order to support an atmospheric pressure load applied to the front substrate 11 and the rear substrate 12. These support members 14 extend in a direction parallel to one side of the envelope 10 and are arranged at a predetermined interval along a direction orthogonal to the one side. Both ends in the longitudinal direction of each support member 14 are opposed to the side wall 13 with a gap.

図2ないし図4に示すように、前面基板11の内面には、画像表示面として機能する蛍光体スクリーン16が形成されている。この蛍光体スクリーン16は、赤、緑、青の蛍光体層R、G、B、およびこれらの蛍光体層間に位置した黒色の遮光層20を並べて構成されている。赤、緑、青の3色の蛍光体層R、G、Bは、前面基板11の長辺と平行な第1方向に隙間を置いて交互に並んで形成され、同一色の蛍光体層が第1方向と直交する第2方向に隙間を置いて配列されている。蛍光体層R、G、Bはそれぞれ、赤、緑、青の単色でサブピクセルを構成し、3色のサブピクセルを合わせて一画素を構成している。   As shown in FIGS. 2 to 4, a phosphor screen 16 that functions as an image display surface is formed on the inner surface of the front substrate 11. The phosphor screen 16 is configured by arranging red, green, and blue phosphor layers R, G, and B, and a black light-shielding layer 20 positioned between the phosphor layers. The phosphor layers R, G, and B of three colors of red, green, and blue are formed alternately with a gap in the first direction parallel to the long side of the front substrate 11, and the phosphor layers of the same color are formed. They are arranged with a gap in a second direction orthogonal to the first direction. Each of the phosphor layers R, G, and B constitutes a subpixel with single colors of red, green, and blue, and constitutes one pixel by combining the subpixels of three colors.

蛍光体スクリーン16の遮光層20に重ねてマトリクス状の分断層31が形成されている。蛍光体スクリーン16上には、アルミニウム膜等からなるメタルバック層17が形成されている。本実施形態によれば、メタルバック層17は、分断層31により縦方向および横方向に分断され、互いに電気的に分離した複数の分断領域を有している。分断層31により夫々が互いに電気的に分断したメタルバック層17は、蛍光体層R、G、Bに夫々重なって位置している。   A matrix-shaped dividing layer 31 is formed so as to overlap the light shielding layer 20 of the phosphor screen 16. A metal back layer 17 made of an aluminum film or the like is formed on the phosphor screen 16. According to this embodiment, the metal back layer 17 is divided in the vertical direction and the horizontal direction by the dividing layer 31 and has a plurality of divided regions that are electrically separated from each other. The metal back layers 17 that are electrically separated from each other by the dividing layer 31 are positioned so as to overlap the phosphor layers R, G, and B, respectively.

蛍光体スクリーン16の遮光層20に重ねて、ここでは、分断層31に重ねて、非蒸発型のゲッタ膜23がパターン形成されている。ゲッタ膜23は、後述するように、非蒸発型ゲッタと金属アルコキシドによって作られて非蒸発型ゲッタ部材により形成され、蛍光体スクリーン16上に所定の面積で配置されている。すなわち、ゲッタ膜23は、蛍光体層R、G、B上を避けるように分断層31上に重ねて形成され、互いに電気的に分断された複数の領域を有している。ゲッタ膜23は、遮光層20上に重なる領域にだけ設けても良いが、蛍光体層R、G、Bに重なる領域であっても、対応する電子放出素子18からの電子ビームが当たらない領域であれば重ねて設けても良い。   A non-evaporable getter film 23 is formed in a pattern on the light shielding layer 20 of the phosphor screen 16, and here on the dividing layer 31. As will be described later, the getter film 23 is made of a non-evaporable getter and a metal alkoxide, is formed of a non-evaporable getter member, and is disposed on the phosphor screen 16 with a predetermined area. That is, the getter film 23 is formed so as to overlap the dividing layer 31 so as to avoid the phosphor layers R, G, and B, and has a plurality of regions that are electrically separated from each other. The getter film 23 may be provided only in a region that overlaps the light shielding layer 20, but even in a region that overlaps the phosphor layers R, G, and B, a region that does not receive the electron beam from the corresponding electron-emitting device 18 If so, they may be stacked.

