WO2025070525A1 - ガラス及びガラスの製造方法 - Google Patents

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WO2025070525A1
WO2025070525A1 PCT/JP2024/034246 JP2024034246W WO2025070525A1 WO 2025070525 A1 WO2025070525 A1 WO 2025070525A1 JP 2024034246 W JP2024034246 W JP 2024034246W WO 2025070525 A1 WO2025070525 A1 WO 2025070525A1
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WO
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glass
less
content
mass
raw material
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Pending
Application number
PCT/JP2024/034246
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English (en)
French (fr)
Inventor
晃治 清水
直樹 菅野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
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Pending legal-status Critical Current

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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B3/00—Charging the melting furnaces
    • C03B3/02—Charging the melting furnaces combined with preheating, premelting or pretreating the glass-making ingredients, pellets or cullet
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
    • C03C3/064—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron
    • C03C3/068—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron containing rare earths
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements

Definitions

  • the present invention relates to glass and a method for manufacturing glass.
  • Patent Document 1 describes an optical glass that contains La 2 O 3 and B 2 O 3 and contains sulfur S in an amount of 1 ppm or more and less than 300 ppm. Patent Document 1 describes that degassing can be promoted by containing sulfur S.
  • the present invention aims to provide glass and a method for manufacturing glass that can suppress the inclusion of air bubbles while suppressing a decrease in transmittance.
  • the glass according to the present disclosure contains La 2 O 3 and B 2 O 3 and has, by mass ratio, an S content of 100 ppm or more, an internal transmittance for light with a wavelength of 440 nm of 70% or more, and ⁇ OH of 0.1 mm -1 or more and 1.0 mm -1 or less.
  • the method for producing glass according to the present disclosure includes mixing a raw material containing La, a raw material containing B, a raw material containing SO3 , and a raw material containing H2O , heating and melting the mixed raw materials, and cooling the melted raw materials to obtain glass, wherein the raw material containing H2O is mixed so that the ratio of the amount of H2O added to the total mass of the glass based on oxides is 0.5 wt% or more and 20 wt% or less.
  • the present invention makes it possible to suppress the inclusion of air bubbles while also suppressing the decrease in transmittance.
  • FIG. 1 is a schematic diagram of the glass according to this embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of the glass according to this embodiment when made into a glass plate.
  • FIG. 1 is a schematic diagram of the glass according to the present embodiment.
  • the glass 10 according to the present embodiment is a plate-shaped glass plate, but the shape of the glass 10 is not limited to a plate shape and may be any shape.
  • the glass 10 is used as a light guide plate. More specifically, the glass 10 is used as a light guide plate for a head-mounted display.
  • a head-mounted display is a display device (wearable device) that is worn on a person's head.
  • the use of the glass 10 is arbitrary, and is not limited to being used as a light guide plate, and is not limited to being used in a head-mounted display.
  • composition The composition of the glass 10 will be described below.
  • the glass 10 contains La 2 O 3 and B 2 O 3.
  • La 2 O 3 and B 2 O 3 By containing La 2 O 3 and B 2 O 3 , a high refractive index and high transmittance can be appropriately achieved.
  • the presence or absence of La 2 O 3 and B 2 O 3 can be measured by ICP mass spectrometry.
  • Agilent 8800 manufactured by Agilent Technologies can be used as a measuring device.
  • (S) Glass 10 has a S content relative to the total mass of glass 10 (S content/total mass of glass) in terms of mass ratio of 60 ppm or more, preferably 80 ppm or more, 100 ppm or more, preferably 120 ppm or more, more preferably 140 ppm or more, even more preferably 160 ppm or more, preferably 500 ppm or less, more preferably 400 ppm or less, even more preferably 350 ppm or less, preferably 300 ppm or less, more preferably 250 ppm or less, and even more preferably 200 ppm or less.
  • the content of S relative to the total mass of glass 10 is preferably 100 ppm to 500 ppm, more preferably 100 ppm to 300 ppm, more preferably 120 ppm to 250 ppm, more preferably 140 ppm to 200 ppm, and even more preferably 160 ppm to 200 ppm.
  • the S content can be measured by ion chromatography.
  • the total mass of glass 10 refers to the total mass of glass 10 based on oxides.
  • the oxide basis refers to assuming that all raw materials containing metal atoms other than S, which are components of glass 10, are decomposed and converted to metal oxides during melting, and the sum of the masses of these metal oxides is the total mass of glass 10 (100 wt %).
  • the ⁇ OH of the glass 10 is 0.1 mm -1 or more, preferably 0.2 mm -1 or more, more preferably 0.3 mm -1 or more, and even more preferably 0.4 mm -1 or more.
  • the ⁇ OH of the glass 10 is 1.0 mm -1 or less, preferably 0.8 mm -1 or less, more preferably 0.6 mm -1 or less, and even more preferably 0.5 mm -1 or less.
  • the ⁇ OH of the glass 10 is 0.1 mm -1 or more and 1.0 mm -1 or less, preferably 0.2 mm -1 or more and 0.8 mm -1 or less, more preferably 0.3 mm -1 or more and 0.6 mm -1 or less, and even more preferably 0.4 mm -1 or more and 0.5 mm -1 or less.
  • ⁇ OH is an index indicating the amount of water in the glass, and a larger ⁇ OH value means a larger amount of water in the glass.
  • the degree of water content based on the amount of ⁇ OH and the amount of H 2 O contained in the raw materials. Furthermore, by setting the upper limit of ⁇ OH in the glass 10 within this range, it is possible to suppress the generation of bubbles before molding. It is generally known that water contained in glass dissolved in a Pt container generates O2 bubbles due to H permeation through the Pt container. In order to suppress O2 bubbles, it is preferable to suppress the amount of water before the molding process.
  • the ⁇ OH of the glass 10 is calculated by the following formula (1).
  • ⁇ OH indicates the value of ⁇ OH (mm ⁇ 1 ) of the glass 10
  • D indicates the thickness (mm) of the glass 10
  • ⁇ 1 indicates the transmittance (%) of the glass 10 at a reference wave number of 4000 (cm ⁇ 1 )
  • ⁇ 2 indicates the minimum transmittance (%) of the glass 10 at a reference wave number of 3450 (cm ⁇ 1 ).
  • FT-IR Fourier transform infrared spectrophotometer
  • the glass 10 preferably contains SiO 2.
  • the glass 10 preferably has a SiO 2 content of 2.5% or more, more preferably 3.0% or more, and even more preferably 3.5% or more, expressed in mass% based on oxide.
  • the glass 10 preferably has a SiO 2 content of 7.0% or less, more preferably 6.0% or less, and even more preferably 5.0% or less, expressed in mass% based on oxide.
  • the glass 10 preferably has a SiO 2 content of 2.5% or more and 7.0% or less, more preferably 3.0% or more and 6.0% or less, and even more preferably 3.5% or more and 5.0% or less, expressed in mass% based on oxide.
  • the upper limit of the SiO 2 content is in this range, good melting properties can be realized.
  • the lower limit of the SiO 2 content is in this range, good devitrification resistance can be realized.
  • the glass 10 contains B 2 O 3.
  • the content of B 2 O 3 is preferably 6% or more, more preferably 7% or more, even more preferably 7.5% or more, and most preferably 8% or more, expressed in mass% based on oxide.
  • the content of B 2 O 3 is preferably 12% or less, more preferably 10% or less, even more preferably 9.5% or less, and most preferably 9% or less, expressed in mass% based on oxide.
  • the content of B 2 O 3 is preferably 6% or more and 12% or less, more preferably 7% or more and 10% or less, even more preferably 7.5% or more and 9.5% or less, and most preferably 8% or more and 9% or less, expressed in mass% based on oxide.
  • the upper limit of the content of B 2 O 3 is in this range, good melting property can be realized.
  • the lower limit of the content of B 2 O 3 is in the above range, good devitrification resistance can be realized.
  • the glass 10 may contain P 2 O 5 or may not contain P 2 O 5.
  • the glass 10 may have a P 2 O 5 content of 0% or more, 0.3% or more, or 0.5% or more, expressed in mass% based on oxide.
  • the glass 10 has a P 2 O 5 content of 3% or less, more preferably 2% or less, and even more preferably 1% or less, expressed in mass% based on oxide.
  • the glass 10 has a P 2 O 5 content of 0% or more and 3% or less, 0.3% or more and 2% or less, or 0.5% or more and 1% or less, expressed in mass% based on oxide.
  • the P 2 O 5 content is within this range, devitrification resistance can be appropriately achieved. In order to appropriately maintain devitrification resistance, it is more preferable not to contain P 2 O 5 .
  • the glass 10 may contain CaO or may not contain CaO.
  • the glass 10 has a CaO content of 0% or more, more preferably 1% or more, and even more preferably 2% or more, expressed in mass% on an oxide basis.
  • the glass 10 has a CaO content of 5% or less, more preferably 4% or less, and even more preferably 3% or less, expressed in mass% on an oxide basis.
  • the glass 10 has a CaO content of 0% or more and 5% or less, more preferably 1% or more and 4% or less, and even more preferably 2% or more and 3% or less, expressed in mass% on an oxide basis.
  • the glass 10 may contain SrO or may not contain SrO.
  • the glass 10 has an SrO content of 0% or more, more preferably 1% or more, and even more preferably 2% or more, expressed in mass% on an oxide basis.
  • the glass 10 has an SrO content of 5% or less, more preferably 4% or less, and even more preferably 3% or less, expressed in mass% on an oxide basis.
  • the glass 10 has an SrO content of 0% or more and 5% or less, more preferably 1% or more and 4% or less, and even more preferably 2% or more and 3% or less, expressed in mass% on an oxide basis. When the SrO content is within this range, devitrification resistance, high refractive index, and high transmittance can be appropriately realized.
  • the glass 10 may contain BaO or may not contain BaO.
  • the glass 10 has a BaO content of 0% or more, more preferably 1% or more, and even more preferably 2% or more, expressed in mass% on an oxide basis.
  • the glass 10 has a BaO content of 5% or less, more preferably 4% or less, and even more preferably 3% or less, expressed in mass% on an oxide basis.
  • the glass 10 has a BaO content of 0% or more and 5% or less, more preferably 1% or more and 4% or less, and even more preferably 2% or more and 3% or less, expressed in mass% on an oxide basis.
  • the glass 10 may contain Li 2 O to improve melting properties, or may not contain Li 2 O.
  • the glass 10 may have a Li 2 O content of 0% or more, 0.1% or more, or 0.3% or more, expressed in mass% based on oxide.
  • the glass 10 has a Li 2 O content of 3% or less, more preferably 2% or less, and even more preferably 1% or less, expressed in mass% based on oxide.
  • the glass 10 has a Li 2 O content of 0% or more and 3% or less, 0.1% or more and 2% or less, or 0.3% or more and 1% or less, expressed in mass% based on oxide.
  • the Li 2 O content is within this range, devitrification resistance, high refractive index, and high transmittance can be appropriately realized. In order to appropriately maintain devitrification resistance, it is more preferable not to contain Li 2 O.
  • the glass 10 may contain Na 2 O or may not contain Na 2 O.
  • the glass 10 may have a Na 2 O content of 0% or more, 0.1% or more, or 0.3% to 1% in mass% on an oxide basis.
  • the glass 10 has a Na 2 O content of 3% or less, more preferably 2% or less, and even more preferably 1% or less, in mass% on an oxide basis.
  • the glass 10 has a Na 2 O content of 0% or more and 3% or less, 0.1% or more and 2% or less, or 0.3% or more and 1% or less, in mass% on an oxide basis.
  • the Na 2 O content is within this range, devitrification resistance, high refractive index, and high transmittance can be appropriately realized. In order to appropriately maintain devitrification resistance, it is more preferable not to contain Na 2 O.
  • the glass 10 may contain K 2 O or may not contain K 2 O.
  • the glass 10 may have a K 2 O content of 0% or more, 0.1% or more, or 0.3% or more, expressed in mass% based on oxide.
  • the glass 10 has a K 2 O content of 3% or less, more preferably 2% or less, and even more preferably 1% or less, expressed in mass% based on oxide.
  • the glass 10 has a K 2 O content of 0% or more and 3% or less, 0.1% or more and 2% or less, or 0.3% or more and 1% or less, expressed in mass% based on oxide.
  • the K 2 O content is within this range, devitrification resistance, high refractive index, and high transmittance can be appropriately realized. In order to appropriately maintain devitrification resistance, it is preferable not to contain K 2 O.
  • the glass 10 may contain ZnO or may not contain ZnO.
  • the glass 10 has a ZnO content of 0% or more, more preferably 1% or more, and even more preferably 2% or more, expressed in mass% on an oxide basis.
  • the glass 10 has a ZnO content of 5% or less, more preferably 4% or less, and even more preferably 3% or less, expressed in mass% on an oxide basis.
  • the glass 10 has a ZnO content of 0% or more and 5% or less, more preferably 1% or more and 4% or less, and even more preferably 2% or more and 3% or less, expressed in mass% on an oxide basis.
  • the glass 10 preferably contains TiO 2.
  • the glass 10 preferably has a TiO 2 content of 14% or more, more preferably 15% or more, and even more preferably 16% or more, expressed in mass% based on oxide.
  • the glass 10 preferably has a TiO 2 content of 20% or less, more preferably 18% or less, and even more preferably 17% or less, expressed in mass% based on oxide.
  • the glass 10 preferably has a TiO 2 content of 14% or more and 20% or less, more preferably 15% or more and 18% or less, and even more preferably 16% or more and 17% or less, expressed in mass% based on oxide.
