WO2026004476A1 - 温超純水製造システム及び温超純水の製造方法 - Google Patents

温超純水製造システム及び温超純水の製造方法

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WO2026004476A1
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WO
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ultrapure water
water
pump
warm
water production
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French (fr)
Inventor
晴義 山川
康晴 港
優仁 栩内
幸也 阿部
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Kurita Water Industries Ltd
Original Assignee
Kurita Water Industries Ltd
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D61/00—Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
    • B01D61/14—Ultrafiltration; Microfiltration
    • B01D61/22—Controlling or regulating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage

Definitions

  • the present invention relates to a warm ultrapure water production system that can reduce the energy required to produce warm ultrapure water by controlling the amount of warm ultrapure water produced in accordance with the amount of warm ultrapure water used at the point of use, and to a method for producing warm ultrapure water using the system.
  • Ultrapure water used for semiconductor cleaning is produced by treating raw water (industrial water, city water, well water, etc.) in an ultrapure water production system that includes a pretreatment system, primary pure water production equipment, and a subsystem (secondary pure water production equipment).
  • a pretreatment system consisting of coagulation, flotation (sedimentation), and filtration (membrane filtration) equipment removes suspended solids and colloidal matter from the raw water. This process also makes it possible to remove high molecular weight organic matter and hydrophobic organic matter.
  • the primary water purification system includes a heat exchanger, reverse osmosis membrane treatment device (RO device), ion exchange device (mixed bed type or 4-bed 5-tower type, etc.), ion exchange device, and degasser.
  • the primary water purification system removes ions and organic components from the raw water. Note that the higher the water temperature, the lower the viscosity and the better the permeability of the RO membrane. For this reason, a heat exchanger is installed upstream of the reverse osmosis membrane treatment device, and the water supplied to the reverse osmosis membrane treatment device is heated to a specified temperature or higher.
  • the reverse osmosis membrane treatment device removes salts, as well as ionic and TOC components.
  • the ion exchange device removes salts and inorganic carbon (IC), and also removes TOC components that are adsorbed or ion-exchanged by ion exchange resins.
  • the degasser removes inorganic carbon (IC) and dissolved oxygen.
  • the primary pure water produced in the primary pure water production system is sent to a subsystem, which includes a sub-tank (pure water tank), a low-pressure ultraviolet oxidation system (UV system), an ion exchange system, etc.
  • the low-pressure ultraviolet oxidation system uses 185 nm ultraviolet light emitted from a low-pressure ultraviolet lamp to decompose TOC into organic acids and then CO2 .
  • the organic matter and CO2 produced by the decomposition are removed in the downstream ion exchange system.
  • the ultrapure water produced in such an ultrapure water system is heated to around 65-85°C using a heating means and supplied to the point of use as warm ultrapure water.
  • the hot ultrapure water production system has a configuration, for example, as shown in Figure 2.
  • the hot ultrapure water production system includes a secondary pure water system (subsystem) 51, which includes a subtank 52 for storing primary pure water W at approximately 25°C from the primary pure water system, a water supply pipe 52A as a hot ultrapure water supply line, a water pump 53, a heat exchanger 54, an ultraviolet oxidation device 55, a hydrogen peroxide decomposition device 56 filled with a platinum catalyst, a membrane degassing device 57, a boost pump 58, and a non-regenerative ion exchange resin tower 59.
  • Ultrapure water at approximately 20-30°C is produced here.
  • the system also includes a preheater 60 and a heater 61 for heating this ultrapure water.
  • a heat source 62 is connected to the heater 61 via a flow control valve 63 as a flow control mechanism.
  • the system includes a UF membrane 64 for removing fine particles from the heated ultrapure water. Hot ultrapure water W1 can be supplied to a point-of-use (UP) via the UF membrane 64.
  • UP point-of-use
  • a temperature sensor 65 is provided at the outlet of the heater 61 as a means for measuring the temperature of the hot ultrapure water, and this temperature sensor 65 is capable of transmitting information to control means (not shown), which can adjust the opening of the flow control valve 63 to control the flow rate of the heat source 62.
  • a return pipe 70 branches off from the water supply pipe 52A after the UF membrane 64, and this return pipe 70 returns water to the sub-tank 52 via the preheater 60.
  • This return pipe 70 is provided with a pressure control valve 66 and a pressure sensor 67 as a pressure measurement means, and this pressure sensor 67 is capable of transmitting information to the control means, which can adjust the opening of the pressure control valve 66 based on the pressure data.
  • primary pure water W at approximately 25°C is stored in sub-tank 52 from the primary pure water system, then supplied via water supply piping 52A by water supply pump 53. It is then processed sequentially through ultraviolet oxidation device 55, hydrogen peroxide decomposition device 56, membrane degassing device 57, and non-regenerative ion exchange resin tower 59 to produce ultrapure water at approximately 20-30°C.
  • the produced ultrapure water is heated to 30-50°C, for example, approximately 42°C, by preheater 60, and then to 65-85°C, for example, approximately 75°C, by heater 61.
  • the required amount is then supplied from water supply piping 52A via UF membrane 64 to the point of use UP as warm ultrapure water W1.
  • the temperature of the hot ultrapure water W1 is controlled based on the value measured by the temperature sensor 65 installed downstream of the heater 61, and the flow rate adjustment valve 63 is controlled to control the amount of heat medium supplied from the heat source 62 so that it remains at a predetermined temperature. Furthermore, excess hot ultrapure water W1 not used at the use point UP passes through the return pipe 70, has its heat recovered in the preheater 60, and then is returned to the subtank 52. At this time, the opening of the pressure adjustment valve 66 is adjusted so that the pressure measured by the pressure sensor 67 in the water supply pipe 52A to the use point UP and in the return pipe 70 remains constant, thereby maintaining a constant water supply pressure to the use point UP.
  • the present invention was made in consideration of the above-mentioned problems, and aims to provide a warm ultrapure water production system that can reduce the energy required to produce warm ultrapure water by controlling the amount of warm ultrapure water produced in accordance with the amount of warm ultrapure water used at the point of use, and a method for producing warm ultrapure water using the system.