図2に示すように、背面基板12の内面上には、蛍光体スクリーン16の蛍光体層R、G、Bを励起する電子源として、それぞれ電子ビームを放出する多数の表面伝導型の電子放出素子18が設けられている。これらの電子放出素子18は、画素毎に対応して複数列および複数行に配列されている。各電子放出素子18は、図示しない電子放出部、この電子放出部に電圧を印加する一対の素子電極等で構成されている。背面基板12の内面には、電子放出素子18に電位を供給する多数本の配線21がマトリック状に設けられ、その端部は外囲器10の外部に引出されている。   As shown in FIG. 2, on the inner surface of the back substrate 12, a number of surface conduction type electron emitters each emitting an electron beam as an electron source for exciting the phosphor layers R, G, B of the phosphor screen 16 are provided. An element 18 is provided. These electron-emitting devices 18 are arranged in a plurality of columns and a plurality of rows corresponding to each pixel. Each electron-emitting device 18 includes an electron emitting portion (not shown) and a pair of device electrodes for applying a voltage to the electron emitting portion. A large number of wirings 21 for supplying a potential to the electron-emitting devices 18 are provided in a matrix on the inner surface of the rear substrate 12, and end portions thereof are drawn out of the envelope 10.

背面基板12の周縁部、例えば、コーナー部には排気工程において外囲器10内部を排気するための排気孔29が貫通形成されている。排気孔29は、蛍光体スクリーン16から外れた位置、つまり、有効表示領域から外れた位置に設けられている。排気孔29は蓋部材30によって気密に封止されている。排気孔29は、1つに限らず、必要に応じて増加可能である。   Exhaust holes 29 for exhausting the inside of the envelope 10 in the exhaust process are formed through the periphery of the back substrate 12, for example, corners. The exhaust hole 29 is provided at a position away from the phosphor screen 16, that is, at a position away from the effective display area. The exhaust hole 29 is hermetically sealed by the lid member 30. The number of exhaust holes 29 is not limited to one, and can be increased as necessary.

このようなSEDでは、画像を表示する場合、蛍光体スクリーン16およびメタルバック層17にアノード電圧を印加して、電子放出素子18から放出された電子ビームをアノード電圧により加速して蛍光体スクリーンへ衝突させる。これにより、蛍光体スクリーン16の蛍光体層R、G、Bが励起されて発光し、カラー画像を表示する。   In such an SED, when displaying an image, an anode voltage is applied to the phosphor screen 16 and the metal back layer 17, and the electron beam emitted from the electron-emitting device 18 is accelerated by the anode voltage to the phosphor screen. Collide. Thereby, the phosphor layers R, G, and B of the phosphor screen 16 are excited to emit light, and a color image is displayed.

次に、ゲッタ膜23を形成する非蒸発型ゲッタ部材の物性、およびSEDの製造方法について説明する。
非蒸発型ゲッタ部材は、上述したように非蒸発型ゲッタと金属アルコキシドを混ぜて形成される。本実施形態では、Zr、V、およびFeを配合した混合物をアークメルトにより溶解してインゴットを溶製し、このインゴットを粉砕機により平均粒径10μm程度に粉砕して非蒸発型ゲッタの粉末を製造する。溶媒がエタノールからなるSiアルコキシドを用意し、上記のように製造した非蒸発型ゲッタの粉末とSiアルコキシド(溶液時)とを重量比5:3で混合して非蒸発型ゲッタ部材の溶液を製造した。
Next, the physical properties of the non-evaporable getter member forming the getter film 23 and the SED manufacturing method will be described.
The non-evaporable getter member is formed by mixing the non-evaporable getter and the metal alkoxide as described above. In this embodiment, a mixture containing Zr, V, and Fe is melted by arc melting to produce an ingot, and this ingot is ground to an average particle size of about 10 μm by a pulverizer to obtain non-evaporable getter powder. To manufacture. Prepare Si alkoxide with ethanol as solvent and mix non-evaporable getter powder prepared as above with Si alkoxide (in solution) at a weight ratio of 5: 3 to produce non-evaporable getter member solution did.