  • the glass 10 preferably contains Nb 2 O 5.
  • the content of Nb 2 O 5 in the glass 10 is preferably 8% or more, more preferably 8.5% or more, and even more preferably 9% or more, expressed in mass% on an oxide basis.
  • the content of Nb 2 O 5 in the glass 10 is preferably 13% or less, more preferably 12% or less, preferably 11% or less, and even more preferably 10% or less, expressed in mass% on an oxide basis.
  • the content of Nb 2 O 5 in the glass 10 is preferably 8% or more and 13% or less, more preferably 8.5% or more and 12% or less, more preferably 9% or more and 12% or less, more preferably 9% or more and 11% or less, and even more preferably 9% or more and 10% or less, expressed in mass% on an oxide basis.
  • the upper limit of the content of Nb 2 O 5 is within this range, devitrification resistance can be appropriately achieved.
  • the lower limit of the Nb 2 O 5 content falls within this range, a high refractive index can be appropriately achieved.
  • the glass 10 may contain Ta 2 O 5 or may not contain Ta 2 O 5.
  • the glass 10 has a Ta 2 O 5 content of 0% or more, more preferably 0.3% or more, and even more preferably 0.5% or more, expressed in mass% based on oxide.
  • the glass 10 has a Ta 2 O 5 content of 5% or less, more preferably 3% or less, and even more preferably 1% or less, expressed in mass% based on oxide.
  • the glass 10 has a Ta 2 O 5 content of 0% or more and 5% or less, more preferably 0.3% or more and 3% or less, and even more preferably 0.5% or more and 1% or less, expressed in mass% based on oxide.
  • the glass 10 preferably contains WO3 .
  • the content of WO3 is preferably 0% or more, more preferably 0.1% or more, more preferably 0.2% or more, and even more preferably 0.3% or more, expressed in mass% based on oxide.
  • the content of WO3 is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, more preferably 2% or less, even more preferably 1% or less, and even more preferably 0.5% or less, expressed in mass% based on oxide.
  • the content of WO3 is preferably 0% or more and 5% or less, more preferably 0.1% or more and 3% or less, more preferably 0.2% or more and 2% or less, and even more preferably 0.3% or more and 1% or less, expressed in mass% based on oxide.
  • the content of WO3 is within this range, meltability, resistance to devitrification, and a high refractive index can be appropriately realized.
  • La2O3 Glass 10 contains La 2 O 3.
  • the content of La 2 O 3 is preferably 38% or more, more preferably 40% or more, and even more preferably 41% or more, expressed in mass% based on oxide.
  • the content of La 2 O 3 is preferably 47% or less, more preferably 45% or less, and even more preferably 44% or less, expressed in mass% based on oxide.
  • the content of La 2 O 3 is preferably 38% or more and 47% or less, more preferably 40% or more and 45% or less, and even more preferably 41% or more and 44% or less, expressed in mass% based on oxide.
  • specific gravity and devitrification resistance can be appropriately realized.
  • the lower limit of the content of La 2 O 3 is within this range, both a high refractive index and a high transmittance can be appropriately realized.
  • the glass 10 preferably contains Gd 2 O 3.
  • the content of Gd 2 O 3 in the glass 10 is preferably 6% or more, more preferably 7% or more, more preferably 8% or more, and even more preferably 9% or more, expressed in mass% based on the oxide.
  • the content of Gd 2 O 3 in the glass 10 is preferably 12% or less, more preferably 11% or less, more preferably 10% or less, and even more preferably 9.5% or less, expressed in mass% based on the oxide.
  • the content of Gd 2 O 3 in the glass 10 is preferably 6% or more and 12% or less, more preferably 7% or more and 11% or less, more preferably 8% or more and 11% or less, more preferably 8% or more and 10% or less, and even more preferably 9% or more and 9.5% or less, expressed in mass% based on the oxide.
  • the upper limit of the content of Gd 2 O 3 is within this range, the specific gravity and devitrification resistance can be appropriately realized.
  • the lower limit of the Gd 2 O 3 content falls within this range, a high refractive index and high transmittance can be appropriately achieved.
  • the glass 10 preferably contains Y 2 O 3.
  • the glass 10 preferably has a Y 2 O 3 content of 0% or more, more preferably 1% or more, and even more preferably 2% or more, expressed in mass% based on oxide.
  • the glass 10 preferably has a Y 2 O 3 content of 5% or less, more preferably 4.0% or less, and even more preferably 3.5% or less, expressed in mass% based on oxide.
  • the glass 10 preferably has a Y 2 O 3 content of 0% or more and 5% or less, more preferably 1% or more and 4.0% or less, and even more preferably 2% or more and 3.5% or less, expressed in mass% based on oxide.
  • the specific gravity and devitrification resistance can be appropriately realized.
  • the lower limit of the Y 2 O 3 content within this range, a high refractive index and high transmittance can be appropriately realized.
  • the total content of SiO 2 and B 2 O 3 is preferably 9% or more, more preferably 10% or more, and even more preferably 11% or more, in terms of mass% based on oxides.
  • the total content of SiO 2 and B 2 O 3 is preferably 14% or less, and more preferably 13% or less, in terms of mass% based on oxides.
  • the total content of SiO 2 and B 2 O 3 is preferably 9% or more, more preferably 10% or more and 14% or less, and even more preferably 11% or more and 13% or less, in terms of mass% based on oxides.
  • the ratio ( TiO2 / B2O3 ) of the content of TiO2 to the content of B2O3 contained in the glass 10 is preferably 3.00 or less, more preferably 2.50 or less, even more preferably 2.20 or less, even more preferably 2.00 or less, even more preferably 1.95 or less, even more preferably 1.90 or less, and even more preferably 1.70 or less.
  • the ratio ( TiO2 / B2O3 ) is preferably 0.50 or more, more preferably 0.80 or more, even more preferably 1.00 or more, even more preferably 1.20 or more, even more preferably 1.30 or more, and even more preferably 1.50 or more.
  • the ratio ( TiO2 / B2O3 ), in terms of mass ratio, is preferably 0.50 or more and 3.00 or less, more preferably 0.80 or more and 2.50 or less, even more preferably 1.00 or more and 2.20 or less, even more preferably 1.20 or more and 2.00 or less, even more preferably 1.30 or more and 1.95 or less, even more preferably 1.50 or more and 1.90 or less, and even more preferably 1.50 or more and 1.70 or less.
  • the total content of Pt and Fe in the glass 10, in terms of mass ratio, is preferably 10 ppm or less, more preferably 9 ppm or less, even more preferably 8 ppm or less, and even more preferably 7 ppm or less, relative to the entirety of the glass 10.
  • the total content of Pt and Fe in the glass 10, in terms of mass ratio is preferably 0 ppm or more and 10 ppm or less, more preferably 0.1 ppm or more and 9 ppm or less, even more preferably 0.3 ppm or more and 8 ppm or less, and even more preferably 0.5 ppm or more and 7 ppm or less, relative to the entirety of the glass 10.
  • the Pt and Fe contents can be measured by ICP mass spectrometry, using, for example, an Agilent 8800 manufactured by Agilent Technologies.
  • the glass 10 preferably does not contain Sb. By not containing Sb, high transmittance can be appropriately achieved. Note that not containing Sb means that the glass 10 is allowed to contain Sb as an unavoidable impurity.
  • the presence or absence of Sb can be measured by ICP mass spectrometry.
  • a measuring device for example, Agilent 8800 manufactured by Agilent Technologies can be used.
  • Glass characteristics The properties of the glass 10 are described below.
  • the internal transmittance ⁇ 440 of the glass 10 is 70% or more, preferably 85% or more, more preferably 88% or more, and more preferably 92% or more.
  • the transmittance ⁇ 440 of the glass 10 may be 99.9% or less, may be 99.8% or less, may be 99% or less, or may be 98% or less.
  • the transmittance ⁇ 440 of the glass 10 is 70% or more, preferably 85% or more and 99% or less, more preferably 88% or more and 98% or less, and more preferably 92% or more and 98% or less.
  • the transmittance ⁇ 440 refers to the internal transmittance for light with a wavelength of 440 nm. More specifically, the internal transmittance ⁇ 440 is the internal transmittance for light with a wavelength of 440 nm when converted to a thickness of 10 mm.
  • the internal transmittance can be calculated from the measured values of the external transmittances of two different plate thicknesses and the following formula (2).
  • the external transmittance means the transmittance including the surface reflection loss.
  • ⁇ is the internal transmittance of the glass when converted to a thickness of 10 mm
  • T1 and T2 are the external transmittances
  • ⁇ d is the difference in thickness of the sample.
  • the external transmittance can be measured using a spectrophotometer (U-4100 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation) for a sample that has been mirror-polished on both sides to a plate thickness of 10 mm.
  • the refractive index n d of the glass 10 is preferably 1.95 or more, more preferably 1.98 or more, more preferably 2.03 or more, and even more preferably 2.04 or more.
  • the refractive index n d of the glass 10 is preferably 2.06 or less, and more preferably 2.05 or less.
  • the refractive index n d of the glass 10 is more preferably 1.98 or more and 2.06 or less, and even more preferably 2.03 or more and 2.05 or less.
  • the refractive index n d refers to the refractive index at the helium d line (wavelength 587.6 nm) and can be measured by the V - block method.
  • the Abbe number v d of the glass 10 is preferably 24 or more, more preferably 25 or more, and even more preferably 26 or more.
  • the Abbe number v d of the glass 10 is preferably 30 or less, more preferably 28 or less, and even more preferably 27 or less.
  • the Abbe number v d of the glass 10 is preferably 24 or more and 30 or less, more preferably 25 or more and 28 or less, and even more preferably 26 or more and 27 or less.
  • the Abbe number v d represents the ratio of the refractive index (n d -1) to the dispersion (n F -n C ).
  • the refractive index n F refers to the refractive index at the F line of hydrogen (wavelength 486.1 nm)
  • the refractive index n C refers to the refractive index at the C line of hydrogen (wavelength 656.3 nm).
  • the glass transition temperature Tg of the glass 10 is preferably 680° C. or higher, more preferably 700° C. or higher, and even more preferably 710° C. or higher.
  • the glass transition temperature Tg of the glass 10 is preferably 760° C. or lower, more preferably 750° C. or lower, even more preferably 740° C. or lower, and even more preferably 730° C. or lower.
  • the glass transition temperature Tg of the glass 10 is preferably 680° C. or higher and 760° C. or lower, more preferably 700° C. or higher and 750° C. or lower, and even more preferably 710° C. or higher and 740° C. or lower.
  • the glass transition temperature can be measured according to the method specified in JIS R3103-3:2001 "Viscosity and Viscosity Fixed Points of Glass-Part 3: Transition Temperature Measurement Method by Thermal Expansion Method".
  • the devitrification temperature of glass 10 is preferably less than 1290° C., more preferably equal to or lower than 1270° C., and even more preferably equal to or lower than 1250° C. When the devitrification temperature is within this range, the temperature at which the raw materials are melted during the production of glass 10 can be relatively low, and Pt contained in the melting equipment can be prevented from being dissolved and mixed into the glass, thereby appropriately suppressing a decrease in transmittance.
  • the devitrification temperature can be measured by the following method. A sample glass was crushed to obtain glass particles that passed through a 4 mm sieve and remained on a 2 mm sieve. The glass particles were immersed in ethanol, ultrasonically cleaned, and then dried in a dryer.
  • the linear thermal expansion coefficient ⁇ of the glass 10 is preferably 94 ⁇ 10 ⁇ 7 /° C. or less, more preferably 93 ⁇ 10 ⁇ 7 /° C. or less, even more preferably 92 ⁇ 10 ⁇ 7 /° C. or less, and even more preferably 91 ⁇ 10 ⁇ 7 /° C. or less.
  • the linear thermal expansion coefficient ⁇ of the glass 10 is more preferably 86 ⁇ 10 ⁇ 7 /° C. or more, and even more preferably 87 ⁇ 10 ⁇ 7 /° C. or more.
  • the linear thermal expansion coefficient ⁇ of the glass 10 is more preferably 86 ⁇ 10 ⁇ 7 /° C. or more and 93 ⁇ 10 ⁇ 7 /° C.
  • the linear thermal expansion coefficient ⁇ is the average thermal expansion coefficient in the range of 100°C to 300°C, and is a value measured in accordance with DIN-51045-1 as a standard for thermal expansion measurement.
  • thermal expansion meter DIL 402 Expedis Supreme manufactured by NETZSCH is used as a measuring device to measure in the range of 30°C to 400°C, and the average thermal expansion coefficient in the range of 100°C to 300°C may be used as the linear thermal expansion coefficient.
  • the Young's modulus E of the glass 10 is preferably 125 GPa or more, more preferably 127 GPa or more, and even more preferably 130 GPa or more.
  • the Young's modulus E of the glass 10 is preferably 145 GPa or less, more preferably 142 GPa or less, and even more preferably 140 GPa or less.
  • the Young's modulus E of the glass 10 is preferably 125 GPa or more and 145 GPa or less, more preferably 127 GPa or more and 142 GPa or less, and even more preferably 130 GPa or more and 140 GPa or less.
  • Such a high Young's modulus can appropriately suppress breakage of the glass 10.
  • the Young's modulus can be measured based on the propagation of ultrasonic waves using 38DL PLUS manufactured by OLYMPUS Corporation.