  • the present invention provides a system comprising: an ultrapure water production unit equipped with a primary pure water production apparatus and a secondary pure water production apparatus; a hot ultrapure water supply pipe that supplies ultrapure water from the ultrapure water production unit to a use point; a first heating means provided in the ultrapure water supply pipe that supplies heat source water to a heat source fluid flow path via return water in excess of the amount used at the use point; a return pipe that returns the return water that has passed through the heat source fluid flow path of the first heating means to the ultrapure water production unit; and a second heating means that further heats the ultrapure water heated by the first heating means,
  • a hot ultrapure water production system is provided in which heated ultrapure water is supplied to a point of use, and the return pipe is provided with a flow rate measuring means, a pressure measuring means, and a pressure regulating valve downstream of the pressure measuring means, and the hot ultrapure water supply pipe is provided with a temperature measuring means downstream of the second heating means
  • the pressure regulating valve installed in the return pipe can be controlled so that the measurement value of the pressure measuring means upstream of the valve remains approximately constant, and the amount of ultrapure water supplied can be controlled so that the measurement value of the flow rate measuring means remains approximately constant. Therefore, when the amount of hot ultrapure water used at the point of use decreases, the amount of ultrapure water supplied can be reduced, thereby reducing the energy required for heating and water supply power and allowing the hot ultrapure water production system to be operated to produce hot ultrapure water.
  • the secondary pure water production system has a water pump, and that the control means adjusts the amount of ultrapure water supplied by controlling the output of the water pump (Invention 2). Furthermore, in the above invention (Invention 1), it is preferable that the secondary pure water production system has a water pump and a boost pump downstream of the water pump, and that the control means adjusts the amount of ultrapure water supplied by controlling the water pump and/or the boost pump (Invention 3).
  • the water pump and the boost pump are equipped with inverters, that the control means controls the frequency output from the inverter, and that the lower limit of the fluctuation value of the amount of water used at the point of use is 50% or more of the maximum value (Invention 4).
  • ultrapure water can be supplied quickly and in a wide range of water volumes in response to fluctuations in the use of warm ultrapure water at the point of use.
  • the present invention provides a system comprising an ultrapure water production unit equipped with a primary pure water production apparatus and a secondary pure water production apparatus, a hot ultrapure water supply line for supplying ultrapure water from the ultrapure water production unit to a use point, a first heating means provided in the ultrapure water supply line for supplying heat source water to a heat source fluid flow path via return water in excess of the amount used at the use point, a return pipe for returning the return water that has passed through the heat source fluid flow path of the first heating means to the ultrapure water production unit, and a second heating means for further heating the ultrapure water heated by the first heating means, and the ultrapure water heated by the second heating means is supplied to the use point,
  • a method for producing warm ultrapure water using a warm ultrapure water production system is provided in which the return pipe is equipped with a flow rate measurement means, a pressure measurement means, and a pressure adjustment valve downstream of the pressure measurement means, and the warm ultrapure water supply pipe is equipped with a temperature measurement means downstream
  • the pressure regulating valve installed in the return pipe can be controlled so that the measurement value of the pressure measuring means is maintained at a substantially constant value upstream of the pressure regulating valve, and the amount of ultrapure water supplied can be controlled so that the measurement value of the flow rate measuring means is maintained at a substantially constant value. Therefore, when the amount of hot ultrapure water used at the point of use decreases, the amount of ultrapure water supplied can be reduced, thereby reducing the energy required for heating and water supply power and allowing the hot ultrapure water production system to be operated to produce hot ultrapure water.
  • the secondary pure water production system has a water supply pump, and that the control means adjusts the amount of ultrapure water supplied by controlling the output of the water supply pump (Invention 6). Also, in the above invention (Invention 5), it is preferable that the secondary pure water production system has a water supply pump and a boost pump downstream of the water supply pump, and that the control means adjusts the amount of ultrapure water supplied by controlling the water supply pump and/or the boost pump (Invention 7).
  • the water supply pump and the boost pump are equipped with inverters, that the control means controls the frequency output from the inverter, and that the lower limit of the fluctuation value of the amount of water used at the point of use is 50% or more of the maximum value (Invention 8).
  • the hot ultrapure water production system of the present invention controls the pressure regulating valve installed in the return pipe so that the measurement value of the pressure measuring means is kept approximately constant upstream of the pressure regulating valve, and the amount of ultrapure water supplied can be controlled so that the measurement value of the flow rate measuring means is kept approximately constant. Therefore, when the amount of hot ultrapure water used at the point of use decreases, the amount of ultrapure water supplied can be reduced, thereby reducing the energy required for heating and water supply power and allowing the hot ultrapure water production system to be operated to produce hot ultrapure water.
  • FIG. 1 is a flow diagram showing a warm ultrapure water manufacturing system according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 is a flow diagram showing a conventional hot ultrapure water manufacturing system.
  • the warm ultrapure water production system of this embodiment has an ultrapure water production unit equipped with a pretreatment device, a primary pure water production device, and a secondary pure water production device, a warm ultrapure water supply pipeline that supplies ultrapure water from this ultrapure water production unit to a use point, and a heating means that heats the ultrapure water.
  • the primary pure water production system is not particularly limited, and any known primary pure water production system can be used with normal control, so a detailed description will be omitted.
  • the hot ultrapure water production system of this embodiment has a configuration, for example, as shown in Figure 1.
  • the hot ultrapure water production system includes a secondary pure water system (subsystem) 1, which includes a subtank 2 for storing primary pure water W delivered from the primary pure water system, a water supply pipe 2A as a hot ultrapure water supply line, a water pump 3 whose output can be controlled by an inverter, a heat exchanger 4, an ultraviolet oxidation device 5, a hydrogen peroxide decomposition device 6 filled with a platinum group metal catalyst, a membrane degassing device 7, a boost pump 8 whose output can be controlled by an inverter, and a non-regenerative ion exchange resin tower 9.
  • It also includes a preheater 10 as a first heating means for heating the ultrapure water, and a heater 11 as a second heating means.
  • a heat source 12 is connected to the heater 11 via a flow control valve 13 as a flow control mechanism, allowing the flow rate to be adjusted.
  • it includes a UF membrane 14 for removing particulates from the heated ultrapure water, and the hot ultrapure water W1 can be supplied to a point-of-use UP via the UF membrane 14.
  • a temperature sensor 15 is provided at the outlet of the heater 11 as a means for measuring the temperature of the hot ultrapure water W1, and this temperature sensor 15 is capable of transmitting information to a control means (not shown), which is capable of adjusting the opening of the flow control valve 13 of the heat source 12. Furthermore, a return pipe 20 branches off from the water supply pipe 2A downstream of the UF membrane 14, and this return pipe 20 returns water to the sub-tank 2 via the preheater 10, which serves as its heat source.