非蒸発型ゲッタの粉末の粒径は、200μm以下が望ましい。粒径が大きいと接着力を得にくく、さらに単位重量あたりの吸着効率も悪くなり効率が悪い。また、金属アルコキシドは、表層がアルキル基で終端されていればよく、金属材料は何でもよい。例えば、金属材料として、Al、Si、Ba、B、Bi、Ca、Fe、Ga、Ge、Hf、Mo、Sn、V、W、Yを用いることができる。非蒸発型ゲッタの粉末に対する金属アルコキシドの混合比は、十分な接着強度を得ることができる最小の量であることが望ましく、塗布方法によっても適切な混合比を選択することが望ましい。   The particle size of the non-evaporable getter powder is desirably 200 μm or less. When the particle size is large, it is difficult to obtain an adhesive force, and further, the adsorption efficiency per unit weight is deteriorated and the efficiency is poor. The metal alkoxide may be any metal material as long as the surface layer is terminated with an alkyl group. For example, Al, Si, Ba, B, Bi, Ca, Fe, Ga, Ge, Hf, Mo, Sn, V, W, and Y can be used as the metal material. The mixing ratio of the metal alkoxide to the non-evaporable getter powder is desirably the minimum amount capable of obtaining sufficient adhesive strength, and it is desirable to select an appropriate mixing ratio depending on the coating method.

製造工程においては、まず、前面基板11となる板ガラスに蛍光体スクリーン16を形成する。続いて、蛍光体スクリーン16の遮光層20に重ねてマトリクス状の分断層31を形成した後、蛍光体スクリーン16に重ねてアルミニウム膜等からなるメタルバック層17を蒸着形成する。メタルバック層17は、分断層により縦方向および横方向に分断され、互いに電気的に分離した複数の分断領域を形成する。   In the manufacturing process, first, the phosphor screen 16 is formed on the plate glass to be the front substrate 11. Subsequently, a matrix-shaped dividing layer 31 is formed on the light shielding layer 20 of the phosphor screen 16, and then a metal back layer 17 made of an aluminum film or the like is deposited on the phosphor screen 16 by vapor deposition. The metal back layer 17 is divided in the vertical direction and the horizontal direction by the dividing line, and forms a plurality of divided regions that are electrically separated from each other.

続いて、上記のように製造した非蒸発型ゲッタ部材を、メタルマスクを介して分断層31上にスプレーし、パターンニングされたゲッタ膜23を形成する。パターニングされたゲッタ膜23を100℃程度の温度で加熱し、前面基板11に固着させる。図5は、非蒸発型ゲッタの粒子23aおよび金属アルコキシド23bにより形成されたゲッタ膜23を拡大して示している。非蒸発型のゲッタ膜23の膜厚を30μm程度に設定した。   Subsequently, the non-evaporable getter member manufactured as described above is sprayed onto the dividing layer 31 through a metal mask to form a patterned getter film 23. The patterned getter film 23 is heated at a temperature of about 100 ° C. and fixed to the front substrate 11. FIG. 5 shows an enlarged view of the getter film 23 formed of the non-evaporable getter particles 23a and the metal alkoxide 23b. The film thickness of the non-evaporable getter film 23 was set to about 30 μm.

ゲッタ膜23を形成した後、金属アルコキシド23bを加熱すると、金属アルコキシド23bはポーラスな網目構造となり、非蒸発型ゲッタの粒子23a同士を強固に接着するとともに、非蒸発型ゲッタの粒子23aの表面を比較的大きな面積で露出させることができる。そのため、後の活性化工程で非蒸発型ゲッタ粒子23aを活性化させた後、非蒸発型ゲッタのガス吸着機能を十分に発揮させることができる。   When the metal alkoxide 23b is heated after the getter film 23 is formed, the metal alkoxide 23b becomes a porous network structure, and firmly adheres the non-evaporable getter particles 23a to each other and attaches the surface of the non-evaporable getter particles 23a. It can be exposed in a relatively large area. Therefore, after the non-evaporable getter particles 23a are activated in the subsequent activation step, the gas adsorption function of the non-evaporable getter can be sufficiently exhibited.

なお、ゲッタ膜23の形成は、スプレー法に限らず、インクジェット方式やディスペンサー塗布方式、印刷法などの他の方法を用いても良い。印刷法で塗布する場合には、低粘度溶液でも容易に成膜できるフレキソ印刷法が良い。   The formation of the getter film 23 is not limited to the spray method, and other methods such as an inkjet method, a dispenser coating method, and a printing method may be used. When applying by the printing method, the flexographic printing method which can form a film easily even with a low-viscosity solution is preferable.

