WO2024224924A1 - 投影装置、制御方法、及び制御プログラム - Google Patents

Abstract

投影時のゴーストを抑制することが可能な投影装置、制御方法、及び制御プログラムを提供する。　投影装置（１０）は、レンズ（３４）及び制御装置（４）を備える。また、投影装置（１０）は、投影画像Ｇ１をシフト可能である。制御装置（４）は、投影装置（１０）の設置状態に関する情報を取得する。そして、制御装置（４）は、投影装置（１０）の設置状態に応じて、投影画像Ｇ１のシフトに制限をかける制御を行う。これにより、投影時のゴーストを抑制することが可能である。

Description

投影装置、制御方法、及び制御プログラム

　本発明は、投影装置、制御方法、及び制御プログラムに関する。

　特許文献１には、制御部と、レンズシフト駆動部と、障害物検出部と、を備え、障害物検出部は、距離センサによって画像投射領域内の障害物（人物等）を検出し、制御部は、障害物が検出されると、レンズシフト駆動部に指示を出して、障害物が存在しない投写領域にレンズをシフトさせる、プロジェクタが記載されている。

　特許文献２には、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ　Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ　Ｕｎｉｔ）と、投射光学系調整部と、加速度センサと、距離センサと、を備え、投写光学系調整部は、電動ズーム機能・電動フォーカス機能・電動レンズシフト機能を有し、加速度センサは、プロジェクタの位置変化量を検出し、距離センサは、プロジェクタからスクリーンまでの距離を測定し、ＣＰＵは、プロジェクタの設置位置やスクリーンとの距離が変化した場合にも、投影画像の位置・形状・大きさを維持できるように、電動ズーム機能・電動フォーカス機能・電動レンズシフト機能の調整・制御を行う、プロジェクタが記載されている。

　特許文献３には、シフト許容範囲と相似形でシフト許容範囲以下の大きさの開口と、発光部から射出された光を通過させる貫通孔と、を有するシフト許容プレートと、開口内に配置され、いずれかの方向に変位してシフト許容プレートを変位させる投射レンズと、受光部の光の受光状態に基づいて、投射レンズが限界位置まで変位したことを検出する検出器と、投影レンズの変位に基づきシフト許容プレートが限界位置まで変位したことを検出器が検出した時点で投射レンズの変位を停止させるコントローラと、を備える、プロジェクタが記載されている。

日本国特開２０１４－１６３９５４号公報 日本国特開２００９－０７５１４７号公報 日本国特開２０２２－０９５１４１号公報

　本開示の技術に係る１つの実施形態は、投影時のゴーストを抑制することが可能な投影装置、制御方法、及び制御プログラムを提供する。

（１）
　投影レンズ及びプロセッサを備え、投影像をシフト可能な投影装置であって、
　上記プロセッサは、
　上記投影装置の設置状態に関する情報を取得し、
　上記設置状態に応じて、上記投影像のシフトに制限をかける制御を行う、
　投影装置。

（２）
　（１）に記載の投影装置であって、
　上記設置状態は、上記投影レンズと、上記投影装置の設置対象の物体と、の位置関係に関する状態である、
　投影装置。

（３）
　（１）又は（２）に記載の投影装置であって、
　上記設置状態は、上記投影装置の設置対象の物体に上記投影装置の少なくとも一部が埋め込まれた埋め込み状態を含む、
　投影装置。

（４）
　（３）に記載の投影装置であって、
　上記プロセッサは、上記埋め込み状態において、上記埋め込み状態と異なる上記設置状態よりも上記シフトに強い制限をかける、
　投影装置。

（５）
　（１）～（４）のいずれか１つに記載の投影装置であって、
　上記設置状態に関する情報は、上記投影レンズと、上記投影装置以外の上記投影レンズと最も近い物体と、の距離に関する情報を含み、
　上記プロセッサは、上記距離に応じて上記シフトに制限をかける、
　投影装置。

（６）
　（１）～（４）のいずれか１つに記載の投影装置であって、
　上記設置状態に関する情報は、上記投影レンズと、上記投影装置の設置対象の物体と、の距離に関する情報を含み、
　上記プロセッサは、上記距離に応じて上記シフトに制限をかける、
　投影装置。

（７）
　（１）～（６）のいずれか１つに記載の投影装置であって、
　上記プロセッサは、上記投影レンズと、上記投影装置の設置対象の物体と、の位置関係に応じた方向における上記シフトに制限をかける、
　投影装置。

（８）
　（１）～（７）のいずれか１つに記載の投影装置であって、
　上記プロセッサは、上記設置状態と、上記投影装置の光源の状態と、に応じて上記シフトに制限をかける制御を行う、
　投影装置。

（９）
　（８）に記載の投影装置であって、
　上記光源の状態は、上記光源の出力値の状態を含む、
　投影装置。

（１０）
　（９）に記載の投影装置であって、
　上記プロセッサは、上記出力値が第１出力値である場合に、上記出力値が上記第１出力値より低い第２出力値である場合よりも上記シフトに強い制限をかける、
　投影装置。

（１１）
　（１）～（６）のいずれか１つに記載の投影装置であって、
　上記プロセッサは、上記シフトの状態に基づいて上記投影装置の光源の出力値を制御する、
　投影装置。

（１２）
　（１）～（１１）のいずれか１つに記載の投影装置であって、
　上記プロセッサは、上記設置状態と、上記投影像の画像コンテンツと、に応じて上記シフトに制限をかける制御を行う、
　投影装置。

（１３）
　（１２）に記載の投影装置であって、
　上記プロセッサは、上記設置状態と、上記投影像の画像コンテンツの明るさと、に応じて上記シフトに制限をかける制御を行う、
　投影装置。

（１４）
　（１３）に記載の投影装置であって、
　上記プロセッサは、上記投影像の画像コンテンツにおける複数の端部領域の明るさに応じた方向における上記シフトに制限をかける、
　投影装置。

（１５）
　（１）～（１４）のいずれか１つに記載の投影装置であって、
　上記プロセッサは、上記投影像の投影中に上記シフトの制限に関する情報が変化した場合、上記シフトの状態を維持する、
　投影装置。

（１６）
　（１５）に記載の投影装置であって、
　上記プロセッサは、上記シフトの状態を維持している状態において上記シフトに関するユーザ操作があった場合は、上記シフトの制限に関する情報に応じて上記シフトの状態を変化させる、
　投影装置。

（１７）
　（１）から（１６）のいずれか１項に記載の投影装置であって、
　上記シフトは、上記投影レンズの光軸方向に対して垂直な方向へのシフトである、
　投影装置。

（１８）
　投影レンズ及びプロセッサを備え、投影像をシフト可能な投影装置の制御方法であって、
　上記プロセッサが、
　上記投影装置の設置状態に関する情報を取得し、
　上記設置状態に応じて、上記投影像のシフトに制限をかける制御を行う、
　制御方法。

（１９）
　投影レンズ及びプロセッサを備え、投影像をシフト可能な投影装置の制御プログラムであって、
　上記プロセッサに、
　上記投影装置の設置状態に関する情報を取得し、
　上記設置状態に応じて、上記投影像のシフトに制限をかける制御を行う、
　処理を実行させるための制御プログラム。

　本発明によれば、投影時のゴーストを抑制することが可能な投影装置、制御方法、及び制御プログラムを提供することができる。

実施形態の情報処理装置による設置支援対象の投影装置１０の一例を示す模式図である。 図１に示す投影部１の内部構成の一例を示す模式図である。 投影装置１０の外観構成を示す模式図である。 図３に示す投影装置１０の光学ユニット１０６の断面模式図である。 投影装置１０の設置状態の一例を示す図である。 投影装置１０の設置状態の別の一例を示す図である。 投影装置１０が天井に埋め込まれた設置状態の一例を示す図である。 図７に示す投影装置１０において投影画像Ｇ１の位置をシフトさせた図である。 投影画像Ｇ１のシフト制限の一例を説明するための図である。 投影装置１０のシフト制限における第１処理例を示すフローチャートである。 第１処理例におけるシフト制限テーブルの一例を示す図である。 投影装置１０のシフト制限における第２処理例を示すフローチャートである。 投影画像Ｇ１における黒帯領域の一例を示す図である。 第２処理例におけるシフト制限テーブルの一例を示す図である。 投影画像Ｇ１のシフト位置に対する光源２１の出力値制限の第１処理例を示すフローチャートである。 第１処理例における出力値制限テーブルの一例を示す図である。 投影画像Ｇ１のシフト位置に対する光源２１の出力値制限の第２処理例を示すフローチャートである。 第２処理例における出力値制限テーブルの一例を示す図である。 投影装置１０のシフト制限の第１変形例を示すフローチャートである。 第１変形例におけるシフト制限テーブルの一例を示す図である。 投影装置１０の構成の変形例を示す図である。 パーソナルコンピュータ２００のハードウェア構成の一例を示す図である。