  • This return pipe 20 is provided with a pressure control valve 16 as a pressure adjustment mechanism, a pressure sensor 17 as a pressure measurement means, and a flow meter 18 as a flow rate measurement means, and this pressure sensor 17 is capable of transmitting information to the control means.
  • This control means is capable of adjusting the opening of the pressure control valve 16 based on the pressure data measured by the pressure sensor 17. Furthermore, the flow meter 18 can transmit information to the control means, and this control means can adjust the amount of primary pure water W sent from the water supply pump 3 and/or booster pump 8 based on the flow rate data measured by the flow meter 18. In this embodiment, the concentrated water (brine water) from the UF membrane 14 also merges into the return pipe 20.
  • the raw water is subjected to pretreatment such as filtration, coagulation and sedimentation, and microfiltration membranes, primarily to remove suspended solids.
  • Primary pure water production equipment is equipped with a reverse osmosis (RO) membrane separation device, a degassing device, a regenerative ion exchange device (mixed-bed or four-bed, five-tower type, etc.), an electric deionization device, an ultraviolet (UV) irradiation oxidation device, or other oxidation device, and is used to remove most of the electrolytes, fine particles, live bacteria, etc. from the pretreated water.
  • RO reverse osmosis
  • degassing device ed-bed or four-bed, five-tower type, etc.
  • an electric deionization device ed-bed or four-bed, five-tower type, etc.
  • UV ultraviolet
  • Primary pure water production equipment is composed of, for example, a heat exchanger, an RO membrane separation device, a mixed-bed ion exchange device, and a degassing device.
  • the primary pure water W produced by this primary pure water production system is treated in the secondary pure water system 1 as follows. After storing primary pure water W at approximately 25°C in the sub-tank 2, it is supplied via the water supply pipe 2A by the water supply pump 3 and sequentially processed in the ultraviolet oxidation device 5, hydrogen peroxide decomposition device 6, and membrane degassing device 7. The water pressure is then increased by the booster pump 8, and the water is treated in the non-regenerative ion exchange resin tower 9, producing ultrapure water at approximately 20-30°C. The produced ultrapure water is heated to 30-50°C, for example, approximately 42°C, by the preheater 10, and subsequently heated to 65-85°C, for example, approximately 70°C, by the heater 11. The hot ultrapure water W1 is then supplied to the point of use UP via the water supply pipe 2A and UF membrane 14. The flow rate is then adjusted by a flow control means (not shown) to ensure the required amount is supplied to the point of use UP.
  • the excess hot ultrapure water W1 then flows through the return pipe 20 and is introduced into the preheater 10 as a heat source fluid, where it exchanges heat with ultrapure water treated in the non-regenerative ion exchange resin tower 9, lowering its temperature to approximately 40°C, before being sent to the subtank 2.
  • a pressure regulating valve 16 is installed between the return pipe 20 and the preheater 10, immediately after it branches off from the water supply pipe 2A. This pressure regulating valve 16 adjusts its opening so that the pressure measured by the pressure sensor 17 remains approximately constant, thereby maintaining the water supply pressure to the use point UP at an approximately constant level. Note that in this specification, approximately constant means within ⁇ 5%, and particularly within ⁇ 1%, of the set value.
  • steam or hot water (approximately 5 to 10°C higher than the set temperature of the hot ultrapure water W1) is circulated as the heat source 12 through the heat source fluid flow path of the heater 11 via a flow control valve 13.
  • the flow control valve 13 is controlled so that the temperature of the hot ultrapure water W1 detected by a temperature sensor 15 installed in the water supply pipe 2A is equal to or higher than the set temperature (e.g., 70°C) and is approximately at the set temperature at the use point UP.
  • a flow meter 18 is provided upstream of the pressure adjustment valve 16 on the return pipe 20, and the amount of water fed by the water feed pump 3 and/or boost pump 8 is inverter controlled so that the flow rate measured by this flow meter 18 remains approximately constant.
  • This increases or decreases the amount of warm ultrapure water W1 produced in response to increases or decreases in the amount of warm ultrapure water W1 used at the use point UP.
  • This allows the amount of warm ultrapure water W1 produced to be increased or decreased in response to increases or decreases in the amount of warm ultrapure water W1 used at the use point UP, making it possible to reduce the energy required to produce warm ultrapure water W1 compared to producing a constant amount of warm ultrapure water W1.
  • the lower limit of the fluctuation value of the amount of water used at the use point be 50% or more of the maximum value.
  • the present invention has been described above based on the above embodiment, but it is not limited to the above embodiment and can be implemented in various modifications.
  • inverter control of the flow rate of the water supply pump 3 and the boost pump 8 may be performed on either one or both.
  • the heat source 12 of the heater 11 may be heated steam, hot water, or a combination of these.
  • the secondary pure water system 1 is not limited to the configuration of the above embodiment, and can be configured with various elements, and depending on the configuration, the boost pump 8 may not be provided.
  • Comparative Example 1 Using the hot ultrapure water production system shown in Figure 1, primary pure water W was pumped from a sub-tank 2, which can hold approximately 5 m3 of liquid, via a water pump 3, cooled to 23-25°C in a heat exchanger 4, and treated in an ultraviolet oxidation device 5, a hydrogen peroxide decomposition catalyst tower 6, and a membrane degasser 7. The water pressure was then increased by a booster pump 8 equipped with an inverter downstream of the membrane degasser 7, and the water was treated in a non-regenerative ion exchange resin tower 9 to produce ultrapure water.
  • This ultrapure water was treated in a preheater 10, a heater 11, and a UF membrane 14 to produce hot ultrapure water W1, which was then pumped to a point-of-use (UP).
  • 85°C hot water was used as the heat source 12 for the heater 11, and the supply rate of 85°C hot water was controlled so that the water temperature measured at the temperature sensor 15 was 70°C.
  • the water supply rate from the water supply pump 3 was approximately 20 m 3 /h, and the water quality at the outlet of the UF membrane 14 in this system had a resistivity of 18.2 M ⁇ or more and a dissolved oxygen concentration of 1 ⁇ g/L or less.