ゲッタ膜23の膜厚は、30μmに限らず、1〜500μm程度に設定され、好ましくは10〜100μm程度に設定される。ゲッタ膜23の膜厚が1μmより薄いと、後述するように非蒸発型ゲッタを活性化させた後のガス吸着能力が不十分となり、膜厚が500μmを超えるとゲッタ膜23が剥れ易くなってしまう。ゲッタ膜23の膜厚が100μm以下であれば剥れることは殆どなく、10μm以上であればガス吸着能力も十分となる。膜厚の好適な数値範囲は、本実施形態のゲッタ膜23を加熱して前面基板に固着させたときのポーラスな構造に起因するものである。   The film thickness of the getter film 23 is not limited to 30 μm, but is set to about 1 to 500 μm, preferably about 10 to 100 μm. If the film thickness of the getter film 23 is thinner than 1 μm, the gas adsorbing ability after activating the non-evaporable getter will be insufficient as will be described later, and if the film thickness exceeds 500 μm, the getter film 23 tends to peel off. End up. If the thickness of the getter film 23 is 100 μm or less, it hardly peels off, and if it is 10 μm or more, the gas adsorption capability is sufficient. The preferable numerical range of the film thickness is due to the porous structure when the getter film 23 of the present embodiment is heated and fixed to the front substrate.

続いて、封着材25として、軟化温度が350〜500℃程度の低融点ガラスを前面基板11の内面外周部に沿って矩形枠状に塗布して封着層を形成する。大気中で低融点ガラスを仮焼成して有機溶剤と樹脂を除去しておく。   Subsequently, as the sealing material 25, a low-melting glass having a softening temperature of about 350 to 500 ° C. is applied in a rectangular frame shape along the outer periphery of the inner surface of the front substrate 11 to form a sealing layer. The low melting point glass is temporarily fired in the atmosphere to remove the organic solvent and the resin.

一方、背面基板12用の板ガラスに電子放出素子18および配線21を形成する。次に、封着材25としての低融点ガラスを背面基板12の内面外周部に沿って矩形枠状に塗布し封着層を形成する。この背面基板12を大気中で仮焼成する。その後、封着層上に側壁13を位置合わせした後、大気中で低融点ガラスの結晶析出温度まで昇温しその温度を保持することにより側壁13を背面基板12に封着する。この後、電子放出素子18の活性化を行う。次いで、複数の支持部材14を背面基板12に対して位置合わせし、その端部を背面基板に固着する。   On the other hand, the electron-emitting device 18 and the wiring 21 are formed on the plate glass for the back substrate 12. Next, low melting point glass as the sealing material 25 is applied in a rectangular frame shape along the inner periphery of the back substrate 12 to form a sealing layer. The back substrate 12 is temporarily fired in the atmosphere. Thereafter, after aligning the side wall 13 on the sealing layer, the side wall 13 is sealed to the back substrate 12 by raising the temperature to the crystal precipitation temperature of the low melting point glass in the air and maintaining the temperature. Thereafter, the electron-emitting device 18 is activated. Next, the plurality of support members 14 are aligned with respect to the back substrate 12, and the end portions thereof are fixed to the back substrate.

続いて、上記のように形成された前面基板11および背面基板12の周縁部同士を封着する。この際、前面基板11と背面基板12を真空チャンバ内に配置して周縁部同士を封着することで最も良い特性を得ることができるが、大型の真空チャンバを用意する必要があり製造コストが高くなってしまう。そこで、本実施の形態では、前面基板11と背面基板12とを互いに位置合わせし、一定の隙間を置いて対向配置した状態で図示しない加熱炉内に投入する。そして、前面基板11および背面基板12を500℃程度に加熱する。加熱により、予め塗布された低融点ガラスの溶融が始まる。例えば、30分かけてアルゴン雰囲気にて約500℃に温度が保持され、低融点ガラスが溶融するとともに結晶析出が始まる。その後、低融点ガラスの結晶析出がほぼ完了し、背面基板12、前面基板11が低融点ガラスにより側壁13を介して互いに封着される。   Subsequently, the peripheral portions of the front substrate 11 and the back substrate 12 formed as described above are sealed. At this time, the best characteristics can be obtained by arranging the front substrate 11 and the rear substrate 12 in the vacuum chamber and sealing the peripheral portions, but it is necessary to prepare a large vacuum chamber and the production cost is reduced. It will be high. Therefore, in the present embodiment, the front substrate 11 and the rear substrate 12 are aligned with each other, and placed in a heating furnace (not shown) in a state of being opposed to each other with a certain gap. And the front substrate 11 and the back substrate 12 are heated to about 500 degreeC. By heating, melting of the low melting point glass previously applied starts. For example, the temperature is maintained at about 500 ° C. in an argon atmosphere over 30 minutes, and the low melting point glass melts and crystal precipitation begins. Thereafter, crystal precipitation of the low melting point glass is almost completed, and the back substrate 12 and the front substrate 11 are sealed to each other through the side wall 13 by the low melting point glass.