　以下、本発明の実施形態の一例について、図面を参照して説明する。

＜実施形態の投影装置１０＞
　図１は、実施形態の投影装置１０の一例を示す模式図である。図１に示すように、投影装置１０は、投影部１と、制御装置４と、操作受付部２と、を備える。投影部１は、例えば液晶プロジェクタ又はＬＣＯＳ（Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌ　Ｏｎ　Ｓｉｌｉｃｏｎ）を用いたプロジェクタ等によって構成される。以下では、投影部１が液晶プロジェクタであるものとして説明する。投影部１は、被投影物６に向けて投影画像を投影する。

　制御装置４は、投影装置１０による投影の制御を行う制御装置である。制御装置４は、各種のプロセッサにより構成される制御部と、各部と通信するための通信インタフェース（図示省略）と、ハードディスク、ＳＳＤ（Ｓｏｌｉｄ　Ｓｔａｔｅ　Ｄｒｉｖｅ）、又はＲＯＭ（Ｒｅａｄ　Ｏｎｌｙ　Ｍｅｍｏｒｙ）等のメモリ４ａと、を含む装置であり、投影部１を統括制御する。

　制御装置４の制御部の各種のプロセッサとしては、プログラムを実行して各種処理を行う汎用的なプロセッサであるＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ　Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ　Ｕｎｉｔ）、ＦＰＧＡ（Ｆｉｅｌｄ　Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ　Ｇａｔｅ　Ａｒｒａｙ）等の製造後に回路構成を変更可能なプロセッサであるプログラマブルロジックデバイス（Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ　Ｌｏｇｉｃ　Ｄｅｖｉｃｅ：ＰＬＤ）、又はＡＳＩＣ（Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ　Ｓｐｅｃｉｆｉｃ　Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ　Ｃｉｒｃｕｉｔ）等の特定の処理を実行させるために専用に設計された回路構成を有するプロセッサである専用電気回路等が含まれる。

　これら各種のプロセッサの構造は、より具体的には、半導体素子等の回路素子を組み合わせた電気回路である。制御装置４の制御部は、各種のプロセッサのうちの１つで構成されてもよいし、同種又は異種の２つ以上のプロセッサの組み合わせ（例えば、複数のＦＰＧＡの組み合わせ又はＣＰＵとＦＰＧＡの組み合わせ）で構成されてもよい。制御装置４は、本発明における「プロセッサ」の一例である。

　操作受付部２は、ユーザからの各種の操作を受け付けることにより、ユーザからの指示を検出する。操作受付部２は、制御装置４に設けられたボタン、キー、ジョイスティック等であってもよいし、制御装置４の遠隔操作を行うリモートコントローラからのコントロール信号を受け付ける受信部等であってもよい。

　被投影物６は、投影部１によって投影画像が表示される投影面を有する、スクリーンや壁などの物体である。図１に示す例では、被投影物６は、投影面が矩形の平面である。図１における被投影物６の上下左右が、実際の被投影物６の上下左右であるとする。

　一点鎖線で図示する投影範囲１１は、被投影物６のうち、投影部１により投影光が照射される領域である。図１に示す例では、投影範囲１１は矩形である。投影範囲１１は、投影部１により投影が可能な投影可能範囲の一部又は全部である。

　なお、投影部１、制御装置４、及び操作受付部２は、例えば一個の装置により実現される（例えば図３，図４参照）。又は、投影部１、制御装置４、及び操作受付部２は、互いに通信を行うことにより連携する、それぞれ別の装置であってもよい。

＜図１に示す投影部１の内部構成＞
　図２は、図１に示す投影部１の内部構成の一例を示す模式図である。

　図２に示すように、投影部１は、光源２１と、光変調部２２と、投影光学系２３と、制御回路２４と、を備える。

　光源２１は、レーザ又はＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅ）等の発光素子を含み、例えば白色光を出射する。

　光変調部２２は、光源２１から出射されて図示省略の色分離機構によって赤、青、緑の３色に分離された各色光を、画像情報に基づいて変調して各色画像を出射する３つの液晶パネルによって構成される。この３つの液晶パネルにそれぞれ赤、青、緑のフィルタを搭載し、光源２１から出射された白色光を、各液晶パネルにて変調して各色画像を出射させてもよい。

　投影光学系２３は、光源２１及び光変調部２２からの光が入射されるものであり、少なくとも１つのレンズを含む、例えばリレー光学系によって構成されている。投影光学系２３を通過した光は被投影物６に投影される。

　被投影物６のうち、光変調部２２の全範囲を透過する光が照射される領域が、投影部１により投影が可能な投影可能範囲となる。この投影可能範囲のうち、光変調部２２から実際に透過する光が照射される領域が投影範囲１１となる。例えば、光変調部２２のうち光が透過する領域の大きさ、位置、及び形状を制御することにより、投影可能範囲において、投影範囲１１の大きさ、位置、及び形状が変化する。

　制御回路２４は、制御装置４から入力される表示用データに基づいて、光源２１、光変調部２２、及び投影光学系２３を制御することにより、被投影物６にこの表示用データに基づく画像を投影させる。制御回路２４に入力される表示用データは、赤表示用データと、青表示用データと、緑表示用データとの３つによって構成される。

　また、制御回路２４は、制御装置４から入力される命令に基づいて、投影光学系２３を変化させることにより、投影部１の投影範囲１１（図１参照）の拡大や縮小を行う。また、制御装置４は、操作受付部２によって受け付けられたユーザからの操作に基づいて投影光学系２３を変化させることにより、投影部１の投影範囲１１の移動を行ってもよい。

　また、投影装置１０は、投影光学系２３のイメージサークルを維持しつつ、投影範囲１１を機械的又は光学的に移動させるシフト機構を備える。投影光学系２３のイメージサークルは、投影光学系２３に入射した投影光が、光量落ち、色分離、周辺湾曲などの点から適正に投影光学系２３を通過する領域である。

　シフト機構は、光学系シフトを行う光学系シフト機構と、電子シフトを行う電子シフト機構と、の少なくともいずれかにより実現される。

　光学系シフト機構は、例えば、投影光学系２３を光軸に垂直な方向に移動させる機構（例えば図３，図４参照）、又は、投影光学系２３を移動させる代わりに光変調部２２を光軸に垂直な方向に移動させる機構である。また、光学系シフト機構は、投影光学系２３の移動と光変調部２２の移動とを組み合わせて行うものであってもよい。

　電子シフト機構は、光変調部２２において光を透過させる範囲を変化させることによる疑似的な投影範囲１１のシフトを行う機構である。

　また、投影装置１０は、投影光学系２３のイメージサークルとともに投影範囲１１を移動させる投影方向変更機構を備えてもよい。投影方向変更機構は、機械的な回転で投影部１の向きを変更することにより、投影部１の投影方向を変化させる機構である（例えば図３，図４参照）。

　制御回路２４は、制御装置４から入力される命令に基づいて、シフト機構又は投影方向変更機構を制御することにより、投影部１の投影範囲１１の移動を行う。

＜投影装置１０の機械的構成＞
　図３は、投影装置１０の外観構成の一例を示す模式図である。図４は、図３に示す投影装置１０の光学ユニット１０６の断面模式図である。図４は、図３に示す本体部１０１から出射される光の光路に沿った面での断面を示している。

　図３に示すように、投影装置１０は、本体部１０１と、本体部１０１から突出して設けられた光学ユニット１０６と、を備える。図３に示す構成において、操作受付部２と、制御装置４と、投影部１における光源２１、光変調部２２、及び制御回路２４と、は本体部１０１に設けられる。投影部１における投影光学系２３は光学ユニット１０６に設けられる。