  • the pressure in the return pipe 20 was controlled to 0.2 MPa by the pressure regulating valve 16.
  • the UF membrane 14 was adjusted with a valve so that the brine water rate was approximately 2 m 3 /h.
  • the use point UP had a maximum water usage rate of 16 m 3 /h, and the water rate in the return pipe 20 at this time was approximately 2 m 3 /h.
  • the frequency output from the inverter that controls the rotation speed of the boost pump 8 was kept constant at 48 Hz, and the amount of hot water of approximately 85°C supplied as a heat medium to the heater 11 was required to be approximately 80 m3 /h.
  • Example 1 In the manufacturing method of Comparative Example 1, when the point of use UP consumed 16 m 3 /h, which was the maximum water usage rate, the flow rate in the return pipe 20 was measured with flow meter 18, and boost pump 8 was inverter controlled to maintain a constant rate of 2 m 3 /h. At the maximum water usage rate, the frequency of boost pump 8 was 48 Hz, and the hot water supply rate was approximately 80 m 3 /h, with no significant difference. Next, the water usage rate at the point of use UP was reduced to 8 m 3 /h, and the flow rate in the return pipe 20 was similarly measured with flow meter 18. Boost pump 8 was inverter controlled to maintain a constant rate of 2 m 3 /h. When the frequency of boost pump 8 was 24 to 28 Hz, the amount of 85°C hot water used as a heat source was approximately 50 m 3 /h, and the energy required for supplying and heating the hot ultrapure water W1 was significantly reduced.
  • the amount of water used at the point of use UP was repeatedly changed between approximately 8 m 3 /h and approximately 16 m 3 /h every hour.
  • the water quality at the outlet of the UF membrane 14 had a resistivity of 18.2 M ⁇ or more and a dissolved oxygen concentration of 1 ⁇ g/L or less, and no impact on the water quality was observed, enabling the maintenance of high-purity water quality.
  • Secondary pure water system (subsystem) 2 Subtank 2A Water supply piping (hot ultrapure water supply line) 3 Water pump 8 Booster pump 10 Preheater (first heating means) 11 Heater (second heating means) 12 Heat source 13 Flow rate adjusting valve (flow rate adjusting means) 14 UF membrane 15 Temperature sensor (temperature measuring means) 16 Pressure regulating valve (pressure regulating means) 17 Pressure sensor (pressure measuring means) 18 Flow meter (flow rate measuring means) 20 Return piping UP Use point W Primary pure water W1 Warm ultrapure water

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Abstract

温超純水製造システムは、二次純水装置１の非再生式イオン交換樹脂塔９の後段に超純水を加熱する余熱器１０、加熱器１１を有し、この加熱器１１には熱源１２が流量調整弁１３を介して接続している。さらに、ＵＦ膜１４を経て温超純水Ｗ１をユースポイントＵＰに供給可能となっている。送水配管２ＡはＵＦ膜１４の後段で返送配管２０が分岐していて、この返送配管２０は、余熱器１０を経由してサブタンク２に還流している。この返送配管２０には圧力調整弁１６、流量計１８が設けられていて、流量計１８の流量データに基づいて送水ポンプ３及び昇圧ポンプ８からの一次純水Ｗの送水量を調整可能となっている。このような温超純水製造システムによれば、温超純水の使用量に合わせて、温超純水の製造量を制御することができ、温超純水製造にかかるエネルギーを削減可能である。

Description

温超純水製造システム及び温超純水の製造方法