続いて、加熱炉内の温度をゲッタ膜の活性化温度よりも高い高温、例えば、400〜450℃に維持し、前面基板11および背面基板12を1時間程度ベーキングする。これにより、前面基板、背面基板、蛍光体スクリーン、電子放出素子に吸着していた不所望なガス成分を放出させ脱ガスを行う。電子放出素子の酸化を防ぐため、加熱炉内を不活性雰囲気、還元雰囲気にて封着およびベーキングを行なうことが望ましい。時間、温度により雰囲気を選択することが可能である。   Subsequently, the temperature in the heating furnace is maintained at a high temperature higher than the activation temperature of the getter film, for example, 400 to 450 ° C., and the front substrate 11 and the back substrate 12 are baked for about 1 hour. As a result, undesired gas components adsorbed on the front substrate, the rear substrate, the phosphor screen, and the electron-emitting device are released to perform degassing. In order to prevent oxidation of the electron-emitting device, it is desirable to seal and bake the inside of the heating furnace in an inert atmosphere and a reducing atmosphere. The atmosphere can be selected according to time and temperature.

ベーキングによる脱ガスの間、排気ポンプにより、排気孔29から外囲器10内部を排気する。これにより、基板、蛍光体スクリーン等から脱離したガス成分が外囲器10から外部へ排出され、外囲器10内部は清浄な真空状態となる。   During the degassing by baking, the inside of the envelope 10 is exhausted from the exhaust hole 29 by the exhaust pump. As a result, gas components desorbed from the substrate, the phosphor screen, and the like are discharged from the envelope 10 to the outside, and the inside of the envelope 10 is in a clean vacuum state.

外囲器10内部の真空度が1×10−3Pa以下となったところで、前面基板11および背面基板12を350〜500℃程度で所定時間、例えば、2時間、加熱して非蒸発ゲッタを活性化する。これにより、活性化されたゲッタ膜23は、吸着能力がほぼ劣化することなく動作状態となる。 When the degree of vacuum inside the envelope 10 is 1 × 10 −3 Pa or less, the front substrate 11 and the back substrate 12 are heated at about 350 to 500 ° C. for a predetermined time, for example, 2 hours, and the non-evaporable getter is Activate. As a result, the activated getter film 23 is in an operating state without substantially deteriorating the adsorption capability.

非蒸発型のゲッタ膜23の活性化が終了した後、外囲器10を所望の温度まで降温し、蓋部材30により外囲器10の排気孔29を気密に封止する。蓋部材30の封止は、インジウム等の低融点金属による封着、局所加熱による溶着など公知の技術を用いて行うことができる。次いで、外囲器10は、加熱炉から取り出される。以上の工程によりSEDの外囲器10が完成する。   After the activation of the non-evaporable getter film 23 is completed, the envelope 10 is cooled to a desired temperature, and the exhaust hole 29 of the envelope 10 is hermetically sealed by the lid member 30. The lid member 30 can be sealed using a known technique such as sealing with a low melting point metal such as indium or welding by local heating. Next, the envelope 10 is removed from the heating furnace. The SED envelope 10 is completed through the above steps.

上記のように構成されたSEDおよび製造方法によれば、非蒸発型ゲッタおよび金属アルコキシドで形成されたゲッタ膜23は、蛍光体スクリーン16の全面にわたって形成されているとともに、蛍光体層R、G、B上を避けるよう遮光層20上に形成されている。そのため、ゲッタ膜23により輝度を低下させずに外囲器10内部全体を高い真空度に維持することが可能となる。   According to the SED and the manufacturing method configured as described above, the getter film 23 formed of the non-evaporable getter and the metal alkoxide is formed over the entire surface of the phosphor screen 16 and the phosphor layers R and G. , B is formed on the light shielding layer 20 so as to avoid it. For this reason, the entire interior of the envelope 10 can be maintained at a high degree of vacuum without lowering the luminance by the getter film 23.