  • the specific gravity d of the glass 10 is preferably 5.5 g/ cm3 or less, more preferably 5.4 g/ cm3 or less, preferably 5.3 g/ cm3 or less, and even more preferably 5.2 g/ cm3 or less. Such a low specific gravity makes it easy to handle the glass 10.
  • the specific gravity d can be measured by the Archimedes method.
  • the glass 10 according to the present embodiment is preferably an optical glass, and is preferably a glass plate having a thickness of 0.01 mm or more and 2.0 mm or less. If the thickness is 0.01 mm or more, breakage during handling or processing of the glass 10 can be suppressed. In addition, deflection due to the weight of the glass 10 can be suppressed. This thickness is more preferably 0.1 mm or more, even more preferably 0.2 mm or more, and even more preferably 0.3 mm or more. On the other hand, if the thickness is 2.0 mm or less, the optical element using the glass 10 can be made lightweight. This thickness is more preferably 1.5 mm or less, even more preferably 1.0 mm or less, and even more preferably 0.8 mm or less.
  • the area of the main surface is preferably 8 cm 2 or more. If this area is 8 cm 2 or more, a large number of optical elements can be arranged, and productivity is improved. This area is more preferably 30 cm 2 or more, even more preferably 170 cm 2 or more, even more preferably 300 cm 2 or more, and particularly preferably 1000 cm 2 or more. On the other hand, if the area is 6500 cm 2 or less, the glass plate becomes easy to handle, and breakage during handling or processing of the glass plate can be suppressed. This area is more preferably 4500 cm 2 or less, even more preferably 4000 cm 2 or less, even more preferably 3000 cm 2 or less, and particularly preferably 2000 cm 2 or less.
  • the LTV (Local Thickness Variation) in 25 cm2 of the main surface is preferably 2 ⁇ m or less.
  • a nanostructure of a desired shape can be formed on the main surface using imprint technology or the like, and the desired light guide characteristics can be obtained.
  • ghost phenomena and distortions due to differences in optical path length can be prevented in the light guide.
  • This LTV is more preferably 1.5 ⁇ m or less, even more preferably 1.0 ⁇ m or less, and particularly preferably 0.5 ⁇ m or less.
  • the warp is preferably 50 ⁇ m or less. If the warp of this glass 10 is 50 ⁇ m or less, a nanostructure of the desired shape can be formed on the main surface using imprinting technology or the like, and the desired light guiding characteristics can be obtained. When multiple light guiding bodies are to be obtained, they can be obtained with stable quality.
  • the warp of this glass 10 is more preferably 40 ⁇ m or less, even more preferably 30 ⁇ m or less, and particularly preferably 20 ⁇ m or less.
  • the warp is preferably 30 ⁇ m or less. If the warp of this glass 10 is 30 ⁇ m or less, a nanostructure of the desired shape can be formed on the main surface using imprint technology or the like, and the desired light guiding characteristics can be obtained. When multiple light guiding bodies are to be obtained, they can be obtained with stable quality.
  • the warp of this glass 10 is more preferably 20 ⁇ m or less, even more preferably 15 ⁇ m or less, and particularly preferably 10 ⁇ m or less.
  • the warp is preferably 100 ⁇ m or less. If the warp of this glass 10 is 100 ⁇ m or less, a nanostructure of the desired shape can be formed on the main surface using imprinting technology or the like, and the desired light guiding characteristics can be obtained. When multiple light guiding bodies are to be obtained, they can be obtained with stable quality.
  • the warp of this glass 10 is more preferably 70 ⁇ m or less, even more preferably 50 ⁇ m or less, even more preferably 35 ⁇ m or less, and particularly preferably 20 ⁇ m or less.
  • Figure 2 is a cross-sectional view of the glass according to this embodiment when it is used as a glass plate.
  • "Warping" refers to the difference C between the maximum value B and minimum value A of the perpendicular distance between the reference line G1D of the glass plate G1 and the center line G1C of the glass plate G1 in any cross section that passes through the center of the main surface G1F of the glass plate G1 and is perpendicular to the main surface G1F of the glass plate G1 when the glass 10 according to this embodiment is used as the glass plate G1.
  • the intersection line between any of the orthogonal cross sections and the main surface G1F of the glass sheet G1 is the base line G1A.
  • the intersection line between any of the orthogonal cross sections and the other main surface G1G of the glass sheet G1 is the top line G1B.
  • the center line G1C is a line connecting the center of the glass sheet G1 in the thickness direction. The center line G1C is calculated by finding the midpoint between the base line G1A and the top line G1B in the direction of laser irradiation described below.
  • the reference line G1D is found as follows. First, the base line G1A is calculated based on a measurement method that cancels the effects of the weight. A straight line is found from the base line G1A using the least squares method. The straight line found is the reference line G1D. A known method is used as the measurement method that cancels the effects of the weight.
  • the main surface G1F of the glass plate G1 is supported at three points, a laser is irradiated onto the glass plate G1 using a laser displacement meter, and the height of the main surface G1F and the other main surface G1G of the glass plate G1 from an arbitrary reference plane is measured.
  • the glass plate G1 is inverted, and three points on the other main surface G1G opposite to the three points on which the one main surface G1F is supported are supported, and the heights of the main surface G1F and the other main surface G1G of the glass plate G1 from an arbitrary reference plane are measured.
  • the influence of the weight is cancelled.
  • the height of the main surface G1F is measured as described above. After inverting the glass sheet G1, the height of the other main surface G1G is measured at a position corresponding to the measurement point of the main surface G1F. Similarly, before inversion, the height of the other main surface G1G is measured. After inverting the glass sheet G1, the height of the main surface G1F is measured at a position corresponding to the measurement point of the other main surface G1G.
  • the warpage is measured, for example, by a laser displacement meter.
  • the surface roughness Ra of the main surface is preferably 2 nm or less.
  • an Ra in this range a nanostructure of a desired shape can be formed on the main surface using imprinting technology or the like, and the desired light guiding characteristics can be obtained.
  • diffuse reflection at the interface can be suppressed, preventing ghosting and distortion.
  • This Ra is more preferably 1.7 nm or less, even more preferably 1.4 nm or less, even more preferably 1.2 nm or less, and particularly preferably 1 nm or less.
  • the surface roughness Ra is the arithmetic mean roughness defined in JIS B0601 (2001). In this specification, it is a value measured over an area of 10 ⁇ m x 10 ⁇ m using an atomic force microscope (AFM).
  • the method for producing the glass 10 according to the present embodiment is not particularly limited, but a preferred method for producing the glass 10 will be described below.
  • the process includes a mixing step for mixing the raw materials for glass 10, a melting step for melting the raw materials, and a cooling step for cooling the molten raw materials to obtain glass 10.
  • a mixing step for mixing the raw materials for glass 10 a melting step for melting the raw materials
  • existing methods for manufacturing flat glass can be used.
  • known methods such as the float method, fusion method, and roll-out method can be used.
  • the raw materials of glass 10 are selected according to the composition of glass 10 to be obtained, and are mixed in a compounding ratio according to the composition of glass 10 to be obtained.
  • at least a raw material containing La, a raw material containing B, a raw material containing SO3 , and a raw material containing H2O are prepared as the raw materials of glass 10, and these raw materials are mixed.
  • the raw material containing La, the raw material containing B, the raw material containing SO 3 , and the raw material containing H 2 O are not limited to being different raw materials, and at least two of them may be the same raw material.
  • one kind of raw material containing B and H 2 O may be used as the raw material containing B and the raw material containing H 2 O.
  • the raw materials of glass 10 are not limited to the raw materials containing La, the raw materials containing B, the raw materials containing SO 3 , and the raw materials containing H 2 O, and other raw materials may be used according to the composition of glass 10 to be obtained.
  • the raw material containing La is a simple substance of La or a compound of La, and is preferably a compound of La.
  • the raw material containing La for example, La2O3 is preferably used.
  • the raw material containing B is a simple substance of B or a compound of B, and is preferably a compound of B.
  • the raw material containing B for example, at least one of B 2 O 3 and H 3 BO 3 is preferably used, and in a glass composition containing 7 wt % or more of B 2 O 3 , it is more preferable to use H 3 BO 3 in order to realize a higher transmittance.
  • the raw material containing SO 3 is preferably a compound containing SO 3 (containing at least one S and three O), and more preferably a sulfate.
  • the raw material containing SO 3 for example, at least one of La 2 (SO 4 ) 3.9H 2 O and Zr (SO 4 ) 2.4H 2 O is preferably used.
  • a raw material containing H2O is a compound that generates H2O upon combustion, in other words, a compound that contains at least two H and one O.
  • a raw material containing H2O it is preferable to use at least one of H3BO3 , a hydrate, and an organic material.
  • a sulfate hydrate such as La2 ( SO4 ) 3.9H2O and a nitrate hydrate such as La( NO3 ) 3.4H2O , which have good melting properties, are preferable.
  • the organic substance a sugar such as glucose C6H12O6 is preferable.
  • H3BO3 a glass composition containing 7 wt% or more of B2O3 .
  • H2O Addition Ratio the ratio of the amount of H2O added (amount of H2O added/total mass of glass) based on the oxides in the mass ratio is defined as the H2O addition ratio.
  • the amount of H2O added refers to the mass of the H2O component in the raw material containing H2O added in the mixing process, in other words, the mass of the components excluding the components other than H2O from the raw material containing H2O .
  • the mass of the components excluding B2O3 from H3BO3 is the mass of H2O ( 3H2O ) in the raw material containing H2O .
  • the ratio of the amount of H 3 BO 3 (a raw material containing H 2 O) added to the total mass of glass 10 based on oxides is 18.66 wt %
  • the ratio of H 2 O added, excluding B 2 O 3 is 8.16 wt %.
  • the H 2 O addition ratio is preferably 5 wt% or more, more preferably 6 wt% or more, and even more preferably 7 wt% or more.
  • the H 2 O addition ratio is preferably 20 wt% or less, more preferably 15 wt% or less, and even more preferably 10 wt% or less.
  • the H 2 O addition ratio is preferably 5 wt% or more and 20 wt% or less, more preferably 6 wt% or more and 15 wt% or less, and even more preferably 7 wt% or more and 10 wt% or less.
  • ⁇ OH evaluated in a glass state is an index of the amount of water remaining in the molding process, and in order to evaluate the moisture itself during the glass melting in the fining process where Pt dissolution progresses most, it is more preferable to take into account the H 2 O addition ratio.
  • the SO3 addition ratio the ratio of the amount of SO3 added (amount of SO3 added/total mass of glass) to the total mass of glass 10 based on oxides in mass ratio is defined as the SO3 addition ratio.
  • the amount of SO3 added refers to the mass of the SO3 component in the raw material containing SO3 mixed in the mixing process, in other words, the mass of the components excluding components other than SO3 from the raw material containing SO3 .
  • the SO 3 addition ratio is preferably 0.3 wt% or more, more preferably 0.5 wt% or more, and even more preferably 0.7 wt% or more.
  • the SO 3 addition ratio is preferably 2.5 wt% or less, more preferably 2.2 wt% or less, more preferably 2.0 wt% or less, more preferably 1.5 wt% or less, and even more preferably 1.0 wt% or less.
  • the SO 3 addition ratio is preferably 0.3 wt% or more and 2.0 wt% or less, more preferably 0.5 wt% or more and 1.5 wt% or less, more preferably 0.7 wt% or more and 1.3 wt% or less, and even more preferably 0.7 wt% or more and 1.0 wt% or less.
  • the raw materials are placed in a container such as a crucible, and the raw materials placed in the container are heated to melt the raw materials.
  • the container may be made of any material, but in this embodiment, a container containing Pt is used.
  • the heating temperature when melting the raw material is preferably 1350° C. or less, more preferably 1330° C. or less, and even more preferably 1300° C. or less.
  • the heating temperature when melting the raw material is preferably 1250° C. or more, and more preferably 1270° C. or more.
  • the heating temperature when melting the raw material is preferably 1350° C. or less, more preferably 1250° C. or more and 1330° C. or less, and even more preferably 1270° C.
  • the heating temperature in this range, there are no defects such as foreign matter and bubbles, and furthermore, dissolution of Pt contained in the container is suppressed, and the decrease in transmittance can be appropriately suppressed.
  • glass 10 according to the first aspect of the present disclosure contains La 2 O 3 and B 2 O 3 and, by mass ratio, has an S content of 100 ppm or more, an internal transmittance of 70% or more for light with a wavelength of 440 nm, and ⁇ OH of 0.1 mm -1 or more and 1.0 mm -1 or less.
  • Glass 10 according to the present disclosure can suppress the inclusion of bubbles by containing S in the above range.
  • the present inventor also found a problem that when a fining agent (a raw material containing SO 3 ) is added to suppress bubbles when manufacturing glass containing La 2 O 3 and B 2 O 3 , in other words, when S is contained in the glass, the transmittance decreases.
  • glass 10 according to the present disclosure can suppress the decrease in transmittance by appropriately containing water while suppressing the generation of bubbles by containing ⁇ OH in the above range.
  • Glass 10 according to the second aspect of the present disclosure is glass 10 according to the first aspect, and preferably has a refractive index n d of 1.95 or greater. Due to its high refractive index, glass 10 of the present disclosure can be appropriately used as an optical component.
  • Glass 10 according to the third aspect of the present disclosure is glass 10 according to the first or second aspect, and preferably has a ratio of the content of tetravalent Ti to the content of trivalent B of 3 or less. With such a composition, glass 10 according to the present disclosure can appropriately achieve a high refractive index and high transmittance.