　本発明は、ユースポイントで使用される温超純水の使用量に合わせて、温超純水の製造量を制御することによって温超純水の製造にかかるエネルギーを削減可能な温超純水製造システムおよびこれを用いた温超純水の製造方法に関する。
　半導体洗浄用水として用いられている超純水は、前処理システム、一次純水製造装置、サブシステム（二次純水製造装置）を有する超純水製造システムで原水（工業用水、市水、井水等）を処理することにより製造される。
　凝集、加圧浮上（沈殿）、濾過（膜濾過）装置などよりなる前処理システムでは、原水中の懸濁物質やコロイド物質の除去を行う。また、この過程では高分子系有機物、疎水性有機物などの除去も可能である。
　一次純水装置は、熱交換器、逆浸透膜処理装置（ＲＯ装置）、イオン交換装置（混床式又は４床５塔式など）、イオン交換装置、及び脱気装置等を備える。一次純水製造装置では、原水中のイオンや有機成分の除去を行う。なお、水は温度が高い程、粘性が低下し、ＲＯ膜の透過性が向上する。このため、逆浸透膜処理装置の前段に熱交換器が設置され、逆浸透膜処理装置への供給水の温度が所定温度以上となるように水を加熱する。逆浸透膜処理装置では、塩類を除去すると共に、イオン性、ＴＯＣを除去する。イオン交換装置では、塩類、無機系炭素（ＩＣ）を除去すると共にイオン交換樹脂によって吸着又はイオン交換されるＴＯＣ成分の除去を行う。脱気装置では無機系炭素（ＩＣ）、溶存酸素の除去を行う。
　一次純水製造装置で製造された一次純水は、サブシステムへ送水される。このサブシステムは、サブタンク（純水タンク）、低圧紫外線酸化装置（ＵＶ装置）、イオン交換装置等を備えている。低圧紫外線酸化装置では、低圧紫外線ランプより出される１８５ｎｍの紫外線によりＴＯＣを有機酸、さらにはＣＯ２にまで分解する。分解により生成した有機物及びＣＯ２は後段のイオン交換装置で除去される。
　このような超純水システムで製造された超純水は、加熱手段で６５～８５℃程度に加熱され、温超純水としてユースポイントに供給されることがある。
　この温超純水製造システムは、例えば図２に示すような構成を有する。図２において、温超純水製造システムは、二次純水装置（サブシステム）５１として、一次純水装置からの約２５℃の一次純水Ｗを貯留するサブタンク５２と、温超純水供給管路としての送水配管５２Ａと、送水ポンプ５３と、熱交換器５４と、紫外線酸化装置５５と、白金触媒を充填した過酸化水素分解装置５６と、膜式脱気装置５７と、昇圧ポンプ５８と、非再生式イオン交換樹脂塔５９とを備え、ここで、約２０～３０℃の超純水が製造される。そして、この超純水を加熱する余熱器６０、加熱器６１を有し、この加熱器６１には熱源６２が流量調整機構としての流量調整弁６３を介して接続している。さらに、ここで加熱された超純水の微粒子を除去するＵＦ膜６４を備え、このＵＦ膜６４を経て温超純水Ｗ１をユースポイントＵＰに供給可能となっている。
　そして、加熱器６１の出口には温超純水の温度計測手段としての温度センサ６５が設けられていて、この温度センサ６５が図示しない制御手段に情報伝達可能となっていて、この制御手段は流量調整弁６３の開度を調整して熱源６２の流量を制御可能となっている。さらに、送水配管５２ＡはＵＦ膜６４の後段で返送配管７０が分岐していて、この返送配管７０は、余熱器６０を経由してサブタンク５２に還流している。この返送配管７０には圧力調整弁６６及び圧力計測手段としての圧力センサ６７が設けられていて、この圧力センサ６７は制御手段に情報伝達可能となっていて、この制御手段は圧力データに基づいて圧力調整弁６６の開度を調整可能となっている。
　この二次純水装置５１において、一次純水装置から約２５℃の一次純水Ｗをサブタンク５２に貯留したら、送水ポンプ５３により送水配管５２Ａから供給し、紫外線酸化装置５５と、過酸化水素分解装置５６と、膜式脱気装置５７と、非再生式イオン交換樹脂塔５９で順次処理して約２０～３０℃の超純水を製造する。製造された超純水は、余熱器６０によって３０～５０℃、例えば約４２℃に加熱され、続いて加熱器６１で６５℃～８５℃、例えば約７５℃に加熱され、送水配管５２ＡからＵＦ膜６４を経て温超純水Ｗ１としてユースポイントＵＰへ必要量が送水される。
　温超純水Ｗ１の温度は、加熱器６１の後段に設けられた温度センサ６５での計測値に基づいて、所定の温度となるように流量調整弁６３を制御して熱源６２からの熱媒体の供給量を制御する。また、ユースポイントＵＰで使用されない余剰の温超純水Ｗ１は、返送配管７０を通って余熱器６０で熱を回収した後にサブタンク５２に還流する。このときユースポイントＵＰへの送水配管５２Ａと返送配管７０で圧力センサ６７により計測される圧力が一定になるように、圧力調整弁６６の開度を調整することで、ユースポイントＵＰへの送水圧力が一定に保持される。
　しかしながら、上記従来の温超純水製造システムにあっては、一定量の温超純水Ｗ１を製造し、ユースポイントＵＰでの温超純水使用量が想定より少ない場合には、返送量を増加させることでユースポイントＵＰへの送水量を調整しているため、加熱や送水動力にかかるエネルギーの削減の余地がある、という課題があった。
　本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、ユースポイントで使用される温超純水の使用量に合わせて、温超純水の製造量を制御することによって温超純水製造にかかるエネルギーを削減可能な温超純水製造システムおよびこれを用いた温超純水の製造方法を提供することを目的とする。
　上記目的に鑑み、本発明は第一に、一次純水製造装置及び二次純水製造装置を備えた超純水製造部と、該超純水製造部からユースポイントに超純水を供給する温超純水供給管路と、この超純水供給管路に設けられた、ユースポイントでの使用量に対して余剰分の戻り水を介して熱源水として熱源流体流路に供給される第一加熱手段と、該第一加熱手段の熱源流体流路を通過した該戻り水を該超純水製造部に返送する返送配管と、前記第一加熱手段で加熱された超純水をさらに加熱する第二加熱手段とを有し、該第二加熱手段で加熱された超純水がユースポイントに供給される温超純水製造システムであって、前記返送配管に流量計測手段と圧力計測手段と該圧力計測手段の後段に圧力調整弁とを設けるとともに前記温超純水供給管路の前記第二加熱手段の後段に温度計測手段を備え、前記圧力計測手段の計測値に基づいて圧力調整弁を制御するとともに、前記流量計測手段の計測値に基づいて超純水の供給量を制御し、さらに前記温度計測手段の計測値に基づいて第二加熱手段を制御する制御手段を有する、温超純水製造システムを提供する（発明１）。
　かかる発明（発明１）によれば、返送配管に設けた圧力調整弁の前段の圧力計測手段の計測値が略一定になるように前記圧力調整弁を制御するとともに、前記流量計測手段の計測値が略一定になるように超純水の供給量を制御することができるので、ユースポイントでの温超純水の使用量が少なくなったら、超純水の供給量を削減することになるので、加熱や送水動力にかかるエネルギーを削減して、温超純水製造システムを運転して温超純水を製造することができる。