ゲッタ膜を非蒸発型ゲッタおよび金属アルコキシドを混合した非蒸発型ゲッタ部材で形成することにより、活性化工程において非蒸発型ゲッタ部材を加熱した場合でも、有機バインダーを用いた場合のように有機ガスが発生する心配がなく、非蒸着型ゲッタの性能劣化を防止することができる。また、金属アルコキシドは、ポーラスな構造を有していることから、非蒸着型ゲッタの露出面積が大きく、高いガス吸着能力を有したゲッタ膜が得られる。同時に、SEDの動作時においても、有機ガスの発生を防止することができる。これにより、長期間に亘って高い表示性能を維持可能なSEDを得ることができる。   By forming the getter film with a non-evaporable getter member in which a non-evaporable getter and a metal alkoxide are mixed, even when the non-evaporable getter member is heated in the activation process, an organic gas is used as in the case of using an organic binder. Therefore, it is possible to prevent the performance deterioration of the non-deposition type getter. Further, since the metal alkoxide has a porous structure, the exposed area of the non-deposition type getter is large, and a getter film having a high gas adsorption capability can be obtained. At the same time, the generation of organic gas can be prevented even during the operation of the SED. Thereby, an SED capable of maintaining high display performance over a long period of time can be obtained.

以上のことから、非蒸発型ゲッタを効果的に機能させることが可能となり、長期にわたって高い表示性能を維持することができとともに、高価な真空装置を用いることなく、製造コストの低減を図ることが可能な画像表示装置の製造方法および画像形成装置を提供することができる。   From the above, the non-evaporable getter can be effectively functioned, high display performance can be maintained for a long time, and the manufacturing cost can be reduced without using an expensive vacuum device. It is possible to provide a method for manufacturing an image display device and an image forming apparatus.

この発明は上述した実施の形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。実施の形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよいし、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be embodied by modifying the constituent elements without departing from the scope of the invention in the implementation stage. In addition, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of components disclosed in the embodiment. Some constituent elements may be deleted from all the constituent elements shown in the embodiments, or constituent elements over different embodiments may be appropriately combined.

上述した実施形態では、ゲッタ膜の形成対象となる部材として、内面に蛍光体スクリーンを有する前面基板を備えたSEDを例にとって説明したが、この発明はこれに限定されること無く、FED、PDP等の他の表示装置に適用することもできる。   In the above-described embodiment, the SED provided with the front substrate having the phosphor screen on the inner surface has been described as an example of the member to be the getter film. However, the present invention is not limited to this, and the FED and PDP are not limited thereto. The present invention can also be applied to other display devices.

各構成要素の寸法、材料等は、上述した実施形態で例示した数値、材料に限定されることなく、必要に応じて種々選択可能である。ゲッタとしては、Zr、V、Feに限らず、Ti、Al、Cr、Nb、Ta、W、Mo、Th、Ni、Mnなどの金属、あるいはこれらの合金を用いても良い。   The dimensions, materials, and the like of each component are not limited to the numerical values and materials exemplified in the above-described embodiment, and can be variously selected as necessary. The getter is not limited to Zr, V, and Fe, and may be a metal such as Ti, Al, Cr, Nb, Ta, W, Mo, Th, Ni, or Mn, or an alloy thereof.

上述した実施形態では、非蒸発型ゲッタ部材を蛍光体スクリーン上に設ける構成としたが、これに限らず、ゲッタ部材を外囲器内に位置した他の構成部材に形成してもよい。例えば、背面基板12側の構造物に非蒸発型ゲッタ部材を設ける場合、電子放出素子18から外れた位置で配線21を短絡することのない位置に形成すれば良い。   In the embodiment described above, the non-evaporable getter member is provided on the phosphor screen. However, the present invention is not limited to this, and the getter member may be formed on another constituent member located in the envelope. For example, when the non-evaporable getter member is provided on the structure on the back substrate 12 side, the wiring 21 may be formed at a position where the wiring 21 is not short-circuited at a position away from the electron-emitting device 18.