　光学ユニット１０６は、本体部１０１に支持される第１部材１０２と、第１部材１０２に支持された第２部材１０３と、を備える。

　なお、第１部材１０２と第２部材１０３は一体化された部材であってもよい。光学ユニット１０６は、本体部１０１に着脱自在に構成（換言すると交換可能に構成）されていてもよい。

　本体部１０１は、光学ユニット１０６と連結される部分に光を通すための開口１５ａ（図４参照）が形成された筐体１５（図４参照）を有する。

　本体部１０１の筐体１５の内部には、図３に示すように、光源２１と、光源２１から出射される光を入力画像データに基づいて空間変調して画像を生成する光変調部２２（図２参照）を含む光変調ユニット１２と、が設けられている。

　光源２１から出射された光は、光変調ユニット１２の光変調部２２に入射され、光変調部２２によって空間変調されて出射される。

　図４に示すように、光変調ユニット１２によって空間変調された光によって形成される画像は、筐体１５の開口１５ａを通過して光学ユニット１０６に入射され、投影対象物としての被投影物６に投影されて、投影画像Ｇ１が観察者から視認可能となる。投影画像Ｇ１は、投影範囲１１に照射された投影光により形成される画像である。投影画像Ｇ１は、本発明における「投影像」の一例である。

　光学ユニット１０６は、図４に示すように、本体部１０１の内部と繋がる中空部２Ａを有する第１部材１０２と、中空部２Ａと繋がる中空部３Ａを有する第２部材１０３と、中空部２Ａに配置された第１光学系１２１及び反射部材１２２と、中空部３Ａに配置された第２光学系３１、反射部材３２、第３光学系３３、及びレンズ３４と、シフト機構１０５と、投影方向変更機構１０４と、を備える。

　第１部材１０２は、断面外形が一例として矩形の部材であり、開口２ａと開口２ｂが互いに垂直な面に形成されている。第１部材１０２は、本体部１０１の開口１５ａと対面する位置に開口２ａが配置される状態にて、本体部１０１によって支持されている。本体部１０１の光変調ユニット１２の光変調部２２から射出された光は、開口１５ａ及び開口２ａを通って第１部材１０２の中空部２Ａに入射される。

　本体部１０１から中空部２Ａに入射される光の入射方向を方向Ｘ１と記載し、方向Ｘ１の逆方向を方向Ｘ２と記載し、方向Ｘ１と方向Ｘ２を総称して方向Ｘと記載する。また、図４において、紙面手前から奥に向かう方向とその逆方向を方向Ｚと記載する。方向Ｚのうち、紙面手前から奥に向かう方向を方向Ｚ１と記載し、紙面奥から手前に向かう方向を方向Ｚ２と記載する。

　また、方向Ｘ及び方向Ｚに垂直な方向を方向Ｙと記載し、方向Ｙのうち、図４において上に向かう方向を方向Ｙ１と記載し、図４において下に向かう方向を方向Ｙ２と記載する。図４の例では方向Ｙ２が鉛直方向となるように投影装置１０が配置されている。

　図２に示した投影光学系２３は、第１光学系１２１、反射部材１２２、第２光学系３１、反射部材３２、第３光学系３３、及びレンズ３４により構成される。図４には、この投影光学系２３の光軸Ｋが示されている。第１光学系１２１、反射部材１２２、第２光学系３１、反射部材３２、第３光学系３３、及びレンズ３４は、光変調部２２側からこの順に光軸Ｋに沿って配置されている。

　第１光学系１２１は、少なくとも１つのレンズを含み、本体部１０１から第１部材１０２に入射された方向Ｘ１に進む光を反射部材１２２に導く。

　反射部材１２２は、第１光学系１２１から入射された光を方向Ｙ１に反射させる。反射部材１２２は、例えばミラー等によって構成される。第１部材１０２には、反射部材１２２にて反射した光の光路上に開口２ｂが形成されており、この反射した光は開口２ｂを通過して第２部材１０３の中空部３Ａへと進む。

　第２部材１０３は、断面外形が略Ｔ字状の部材であり、第１部材１０２の開口２ｂと対面する位置に開口３ａが形成されている。第１部材１０２の開口２ｂを通過した本体部１０１からの光は、この開口３ａを通って第２部材１０３の中空部３Ａに入射される。なお、第１部材１０２や第２部材１０３の断面外形は任意であり、上記のものには限定されない。

　第２光学系３１は、少なくとも１つのレンズを含み、第１部材１０２から入射された光を、反射部材３２に導く。

　反射部材３２は、第２光学系３１から入射される光を方向Ｘ２に反射させて第３光学系３３に導く。反射部材３２は、例えばミラー等によって構成される。

　第３光学系３３は、少なくとも１つのレンズを含み、反射部材３２にて反射された光をレンズ３４に導く。

　レンズ３４は、第２部材１０３の方向Ｘ２側の端部に形成された開口３ｃを塞ぐ形でこの端部に配置されている。レンズ３４は、第３光学系３３から入射された光を被投影物６に投影する。レンズ３４は、本発明における「投影レンズ」の一例である。

　投影方向変更機構１０４は、第１部材１０２に対して第２部材１０３を回転自在に連結する回転機構である。この投影方向変更機構１０４によって、第２部材１０３は、方向Ｙに延びる回転軸（具体的には光軸Ｋ）の回りに回転自在に構成されている。なお、投影方向変更機構１０４は、光学系を回転させることができればよく、図４に示した配置位置に限定されない。また、回転機構の数も１つに限らず、複数設けられていてもよい。

　シフト機構１０５は、投影光学系の光軸Ｋ（換言すると光学ユニット１０６）をその光軸Ｋに垂直な方向（図４の方向Ｙ）に移動させるための機構である。具体的には、シフト機構１０５は、第１部材１０２の本体部１０１に対する方向Ｙの位置を変更することができるように構成されている。シフト機構１０５は、手動にて第１部材１０２を移動させるものの他、電動にて第１部材１０２を移動させるものであってもよい。

　図４は、シフト機構１０５によって第１部材１０２が方向Ｙ１側に最大限移動された状態を示している。この図４に示す状態から、シフト機構１０５によって第１部材１０２が方向Ｙ２に移動することで、光変調部２２によって形成される画像の中心（換言すると表示面の中心）と光軸Ｋとの相対位置が変化して、被投影物６に投影されている投影画像Ｇ１を方向Ｙ２にシフト（平行移動）させることができる。

　なお、シフト機構１０５は、光学ユニット１０６を方向Ｙに移動させる代わりに、光変調部２２を方向Ｙに移動させる機構であってもよい。この場合でも、被投影物６に投影されている投影画像Ｇ１を方向Ｙ２に移動させることができる。

＜投影装置１０の設置状態＞
　次に、投影装置１０が使用される際の投影装置１０の設置状態について説明する。図５は、投影装置１０の設置状態の一例を示す図である。図５に示すように、投影装置１０は、設置対象の物体５０に例えば非埋め込みの状態で設置され得る。設置対象の物体５０は、例えば「床」や「壁」や「天井」や「柱」や「台座」などである。非埋め込みの状態とは、例えば設置対象の物体５０上に投影装置１０の一部が接して設置されている状態や、設置対象の物体５０から距離を空けて投影装置１０が設置されている状態などが含まれる。

　設置対象の物体５０上に投影装置１０の一部が接して設置されている状態とは、例えば投影装置１０が床や台座に置かれた状態や、投影装置１０が壁、天井、柱に取り付けられている状態などのことである。設置対象の物体５０から距離を空けて投影装置１０が設置されている状態とは、例えば取り付け部材を介して天井から投影装置１０が離れた状態で吊り下げられている状態などのことである。

　図５に示す設置例では、投影装置１０が設置対象の物体５０である「床」の上に置かれた状態を示している。ただし、図５に示す投影装置１０は、簡易的に図示したものであり、箱型状の本体部１０１と、箱型状の光学ユニット１０６とで構成されている。投影装置１０は、本体部１０１が床に接した状態で設置され、本体部１０１上に光学ユニット１０６が設けられている。また、光学ユニット１０６にはレンズ３４が設けられており、レンズ３４から被投影物６に向けて光が投影されるように構成されている。