　上記発明（発明１）においては、前記二次純水製造装置が、送水ポンプを有し、前記制御手段が前記送水ポンプの出力の制御により超純水の供給量の調整を行うことが好ましい（発明２）。また、上記発明（発明１）においては、前記二次純水製造装置が、送水ポンプを有するとともに該送水ポンプの後段に昇圧ポンプを有し、前記制御手段が前記送水ポンプおよび／または前記昇圧ポンプの制御により超純水の供給量の調整を行うことが好ましい（発明３）。さらに、上記発明（発明３）においては、前記送水ポンプおよび前記昇圧ポンプがインバータを備え、前記制御手段が前記インバータから出力される周波数を制御し、前記ユースポイントの使用水量の変動値の下限値が最大値に対して５０％以上であることが好ましい（発明４）。
　かかる発明（発明２～４）によれば、二次純水製造装置に設けた送水ポンプおよび／または昇圧ポンプの送水量をインバータ制御などにより調整することで、ユースポイントの温超純水の使用の変動に応じて迅速かつ広い範囲の水量で超純水を供給することができる。
　また、本発明は第二に、一次純水製造装置及び二次純水製造装置を備えた超純水製造部と、該超純水製造部からユースポイントに超純水を供給する温超純水供給管路と、この超純水供給管路に設けられた、ユースポイントでの使用量に対して余剰分の戻り水を介して熱源水として熱源流体流路に供給される第一加熱手段と、該第一加熱手段の熱源流体流路を通過した該戻り水を該超純水製造部に返送する返送配管と、前記第一加熱手段で加熱された超純水をさらに加熱する第二加熱手段とを有し、該第二加熱手段で加熱された超純水がユースポイントに供給し、前記返送配管に流量計測手段と圧力計測手段と該圧力計測手段の後段に圧力調整弁を設けるとともに前記温超純水供給管路の前記第二加熱手段の後段に温度計測手段を備る温超純水製造システムを用いた温超純水の製造方法であって、前記圧力計測手段の計測値が略一定となるように前記圧力調整弁を制御するとともに、前記流量計測手段の計測値が略一定となるように超純水の供給量を制御し、さらに前記温度計測手段の計測値が温超純水の設定温度よりも高い温度で一定となるように前記第二加熱手段を制御する、温超純水の製造方法を提供する（発明５）。
　かかる発明（発明５）によれば、返送配管に設けた圧力調整弁の前段で圧力計測手段の計測値が略一定になるように前記圧力調整弁を制御するとともに、前記流量計測手段の計測値が略一定になるように超純水の供給量を制御することができるので、ユースポイントでの温超純水の使用量が少なくなったら、超純水の供給量を削減することになるので、加熱や送水動力にかかるエネルギーを削減して、温超純水製造システムを運転して温超純水を製造することができる。
　上記発明（発明５）においては、前記二次純水製造装置が、送水ポンプを有し、前記制御手段が前記送水ポンプの出力の制御により超純水の供給量の調整を行うことが好ましい（発明６）。また、上記発明（発明５）においては、前記二次純水製造装置が、送水ポンプを有するとともに該送水ポンプの後段に昇圧ポンプを有し、前記制御手段が前記送水ポンプおよび／または前記昇圧ポンプの制御により超純水の供給量の調整を行うことが好ましい（発明７）。さらに、上記発明（発明７）においては、前記送水ポンプおよび前記昇圧ポンプがインバータを備え、前記制御手段が前記インバータから出力される周波数を制御し、前記ユースポイントの使用水量の変動値の下限値が最大値に対して５０％以上であることが好ましい（発明８）。
　かかる発明（発明５～８）によれば、二次純水製造装置に設けた送水ポンプおよび／または昇圧ポンプの送水量をインバータ制御などにより調整することで、ユースポイントの温超純水の使用の変動に応じて迅速かつ広い範囲の水量で超純水を供給するこができる。
　本発明の温超純水製造システムによれば、返送配管に設けた圧力調整弁の前段で圧力計測手段の計測値が略一定になるように前記圧力調整弁を制御するとともに、前記流量計測手段の計測値が略一定になるように超純水の供給量を制御することができるので、ユースポイントでの温超純水の使用量が少なくなったら、超純水の供給量を削減することになるので、加熱や送水動力にかかるエネルギーを削減して、温超純水製造システムを運転して温超純水を製造することができる。
本発明の一実施形態に係る温超純水製造システムを示すフロー図である。 従来の温超純水製造システムを示すフロー図である。
　以下、本発明の温超純水製造システム及びそれを用いた温超純水の製造方法について添付図面を参照して説明する。
（温超純水製造システム）
　本実施形態の温超純水製造システムは、前処理装置、一次純水製造装置及び二次純水製造装置を備えた超純水製造部と、この超純水製造部からユースポイントに超純水を供給する温超純水供給管路と、超純水を加熱する加熱手段とを有する。
　本実施形態において、一次純水製造装置は、特に限定されず、公知の一次純水製造装置を通常の制御で適用することが可能であるので、これについては省略する。
　本実施形態の温超純水製造システムは、例えば図１に示すような構成を有する。図１において、温超純水製造システムは、二次純水装置（サブシステム）１として、一次純水装置から送水される一次純水Ｗを貯留するサブタンク２と、温超純水供給管路としての送水配管２Ａと、インバータにより出力を制御可能な送水ポンプ３と、熱交換器４と、紫外線酸化装置５と、白金族金属触媒を充填した過酸化水素分解装置６と、膜式脱気装置７と、インバータにより出力を制御可能な昇圧ポンプ８と、非再生式イオン交換樹脂塔９とを備える。そして、この超純水を加熱する第一加熱手段としての余熱器１０、第二加熱手段としての加熱器１１を有し、この加熱器１１には熱源１２が流量調整機構としての流量調整弁１３を介して流量調整可能に接続している。さらに、ここで加熱された超純水の微粒子を除去するＵＦ膜１４を備え、このＵＦ膜１４を経て温超純水Ｗ１をユースポイントＵＰに供給可能となっている。
　そして、加熱器１１の出口には温超純水Ｗ１の温度計測手段としての温度センサ１５が設けられていて、この温度センサ１５が図示しない制御手段に情報伝達可能となっていて、この制御手段は熱源１２の流量調整弁１３の開度を調整可能となっている。さらに、送水配管２ＡはＵＦ膜１４の後段で返送配管２０が分岐していて、この返送配管２０は、余熱器１０を該余熱器１０の熱源として経由してサブタンク２に還流している。この返送配管２０には圧力調整機構としての圧力調整弁１６、圧力計測手段としての圧力センサ１７及び流量計測手段としての流量計１８が設けられていて、この圧力センサ１７は制御手段に情報伝達可能となっている。この制御手段は圧力センサ１７で計測した圧力データに基づいて圧力調整弁１６の開度を調整可能となっている。さらに、流量計１８は制御手段に情報伝達可能となっていて、この制御手段は流量計１８で計測した流量データに基づいて送水ポンプ３および／または昇圧ポンプ８からの一次純水Ｗの送水量を調整可能となっている。なお、本実施形態においては、ＵＦ膜１４の濃縮水（ブライン水）も返送配管２０に合流している。