図1は、この発明の実施形態に係るSEDを一部破断して示す斜視図。FIG. 1 is a perspective view showing a partially broken SED according to an embodiment of the present invention. 図2は、図1の線A−Aに沿ったSEDの断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view of the SED along line AA in FIG. 図3は、前記SEDの前面基板および蛍光体スクリーンの一部を拡大して示す平面図。FIG. 3 is an enlarged plan view showing a part of the front substrate and phosphor screen of the SED. 図4は、図3の線B−Bに沿った前面基板の断面図。4 is a cross-sectional view of the front substrate along the line BB in FIG. 3. 図5は、前記SEDの非蒸発型のゲッタ膜を拡大して示す断面図。FIG. 5 is an enlarged sectional view showing a non-evaporable getter film of the SED.

符号の説明Explanation of symbols

10…外囲器、 11…前面基板、 12…背面基板、 13…側壁、
14…支持部材、 16…蛍光体スクリーン、 17…メタルバック層、
18…電子放出素子、 R、G、B…蛍光体層、 20…遮光層、
23…非蒸発型のゲッタ膜、 23a…ゲッタの粉末、 23b…金属アルコキシド
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Envelope, 11 ... Front substrate, 12 ... Back substrate, 13 ... Side wall,
14 ... support member, 16 ... phosphor screen, 17 ... metal back layer,
18 ... electron-emitting device, R, G, B ... phosphor layer, 20 ... light shielding layer,
23 ... Non-evaporable getter film, 23a ... Getter powder, 23b ... Metal alkoxide

Claims (17)