  • Glass 10 according to a fourth aspect of the present disclosure is glass 10 according to any one of the first to third aspects, and preferably has a combined content of SiO 2 and B 2 O 3 of 10% or more, expressed as a mass ratio based on oxides. With such a composition, glass 10 of the present disclosure can appropriately achieve a high refractive index and high transmittance.
  • Glass 10 according to a fifth aspect of the present disclosure is glass 10 according to any of the first to fourth aspects, and preferably has a specific gravity of 5.30 g/cm 3 or less. Such a low specific gravity makes glass 10 easy to handle.
  • Glass 10 according to the sixth aspect of the present disclosure is glass 10 according to any one of the first to fifth aspects, and preferably has a devitrification temperature of 1270°C or less. Since glass 10 according to the present disclosure has a devitrification temperature of 1270°C or less, the temperature at which the raw materials are melted during the manufacture of glass 10 can be kept relatively low, and a decrease in transmittance can be suppressed.
  • the glass 10 according to the seventh aspect of the present disclosure is the glass 10 according to any one of the first to sixth aspects, and preferably does not contain Sb. This allows a high refractive index and high transmittance to be appropriately achieved.
  • the glass 10 according to the eighth aspect of the present disclosure is the glass 10 according to any one of the first to seventh aspects, and is preferably used as a light guide plate.
  • the glass 10 according to the present disclosure can be suitably used as a light guide plate.
  • a method for producing glass 10 according to a ninth aspect of the present disclosure includes mixing a raw material containing La, a raw material containing B, a raw material containing SO3 , and a raw material containing H2O , heating and melting the mixed raw materials, and cooling the melted raw materials to obtain glass, wherein the raw materials containing H2O are mixed such that the ratio of the amount of H2O added to the total mass of glass 10 based on oxides is 5 wt% or more and 20 wt% or less. According to the present disclosure, it is possible to suppress a decrease in transmittance by appropriately incorporating moisture while suppressing the time required for production.
  • a method for producing glass 10 according to a tenth aspect of the present disclosure is the method for producing glass 10 according to the ninth aspect, in which the raw material containing H 2 O is preferably at least one of boric acid (H 3 BO 3 ), a hydrate, and an organic substance.
  • the raw material containing H 2 O is preferably at least one of boric acid (H 3 BO 3 ), a hydrate, and an organic substance.
  • a method for producing glass 10 according to an eleventh aspect of the present disclosure is a method for producing glass 10 according to the ninth or tenth aspect, and preferably comprises mixing raw materials containing H 2 O such that the ratio of the amount of H 2 O added to the total mass of glass 10 based on oxides is 7 wt % or more.
  • the amount of H 2 O added within this range, moisture can be appropriately contained in glass 10, and a decrease in transmittance can be suppressed.
  • the method for producing glass 10 according to the twelfth aspect of the present disclosure is a method for producing glass 10 according to any one of the ninth to eleventh aspects, and preferably heats the mixed raw materials at 1350°C or less. By setting the heating temperature within this range, it is possible to appropriately suppress the decrease in transmittance.
  • Tables 1 to 11 show glasses of the respective examples. Note that the embodiment may be modified as long as the effects of the invention are achieved.
  • Example 1 glasses having thicknesses of 10 mm and 1 mm were manufactured with the composition shown in Table 1. Specifically, raw materials having the composition shown in Table 1 were uniformly mixed. In addition to the raw materials having the composition shown in Table 1, H 3 BO 3 as a raw material containing H 2 O and La 2 (SO 4 ) 3.9H 2 O, which is a raw material containing H 2 O and also a raw material containing SO 3 (also a raw material containing La ) , were also added as raw materials. The amount of raw material containing H 2 O added was adjusted so that the H 2 O addition ratio was the value shown in Table 1, and the amount of raw material containing SO 3 added was adjusted so that the SO 3 addition ratio was the value shown in Table 1.
  • the H 2 O addition ratio I in Table 1 is the H 2 O addition ratio of raw material I containing H 2 O
  • the H 2 O addition ratio II in Table 1 is the H 2 O addition ratio of raw material II containing H 2 O
  • the H 2 O addition ratio III in Table 1 is the H 2 O addition ratio of raw material III containing H 2 O
  • the H 2 O addition ratio (total) in Table 1 is the H 2 O addition ratio for the total of each raw material containing H 2 O.
  • the mixed raw materials were melted in a platinum crucible at 1330°C for 2 hours to obtain a uniform molten glass.
  • the molten glass was poured into a carbon mold having a length x width x height of 60 mm x width x height of 50 mm.
  • the mold was held at 740°C for 1 hour, and then cooled to room temperature at a temperature drop rate of about 1°C/min to obtain a glass block.
  • the glass block was cut into a length x width of 30 mm x width of 30 mm using a cutting machine (a small cutting machine manufactured by Marutoh Co., Ltd.), and the plate thickness was adjusted and the surface was polished using a grinding machine (SGM-6301 manufactured by Hidewa Kogyo Co., Ltd.) and a single-sided polishing machine (EJ-380IN manufactured by Engis Japan Co., Ltd.), to produce glass having a length x width of 30 mm x width of 10 mm and 1 mm in thickness.
  • a cutting machine a small cutting machine manufactured by Marutoh Co., Ltd.
  • the plate thickness was adjusted and the surface was polished using a grinding machine (SGM-6301 manufactured by Hidewa Kogyo Co., Ltd.) and a single-sided polishing machine (EJ-380IN manufactured
  • the S content (S concentration) of the glass of Example 1 was measured.
  • the measurement method was the same as that described in the above embodiment.
  • the ⁇ OH was calculated for the glass of Example 1.
  • the calculation method was the same as that described in the above embodiment.
  • the glass of Example 1 was measured for glass transition temperature Tg, coefficient of linear thermal expansion ⁇ in the range of 100° C. to 300° C., specific gravity d, refractive index n d , Abbe number v d , internal transmittance (transmittance ⁇ 440 ), and devitrification temperature.
  • the measurement methods used were the same as those described in the above embodiment. The results of each measurement are shown in Table 1.