（温超純水の製造方法）
　次にこのような温超純水製造システムを用いた本実施形態の温超純水の製造方法について以下説明する。
　前処理装置では、原水の濾過、凝集沈殿、精密濾過膜などによる前処理が施され、主に懸濁物質が除去される。
　一次純水製造装置は、逆浸透（ＲＯ）膜分離装置、脱気装置、再生型イオン交換装置（混床式又は４床５塔式など）、電気脱イオン装置、紫外線（ＵＶ）照射酸化装置等の酸化装置などを備え、前処理水中の大半の電解質、微粒子、生菌等の除去を行うものである。一次純水製造装置は、例えば、熱交換器、ＲＯ膜分離装置、混床式イオン交換装置、及び脱気装置で構成される。
　本実施形態においては、この一次純水製造装置で製造した一次純水Ｗは、以下のようにして二次純水装置１で処理される。すなわち、約２５℃の一次純水Ｗをサブタンク２に貯留したら、送水ポンプ３により送水配管２Ａから供給し、紫外線酸化装置５、過酸化水素分解装置６及び膜式脱気装置７で順次処理する。そして、昇圧ポンプ８で送水圧を上昇させて非再生式イオン交換樹脂塔９で処理し、約２０～３０℃の超純水を製造する。製造された超純水は、余熱器１０によって３０～５０℃、例えば約４２℃程度に加熱され、続いて加熱器１１で６５℃～８５℃、例えば約７０℃に加熱され、送水配管２ＡからＵＦ膜１４を経て温超純水Ｗ１としてユースポイントＵＰに供給される。このとき、ユースポイントＵＰには、図示しない流量制御手段により必要量が供給されるように流量調整される。
　そして、余剰の温超純水Ｗ１は、返送配管２０を流通し、熱源流体として余熱器１０に導入され、非再生式イオン交換樹脂塔９で処理した超純水と熱交換して、約４０℃程度に降温した後、サブタンク２に送られる。
　この返送配管２０が送水配管２Ａから分岐した直後から余熱器１０の間に圧力調整弁１６が設けられていて、この圧力調整弁１６は圧力センサ１７により計測される圧力が略一定になるように、圧力調整弁１６の開度を調整することで、ユースポイントＵＰへの送水圧力を略一定に保持する。なお、本明細書中において、略一定とは設定値に対して、±５％以内、特に±１％以内を意味するものとする。
　また、加熱器１１の熱源流体流路には熱源１２として蒸気又は温水（温超純水Ｗ１の設定温度より５～１０℃程度）が流量調整弁１３を介して流通される。流量調整弁１３は、送水配管２Ａに設けられた温度センサ１５で検出される温超純水Ｗ１の温度が設定温度（例えば７０℃）以上でユースポイントＵＰにおいて略設定温度となるように制御される。
　そして、本実施形態においては、返送配管２０の圧力調整弁１６よりも上流側に流量計１８が設けられていて、この流量計１８により計測される流量が略一定となるように、送水ポンプ３および／または昇圧ポンプ８の送水量をインバータ制御することで、ユースポイントＵＰでの温超純水Ｗ１の使用量の増減に対応して、製造する温超純水Ｗ１の量を増減させる。これにより、ユースポイントＵＰでの温超純水Ｗ１の使用量の増減に応じて製造する温超純水Ｗ１の量を増減することができるので、一定量の温超純水Ｗ１を製造する場合と比較して、温超純水Ｗ１の製造に要するエネルギーを削減可能となっている。なお、ユースポイントの使用水量の変動値の下限値は最大値に対して５０％以上であることが好ましい。
　以上、本発明について、上記の実施形態に基づき説明してきたが、本発明は前記実施形態に限らず種々の変形実施が可能である。例えば、送水ポンプ３及び昇圧ポンプ８の流量のインバータ制御は、いずれか一方であってもよく、また両方であってもよい。また、加熱器１１の熱源１２は、加熱蒸気であっても温水であっても、これらの組み合わせであってもよい。さらに二次純水装置１は、前記実施形態の構成に限らず、種々のエレメントにより構成されるものに適用可能であり、構成によっては昇圧ポンプ８を設けなくてもよい。
　以下の具体的実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。
〔比較例１〕
　図１に示す温超純水製造システムを用い、５ｍ３程度の液量を保有できるサブタンク２から、一次純水Ｗを送水ポンプ３から通水し、熱交換器４で２３～２５℃になるように冷却し、紫外線酸化装置５、過酸化水素分解触媒塔６、膜式脱気装置７で処理した。続いて、膜式脱気装置７の後段のインバータを備えた昇圧ポンプ８で送水圧力を上げ、非再生式イオン交換樹脂塔９で処理して超純水とした。この超純水を余熱器１０、加熱器１１、ＵＦ膜１４で処理して温超純水Ｗ１を製造し、ユースポイントＵＰに送水した。加熱器１１の熱源１２として８５℃の温水を使用し、温度センサ１５における水温が７０℃となるように８５℃の温水の供給量を制御した。
　このような温超純水製造システムにおいて、送水ポンプ３での送水量は約２０ｍ３／ｈとし、このシステムにおけるＵＦ膜１４の出口の水質は比抵抗値１８．２ＭΩ以上，溶存酸素濃度１μｇ／Ｌ以下であった。返送配管２０における圧力が０．２ＭＰａとなるように圧力調整弁１６で制御した。ＵＦ膜１４は、ブライン水量が約２ｍ３／ｈとなるようにバルブで調整した。また、ユースポイントＵＰは１６ｍ３／ｈを最大使用水量とし、このときの返送配管２０の水量は約２ｍ３／ｈとなった。
　この温超純水Ｗ１の製造方法において、昇圧ポンプ８の回転数を制御するインバータから出力される周波数は４８Ｈｚで一定とし、加熱器１１に熱媒体として供給される約８５℃の温水供給量は約８０ｍ３／ｈ程度必要であった。
　そして、ユースポイントＵＰでの使用水量を１６ｍ３／ｈから約８ｍ３／ｈにまで低減したところ、余熱器１０での熱回収量は増えたが、熱源である８５℃の温水の使用量は７０ｍ３／ｈであった。
〔実施例１〕
　比較例１の製造方法において、ユースポイントＵＰが最大使用水量である１６ｍ３／ｈを消費する場合において、返送配管２０における流量を流量計１８で計測し、２ｍ３／ｈで一定となるように昇圧ポンプ８をインバータ制御した。最大使用水量時は、昇圧ポンプ８の周波数は４８Ｈｚ、温水供給量は約８０ｍ３／ｈ程度で大きな差はなかった。続いて、ユースポイントＵＰでの使用水量を８ｍ３／ｈに低減させ、同様に返送配管２０における流量を流量計１８で計測し、２ｍ３／ｈで一定となるように昇圧ポンプ８をインバータ制御したところ、昇圧ポンプ８の周波数は２４～２８Ｈｚで熱源である８５℃の温水使用量は約５０ｍ３／ｈとなり、温超純水Ｗ１の送水および昇温にかかるエネルギーを大幅に削減することができた。
　この温超純水の製造方法で、ユースポイントＵＰの使用水量を１時間毎に約８ｍ３／ｈと約１６ｍ３／ｈを繰り返し操作した結果、ＵＦ膜１４の出口の水質は比抵抗値１８．２ＭΩ以上，溶存酸素濃度１μｇ／Ｌ以下であり、水質への影響は見られず、高純度の水質を維持することができた。