　このように投影装置１０が設置された場合、レンズ３４を適切に通過した光は、被投影物６に照射されて投影画像Ｇ１を形成するが、レンズ３４内で不規則に反射した一部の光がレンズ３４から出力されると、例えば図５に示すように床に照射され、明るく光る領域（以下、ゴースト５１という。）として現れる。ゴースト５１が現れやすい場所は、レンズ３４よりも前方周辺に存在する物体上である。ゴースト５１の出現する領域及び強さ（明るさ）は、物体とレンズ３４との距離や、レンズ３４から出力される光の強さや、レンズ３４から投影される投影画像Ｇ１の投影位置などにより変化する。

　図６は、投影装置１０の設置状態の別の一例を示す図である。図６に示すように、投影装置１０は、設置対象の物体５０に例えば埋め込みの状態で設置され得る。埋め込みの状態とは、例えば設置対象の物体５０内に投影装置１０の一部が入り込んで設置されている状態などが含まれる。

　設置対象の物体５０内に投影装置１０の一部が入り込んで設置されている状態とは、例えば床、壁、天井、柱、台座に形成された所定の空間内に投影装置１０の一部が収容された状態などのことである。

　図６に示す設置例では、投影装置１０が設置対象の物体５０である「壁」の中に埋め込まれた状態を示している。箱型状の本体部１０１と箱型状の光学ユニット１０６とで図示される投影装置１０は、本体部１０１が壁に形成された収容空間５０ａ内に収容され、本体部１０１上に設けられた光学ユニット１０６が壁から突出した状態で設置されている。

　このように投影装置１０が設置された場合にも、レンズ３４を適切に通過した光は、被投影物６に照射されて投影画像Ｇ１を形成するが、レンズ３４内で不規則に反射した一部の光がレンズ３４から出力されると、例えば図６に示すよう壁に照射され、ゴースト５１として現れる。ゴースト５１が現れやすい場所は、上記図５の場合と同様に、レンズ３４よりも前方周辺に存在する物体上である。また、ゴースト５１の出現する領域及び強さ（明るさ）は、物体とレンズ３４との距離や、レンズ３４から出力される光の強さや、レンズ３４から投影される投影画像Ｇ１の投影位置などにより変化する。

＜ゴースト５１を出現させない設置状態の一例＞
　次に、ゴースト５１を出現させないための投影装置１０の設置状態について説明する。図７及び図８は、投影装置１０が天井に埋め込まれた設置状態の一例を示す図である。図７及び図８に示すように、投影装置１０は、本体部１０１が設置対象の物体５０である「天井」の上に配置され、本体部１０１上に設けられた光学ユニット１０６が天井から下方へ突出した状態で投影部屋５２内に設置されている。

　図７と図８とを比較すると、図７では投影装置１０のレンズ３４から投影された投影画像Ｇ１が被投影物６の上方領域に投影されているのに対して、図８では投影画像Ｇ１の投影位置が図７に示す投影位置よりも下方領域に投影されている。すなわち、図７では、投影画像Ｇ１が投影装置１０の設置対象の物体５０である「天井」に近い上方領域へ投影されるように、その投影位置がシフト制御されている。一方、図８では、投影画像Ｇ１が天井から離間する方向である投影部屋５２の床５３に近づく下方領域へ投影されるように、その投影位置がシフト制御されている。

　このようにレンズ３４から投影される投影画像Ｇ１の投影位置をシフトさせた場合、投影画像Ｇ１が被投影物６の上方領域に投影される図７の場合には、レンズ３４の前方周辺の天井にゴースト５１が現れる。これに対して、投影画像Ｇ１が被投影物６の下方領域に投影される図８の場合には、レンズ３４の前方周辺の天井にゴースト５１が現れなくなる（図８ではこの現れなくなる様子を破線のゴースト５１で示す）。具体的には、図８において、被投影物６に投影される投影画像Ｇ１の上端部が被投影物６における所定の高さの位置５４よりも下方に投影されるように投影画像Ｇ１の投影位置をシフトさせることにより天井にゴースト５１が現れなくなる。ただし、レンズ３４から被投影物６までの距離に応じて投影画像Ｇ１の必要シフト量は変化する。

　図７と図８に示す例では、レンズ３４から投影される投影画像Ｇ１の投影位置によりゴースト５１の現れ方が変化する場合を説明したが、この他に例えば上述した投影装置１０が設置される設置対象の物体５０とレンズ３４との距離による場合には、両者間の距離が短いほどゴースト５１が現れやすく、両者間の距離が遠いほどゴースト５１が現れにくい。また、上述したレンズ３４から出力される光の強さによる場合には、出力される光の出力値が強いほどゴースト５１が現れやすく、出力される光の出力値が弱いほどゴースト５１が現れにくい。

＜ゴースト５１を出現させないシフト制限＞
　次に、ゴースト５１を出現させないための投影画像Ｇ１のシフト制限について説明する。図９は、投影画像Ｇ１のシフト制限の一例を説明するための図である。図９に示すように、投影装置１０は、設置対象の物体５０である「壁」に埋め込まれた状態で設置されている。この設置状態は、図６で説明した場合と同様の設置状態である。

　このような状態で投影装置１０が設置された場合において、ゴースト５１は、レンズ３４から投影される投影画像Ｇ１の投影位置に応じて現れる。ゴースト５１は、レンズ３４の前方周辺の壁に現れる。ゴースト５１は、投影画像Ｇ１の投影位置が投影装置１０の設置されている「壁」に近い場合に現れて、その投影位置が遠くなるにしたがって弱く（暗く）なり、所定以上に離れると現れない。したがって、投影画像Ｇ１の投影位置を投影装置１０が設置されている「壁」との位置関係において適切な投影位置に設定することにより、すなわち、投影画像Ｇ１のシフト可能な範囲を所定の範囲に制限することにより、ゴースト５１の出現を抑制することが可能である。

　例えば、図９に示すように、投影装置１０の設置対象の物体５０である「壁」が延びる方向を方向Ｘとし、「壁」に垂直な方向を方向Ｙとする。方向Ｘと方向Ｙは、レンズ３４の光軸Ｋ方向に対して垂直な方向である。図９の設置状態の場合、投影画像Ｇ１の方向Ｙにおけるシフト可能な範囲を所定の範囲に制限することで、「壁」へのゴースト５１の出現を抑制することが可能である。具体的には、投影装置１０が設置されている「壁」の方向の投影画像Ｇ１のシフト範囲、すなわち方向Ｙにおける－Ｙ方向の投影画像Ｇ１のシフト範囲を制限する。本例では投影画像Ｇ１の下端部５５が斜線で示す領域５６よりも上方（＋Ｙ方向）に投影されるようにシフト制限することでゴースト５１の出現を抑制することが可能である。

　このように、投影装置１０のレンズ３４と、投影装置１０の設置対象の物体５０と、の位置関係に応じた方向におけるシフト範囲に制限をかけることにより、物体５０へのゴースト５１の出現を抑制することが可能である。例えば、投影装置１０が投影装置１０の下側にある床に設置されている場合は、レンズ３４から投影される投影画像Ｇ１の下方向のシフトを制限する。また、投影装置１０が投影装置１０の右側にある壁に設置されている場合は、レンズ３４から投影される投影画像Ｇ１の右方向のシフトを制限する。また、投影装置１０が投影装置１０の上側の天井に設置されている場合は、レンズ３４から投影される投影画像Ｇ１の上方向のシフトを制限する。

　なお、図９に示す例では、投影装置１０が設置対象の物体５０である「壁」に埋め込まれた設置状態を示すが、設置状態としては図５で説明したように「床」の上に置かれた状態などの場合もある。投影装置１０が「床」の上に設置された状態の場合は、投影装置１０が「壁」に埋め込まれた設置状態よりもレンズ３４と投影装置１０の設置対象の物体５０との距離が長くなるため、その距離に応じてシフト範囲が制限される。レンズ３４と投影装置１０の設置対象の物体５０との距離が長い場合には、シフト範囲の制限は緩くなり、シフト可能な範囲が広くなる。

　また、上述した例では投影装置１０が設置される物体５０（床、壁、天井等）にゴースト５１が現れる場合について説明したが、ゴースト５１が現れる物体はこれらに限られない。例えば、レンズ３４の前方周辺に存在する物体であって、投影装置１０が設置される物体５０よりもレンズ３４に近い位置に他の物体が存在する場合には、その物体上にゴースト５１が現れ得る。したがって、そのような場合には、レンズ３４と、レンズ３４に最も近い物体と、の距離に応じて投影画像Ｇ１のシフト範囲を制限するようにしてもよい。このように、投影装置１０の設置状況に応じて、レンズ３４に最も近い物体は、設置対象の物体５０であったり、近くに置かれたプレート等の別の物体であったりし得る。