  • Examples 2 to 51 glasses were produced in the same manner as in Example 1, except that the production conditions and compositions were as shown in Tables 1 to 11. The measurement results of the glasses of each Example are shown in Tables 1 to 11. In Examples 2 to 51, the internal transmittance columns left blank had an internal transmittance of 70% or more.
  • the glass of each example was evaluated for air bubbles and transparency.
  • bubbles a case where the number of bubbles larger than 30 ⁇ m in 100 ml of molten glass was less than 50 was rated as "good”, and a case where the number was 50 or more was rated as "bad”.
  • transmittance a case where the glass was transparent when visually observed under a fluorescent lamp was rated as "good”, and a case where the glass was cloudy was rated as "bad”.

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Abstract

気泡の含有を抑制しつつ、透過率の低下を抑制する。ガラス（１０）は、Ｌａ２Ｏ３、及びＢ２Ｏ３を含み、質量比で、Ｓの含有量が１００ｐｐｍ以上であり、波長４４０ｎｍの光に対する内部透過率が８５％以上であり、βＯＨが０．１ｍｍ－１以上１．０ｍｍ－１以下である。

Description

ガラス及びガラスの製造方法
　本発明は、ガラス及びガラスの製造方法に関する。
　近年、高屈折率のガラスが求められている。特に、例えばＡＲ（Ａｕｇｕｍｅｎｔｅｄ　Ｒｅａｌｉｔｙ）、ＶＲ（Ｖｉｒｔｕａｌ　Ｒｅａｌｉｔｙ）、ＭＲ（Ｍｉｘｅｄ　Ｒｅａｌｉｔｙ）などを実現するヘッドマウントディスプレイなどのウェアラブル機器においては、導光板として、可視光に対する高屈折率性および高透過率性が求められている。例えば特許文献１には、Ｌａ２Ｏ３、及びＢ２Ｏ３を含み、硫黄Ｓを１ｐｐｍ以上３００ｐｐｍ未満含有する光学ガラスが記載されている。特許文献１においては、硫黄Ｓを含有させることで、脱泡を促進させることができる旨が記載されている。
特許第６２９２８７７号公報
　しかしながら、ガラスに含まれる気泡を抑制するために硫黄Ｓを含有させると、透過率が低下するおそれがある。従って、気泡の含有を抑制しつつ、透過率の低下を抑制させることが求められている。
　本発明は、気泡の含有を抑制しつつ、透過率の低下を抑制可能なガラス及びガラスの製造方法を提供することを目的とする。
　本開示に係るガラスは、Ｌａ２Ｏ３、及びＢ２Ｏ３を含み、質量比で、Ｓの含有量が１００ｐｐｍ以上であり、波長４４０ｎｍの光に対する内部透過率が７０％以上であり、βＯＨが０．１ｍｍ－１以上１．０ｍｍ－１以下である。
　本開示に係るガラスの製造方法は、Ｌａを含む原料と、Ｂを含む原料と、ＳＯ３を含む原料と、Ｈ２Ｏを含む原料とを混合することと、混合した原料を加熱して溶解させることと、溶解させた前記原料を冷却してガラスを得ることと、を含み、酸化物基準の前記ガラスの全質量に対するＨ２Ｏの添加量の比率が０．５ｗｔ％以上２０ｗｔ％以下となるように、Ｈ２Ｏを含む原料を混合する。
　本発明によれば、気泡の含有を抑制しつつ、透過率の低下を抑制できる。
図１は、本実施形態に係るガラスの模式図である。 図２は、本実施形態に係るガラスをガラス板としたときの断面図である。
　以下に添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態を詳細に説明する。なお、この実施形態により本発明が限定されるものではなく、また、実施形態が複数ある場合には、各実施形態を組み合わせて構成するものも含むものである。また、数値については四捨五入の範囲が含まれる。また、「～」で表される数値範囲は、～の前後の数値を下限値及び上限値として含む数値範囲を意味し、以降でも「～」を使用する場合は、同様の意味を指す。また、本実施形態において、下限値及び上限値は、適宜組み合わせることができる。
　（ガラス）
　図１は、本実施形態に係るガラスの模式図である。図１に示すように、本実施形態に係るガラス１０は、板状のガラス板であるが、ガラス１０の形状は板状に限られず任意であってよい。本実施形態においては、ガラス１０は、導光板として用いられる。さらに詳しくは、ガラス１０は、ヘッドマウントディスプレイ用の導光板として用いられる。ヘッドマウントディスプレイとは、人の頭に装着されるディスプレイ装置（ウェアラブルデバイス）である。ただし、ガラス１０の用途は任意であり、導光板として用いられることに限られず、また、ヘッドマウントディスプレイに用いられることにも限られない。
　（組成）
　以下で、ガラス１０の組成について説明する。
　（Ｌａ２Ｏ３及びＢ２Ｏ３）
　ガラス１０は、Ｌａ２Ｏ３及びＢ２Ｏ３を含む。Ｌａ２Ｏ３及びＢ２Ｏ３を含むことで、高屈折率及び高透過率を適切に実現できる。
　Ｌａ２Ｏ３及びＢ２Ｏ３を含有するか否かは、ＩＣＰ質量分析法で測定できる。測定器としては、例えば、Ａｇｉｌｅｎｔ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製Ａｇｉｌｅｎｔ８８００を使用できる。
　（Ｓ）
　ガラス１０は、質量比における、ガラス１０の全体の質量に対するＳの含有量（Ｓ含有量／ガラス全質量）が、６０ｐｐｍ以上であり、８０ｐｐｍ以上が好ましく、１００ｐｐｍ以上であり、１２０ｐｐｍ以上が好ましく、１４０ｐｐｍ以上がより好ましく、１６０ｐｐｍ以上がさらにより好ましく、５００ｐｐｍ以下が好ましく、４００ｐｐｍ以下がより好ましく、３５０ｐｐｍ以下がさらにより好ましく、３００ｐｐｍ以下が好ましく、２５０ｐｐｍ以下がより好ましく、２００ｐｐｍ以下がさらにより好ましい。ガラス１０の全体の質量に対するＳの含有量は、１００ｐｐｍ以上５００ｐｐｍ以下が好ましく、１００ｐｐｍ以上３００ｐｐｍ以下が好ましく、１２０ｐｐｍ以上２５０ｐｐｍ以下が好ましく、１４０ｐｐｍ以上２００ｐｐｍ以下がより好ましく、１６０ｐｐｍ以上２００ｐｐｍ以下がさらにより好ましい。Ｓの含有量の下限がこの範囲となることで、ガラス１０の気泡の含有を適切に抑制できる。また、Ｓの含有量の上限がこの範囲となることで、ガラス１０の透過率の低下をより適切に抑制できる。
　Ｓの含有量は、イオンクロマトグラフ法により測定できる。
　Ｓの含有量を算出する際の、ガラス１０の全体の質量とは、酸化物基準のガラス１０の全質量を指す。酸化物基準とは、ガラス１０の構成成分のＳを除く金属原子を含む原料が溶融時に全て分解されて金属酸化物に変化すると仮定し、それらの金属酸化物の質量の合計値を、ガラス１０の全質量（１００ｗｔ％）とすることを指す。
　（βＯＨ）
　ガラス１０のβＯＨは、０．１ｍｍ－１以上であり、０．２ｍｍ－１以上が好ましく、０．３ｍｍ－１以上がより好ましく、０．４ｍｍ－１以上が更に好ましい。ガラス１０のβＯＨは、１．０ｍｍ－１以下であり、０．８ｍｍ－１以下が好ましく、０．６ｍｍ－１以下がより好ましく、０．５ｍｍ－１以下が更に好ましい。ガラス１０のβＯＨは、０．１ｍｍ－１以上１．０ｍｍ－１以下であり、０．２ｍｍ－１以上０．８ｍｍ－１以下が好ましく、０．３ｍｍ－１以上０．６ｍｍ－１以下がより好ましく、０．４ｍｍ－１以上０．５ｍｍ－１以下が更に好ましい。βＯＨとは、ガラス中の水分量を示す指標であり、βＯＨの値が大きい程、ガラス中の水分量が多いことを意味する。ガラス１０のβＯＨの下限がこの範囲となることで、Ｓの含有量が上記範囲（例えば１００ｐｐｍ以上）であっても、ガラス１０の透過率の低下を抑制させる事が出来る。但し、清澄プロセスで多くの水を含んでおり、成形プロセスまでに水の量が低下していた場合では、βＯＨと原料中に含まれるＨ２Ｏの量とに基づいて、水分量の含有度合いを判断する事が好ましい。
　また、ガラス１０のβＯＨの上限がこの範囲となることで、成形前での泡の発生を抑制する事が出来る。一般に、Ｐｔ容器内で溶解されるガラス中に含まれる水は、Ｐｔ容器をＨが透過する事により、Ｏ２泡が発生する事が知られている。Ｏ２泡を抑制するためには、成形工程までに水の量を抑制する事が好ましい。
　なお、ガラス１０のβＯＨは、次の式（１）により算出される。
　βＯＨ＝（１／Ｄ）ｌｏｇ１０（τ１／τ２）　・・・（１）
　式（１）のβＯＨは、ガラス１０のβＯＨの値（ｍｍ－１）を指し、Ｄは、ガラス１０の厚み（ｍｍ）を指し、τ１は、参照波数４０００（ｃｍ－１）におけるガラス１０の透過率（％）を指し、τ２は、参照波数３４５０（ｃｍ－１）におけるガラス１０の最小透過率（％）を指す。なお、透過率τ１、τ２の測定には、フーリエ変換赤外分光高度計（ＦＴ－ＩＲ）が用いられる。
　以下で、ガラス１０の好ましい組成の詳細について説明する。
　（ＳｉＯ２）
　ガラス１０は、ＳｉＯ２を含有することが好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、ＳｉＯ２の含有量が、２．５％以上であることが好ましく、３．０％以上であることがより好ましく、３．５％以上であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、ＳｉＯ２の含有量が、７．０％以下であることが好ましく、６．０％以下であることがより好ましく、５．０％以下であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、ＳｉＯ２の含有量が、２．５％以上７．０％以下であることが好ましく、３．０％以上６．０％以下であることがより好ましく、３．５％以上５．０％以下であることが更に好ましい。ＳｉＯ２の含有量の上限がこの範囲となることで、良好な溶融性を実現出来る。ＳｉＯ２の含有量の下限がこの範囲となることで、良好な耐失透性を実現出来る。
　（Ｂ２Ｏ３）
　ガラス１０は、Ｂ２Ｏ３を含有する。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｂ２Ｏ３の含有量が、６％以上であることが好ましく、７％以上であることがより好ましく、７．５％以上であることが更に好ましく、８％以上であることが最も好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｂ２Ｏ３の含有量が、１２％以下であることが好ましく、１０％以下であることがより好ましく、９．５％以下であることが更に好ましく、９％以下であることが最も好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｂ２Ｏ３の含有量が、６％以上１２％以下であることが好ましく、７％以上１０％以下であることがより好ましく、７.５％以上９.５％以下であることが更に好ましく、８％以上９％以下であることが最も好ましい。Ｂ２Ｏ３の含有量の上限がこの範囲となることで、良好な溶融性を実現出来る。Ｂ２Ｏ３の含有量の下限が上記範囲となる事で、良好な耐失透性を実現出来る。
　（Ｐ２Ｏ５）
　ガラス１０は、Ｐ２Ｏ５を含有してもよいし、Ｐ２Ｏ５を非含有でもよい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｐ２Ｏ５の含有量が、０％以上であってよく、０．３％以上であってよく、０．５％以上であってよい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｐ２Ｏ５の含有量が、３％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましく、１％以下であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｐ２Ｏ５の含有量が、０％以上３％以下であってよく、０．３％以上２％以下であってよく、０．５％以上１％以下であってよい。Ｐ２Ｏ５の含有量がこの範囲となることで、耐失透性を適切に実現できる。耐失透性を適切に維持するためには、Ｐ２Ｏ５を含有させない事がより好ましい。
　（ＣａＯ）
　ガラス１０は、ＣａＯを含有してもよいし、ＣａＯを非含有でもよい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、ＣａＯの含有量が、０％以上であることが好ましく、１％以上であることがより好ましく、２％以上であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、ＣａＯの含有量が、５％以下であることが好ましく、４％以下であることがより好ましく、３％以下であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、ＣａＯの含有量が、０％以上５％以下であることが好ましく、１％以上４％以下であることがより好ましく、２％以上３％以下であることが更に好ましい。ＣａＯの含有量がこの範囲となることで、低比重、耐失透性、高屈折率及び高透過率を適切に実現できる。
　（ＳｒＯ）
　ガラス１０は、ＳｒＯを含有してもよいし、ＳｒＯを非含有でもよい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、ＳｒＯの含有量が、０％以上であることが好ましく、１％以上であることがより好ましく、２％以上であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、ＳｒＯの含有量が、５％以下であることが好ましく、４％以下であることがより好ましく、３％以下であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、ＳｒＯの含有量が、０％以上５％以下であることが好ましく、１％以上４％以下であることがより好ましく、２％以上３％以下であることが更に好ましい。ＳｒＯの含有量がこの範囲となることで、耐失透性、高屈折率及び高透過率を適切に実現できる。
　（ＢａＯ）
　ガラス１０は、ＢａＯを含有してもよいし、ＢａＯを非含有でもよい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、ＢａＯの含有量が、０％以上であることが好ましく、１％以上であることがより好ましく、２％以上であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、ＢａＯの含有量が、５％以下であることが好ましく、４％以下であることがより好ましく、３％以下であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、ＢａＯの含有量が、０％以上５％以下であることが好ましく、１％以上４％以下であることがより好ましく、２％以上３％以下であることが更に好ましい。ＢａＯの含有量がこの範囲となることで、耐失透性、高屈折率及び高透過率を適切に実現できる。