１　二次純水装置（サブシステム）
２　サブタンク
２Ａ　送水配管（温超純水供給管路）
３　送水ポンプ
８　昇圧ポンプ
１０　余熱器（第一加熱手段）
１１　加熱器（第二加熱手段）
１２　熱源
１３　流量調整弁（流量調整手段）
１４　ＵＦ膜
１５　温度センサ（温度計測手段）
１６　圧力調整弁（圧力調整手段）
１７　圧力センサ（圧力計測手段）
１８　流量計（流量計測手段）
２０　返送配管
ＵＰ　ユースポイント
Ｗ　一次純水
Ｗ１　温超純水

Claims (8)

  1. 　一次純水製造装置及び二次純水製造装置を備えた超純水製造部と、
    　該超純水製造部からユースポイントに超純水を供給する温超純水供給管路と、
    　この超純水供給管路に設けられた、ユースポイントでの使用量に対して余剰分の戻り水を介して熱源水として熱源流体流路に供給される第一加熱手段と、
    　該第一加熱手段の熱源流体流路を通過した該戻り水を該超純水製造部に返送する返送配管と、
    　前記第一加熱手段で加熱された超純水をさらに加熱する第二加熱手段と
    　を有し、該第二加熱手段で加熱された超純水がユースポイントに供給される温超純水製造システムであって、
    　前記返送配管に流量計測手段と圧力計測手段と該圧力計測手段の後段に圧力調整弁とを設けるとともに前記温超純水供給管路の前記第二加熱手段の後段に温度計測手段を備え、
    　前記圧力計測手段の計測値に基づいて圧力調整弁を制御するとともに、前記流量計測手段の計測値に基づいて超純水の供給量を制御し、さらに前記温度計測手段の計測値に基づいて第二加熱手段を制御する制御手段を有する、温超純水製造システム。
  2. 　前記二次純水製造装置が、送水ポンプを有し、前記制御手段が前記送水ポンプの出力の制御により超純水の供給量の調整を行う、請求項１に記載の温超純水製造システム。
  3. 　前記二次純水製造装置が、送水ポンプの後段に昇圧ポンプを有し、前記制御手段が前記送水ポンプおよび／または前記昇圧ポンプの制御により超純水の供給量の調整を行う、請求項２に記載の温超純水製造システム。
  4. 　前記送水ポンプおよび前記昇圧ポンプがインバータを備え、前記制御手段が前記インバータから出力される周波数を制御し、前記ユースポイントの使用水量の変動値の下限値が最大値に対して５０％以上である、請求項３に記載の温超純水製造システム。
  5. 　一次純水製造装置及び二次純水製造装置を備えた超純水製造部と、該超純水製造部からユースポイントに超純水を供給する温超純水供給管路と、この超純水供給管路に設けられた、ユースポイントでの使用量に対して余剰分の戻り水を介して熱源水として熱源流体流路に供給される第一加熱手段と、該第一加熱手段の熱源流体流路を通過した該戻り水を該超純水製造部に返送する返送配管と、前記第一加熱手段で加熱された超純水をさらに加熱する第二加熱手段とを有し、該第二加熱手段で加熱された超純水がユースポイントに供給され、前記返送配管に流量計測手段と圧力計測手段と該圧力計測手段の後段に圧力調整弁とを設けるとともに前記温超純水供給管路の前記第二加熱手段の後段に温度計測手段を備る温超純水製造システムを用いた温超純水の製造方法であって、
    　前記圧力計測手段の計測値が略一定となるように前記圧力調整弁を制御するとともに、前記流量計測手段の計測値が略一定となるように超純水の供給量を制御し、さらに前記温度計測手段の計測値が温超純水の設定温度よりも高い温度で一定となるように前記第二加熱手段を制御する、温超純水の製造方法。
  6. 　前記二次純水製造装置が、送水ポンプを有し、前記制御手段が前記送水ポンプの出力の制御により超純水の供給量の調整を行う、請求項５に記載の温超純水の製造方法。
  7. 　前記二次純水製造装置が、送水ポンプを有するとともに該送水ポンプの後段に昇圧ポンプを有し、前記制御手段が前記送水ポンプおよび／または前記昇圧ポンプの制御により超純水の供給量の調整を行う、請求項５に記載の温超純水の製造方法。
  8. 　前記送水ポンプおよび前記昇圧ポンプがインバータを備え、前記制御手段が前記インバータから出力される周波数を制御し、前記ユースポイントの使用水量の変動値の下限値が最大値に対して５０％以上である、請求項７に記載の温超純水の製造方法。
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62250988A (ja) * 1986-04-23 1987-10-31 Hitachi Ltd 超純水製造装置
JP2010058010A (ja) * 2008-09-01 2010-03-18 Miura Co Ltd 純水製造装置
JP2010201325A (ja) * 2009-03-03 2010-09-16 Seiko Epson Corp 純水供給システムの制御方法、純水供給システム
JP2014184380A (ja) * 2013-03-22 2014-10-02 Miura Co Ltd 水処理装置
JP2019152411A (ja) * 2018-03-06 2019-09-12 栗田工業株式会社 超純水の加熱方法
JP2019535489A (ja) * 2016-09-15 2019-12-12 エヴォクア ウォーター テクノロジーズ エルエルシーＥｖｏｑｕａ Ｗａｔｅｒ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓｌｌｃ 超純水を処理するための方法及びシステム

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62250988A (ja) * 1986-04-23 1987-10-31 Hitachi Ltd 超純水製造装置
JP2010058010A (ja) * 2008-09-01 2010-03-18 Miura Co Ltd 純水製造装置
JP2010201325A (ja) * 2009-03-03 2010-09-16 Seiko Epson Corp 純水供給システムの制御方法、純水供給システム
JP2014184380A (ja) * 2013-03-22 2014-10-02 Miura Co Ltd 水処理装置
JP2019535489A (ja) * 2016-09-15 2019-12-12 エヴォクア ウォーター テクノロジーズ エルエルシーＥｖｏｑｕａ Ｗａｔｅｒ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓｌｌｃ 超純水を処理するための方法及びシステム
JP2019152411A (ja) * 2018-03-06 2019-09-12 栗田工業株式会社 超純水の加熱方法

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