　次に、投影装置１０のシフト制限における処理について説明する。

＜シフト制限の第１処理例＞
　図１０は、投影装置１０のシフト制限における第１処理例を示すフローチャートである。投影装置１０は、例えば投影装置１０の起動時に本処理の実行を開始する。

　まず、投影装置１０は、投影装置１０の設置状態を判定する（ステップＳ１１）。投影装置１０の設置状態とは、上述したように、例えば投影装置１０が設置対象の物体５０に非埋め込みの状態（図５参照）で設置されているか、埋め込みの状態（図６，図７参照）で設置されているかなどである。投影装置１０は、例えば投影装置１０の設置時に設定される設置モードスイッチの設定状態に基づいて設置状態を判定する。設置モードスイッチは、ユーザのモード選択操作により設定される。また、投影装置１０は、投影装置１０に搭載されたカメラや３次元センサ（Ｌｉｄｅｒ）によるセンシングデータに基づいて設置状態を判定してもよい。また、投影装置１０は、例えば本体部１０１と光学ユニット１０６にそれぞれリモコン受信部を搭載し、外部からのリモコン操作に基づく信号の受信状態（どちらのリモコン受信部で受信されるか）により設置状態を判定してもよい。

　次に、投影装置１０は、光源２１（レーザダイオード（ＬＤ））の出力値の状態を判定する（ステップＳ１２）。光源２１の出力値の状態は、例えば光源２１の最大出力値に対する何パーセントの出力値であるかを判定する。

　次に、投影装置１０は、投影装置１０の設置状態と、光源２１の出力値の状態と、に基づく投影画像Ｇ１のシフト範囲を設定するためのシフト制限テーブルを参照する（ステップＳ１３）。シフト制限テーブルは、測定されたシフト制限データとして予めメモリ４ａに記憶されている。シフト制限テーブルについては図１１で後述する。

　次に、投影装置１０は、シフト制限テーブルを参照して、レンズ３４から投影される投影画像Ｇ１の投影位置にシフト制限があるか否かを判定する（ステップＳ１４）。

　ステップＳ１４において、投影画像Ｇ１の投影位置にシフト制限がない場合（ステップＳ１４：Ｎｏ）には、投影装置１０は本処理を終了する。ステップＳ１４において、投影画像Ｇ１の投影位置にシフト制限がある場合（ステップＳ１４：Ｙｅｓ）には、投影装置１０は、レンズ３４から投影される投影画像Ｇ１の投影位置にシフト制限を設定する（ステップＳ１５）。本例の場合には、投影装置１０の設置状態と光源２１の出力値の状態とに基づいて投影画像Ｇ１のシフト制限の有無や程度が設定される。

　なお、上記第１処理例では、本処理を投影装置１０の起動時に開始する場合を説明したが、これに限定されない。例えば、本処理は、投影装置１０が起動されたら繰り返し実行するようにしてもよい。また、本処理は、投影装置１０の設置状態の変更が検知されたとき又は光源２１の出力値の変更が検知されたときに実行するようにしてもよい。さらに、本処理は、ユーザからの投影画像Ｇ１のシフトの指示を受け付けたときに実行するようにしてもよい。

＜第１処理例のシフト制限テーブル例＞
　図１１は、上述した第１処理例におけるシフト制限テーブルの一例を示す図である。図１１に示すように、シフト制限テーブル６１は、光源２１の所定の出力値における非埋め込み状態の投影装置１０のシフト制限値と、埋め込み状態の投影装置１０のシフト制限値とを示す。

　例えば、光源２１の出力値が１００％の場合、投影装置１０が非埋め込み状態のときには、投影画像Ｇ１のシフト範囲の制限がシフト下限値の－２０％に設定される。一方、投影装置１０が埋め込み状態のときには、投影画像Ｇ１のシフト範囲の制限がシフト下限値の－１５％に設定される。シフト下限値のマイナス（－）とは、例えば図９で説明したように方向Ｙにおける－Ｙ方向のシフト制限、すなわち投影装置１０が設置される物体５０の方向へのシフト制限のことである。シフト下限値の－２０％とは、－Ｙ方向における最大シフト量（－１００％）に対する割合であり、－Ｙ方向へのシフト量が－２０％を超えるとゴースト５１が現れることを示す。

　同様に、光源２１の出力値が８０％の場合、投影装置１０が非埋め込み状態のときには、シフト範囲の制限がシフト下限値の－２５％に設定され、投影装置１０が埋め込み状態のときには、シフト範囲の制限がシフト下限値の－２０％に設定される。また、光源２１の出力値が６０％の場合、投影装置１０が非埋め込み状態のときには、シフト範囲の制限がシフト下限値の－３０％に設定され、投影装置１０が埋め込み状態のときには、シフト範囲の制限がシフト下限値の－２５％に設定される。光源２１の出力値が４０％の場合、投影装置１０が非埋め込み状態のときには、シフト範囲の制限がシフト下限値の－３５％に設定され、投影装置１０が埋め込み状態のときには、シフト範囲の制限がシフト下限値の－３０％に設定される。光源２１の出力値が２０％の場合、投影装置１０が非埋め込み状態のときには、シフト範囲の制限がシフト下限値の－４０％に設定され、投影装置１０が埋め込み状態のときには、シフト範囲の制限がシフト下限値の－３５％に設定される。

　このように、光源２１の出力値が高い場合には、光源２１の出力値が低い場合よりもゴースト５１が現れやすいため、投影画像Ｇ１のシフト範囲に強い（厳しい）制限がかけられる。また、投影装置１０の設置状態が埋め込み状態の場合には、投影装置１０が非埋め込み状態の場合よりも、レンズ３４と投影装置１０が設置される物体５０との距離が短いためゴースト５１が現れやすく、投影画像Ｇ１のシフト範囲に強い制限がかけられる。なお、シフト範囲に強い制限がかけられるとは、シフト可能な領域が狭くなるということである。また、本例では投影装置１０の設置対象の物体５０がレンズ３４の下側に存在しているため、投影画像Ｇ１の下方向のシフト範囲を制限するシフト制限テーブル６１をメモリ４ａに記憶しているが、例えば他の方向のシフト制限が必要な場合に使用するシフト制限テーブルを用意してメモリ４ａに記憶しておいてもよい。

　以上のようにシフト制限の第１処理例では、投影装置１０は、投影装置１０の設置状態に関する情報と、光源２１の出力値に関する情報と、に基づいて投影画像Ｇ１のシフト可能な範囲に制限をかける。この構成によれば、投影装置１０の投影画像Ｇ１を、投影装置１０のレンズ３４の周辺に存在する物体から、光源２１の出力値に応じた所定の距離以上に離して表示させることが可能である。これにより、投影光に基づいて投影装置１０のレンズ３４周辺の物体上に出現し得るゴースト５１、例えば投影装置１０が設置されている物体５０（床や壁等）上に出現し得るゴースト５１を抑制することができる。

＜シフト制限の第２処理例＞
　図１２は、投影装置１０のシフト制限における第２処理例を示すフローチャートである。投影装置１０は、上記シフト制限の第１処理例と同様に例えば投影装置１０の起動時に本処理の実行を開始する。

　図１２に示すように、シフト制限の第２処理例において、ステップＳ１１からステップＳ１２ａまでの各処理は、図１０で説明した第１処理例におけるステップＳ１１からステップＳ１２までの各処理と同様の処理である。このため、ステップＳ１１からステップＳ１２ａまでの説明は省略する。

　次に、投影装置１０は、現在投影されている投影画像Ｇ１のコンテンツを判定するために、投影画像Ｇ１の上下領域に黒帯領域が存在するか否かを判定する（ステップＳ１２ｂ）。投影画像Ｇ１における上下領域の黒帯領域とは、例えば映画の横長画像を投影する場合のように画像の上下領域が黒く欠けて見える暗い領域のことである。黒帯領域がある画像については図１３で後述する。

　次に、投影装置１０は、投影装置１０の設置状態と、光源２１の出力値の状態と、投影画像Ｇ１の黒帯領域の有無と、に基づく投影画像Ｇ１のシフト範囲を設定するためのシフト制限テーブルを参照する（ステップＳ１３）。参照するシフト制限テーブルについては図１４で後述する。