　（Ｌｉ２Ｏ）
　ガラス１０は、溶融性を改善するためにＬｉ２Ｏを含有してもよいし、Ｌｉ２Ｏを非含有でもよい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｌｉ２Ｏの含有量が、０％以上であってよく、０．１％以上であってよく、０．３％以上であってよい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｌｉ２Ｏの含有量が、３％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましく、１％以下であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｌｉ２Ｏの含有量が、０％以上３％以下であってよく、０．１％以上２％以下であってよく、０．３％以上１％以下であってよい。Ｌｉ２Ｏの含有量がこの範囲となることで、耐失透性、高屈折率及び高透過率を適切に実現できる。耐失透性を適切に維持するためには、Ｌｉ２Ｏを含有させない事がより好ましい。
　（Ｎａ２Ｏ）
　ガラス１０は、Ｎａ２Ｏを含有してもよいし、Ｎａ２Ｏを非含有でもよい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｎａ２Ｏの含有量が、０％以上であってよく、０．１％以上であってよく、０．３％以上１％以下であってよい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｎａ２Ｏの含有量が、３％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましく、１％以下であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｎａ２Ｏの含有量が、０％以上３％以下であってよく、０．１％以上２％以下であってよく、０．３％以上１％以下であってよい。Ｎａ２Ｏの含有量がこの範囲となることで、耐失透性、高屈折率及び高透過率を適切に実現できる。耐失透性を適切に維持するためには、Ｎａ２Ｏを含有させない事がより好ましい。
　（Ｋ２Ｏ）
　ガラス１０は、Ｋ２Ｏを含有してもよいし、Ｋ２Ｏを非含有でもよい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｋ２Ｏの含有量が、０％以上であってよく、０．１％以上であってよく、０．３％以上であってよい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｋ２Ｏの含有量が、３％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましく、１％以下であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｋ２Ｏの含有量が、０％以上３％以下であってよく、０．１％以上２％以下であってよく、０．３％以上１％以下であってよい。Ｋ２Ｏの含有量がこの範囲となることで、耐失透性、高屈折率及び高透過率を適切に実現できる。耐失透性を適切に維持するためには、Ｋ２Ｏを含有させない事が好ましい。
　（ＺｎＯ）
　ガラス１０は、ＺｎＯを含有してもよいし、ＺｎＯを非含有でもよい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、ＺｎＯの含有量が、０％以上であることが好ましく、１％以上であることがより好ましく、２％以上であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、ＺｎＯの含有量が、５％以下であることが好ましく、４％以下であることがより好ましく、３％以下であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、ＺｎＯの含有量が、０％以上５％以下であることが好ましく、１％以上４％以下であることがより好ましく、２％以上３％以下であることが更に好ましい。ＺｎＯの含有量がこの範囲となることで、耐失透性、高屈折率及び高透過率を適切に実現できる。
　（ＴｉＯ２）
　ガラス１０は、ＴｉＯ２を含有することが好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、ＴｉＯ２の含有量が、１４％以上であることが好ましく、１５％以上であることがより好ましく、１６％以上であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、ＴｉＯ２の含有量が、２０％以下であることが好ましく、１８％以下であることがより好ましく、１７％以下であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、ＴｉＯ２の含有量が、１４％以上２０％以下であることが好ましく、１５％以上１８％以下であることがより好ましく、１６％以上１７％以下であることが更に好ましい。ＴｉＯ２の含有量の上限がこの範囲となることで、高透過率を適切に実現できる。ＴｉＯ２の含有量の下限がこの範囲となる事で、高屈折率、耐失透性の両立を適切に実現出来る。
　（Ｎｂ２Ｏ５）
　ガラス１０は、Ｎｂ２Ｏ５を含有することが好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｎｂ２Ｏ５の含有量が、８％以上であることが好ましく、８．５％以上であることがより好ましく、９％以上であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｎｂ２Ｏ５の含有量が、１３％以下であることが好ましく、１２％以下であることがより好ましく、１１％以下であることが好ましく、１０％以下であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｎｂ２Ｏ５の含有量が、８％以上１３％以下であることが好ましく、８．５％以上１２％以下であることがより好ましく、９％以上１２％以下であることがより好ましく、９％以上１１％以下であることがより好ましく、９％以上１０％以下であることが更に好ましい。Ｎｂ２Ｏ５の含有量の上限がこの範囲となることで、耐失透性を適切に実現できる。Ｎｂ２Ｏ５の含有量の下限がこの範囲となる事で、高屈折率を適切に実現出来る。
　（Ｔａ２Ｏ５）
　ガラス１０は、Ｔａ２Ｏ５を含有してもよいし、Ｔａ２Ｏ５を非含有でもよい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｔａ２Ｏ５の含有量が、０％以上であることが好ましく、０．３％以上であることがより好ましく、０．５％以上であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｔａ２Ｏ５の含有量が、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがより好ましく、１％以下であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｔａ２Ｏ５の含有量が、０％以上５％以下であることが好ましく、０．３％以上３％以下であることがより好ましく、０．５％以上１％以下であることが更に好ましい。Ｔａ２Ｏ５の含有量がこの範囲となることで溶融性、耐失透性、高屈折率及び高透過率を適切に実現できる。
　（ＷＯ３）
　ガラス１０は、ＷＯ３を含有することが好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、ＷＯ３の含有量が、０％以上であることが好ましく、０．１％以上であることがより好ましく、０．２％以上であることがより好ましく、０．３％以上であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、ＷＯ３の含有量が、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがより好ましく、２％以下であることがより好ましく、１％以下であることが更に好ましく、０．５％以下である事が更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、ＷＯ３の含有量が、０％以上５％以下であることが好ましく、０．１％以上３％以下であることがより好ましく、０．２％以上２％以下であることがより好ましく、０．３％以上１％以下であることが更に好ましい。ＷＯ３の含有量がこの範囲となることで、溶融性、耐失透性、高屈折率を適切に実現できる。
　（Ｌａ２Ｏ３）
　ガラス１０は、Ｌａ２Ｏ３を含有する。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｌａ２Ｏ３の含有量が、３８％以上であることが好ましく、４０％以上であることがより好ましく、４１％以上であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｌａ２Ｏ３の含有量が、４７％以下であることが好ましく、４５％以下であることがより好ましく、４４％以下であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｌａ２Ｏ３の含有量が、３８％以上４７％以下であることが好ましく、４０％以上４５％以下であることがより好ましく、４１％以上４４％以下であることが更に好ましい。Ｌａ２Ｏ３の含有量の上限がこの範囲となることで、比重、耐失透性を適切に実現出来る。Ｌａ２Ｏ３の含有量の下限がこの範囲となることで高屈折率、高透過率の両立を適切に実現できる。
　（Ｇｄ２Ｏ３）
　ガラス１０は、Ｇｄ２Ｏ３を含有することが好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｇｄ２Ｏ３の含有量が、６％以上であることが好ましく、７％以上であることがより好ましく、８％以上であることが好ましく、９％以上であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｇｄ２Ｏ３の含有量が、１２％以下であることが好ましく、１１％以下であることがより好ましく、１０％以下であることがより好ましく、９．５％以下であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｇｄ２Ｏ３の含有量が、６％以上１２％以下であることが好ましく、７％以上１１％以下であることがより好ましく、８％以上１１％以下であることがより好ましく、８％以上１０％以下であることが好ましく、９％以上９．５％以下であることが更に好ましい。Ｇｄ２Ｏ３の含有量の上限がこの範囲となることで、比重、耐失透性を適切に実現出来る。Ｇｄ２Ｏ３の含有量の下限がこの範囲となることで高屈折率及び高透過率を適切に実現できる。
　（Ｙ２Ｏ３）
　ガラス１０は、Ｙ２Ｏ３を含有することが好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｙ２Ｏ３の含有量が、０％以上であることが好ましく、１％以上であることがより好ましく、２％以上であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｙ２Ｏ３の含有量が、５％以下であることが好ましく、４．０％以下であることがより好ましく、３．５％以下であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、Ｙ２Ｏ３の含有量が、０％以上５％以下であることが好ましく、１％以上４．０％以下であることがより好ましく、２％以上３．５％以下であることが更に好ましい。Ｙ２Ｏ３の含有量の上限がこの範囲となることで、比重、耐失透性を適切に実現出来る。Ｙ２Ｏ３の含有量の下限がこの範囲となることで高屈折率及び高透過率を適切に実現できる。
　（ＳｉＯ２及びＢ２Ｏ３）
　ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示において、ＳｉＯ２とＢ２Ｏ３との合計含有量が、９％以上であることが好ましく、１０％以上であることがより好ましく、１１％以上であることが更に好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示において、ＳｉＯ２とＢ２Ｏ３との合計含有量が、１４％以下であることが好ましく、１３％以下であることがより好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示において、ＳｉＯ２とＢ２Ｏ３との合計含有量が、９％以上であることが好ましく、１０％以上１４％以下であることがより好ましく、１１％以上１３％以下であることが更に好ましい。ＳｉＯ２とＢ２Ｏ３との合計含有量の上限がこの範囲であることで、高屈折率及び高透過率を適切に実現できる。ＳｉＯ２とＢ２Ｏ３との合計含有量の下限がこの範囲にあることで、耐失透性を適切に実現出来る。
（ＴｉＯ２/Ｂ２Ｏ３）
　ガラス１０に含まれるＢ２Ｏ３に対する、ＴｉＯ２の含有量の割合（ＴｉＯ２/Ｂ２Ｏ３）は、質量比において、３．００以下であることが好ましく、２．５０以下であることがより好ましく、２．２０以下であることが更に好ましく、２．００以下であることがさらにより好ましく、１．９５以下であることがさらにより好ましく、１．９０以下であることがさらにより好ましく、１．７０以下がさらにより好ましい。割合（ＴｉＯ２/Ｂ２Ｏ３）は、質量比において、０．５０以上が好ましく、０．８０以上がさらに好ましく、１．００以上がさらにより好ましく、１．２０以上がさらにより好ましく、１．３０以上がさらにより好ましく、１．５０以上がさらにより好ましい。割合（ＴｉＯ２/Ｂ２Ｏ３）は、質量比において、０．５０以上３．００以下が好ましく、０．８０以上２．５０以下がさらに好ましく、１．００以上２．２０以下がさらにより好ましく、１．２０以上２．００以下がさらにより好ましく、１．３０以上１．９５以下がさらにより好ましく、１．５０以上１．９０以下がさらにより好ましく、１．５０以上１．７０以下がさらにより好ましい。
　（Ｐｔ及びＦｅ）
　ガラス１０は、質量比における、ガラス１０の全体に対する、Ｐｔ及びＦｅの合計含有量が、１０ｐｐｍ以下が好ましく、９ｐｐｍ以下がより好ましく、８ｐｐｍ以下が更に好ましく、７ｐｐｍ以下が更により好ましい。ガラス１０は、質量比における、ガラス１０の全体に対する、Ｐｔ及びＦｅの合計含有量が、０ｐｐｍ以上１０ｐｐｍ以下が好ましく、０．１ｐｐｍ以上９ｐｐｍ以下がより好ましく、０．３ｐｐｍ以上８ｐｐｍ以下が更に好ましく、０．５ｐｐｍ以上７ｐｐｍ以下が更により好ましい。Ｐｔ及びＦｅがこの範囲となることで、透過率の低下を適切に抑制できる。
　Ｐｔ及びＦｅの含有量は、ＩＣＰ質量分析法で測定できる。測定器としては、例えば、Ａｇｉｌｅｎｔ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製Ａｇｉｌｅｎｔ８８００を使用できる。
　（Ｓｂ）
　ガラス１０は、Ｓｂを非含有であることが好ましい。Ｓｂを非含有であることで、高透過率を適切に実現できる。なお、Ｓｂを非含有とは、不可避的不純物としてＳｂを含有することは許容するものである。
　Ｓｂを含有するか否かは、ＩＣＰ質量分析法で測定できる。測定器としては、例えば、Ａｇｉｌｅｎｔ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製Ａｇｉｌｅｎｔ８８００を使用できる。
　（ガラスの特性）
　ガラス１０の特性について、以下で説明する。