前面基板およびこの前面基板に対向配置され背面基板を有する外囲器と、前記外囲器内に設けられた非蒸発型のゲッタと、を備えた画像表示装置の製造方法において、
非蒸発型ゲッタの粉末と金属アルコキシドとにより前記外囲器内に非蒸発型ゲッタ部材を形成し、
前記金属アルコキシドを加熱して前記非蒸発型ゲッタの粉末を前記外囲器内に固着する画像表示装置の製造方法。
In a manufacturing method of an image display device comprising: a front substrate, an envelope disposed opposite to the front substrate and having a rear substrate; and a non-evaporable getter provided in the envelope.
A non-evaporable getter member is formed in the envelope by the non-evaporable getter powder and the metal alkoxide,
A method of manufacturing an image display device, wherein the metal alkoxide is heated to fix the non-evaporable getter powder in the envelope.
前記非蒸発型ゲッタの粉末と金属アルコキシドとを有する前記非蒸発型ゲッタ部材を前記外囲器内に塗布して成膜し、ゲッタ膜を形成する請求項1に記載の画像表示装置の製造方法。   The method of manufacturing an image display device according to claim 1, wherein the non-evaporable getter member including the non-evaporable getter powder and the metal alkoxide is applied and formed in the envelope to form a getter film. . 前記ゲッタ膜は、印刷法、インクジェット方式、ディスペンサー塗布方式、スプレー法により製膜されていることを特徴とする請求項2に記載の画像表示装置の製造方法。   The method for manufacturing an image display device according to claim 2, wherein the getter film is formed by a printing method, an inkjet method, a dispenser coating method, or a spray method. 金属アルコキシドは、Al、Si、Ba、B、Bi、Ca、Fe、Ga、Ge、Hf、Mo、Sn、V、W、Yの金属、あるいは、これらの合金を用いる請求項1記載の画像表示装置の製造方法。   2. The image display according to claim 1, wherein the metal alkoxide uses Al, Si, Ba, B, Bi, Ca, Fe, Ga, Ge, Hf, Mo, Sn, V, W, Y, or an alloy thereof. Device manufacturing method. 上記被蒸発型ゲッタ部材は、1ないし500μmの膜厚に形成する請求項1記載の画像表示装置の製造方法。   2. The method of manufacturing an image display device according to claim 1, wherein the evaporable getter member is formed to a thickness of 1 to 500 [mu] m. 上記被蒸発型ゲッタ部材は、10ないし100μmの膜厚に形成する請求項5に記載の画像表示装置の製造方法。   6. The method of manufacturing an image display device according to claim 5, wherein the evaporable getter member is formed to a thickness of 10 to 100 [mu] m. 上記非蒸発型ゲッタは、Ti、Zr、V、Fe、Al、Cr、Nb、Ta、W、Mo、Ni、Mnのうち1種類以上の金属、または2種類以上の合金を用いる請求項1ないし6のいずれか1項に記載の画像表示装置の製造方法。   The non-evaporable getter uses one or more metals or two or more alloys of Ti, Zr, V, Fe, Al, Cr, Nb, Ta, W, Mo, Ni, and Mn. 7. A method for manufacturing an image display device according to claim 1. 上記非蒸発型ゲッタの粉末は、200μm以下の粒径とする請求項1に記載の画像表示装置の製造方法。   The method for manufacturing an image display device according to claim 1, wherein the non-evaporable getter powder has a particle size of 200 μm or less. 前記非蒸発型ゲッタ部材を形成した後、前記前面基板および背面基板の周縁部同士を封着し、
前記外囲器を前記非蒸発型のゲッタの活性化温度よりも高い温度で加熱して、前記外囲器内を脱ガスし、
前記脱ガスしながら、前記外囲器内を真空排気し、
前記脱ガス後、前記非蒸発型のゲッタを活性化する請求項1に記載の画像表示装置の製造方法。
After forming the non-evaporable getter member, sealing the peripheral portions of the front substrate and the back substrate,
Heating the envelope at a temperature higher than the activation temperature of the non-evaporable getter to degas the envelope;
While degassing, the inside of the envelope is evacuated,
The method for manufacturing an image display device according to claim 1, wherein the non-evaporable getter is activated after the degassing.
前面基板およびこの前面基板に対向配置され背面基板を有する外囲器と、
非蒸発型ゲッタの粉末と金属アルコキシドとにより前記外囲器内に形成された非蒸発型ゲッタ部材と、
を備えた画像表示装置。
An envelope having a front substrate and a rear substrate disposed opposite to the front substrate;
A non-evaporable getter member formed in the envelope by a non-evaporable getter powder and a metal alkoxide;
An image display device comprising:
前記金属アルコキシドは、Al、Si、Ba、B、Bi、Ca、Fe、Ga、Ge、Hf、Mo、Sn、V、W、Yの金属、あるいは、これらの合金である請求項10記載の画像表示装置。   The image according to claim 10, wherein the metal alkoxide is Al, Si, Ba, B, Bi, Ca, Fe, Ga, Ge, Hf, Mo, Sn, V, W, Y, or an alloy thereof. Display device. 上記被蒸発型ゲッタ部材は、1ないし500μmの膜厚のゲッタ膜として形成されている請求項10記載の画像表示装置。   11. The image display device according to claim 10, wherein the evaporable getter member is formed as a getter film having a thickness of 1 to 500 μm. 上記被蒸発型ゲッタ部材は、10ないし100μmの膜厚に形成されている請求項12に記載の画像表示装置。   13. The image display device according to claim 12, wherein the evaporable getter member is formed to a thickness of 10 to 100 μm. 上記非蒸発型ゲッタは、Ti、Zr、V、Fe、Al、Cr、Nb、Ta、W、Mo、Ni、Mnのうち1種類以上の金属、または2種類以上の合金である請求項10ないし13のいずれか1項に記載の画像表示装置。   11. The non-evaporable getter is made of one or more metals or two or more alloys of Ti, Zr, V, Fe, Al, Cr, Nb, Ta, W, Mo, Ni, and Mn. 14. The image display device according to any one of items 13. 上記非蒸発型ゲッタの粉末は、200μm以下の粒径を有している請求項10に記載の画像表示装置。   The image display device according to claim 10, wherein the non-evaporable getter powder has a particle size of 200 μm or less. 前記前面基板の内面に形成された蛍光体層と、前記外囲器内で前記背面基板上に設けられ前記蛍光体層を励起する電子を放出する複数の電子源と、を備えている請求項10に記載の画像表示装置。   The phosphor layer formed on the inner surface of the front substrate, and a plurality of electron sources that are provided on the rear substrate in the envelope and emit electrons that excite the phosphor layer. 10. The image display device according to 10. 前記非蒸発型ゲッタ部材は、上記電子源から放出される電子が当たらない領域に設けられている請求項16に記載の画像表示装置。   The image display device according to claim 16, wherein the non-evaporable getter member is provided in a region where electrons emitted from the electron source do not hit.
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