　本第２処理例におけるステップＳ１４からステップＳ１５までの各処理は、図１０で説明した第１処理例におけるステップＳ１４からステップＳ１５までの各処理と同様の処理である。このため、ステップＳ１４からステップＳ１５までの説明は省略する。本例の場合には、投影装置１０の設置状態と光源２１の出力値の状態と投影画像Ｇ１における暗い領域（黒帯領域）の有無とに基づいて投影画像Ｇ１のシフト制限の有無や程度が設定される。

＜投影画像Ｇ１の黒帯領域例＞
　図１３は、投影画像Ｇ１における黒帯領域の一例を示す図である。図１３に示すように、黒帯領域６２は、投影画像Ｇ１の上下端部にそれぞれ左端から右端まで横切る帯状に設けられる。黒帯領域６２が設けられている投影画像Ｇ１の明るさは、黒帯領域６２が設けられていない投影画像Ｇ１の明るさよりも弱いため、投影画像Ｇ１のシフト範囲の制限が緩くなる。投影画像Ｇ１の明るさは、黒帯領域６２の有無の情報から判定してもよいし、画素値の代表値から判定してもよい。画素値の代表値には、例えば各画素の明るさの平均値、画像全体の画素の明るさの合計値、画素の明るさの中央値、最頻値等が含まれる。また、投影画像Ｇ１が動画の場合には、例えば各フレームの画素値の代表値を求め、それらの代表値から判定してもよい。

＜第２処理例のシフト制限テーブル例＞
　図１４は、上述した第２処理例におけるシフト制限テーブルの一例を示す図である。図１４に示すシフト制限テーブル６３は、投影画像Ｇ１の上下領域に黒帯領域が存在する場合に参照するシフト制限テーブルである。図１４に示すように、シフト制限テーブル６３は、光源２１の所定の出力値における非埋め込み状態の投影装置１０のシフト制限値と、埋め込み状態の投影装置１０のシフト制限値とを示す。

　例えば、光源２１の出力値が１００％の場合、投影装置１０が非埋め込み状態のときには、投影画像Ｇ１のシフト範囲の制限がシフト下限値の－２５％に設定される。一方、投影装置１０が埋め込み状態のときには、投影画像Ｇ１のシフト範囲の制限がシフト下限値の－２０％に設定される。同様に、光源２１の出力値が８０％の場合、投影装置１０が非埋め込み状態のときにはシフト範囲の制限がシフト下限値の－３０％に設定され、投影装置１０が埋め込み状態のときにはシフト範囲の制限がシフト下限値の－２５％に設定される。また、光源２１の出力値が６０％の場合、投影装置１０が非埋め込み状態のときにはシフト範囲の制限がシフト下限値の－３５％に設定され、投影装置１０が埋め込み状態のときにはシフト範囲の制限がシフト下限値の－３０％に設定される。光源２１の出力値が４０％の場合、投影装置１０が非埋め込み状態のときにはシフト範囲の制限がシフト下限値の－４０％に設定され、投影装置１０が埋め込み状態のときにはシフト範囲の制限がシフト下限値の－３５％に設定される。光源２１の出力値が２０％の場合、投影装置１０が非埋め込み状態のときにはシフト範囲の制限がシフト下限値の－４５％に設定され、投影装置１０が埋め込み状態のときにはシフト範囲の制限がシフト下限値の－４０％に設定される。なお、第２処理例の場合も上記第１処理例と同様に、投影装置１０の設置対象の物体５０がレンズ３４の下側に存在している設置状態である。

　このように、投影画像Ｇ１の上下領域に黒帯領域が存在する場合、光源２１の出力値が高いときに投影画像Ｇ１のシフト範囲に強い制限がかけられ、投影装置１０の設置状態が埋め込み状態のときに非埋め込み状態のときよりも投影画像Ｇ１のシフト範囲に強い制限がかけられる点は、上記第１処理例で参照するシフト制限テーブル６１と同様である。しかし、シフト範囲の制限率［％］を図１４のシフト制限テーブル６３と図１１のシフト制限テーブル６１とで比較すると、シフト制限テーブル６３の場合には上下領域に黒帯領域が設けられており投影画像Ｇ１の明るさがその分だけ弱いために、シフト制限テーブル６１の場合よりも緩いシフト範囲の制限率となっている。

　なお、上記図１２の第２処理例におけるステップＳ１２ｂにおいて投影画像Ｇ１の上下領域に黒帯領域が存在しないと判定された場合には、上記図１０の第１処理例の場合と同様に図１１のシフト制限テーブル６１が参照される。

　また、本例では投影画像Ｇ１の上下領域に画像の明るさを弱くする暗い領域（黒帯領域）が存在し、投影装置１０の設置対象の物体５０がレンズ３４の下側に存在する場合におけるシフト制限について説明したが、これに限定されない。画像の明るさを弱くする暗い領域は、投影画像Ｇ１の上端領域や下端領域だけでなく、例えば左端領域や右端領域等に存在する場合もある。したがって、投影画像Ｇ１の複数の端部領域のうちの暗い領域が存在する方向に応じた投影画像Ｇ１のシフト制限をかけるようにしてもよい。例えば暗い領域が投影画像Ｇ１の下端領域に有る場合には投影画像Ｇ１の下方向へのシフト範囲に制限をかけない又は制限を緩めるようにし、暗い領域が投影画像Ｇ１の上端領域に有る場合には投影画像Ｇ１の上方向へのシフト範囲に制限をかけない又は制限を緩めるようにする。また、暗い領域が投影画像Ｇ１の左端領域に有る場合には投影画像Ｇ１の左方向へのシフト範囲に制限をかけない又は制限を緩めるようにし、暗い領域が投影画像Ｇ１の右端領域に有る場合には投影画像Ｇ１の右方向へのシフト範囲に制限をかけない又は制限を緩めるようにする。

　以上のようにシフト制限の第２処理例では、投影装置１０は、投影装置１０の設置状態に関する情報と、光源２１の出力値に関する情報と、投影画像Ｇ１のコンテンツの明るさに関する情報と、に基づいて投影画像Ｇ１のシフト可能な範囲に制限をかける。この構成によれば、コンテンツの明るさを考慮した投影画像Ｇ１を、投影装置１０のレンズ３４の周辺に存在する物体から、光源２１の出力値に応じた所定の距離以上に離して表示させることが可能である。これにより、投影光に基づいて投影装置１０のレンズ３４周辺の物体上に出現し得るゴースト５１、例えば投影装置１０が設置されている物体５０（床や壁等）上に出現し得るゴースト５１をさらに適切に抑制することができる。

　次に、投影画像Ｇ１のシフト位置に対する光源２１の出力値の制限について説明する。

＜光源２１の出力値制限の第１処理例＞
　図１５は、投影画像Ｇ１のシフト位置に対する光源２１の出力値制限の第１処理例を示すフローチャートである。投影装置１０は、例えば投影装置１０の起動時に本処理の実行を開始する。

　まず、投影装置１０は、投影装置１０の設置状態を判定する（ステップＳ２１）。投影装置１０の設置状態とは、上述した場合と同様に例えば投影装置１０が設置対象の物体５０に非埋め込みの状態で設置されているか、埋め込みの状態で設置されているかなどである。

　次に、投影装置１０は、レンズ３４から被投影物６に投影された投影画像Ｇ１のシフト位置を判定する（ステップＳ２２）。投影画像Ｇ１のシフト位置とは、例えば図９に示すように設置された投影装置１０における方向Ｘ又は方向Ｙのシフト位置のことである。

　次に、投影装置１０は、投影装置１０の設置状態と、投影画像Ｇ１のシフト位置と、に基づく光源２１（ＬＤ）の出力値を設定するための出力値制限テーブルを参照する（ステップＳ２３）。出力値制限テーブルは、測定された出力値制限データとして予めメモリ４ａに記憶されている。出力値制限テーブルについては図１６で後述する。