　（内部透過率τ４４０）
　ガラス１０の内部透過率τ４４０は、７０％以上であり、８５％以上が好ましく、８８％以上であることがより好ましく、９２％以上であることがより好ましい。ガラス１０の透過率τ４４０は、９９．９％以下であってよく、９９．８％以下であってよく、９９％以下であってよく、９８％以下であってよい。ガラス１０の透過率τ４４０は、７０％以上であり、８５％以上９９％以下が好ましく、８８％以上９８％以下であることがより好ましく、９２％以上９８％以下であることがより好ましい。内部透過率τ４４０がこの範囲となることで、可視光を適切に透過できる。なお、透過率τ４４０は、波長４４０ｎｍの光に対する内部透過率を指す。
　より詳しくは、内部透過率τ４４０は、厚み１０ｍｍに換算した際の波長４４０ｎｍの光に対する内部透過率である。内部透過率は、板厚の異なる２種類の外部透過率の測定値と、以下の式（２）から求めることができる。なお、外部透過率とは表面反射損失を含む透過率を意味する。式（２）において、τは、厚さ１０ｍｍに換算した際のガラスの内部透過率であり、Ｔ１およびＴ２は、外部透過率であり、Δｄは、試料の厚さの差である。外部透過率は、板厚１０ｍｍに両面鏡面研磨したサンプルに対して分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製：Ｕ－４１００）を用いて測定できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
　（屈折率ｎｄ）
　ガラス１０の屈折率ｎｄは、１．９５以上であることが好ましく、１．９８以上がより好ましく、２．０３以上が好ましく、２．０４以上が更に好ましい。ガラス１０の屈折率ｎｄは、２．０６以下が好ましく、２．０５以下がより好ましい。ガラス１０の屈折率ｎｄは、１．９８以上２．０６以下がより好ましく、２．０３以上２．０５以下が更に好ましい。
　なお、屈折率ｎｄとは、ヘリウムのｄ線（波長５８７．６ｎｍ）における屈折率を指す。屈折率ｎｄは、Ｖブロック法で測定できる。
　（アッベ数ｖｄ）
　ガラス１０のアッベ数ｖｄは、２４以上であることが好ましく、２５以上がより好ましく、２６以上が更に好ましい。ガラス１０のアッベ数ｖｄは、３０以下であることが好ましく、２８以下がより好ましく、２７以下が更に好ましい。ガラス１０のアッベ数ｖｄは、２４以上３０以下であることが好ましく、２５以上２８以下がより好ましく、２６以上２７以下が更に好ましい。アッベ数ｖｄがこの範囲となることで、波長分散性を適切に管理する事が出来る。なお、アッベ数ｖｄは、分散(ｎＦ－ｎＣ)に対する屈折率（ｎｄ－１）の割合を表す。屈折率ｎFとは、水素のＦ線（波長４８６．１ｎｍ）における屈折率、屈折率ｎCとは、水素のＣ線（波長６５６．３ｎｍ）における屈折率を指す。
　（ガラス転移温度）
　ガラス１０のガラス転移温度Ｔｇは、６８０℃以上であることが好ましく、７００℃以上であることがより好ましく、７１０℃以上であることが更に好ましい。ガラス１０のガラス転移温度Ｔｇは、７６０℃以下であることが好ましく、７５０℃以下であることがより好ましく、７４０℃以下であることが更に好ましく、７３０℃以下であることが更に好ましい。ガラス１０のガラス転移温度Ｔｇは、６８０℃以上７６０℃以下であることが好ましく、７００℃以上７５０℃以下であることがより好ましく、７１０℃以上７４０℃以下であることが更に好ましい。ガラス転移温度は、ＪＩＳ　Ｒ３１０３－３：２００１「ガラスの粘性及び粘性定点―第３部：熱膨張法による転移温度測定方法」に規定されている方法に従い測定できる。
　（失透温度）
　ガラス１０の失透温度は、１２９０℃未満であることが好ましく、１２７０℃以下であることがより好ましく、１２５０℃以下であることが更に好ましい。失透温度がこの範囲であることで、ガラス１０の製造時に原料を溶解させる温度を比較的低くすることができ、熔解設備に含まれるＰｔが溶解してガラスに混入することを抑制して、透過率の低下を適切に抑制できる。
　失透温度は、以下に示す方法により測定できる。試料ガラスを粉砕し、４ｍｍのふるいを通過し、２ｍｍのふるい上に留まったガラス粒を得た。このガラス粒をエタノールに浸漬し、超音波洗浄した後、乾燥機で乾燥させた。乾燥させたガラス粒を、白金皿に約５ｇを入れ、１０００℃～１４００℃まで１０℃刻みにてそれぞれ１時間保持したものを自然放冷により冷却した後、結晶析出の有無を顕微鏡により観察して、長辺又は長径で１μｍ以上の結晶の認められない最低温度を失透温度とした。
　（線熱膨張係数）
　ガラス１０の線熱膨張係数αは、９４×１０－７／℃以下が好ましく、９３×１０－７／℃以下がより好ましく、９２×１０－７／℃以下が更に好ましく、９１×１０－７／℃以下が更に好ましい。ガラス１０の線熱膨張係数αは、８６×１０－７／℃以上がより好ましく、８７×１０－７／℃以上が更に好ましい。ガラス１０の線熱膨張係数αは、８６×１０－７／℃以上９３×１０－７／℃以下がより好ましく、８６×１０－７／℃以上９１×１０－７／℃以下がより好ましく、８７×１０－７／℃以上９２×１０－７／℃以下が更に好ましく、８７×１０－７／℃以上９０×１０－７／℃以下が更に好ましい。
　線熱膨張係数をこの範囲とすることで、たわみを適切に抑制できる。線熱膨張係数αは、１００℃～３００℃の範囲における平均熱膨張係数であり、熱膨張測定の規格としてＤＩＮ－５１０４５－１に準拠して測定した値である。例えば、測定装置としてＮＥＴＺＳＣＨ社製の熱膨張計ＤＩＬ　４０２　Ｅｘｐｅｄｉｓ　Ｓｕｐｒｅｍｅ）を用いて３０℃～４００℃の範囲で測定し、そのうち１００℃～３００℃の範囲の平均熱膨張係数を、線熱膨張係数としてよい。
　（ヤング率Ｅ）
　ガラス１０のヤング率Ｅは、１２５ＧＰａ以上であることが好ましく、１２７ＧＰａ以上がより好ましく、１３０ＧＰａ以上が更に好ましい。ガラス１０のヤング率Ｅは、１４５ＧＰａ以下であることが好ましく、１４２ＧＰａ以下がより好ましく、１４０ＧＰａ以下が更に好ましい。ガラス１０のヤング率Ｅは、１２５ＧＰａ以上１４５ＧＰａ以下であることが好ましく、１２７ＧＰａ以上１４２ＧＰａ以下がより好ましく、１３０ＧＰａ以上１４０ＧＰａ以下が更に好ましい。ヤング率がこのように高いことで、ガラス１０の破損を適切に抑制できる。なお、ヤング率は、ＯＬＹＭＰＵＳ社製の３８ＤＬ　ＰＬＵＳを用いて超音波の伝搬に基づいて測定できる。
　（比重ｄ）
　ガラス１０の比重ｄは、５．５ｇ／ｃｍ３以下であることが好ましく、５．４ｇ／ｃｍ３以下がより好ましく、５．３ｇ／ｃｍ３以下であることが好ましく、５．２ｇ／ｃｍ３以下であることが更に好ましい。比重がこのように低いことで、ガラス１０の取り扱いが容易になる。なお、比重ｄは、アルキメデス法により測定できる。
　（ガラスの形態）
　本実施形態に係るガラス１０は、光学ガラスであることが好ましく、厚さが０．０１ｍｍ以上２．０ｍｍ以下のガラス板が好ましい。厚さが０．０１ｍｍ以上であれば、ガラス１０の取り扱い時や加工時の破損を抑制できる。また、ガラス１０の自重によるたわみを抑えられる。この厚さは、より好ましくは０．１ｍｍ以上であり、さらに好ましくは０．２ｍｍ以上であり、よりさらに好ましくは０．３ｍｍ以上である。一方で厚さが２．０ｍｍ以下であれば、ガラス１０を用いた光学素子を軽量にできる。この厚さは、より好ましくは１．５ｍｍ以下であり、さらに好ましくは１．０ｍｍ以下であり、よりさらに好ましくは０．８ｍｍ以下である。
　本実施形態に係るガラス１０がガラス板である場合においては、主表面の面積は８ｃｍ２以上が好ましい。この面積が８ｃｍ２以上であれば、多数の光学素子を配置でき生産性が向上する。この面積はより好ましくは３０ｃｍ２以上であり、さらに好ましくは１７０ｃｍ２以上であり、よりさらに好ましくは３００ｃｍ２以上であり、特に好ましくは１０００ｃｍ２以上である。一方で面積が６５００ｃｍ２以下であればガラス板の取り扱いが容易になり、ガラス板の取り扱い時や加工時の破損を抑制できる。この面積はより好ましくは４５００ｃｍ２以下であり、さらに好ましくは４０００ｃｍ２以下であり、よりさらに好ましくは３０００ｃｍ２以下であり、特に好ましくは２０００ｃｍ２以下である。
　本実施形態に係るガラス１０がガラス板である場合においては、主表面の２５ｃｍ２におけるＬＴＶ（Ｌｏｃａｌ　Ｔｈｉｃｋｎｅｓｓ　Ｖａｒｉａｔｉｏｎ）は２μｍ以下が好ましい。この範囲の平坦度を有することで、主表面にインプリント技術等を用いて所望形状のナノ構造を形成でき、また所望の導光特性を得ることができる。特に、導光体では光路長の差異によるゴースト現象や歪みを防止できる。このＬＴＶは、より好ましくは１．５μｍ以下であり、さらに好ましくは１．０μｍ以下であり、特に好ましくは０．５μｍ以下である。
　本実施形態に係るガラス１０を直径８インチ～１２インチの円形のガラス板としたとき、反りは５０μｍ以下が好ましい。このガラス１０の反りが５０μｍ以下であれば、主表面にインプリント技術等を用いて所望形状のナノ構造を形成でき、また所望の導光特性が得られる。複数の導光体を得ようとするとき、品質の安定したものが得られる。このガラス１０の反りはより好ましくは４０μｍ以下であり、さらに好ましくは３０μｍ以下であり、特に好ましくは２０μｍ以下である。
　また、本実施形態に係るガラス１０を直径６インチの円形のガラス板としたとき、反りは３０μｍ以下が好ましい。このガラス１０の反りは３０μｍ以下であれば、主表面にインプリント技術等を用いて所望形状のナノ構造を形成でき、また所望の導光特性が得られる。複数の導光体を得ようとするとき、品質の安定したものが得られる。このガラス１０の反りはより好ましくは２０μｍ以下であり、さらに好ましくは１５μｍ以下であり、特に好ましくは１０μｍ以下である。
　また、本実施形態に係るガラス１０を各辺が６インチの正方形のガラス板としたとき、反りは１００μｍ以下が好ましい。このガラス１０の反りは１００μｍ以下であれば、主表面にインプリント技術等を用いて所望形状のナノ構造を形成でき、また所望の導光特性が得られる。複数の導光体を得ようとするとき、品質の安定したものが得られる。このガラス１０の反りはより好ましくは７０μｍ以下であり、さらに好ましくは５０μｍ以下であり、さらに好ましくは３５μｍ以下であり、特に好ましくは２０μｍ以下である。
　図２は、本実施形態に係るガラスをガラス板としたときの断面図である。「反り」とは、本実施形態に係るガラス１０をガラス板Ｇ１としたときのガラス板Ｇ１の主表面Ｇ１Ｆの中心を通り、ガラス板Ｇ１の主表面Ｇ１Ｆに対して直交する任意の断面において、ガラス板Ｇ１の基準線Ｇ１Ｄとガラス板Ｇ１の中心線Ｇ１Ｃとの垂直方向の距離の最大値Ｂと最小値Ａとの差Ｃである。
　前記直交する任意の断面とガラス板Ｇ１の主表面Ｇ１Ｆとの交線を、底線Ｇ１Ａとする。前記直交する任意の断面とガラス板Ｇ１の他の主表面Ｇ１Ｇとの交線を、上線Ｇ１Ｂとする。ここで、中心線Ｇ１Ｃは、ガラス板Ｇ１の板厚方向の中心を結んだ線である。中心線Ｇ１Ｃは、底線Ｇ１Ａと上線Ｇ１Ｂとの後述するレーザ照射の方向に対しての中点を求めることにより算出される。
　基準線Ｇ１Ｄは、以下のように求められる。まず、自重の影響をキャンセルする測定方法のもとに、底線Ｇ１Ａを算出する。該底線Ｇ１Ａから、最小自乗法により直線を求める。求められた直線が、基準線Ｇ１Ｄである。自重による影響をキャンセルする測定方法としては公知の方法が用いられる。
　例えば、ガラス板Ｇ１の主表面Ｇ１Ｆを３点支持し、レーザ変位計によりガラス板Ｇ１にレーザを照射し、任意の基準面からの、ガラス板Ｇ１の主表面Ｇ１Ｆおよび他の主表面Ｇ１Ｇの高さを測定する。
　次に、ガラス板Ｇ１を反転させ、一の主表面Ｇ１Ｆを支持した３点に対向する他の主表面Ｇ１Ｇの３点を支持し、任意の基準面からの、ガラス板Ｇ１の主表面Ｇ１Ｆおよび他の主表面Ｇ１Ｇの高さを測定する。
　反転前後における各測定点の高さの平均を求めることで自重による影響がキャンセルされる。例えば、反転前に、上述のとおり、主表面Ｇ１Ｆの高さを測定する。ガラス板Ｇ１を反転後、主表面Ｇ１Ｆの測定点に対応する位置で、他の主表面Ｇ１Ｇの高さを測定する。同様に、反転前に、他の一の主表面Ｇ１Ｇの高さを測定する。ガラス板Ｇ１を反転後、他の主表面Ｇ１Ｇの測定点に対応する位置で、主表面Ｇ１Ｆの高さを測定する。
　反りは、例えば、レーザ変位計により測定される。
　また、本実施形態に係るガラス１０において、主表面の表面粗さＲａは２ｎｍ以下が好ましい。この範囲のＲａを有することで、主表面にインプリント技術等を用いて所望形状のナノ構造を形成でき、また所望の導光特性が得られる。特に、導光体では界面での乱反射が抑制されてゴースト現象や歪を防止できる。このＲａは、より好ましくは１．７ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１．４ｎｍ以下、さらにより好ましくは１．２ｎｍ以下、特に好ましくは１ｎｍ以下である。ここで、表面粗さＲａは、ＪＩＳ　Ｂ０６０１（２００１年）で定義された算術平均粗さである。本明細書では、１０μｍ×１０μｍのエリアを、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて測定した値である。
　（ガラスの製造方法）
　本実施形態に係るガラス１０の製造方法は特に限定されないが、以下でガラス１０の好ましい製造方法を説明する。
　本実施形態においては、ガラス１０の原料を混合する混合工程と、原料を溶解する溶解工程と、溶解した原料を冷却してガラス１０を得る冷却工程と、を含む。本製造方法においては、既存の板ガラス製造方法を使用することができる。例えばフロート法、フュージョン法及びロールアウト法等、公知の手法を用いることができる。
　（混合工程）
　ガラス１０の原料は、得たいガラス１０の組成に応じた種類が選定され、得たいガラス１０の組成に応じた配合比で混合される。本実施形態においては、ガラス１０の原料として、少なくとも、Ｌａを含む原料と、Ｂを含む原料と、ＳＯ３を含む原料と、Ｈ２Ｏを含む原料とを準備して、それらの原料を混合する。
　なお、Ｌａを含む原料と、Ｂを含む原料と、ＳＯ３を含む原料と、Ｈ２Ｏを含む原料とは、それぞれ異なる原料であることに限られず、それらの少なくとも２つ同士が、同じ原料であってもよい。すなわち例えば、Ｂを含む原料及びＨ２Ｏを含む原料として、ＢとＨ２Ｏとを含む１種類の原料を用いてもよい。
　また、ガラス１０の原料は、Ｌａを含む原料と、Ｂを含む原料と、ＳＯ３を含む原料と、Ｈ２Ｏを含む原料とのみに限られず、得たいガラス１０の組成に応じた他の原料も用いてよい。
　（Ｌａを含む原料）
　Ｌａを含む原料とは、Ｌａの単体又はＬａの化合物であり、Ｌａの化合物であることが好ましい。Ｌａを含む原料としては、例えば、Ｌａ２Ｏ３が用いられることが好ましい。
　（Ｂを含む原料）
　Ｂを含む原料とは、Ｂの単体又はＢの化合物であり、Ｂの化合物であることが好ましい。Ｂを含む原料としては、例えば、Ｂ２Ｏ３及びＨ３ＢＯ３の少なくとも一方が用いられることが好ましく、Ｂ２Ｏ３が７ｗｔ％以上含むガラス組成においては、より高透過率を実現するためにはＨ３ＢＯ３が用いられることがより好ましい。
　（ＳＯ３を含む原料）
　ＳＯ３を含む原料とは、ＳＯ３を含む（少なくとも１つのＳと３つのＯを含む）化合物であることが好ましく、硫酸塩であることがより好ましい。ＳＯ３を含む原料としては、例えば、Ｌａ２（ＳＯ４）３・９Ｈ２Ｏ、及びＺｒ（ＳＯ４）２・４Ｈ２Ｏの少なくとも一方が用いられることが好ましい。
　（Ｈ２Ｏを含む原料）
　Ｈ２Ｏを含む原料とは、燃焼してＨ２Ｏを発生させる化合物であり、言い換えれば、少なくとも２つのＨと１つのＯとを含む化合物である。Ｈ２Ｏを含む原料としては、Ｈ３ＢＯ３、水和物、有機物の少なくともひとつが用いられることが好ましい。但し、Ｈ２Ｏを含む原料を使用する事により、溶融性が悪化させてしまいかえって透過率を悪化させる場合があるので注意が必要である。
　水和物としては、溶融性が良好である、前記Ｌａ２（ＳＯ４）３・９Ｈ２Ｏなどの硫酸塩の水和物、Ｌa（ＮＯ３）３・４Ｈ２Ｏなどの硝酸塩の水和物が好ましい。有機物としてはグルコースＣ６Ｈ１２Ｏ６などの糖類が好ましい。Ｂ２Ｏ３が７ｗｔ％以上含むガラス組成では、Ｈ３ＢＯ３を用いる事がより好ましい。
　（Ｈ２Ｏ添加比率）
　ここで、質量比における、酸化物基準のガラス１０の全質量に対する、外割のＨ２Ｏの添加量の比率（Ｈ２Ｏ添加量／ガラス全質量）を、Ｈ２Ｏ添加比率とする。Ｈ２Ｏの添加量とは、混合工程において添加されるＨ２Ｏを含む原料のうちの、Ｈ２Ｏの成分の質量を指し、言い換えれば、Ｈ２Ｏを含む原料から、Ｈ２Ｏ以外の成分を除いた成分の質量を指す。例えば、Ｈ２Ｏを含む原料としてＨ３ＢＯ３を用いた場合、Ｈ３ＢＯ３のうちのＢ２Ｏ３を除いた成分の質量が、Ｈ２Ｏを含む原料のうちのＨ２Ｏ（３Ｈ２Ｏ）の質量となる。従って例えば、酸化物基準のガラス１０の全質量に対する、Ｈ３ＢＯ３（Ｈ２Ｏを含む原料）の添加量の比率が、１８．６６ｗｔ％である場合には、Ｈ２Ｏ添加比率は、Ｂ２Ｏ３を除いた、８．１６ｗｔ％となる。
　この場合、Ｈ２Ｏ添加比率は、５ｗｔ％以上であることが好ましく、６ｗｔ％以上がより好ましく、７ｗｔ％以上が更に好ましい。Ｈ２Ｏ添加比率は、２０ｗｔ％以下であることが好ましく、１５ｗｔ％以下がより好ましく、１０ｗｔ％以下が更に好ましい。Ｈ２Ｏ添加比率は、５ｗｔ％以上２０ｗｔ％以下であることが好ましく、６ｗｔ％以上１５ｗｔ％以下がより好ましく、７ｗｔ％以上１０ｗｔ％以下が更に好ましい。Ｈ２Ｏ添加比率の下限がこの範囲となることで、ガラス１０のガラス融液中の水分を適切に含ませて、ＳＯ３を含む原料を添加した場合であっても、適切な還元雰囲気となるためＰｔ器具からのＰｔ溶出を低減させて透過率の低下を抑制できる。また、Ｈ２Ｏ添加比率の上限がこの範囲となることで、適切な溶融性とする事が出来る。尚、ガラス状態で評価するβＯＨとは、成形プロセスにて残存した水の量の指標であり、最もＰｔ溶出が進行する清澄プロセスにおけるガラス熔解中の水分そのものを評価するには、Ｈ２Ｏ添加比率を考慮することがより好ましい。
　（ＳＯ３添加比率）
　ここで、質量比における、酸化物基準のガラス１０の全質量に対する、外割のＳＯ３の添加量の比率（ＳＯ３添加量／ガラス全質量）を、ＳＯ３添加比率とする。ＳＯ３の添加量とは、混合プロセスにおいて混合されるＳＯ３を含む原料のうちの、ＳＯ３の成分の質量を指し、言い換えれば、ＳＯ３を含む原料から、ＳＯ３以外の成分を除いた成分の質量を指す。
　この場合、ＳＯ３添加比率は、０．３ｗｔ％以上であることが好ましく、０．５ｗｔ％以上がより好ましく、０．７ｗｔ％以上が更に好ましい。ＳＯ３添加比率は、２．５ｗｔ％以下が好ましく、２．２ｗｔ％以下がより好ましく、２．０ｗｔ％以下が好ましく、１．５ｗｔ％以下がより好ましく、１．０ｗｔ％以下が更に好ましい。ＳＯ３添加比率は、０．３ｗｔ％以上２．０ｗｔ％以下であることが好ましく、０．５ｗｔ％以上１．５ｗｔ％以下がより好ましく、０．７ｗｔ％以上１．３ｗｔ％以下がさらに好ましく、０．７ｗｔ％以上１．０ｗｔ％以下が更に好ましい。ＳＯ３添加比率の下限がこの範囲となることで、ガラス１０の気泡の含有を適切に抑制できる。更に、ガラスメルト時の溶融温度を下げる事に寄与して、Pt成分の溶出を抑制可能となり、透過率を適切に抑制できる。
　また、ＳＯ３添加比率の上限がこの範囲となることで、ガラス１０の透過率の低下をより適切に抑制できる。
　（溶解工程）
　溶解工程においては、原料をるつぼなどの容器に投入して、容器内に投入された原料を加熱して、原料を溶解する。容器としては任意の材料の物を用いてよいが、本実施形態では、Ｐｔを含む容器を用いる。
　原料を溶解する際の加熱温度は、１３５０℃以下が好ましく、１３３０℃以下がより好ましく、１３００℃以下が更に好ましい。原料を溶解する際の加熱温度は、１２５０℃以上が好ましく、１２７０℃以上がより好ましい。原料を溶解する際の加熱温度は、１３５０℃以下が好ましく、１２５０℃以上１３３０℃以下がより好ましく、１２７０℃以上１３００℃以下が更に好ましい。加熱温度をこの範囲とすることで、異物、泡などの欠点が無く、更に容器に含まれるＰｔの溶解が抑制されて、透過率の低下を適切に抑制できる。
　（効果）
　以上説明したように、本開示の第１態様に係るガラス１０は、Ｌａ２Ｏ３、及びＢ２Ｏ３を含み、質量比で、Ｓの含有量が１００ｐｐｍ以上であり、波長４４０ｎｍの光に対する内部透過率が７０％以上であり、βＯＨが０．１ｍｍ－１以上１．０ｍｍ－１以下である。
　本開示に係るガラス１０は、Ｓを上記範囲含有することで、気泡の含有を抑制できる。また、本発明者は、Ｌａ２Ｏ３及びＢ２Ｏ３を含むガラスを製造する際に、気泡を抑制するために清澄剤（ＳＯ３を含む原料）を加えた場合、言い換えればガラスにＳが含有される場合、透過率が低下してしまうという問題を見出した。そして、本発明者は、鋭意研究の結果、このようなガラスに含まれる水分量を高めることで、透過率を改善することを見出した。すなわち、本開示に係るガラス１０は、βＯＨを上記範囲含有することで、泡の発生を抑制しつつ、水分を適切に含ませて、透過率の低下を抑制できる。
　本開示の第２態様に係るガラス１０は、第１態様に係るガラス１０であって、屈折率ｎｄが１．９５以上であることが好ましい。本開示のガラス１０は、高屈折率であることで、光学部材として適切に用いることができる。
　本開示の第３態様に係るガラス１０は、第１態様又は第２態様に係るガラス１０であって、３価のＢの含有量に対する４価のＴｉの含有量の比率が、３以下であることが好ましい。本開示のガラス１０は、このような組成となることで、高屈折率及び高透過率を適切に実現できる。
　本開示の第４態様に係るガラス１０は、第１態様から第３態様のいずれかに係るガラス１０であって、酸化物基準の質量比で、ＳｉＯ２、及びＢ２Ｏ３の合計含有量が、１０％以上であることが好ましい。本開示のガラス１０は、このような組成となることで、高屈折率及び高透過率を適切に実現できる。
　本開示の第５態様に係るガラス１０は、第１態様から第４態様のいずれかに係るガラス１０であって、比重が５．３０ｇ／ｃｍ３以下であることが好ましい。比重がこのように低いことで、ガラス１０の取り扱いが容易になる。
　本開示の第６態様に係るガラス１０は、第１態様から第５態様のいずれかに係るガラス１０であって、失透温度が１２７０℃以下であることが好ましい。本開示のガラス１０は、失透温度が１２７０℃以下あることで、ガラス１０の製造時に原料を溶解させる温度を比較的低くすることができ、透過率の低下を抑制できる。
　本開示の第７態様に係るガラス１０は、第１態様から第６態様のいずれかに係るガラス１０であって、Ｓｂを非含有であることが好ましい。これにより、高屈折率及び高透過率を適切に実現できる。
　本開示の第８態様に係るガラス１０は、第１態様から第７態様のいずれかに係るガラス１０であって、導光板として用いられることが好ましい。本開示のガラス１０は、導光板に適切に用いることができる。
　本開示の第９態様に係るガラス１０の製造方法は、Ｌａを含む原料と、Ｂを含む原料と、ＳＯ３を含む原料と、Ｈ２Ｏを含む原料とを混合することと、混合した原料を加熱して溶解させることと、溶解させた原料を冷却してガラスを得ることと、を含み、酸化物基準のガラス１０の全質量に対するＨ２Ｏの添加量の比率が５ｗｔ％以上２０ｗｔ％以下となるように、Ｈ２Ｏを含む原料を混合する。本開示によると、製造に要する時間を抑制しつつ、水分を適切に含ませて、透過率の低下を抑制できる。
　本開示の第１０態様に係るガラス１０の製造方法は、第９態様に係るガラス１０の製造方法であって、Ｈ２Ｏを含む原料は、ホウ酸（Ｈ３ＢＯ３）、水和物及び有機物の少なくともひとつであることが好ましい。このような原料を用いることで、ガラス１０に水分を適切に含ませて、透過率の低下を抑制できる。
　本開示の第１１態様に係るガラス１０の製造方法は、第９態様又は第１０態様に係るガラス１０の製造方法であって、酸化物基準のガラス１０の全質量に対するＨ２Ｏの添加量の比率が７ｗｔ％以上となるように、Ｈ２Ｏを含む原料を混合することが好ましい。Ｈ２Ｏの添加量をこの範囲にすることで、ガラス１０に水分を適切に含ませて、透過率の低下を抑制できる。
　本開示の第１２態様に係るガラス１０の製造方法は、第９態様から第１１態様のいずれかに係るガラス１０の製造方法であって、混合した原料を１３５０℃以下で加熱することが好ましい。加熱温度をこの範囲とすることで、透過率の低下を適切に抑制できる。
　（実施例）
　次に、実施例について説明する。表１から表１１は、各例のガラスを示す表である。なお、発明の効果を奏する限りにおいて実施態様を変更しても構わない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
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Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000012
　（例１）
　例１においては、表１に記載の組成で、厚さが１０ｍｍと１ｍｍのガラスを製造した。具体的には、表１に示す組成の原料を均一に混合した。この際、表１に示す組成の原料の他に、原料として、Ｈ２Ｏを含む原料としてのＨ３ＢＯ３と、Ｈ２Ｏを含む原料でありＳＯ３を含む原料でもある（Ｌａを含む原料でもある）Ｌａ２（ＳＯ４）３・９Ｈ２Ｏも添加した。Ｈ２Ｏ添加比率が表１に示す値となるように、Ｈ２Ｏを含む原料の添加量を調整し、ＳＯ３添加比率が表１に示す値となるように、ＳＯ３を含む原料の添加量を調整した。なお、表１のＨ２Ｏ添加比率Ｉは、Ｈ２Ｏを含む原料ＩのＨ２Ｏ添加比率であり、表１のＨ２Ｏ添加比率ＩＩは、Ｈ２Ｏを含む原料ＩＩのＨ２Ｏ添加比率であり、表１のＨ２Ｏ添加比率ＩＩＩは、Ｈ２Ｏを含む原料ＩＩＩのＨ２Ｏ添加比率であり、表１のＨ２Ｏ添加比率（計）は、それぞれのＨ２Ｏを含む原料の合計についての、Ｈ２Ｏ添加比率である。
　次に、混合した原料を、１３３０℃の白金坩堝内で２時間溶融させ、均一な溶融ガラスとした。次に、溶融ガラスを縦×横×高さ＝縦６０ｍｍ×横５０ｍｍ×高さ３０ｍｍのカーボン製モールドに流し込んだ。その後、７４０℃で１時間保持した後、約１℃／分の降温速度で室温まで冷却し、ガラスブロックを得た。次にガラスブロックを、切断機（マルトー社製小型切断機）を用いて縦×横＝３０ｍｍ×３０ｍｍに切断し研削機（秀和工業社製ＳＧＭ－６３０１）及び片面研磨機（日本エンギス社製ＥＪ－３８０ＩＮ）を用いて板厚の調整と表面研磨を行い、縦×横＝３０ｍｍ×３０ｍｍ、板厚１０ｍｍ、及び１ｍｍのガラスを製造した。
　例１のガラスの、Ｓの含有量（Ｓ濃度）を測定した。測定方法は上述の実施形態で説明した方法を用いた。
　例１のガラスの、βＯＨを算出した。算出方法は上述の実施形態で説明した方法を用いた。
　例１のガラスの、ガラス転移温度Ｔｇ、１００℃～３００℃の範囲の線熱膨張係数α、比重ｄ、屈折率ｎｄ、アッベ数ｖｄ、内部透過率（透過率τ４４０）、及び失透温度を測定した。測定方法は上述の実施形態で説明した方法を用いた。
　各測定結果を、表１に示す。
　（例２～例５１）
　例２～例５１においては、製造条件及び組成を表１～１１に示したものとした以外は、例１と同じ方法で、ガラスを製造した。各例のガラスの測定結果を表１～表１１に示す。なお、例２～例５１において、内部透過率が空欄のものは、内部透過率が７０％以上であった。
　（評価）
　各例のガラスについて、気泡の評価と、透過性の評価とを行った。
　気泡の評価においては、溶融ガラス１００ｍｌ中の３０μｍ超の泡の数が５０個未満の場合を〇、５０個以上の場合を×とした。透過性の評価においては、蛍光灯下の環境で目視で透明の場合を〇、白濁していた場合を×とした。
　表１～表１１に示すように、比較例である例３１、例４７、例４８はＳＯ３の添加量が少ないので、泡が残存してしまい気泡の評価が×となっている。比較例である例３２は、ＳＯ３が他の比較例よりは多く添加されているが、Ｓ濃度に対してβＯＨの値が相対的に高く、発泡した泡により気泡の評価が×となっている。比較例である例３３では、ＳＯ３が添加されておらず、溶融性が悪化して透過性が×となっている。以上の通り、例３１～３３、例４７～例４８においては、気泡の評価と透過性の評価の少なくとも一方が×であり、気泡の含有を抑制しつつ、透過率の低下を抑制できないことが分かる。実施例である例１～３０、例３４～例４６、例４９～例５１においては、気泡の評価と透過性の評価の両方が〇であり、気泡の含有を抑制しつつ、透過率の低下を抑制できることが分かる。
　以上、本発明の実施形態を説明したが、この実施形態の内容により実施形態が限定されるものではない。また、前述した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のもの、いわゆる均等の範囲のものが含まれる。さらに、前述した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。さらに、前述した実施形態の要旨を逸脱しない範囲で構成要素の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。
　１０　ガラス

Claims (12)

  1. 　Ｌａ２Ｏ３、及びＢ２Ｏ３を含み、
    　質量比で、Ｓの含有量が１００ｐｐｍ以上であり、
    　波長４４０ｎｍの光に対する内部透過率が７０％以上であり、
    　βＯＨが０．１ｍｍ－１以上１．０ｍｍ－１以下である、
    　ガラス。
  2. 　屈折率ｎｄが１．９５以上である、請求項１に記載のガラス。
  3. 　質量比で、Ｂ２Ｏ３に対する、ＴｉＯ２の含有量の割合（ＴｉＯ２/Ｂ２Ｏ３）が、３以下である、請求項１又は請求項２に記載のガラス。
  4. 　酸化物基準の質量比で、ＳｉＯ２、及びＢ２Ｏ３の合計含有量が、１０％以上である、請求項１又は請求項２に記載のガラス。
  5. 　比重が５．３０ｇ／ｃｍ３以下である、請求項１又は請求項２に記載のガラス。
  6. 　失透温度が１２７０℃以下である、請求項１又は請求項２に記載のガラス。
  7. 　Ｓｂを非含有である、請求項１又は請求項２に記載のガラス。
  8. 　導光板として用いられる、請求項１又は請求項２に記載のガラス。
  9. 　Ｌａを含む原料と、Ｂを含む原料と、ＳＯ３を含む原料と、Ｈ２Ｏを含む原料とを混合することと、
    　混合した原料を加熱して溶解させることと、
    　溶解させた前記原料を冷却してガラスを得ることと、
    　を含み、
    　酸化物基準の前記ガラスの全質量に対するＨ２Ｏの添加量の比率が５ｗｔ％以上２０ｗｔ％以下となるように、Ｈ２Ｏを含む原料を混合する、
    　ガラスの製造方法。
  10. 　Ｈ２Ｏを含む原料は、ホウ酸、水和物、及び有機物の少なくともひとつである、請求項９に記載のガラスの製造方法。
  11. 　酸化物基準の前記ガラスの全質量に対するＨ２Ｏの添加量の比率が７ｗｔ％以上となるように、Ｈ２Ｏを含む原料を混合する、請求項９又は請求項１０に記載のガラスの製造方法。
  12. 　混合した原料を１３５０℃以下で加熱する、請求項９又は請求項１０に記載のガラスの製造方法。
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