　次に、投影装置１０は、出力値制限テーブルを参照して、光源２１から出力される投影光に出力値制限があるか否かを判定する（ステップＳ２４）。

　ステップＳ２４において、光源２１からの投影光に出力値制限がない場合（ステップＳ２４：Ｎｏ）には、投影装置１０は本処理を終了する。ステップＳ２４において、光源２１からの投影光に出力値制限がある場合（ステップＳ２４：Ｙｅｓ）には、投影装置１０は、光源２１から出力される投影光に出力値制限を設定する（ステップＳ２５）。本例の場合には、投影装置１０の設置状態と投影画像Ｇ１のシフト位置とに基づいて光源２１の出力値制限の有無や程度が設定される。

　なお、本処理は投影装置１０の起動時の他に、起動後に繰り返し実行してもよいし、投影装置１０の設置状態の変更が検知されたとき又は投影画像Ｇ１のシフト位置の変更が検知されたときに実行してもよいし、ユーザから出力値の指示を受け付けたときに実行してもよい。

＜第１処理例の出力値制限テーブル例＞
　図１６は、上述した第１処理例における出力値制限テーブルの一例を示す図である。図１６に示すように、出力値制限テーブル７１は、投影画像Ｇ１の所定のシフト位置における非埋め込み状態の投影装置１０の出力制限値と、埋め込み状態の投影装置１０の出力制限値とを示す。

　例えば、投影画像Ｇ１のシフト位置が８０％から４０％の場合、投影装置１０が非埋め込み状態のときも埋め込み状態のときも、光源２１からの投影光の出力値の制限が１００％に設定される。シフト位置とは、例えば図９に示すように設置された投影装置１０における方向Ｙのシフト位置のことである。シフト位置がプラス（＋）とは、方向Ｙにおけるシフトが＋Ｙ方向であること、すなわち投影装置１０の設置対象の物体５０から離れる方向へのシフトのことである。シフト位置がマイナス（－）とは、方向Ｙにおけるシフトが－Ｙ方向であること、すなわち投影装置１０の設置対象の物体５０に近づく方向へのシフトのことである。シフト位置が８０％とは、＋Ｙ方向へのシフトが最大シフト位置（＋１００％）の８０％の位置までシフトしていることである。出力値の制限が１００％とは、光源２１の出力値を最大出力値（１００％）としてもゴースト５１が現れないことである。

　また、投影画像Ｇ１のシフト位置が２０％の場合、投影装置１０が非埋め込み状態のときには、光源２１からの投影光の出力値の制限が８０％に設定され、投影装置１０が埋め込み状態のときには、光源２１からの投影光の出力値の制限が７０％に設定される。出力値の制限が８０％とは、光源２１の出力値が８０％を超えるとゴースト５１が現れることを示す。同様に、投影画像Ｇ１のシフト位置が０％の場合、投影装置１０が非埋め込み状態のときには出力値の制限が７０％に設定され、投影装置１０が埋め込み状態のときには出力値の制限が６０％に設定される。

　また、投影画像Ｇ１のシフト位置が－２０％の場合、投影装置１０が非埋め込み状態のときには出力値の制限が６０％に設定され、投影装置１０が埋め込み状態のときには出力値の制限が５０％に設定される。シフト位置が－２０％とは、－Ｙ方向へのシフトが最大シフト位置（－１００％）の－２０％の位置までシフトしていることである。同様に、投影画像Ｇ１のシフト位置が－４０％の場合、投影装置１０が非埋め込み状態のときには出力値の制限が５０％に設定され、投影装置１０が埋め込み状態のときには出力値の制限が４０％に設定される。投影画像Ｇ１のシフト位置が－６０％の場合、投影装置１０が非埋め込み状態のときには出力値の制限が４０％に設定され、投影装置１０が埋め込み状態のときには出力値の制限が３０％に設定される。投影画像Ｇ１のシフト位置が－８０％の場合、投影装置１０が非埋め込み状態のときには出力値の制限が３０％に設定され、投影装置１０が埋め込み状態のときには出力値の制限が２０％に設定される。

　このように、投影画像Ｇ１が投影装置１０の設置対象の物体５０に近づく方向へシフトされているほど、すなわちシフト位置のマイナス値が大きくなるほどゴースト５１が現れやすくなるため、光源２１の出力値に強い（厳しい）制限がかけられる。また、投影装置１０の設置状態が埋め込み状態の場合には、投影装置１０が非埋め込み状態の場合よりも、レンズ３４と投影装置１０が設置される物体５０との距離が短いためゴースト５１が現れやすく、光源２１の出力値に強い制限がかけられる。

　以上のように出力値制限の第１処理例では、投影装置１０は、投影装置１０の設置状態に関する情報と、投影画像Ｇ１のシフト位置に関する情報と、に基づいて光源２１の出力値に制限をかける。この構成によれば、投影装置１０から投影されている投影画像Ｇ１のシフト位置に応じて、光源２１の出力可能な範囲に制限をかけることが可能である。このため、投影光に基づいて投影装置１０のレンズ３４周辺の物体上に出現し得るゴースト５１、例えば投影装置１０が設置されている物体５０（床や壁等）上に出現し得るゴースト５１を抑制することができる。

＜光源２１の出力値制限の第２処理例＞
　図１７は、投影画像Ｇ１のシフト位置に対する光源２１の出力値制限の第２処理例を示すフローチャートである。投影装置１０は、上記出力値制限の第１処理例と同様に例えば投影装置１０の起動時に本処理の実行を開始する。

　図１７に示すように、出力値制限の第２処理例において、ステップＳ２１からステップＳ２２ａまでの各処理は、図１５で説明した第１処理例におけるステップＳ２１からステップＳ２２までの各処理と同様の処理である。このため、ステップＳ２１からステップＳ２２ａまでの説明は省略する。

　次に、投影装置１０は、現在投影されている投影画像Ｇ１のコンテンツを判定するために、投影画像Ｇ１の上下領域に黒帯領域が存在するか否かを判定する（ステップＳ２２ｂ）。投影画像Ｇ１における上下領域の黒帯領域とは、上記図１３で説明したように例えば映画の横長画像を投影する場合のように画像の上下領域が黒く欠けて見える暗い領域のことである。

　次に、投影装置１０は、投影装置１０の設置状態と、投影画像Ｇ１のシフト位置と、投影画像Ｇ１の黒帯領域の有無と、に基づく光源２１（ＬＤ）の出力値を設定するための出力値制限テーブルを参照する（ステップＳ２３）。出力値制限テーブルについては図１８で後述する。

　本第２処理例におけるステップＳ２４からステップＳ２５までの各処理は、図１５で説明した第１処理例におけるステップＳ２４からステップＳ２５までの各処理と同様の処理である。このため、ステップＳ２４からステップＳ２５までの説明は省略する。本例の場合には、投影装置１０の設置状態と投影画像Ｇ１のシフト位置と投影画像Ｇ１における暗い領域（黒帯領域）の有無とに基づいて光源２１の出力値制限の有無や程度が設定される。

＜第２処理例の出力値制限テーブル例＞
　図１８は、上述した第２処理例における出力値制限テーブルの一例を示す図である。図１８に示す出力値制限テーブル７２は、投影画像Ｇ１の上下領域に黒帯領域が存在する場合に参照する出力値制限テーブルである。図１８に示すように、出力値制限テーブル７２は、投影画像Ｇ１の所定のシフト位置における非埋め込み状態の投影装置１０の出力制限値と、埋め込み状態の投影装置１０の出力制限値とを示す。

　例えば、投影画像Ｇ１のシフト位置が８０％から４０％の場合、投影装置１０が非埋め込み状態のときも埋め込み状態のときも、光源２１からの投影光の出力値の制限が１００％に設定される。また、投影画像Ｇ１のシフト位置が２０％の場合、投影装置１０が非埋め込み状態のときには光源２１の出力値の制限が８５％に設定され、投影装置１０が埋め込み状態のときには光源２１の出力値の制限が７５％に設定される。同様に、投影画像Ｇ１のシフト位置が０％の場合、投影装置１０が非埋め込み状態のときには出力値の制限が７５％に設定され、投影装置１０が埋め込み状態のときには出力値の制限が６５％に設定される。また、投影画像Ｇ１のシフト位置が－２０％の場合、投影装置１０が非埋め込み状態のときには出力値の制限が６５％に設定され、投影装置１０が埋め込み状態のときには出力値の制限が５５％に設定される。投影画像Ｇ１のシフト位置が－４０％の場合、投影装置１０が非埋め込み状態のときには出力値の制限が５５％に設定され、投影装置１０が埋め込み状態のときには出力値の制限が４５％に設定される。投影画像Ｇ１のシフト位置が－６０％の場合、投影装置１０が非埋め込み状態のときには出力値の制限が４５％に設定され、投影装置１０が埋め込み状態のときには出力値の制限が３５％に設定される。投影画像Ｇ１のシフト位置が－８０％の場合、投影装置１０が非埋め込み状態のときには出力値の制限が３５％に設定され、投影装置１０が埋め込み状態のときには出力値の制限が２５％に設定される。

　このように、投影画像Ｇ１の上下領域に黒帯領域が存在する場合において、投影画像Ｇ１が投影装置１０の設置対象の物体５０に近づく方向へシフトされているほど光源２１の出力値に強い制限がかけられ、投影装置１０の設置状態が埋め込み状態のときに非埋め込み状態のときよりも光源２１の出力値に強い制限がかけられる点は、上記第１処理例で参照する出力値制限テーブル７１と同様である。しかし、出力値の制限率［％］を図１８の出力値制限テーブル７２と図１６の出力値制限テーブル７１とで比較すると、出力値制限テーブル７２の場合には上下領域に黒帯領域が設けられており投影画像Ｇ１の明るさがその分だけ弱いために、出力値制限テーブル７１の場合よりも緩い出力値の制限率となっている。

　なお、上記図１７の第２処理例におけるステップＳ２２ｂにおいて投影画像Ｇ１の上下領域に黒帯領域が存在しないと判定された場合には、上記図１５の第１処理例の場合と同様に図１６の出力値制限テーブル７１が参照される。

　以上のように出力値制限の第２処理例では、投影装置１０は、投影装置１０の設置状態に関する情報と、投影画像Ｇ１のシフト位置に関する情報と、投影画像Ｇ１のコンテンツの明るさに関する情報と、に基づいて光源２１の出力値に制限をかける。この構成によれば、コンテンツの明るさを考慮した投影画像Ｇ１のシフト位置に応じて、光源２１の出力可能な範囲に制限をかけることが可能である。このため、投影光に基づいて投影装置１０のレンズ３４周辺の物体上に出現し得るゴースト５１、例えば投影装置１０が設置されている物体５０（床や壁等）上に出現し得るゴースト５１をさらに適切に抑制することができる。

＜シフト制限の第１変形例＞
　図１９は、投影装置１０のシフト制限の第１変形例を示すフローチャートである。本変形例では、投影装置１０の設置状態のみに基づいて投影画像Ｇ１のシフト制限の有無や程度が設定される。投影装置１０は、上記シフト制限の第１処理例と同様に例えば投影装置１０の起動時に本処理の実行を開始する。

　図１９に示すように、シフト制限の第１変形例において、ステップＳ３１の処理は、図１０で説明した第１処理例におけるステップＳ１１の処理と同様の処理である。

　次に、投影装置１０は、投影装置１０の設置状態に基づく投影画像Ｇ１のシフト範囲を設定するためのシフト制限テーブルを参照する（ステップＳ３２）。シフト制限テーブルについては図２０で後述する。

　次に、投影装置１０は、シフト制限テーブルを参照して、レンズ３４から投影される投影画像Ｇ１のシフト制限があるか否かを判定する（ステップＳ１４）。

　本変形例におけるステップＳ３３からステップＳ３４までの各処理は、図１０で説明した第１処理例におけるステップＳ１４からステップＳ１５までの各処理と同様の処理である。

＜第１変形例のシフト制限テーブル例＞
　図２０は、上述した第１変形例におけるシフト制限テーブルの一例を示す図である。図２０に示すように、シフト制限テーブル８１は、非埋め込み状態の投影装置１０のシフト制限値と、埋め込み状態の投影装置１０のシフト制限値を示す。

　投影装置１０が非埋め込み状態の場合は、投影画像Ｇ１のシフト範囲の制限がシフト下限値の－２０％に設定される。一方、投影装置１０が埋め込み状態の場合は、投影画像Ｇ１のシフト範囲の制限がシフト下限値の－１５％に設定される。これは、非埋め込み状態の場合には投影画像Ｇ１の－Ｙ方向へのシフト量が－２０％を超えるとゴースト５１が現れ、埋め込み状態の場合には投影画像Ｇ１の－Ｙ方向へのシフト量が－１５％を超えるとゴースト５１が現れることを示す。投影装置１０の設置状態が埋め込み状態の場合には、投影装置１０が非埋め込み状態の場合よりも、レンズ３４と投影装置１０が設置される物体５０との距離が短いためゴースト５１が現れやすく、投影画像Ｇ１のシフト範囲に強い制限がかけられる。

　以上のようにシフト制限の第１変形例では、投影装置１０は、投影装置１０の設置状態に関する情報に基づいて投影画像Ｇ１のシフト可能な範囲に制限をかける。この構成によれば、投影装置１０の投影画像Ｇ１を、投影装置１０のレンズ３４の周辺に存在する物体から、必要な所定の距離以上に離して表示させることが可能である。これにより、投影光に基づいて投影装置１０のレンズ３４周辺の物体上に出現し得るゴースト５１、例えば投影装置１０が設置されている物体５０（床や壁等）上に出現し得るゴースト５１を抑制することができる。

＜シフト制限の第２変形例＞
　次に、投影画像Ｇ１の投影中において投影画像Ｇ１のシフトの制限に関する情報に変化があった場合のシフト制限の制御について説明する。シフトの制限に関する情報には、例えば光源２１の出力値の変化に関する情報や、投影装置１０の設置状態の変化に関する情報などが含まれる。光源２１の出力値の変化に関する情報とは、光源２１の出力値が大きくなると投影画像Ｇ１のシフト制限が強くなり、光源２１の出力値が小さくなると投影画像Ｇ１のシフト制限が緩くなるという情報である。投影装置１０の設置状態の変化に関する情報とは、投影装置１０が埋め込み状態のときは投影画像Ｇ１のシフト制限が強くなり、投影装置１０が非埋め込み状態のときは投影画像Ｇ１のシフト制限が緩くなるという情報である。

　投影装置１０は、投影画像Ｇ１の投影中においてシフトの制限に関する情報に変化があった場合、投影画像Ｇ１のシフトの状態を維持する制御を行う。例えば、投影画像Ｇ１の投影中に光源２１の出力値が大きくなったとする。投影装置１０は、この出力値の変化により、現在の投影画像Ｇ１のシフト位置がシフト可能な領域から外れたとしても、投影画像Ｇ１の投影中においては現在のシフト位置を維持する。すなわち、光源２１の出力値が大きくなり、現在のシフト位置のままではゴースト５１が出現するようになったとしても、投影中においては投影画像Ｇ１の位置を変化させずにそのままの位置を維持する。

　シフト制限の第２変形例によれば、投影画像Ｇ１の投影中にシフトの制限に関する情報が変化しても投影画像Ｇ１の投影位置はそのままの位置に維持されるので、投影中に投影画像Ｇ１の位置が移動してしまうという違和感の発生を防ぐことができる。

　ただし、上記のように投影画像Ｇ１のシフトの状態を維持している状態であっても、投影画像Ｇ１のシフトに関するユーザ操作があった場合には、シフトの制限に関する情報に応じて投影画像Ｇ１のシフトの状態を変化させる制御を行う。例えば、投影画像Ｇ１のシフトの状態を維持している状態において、ユーザが投影画像Ｇ１のシフト位置を変更させる操作を行ったとする。この場合には、投影画像Ｇ１の投影中であっても、光源２１の変化した出力値に対して投影画像Ｇ１の位置がシフト可能な領域内となるように投影画像Ｇ１のシフト位置を変化させる。

　この構成によれば、ユーザが投影画像Ｇ１の位置を変化させる操作を行ったことに伴って、投影画像Ｇ１の位置をシフト可能な領域内に移動させるので、投影中に投影画像Ｇ１の位置が移動することに対するユーザの違和感を抑制できる。また、投影画像Ｇ１の位置をシフト可能な領域内に移動させることにより、投影光に基づいて投影装置１０のレンズ３４周辺の物体上に出現し得るゴースト５１、例えば投影装置１０が設置されている物体５０（床や壁等）上に出現し得るゴースト５１を抑制することができる。

＜投影装置１０の構成の変形例＞
　図２１は、投影装置１０の構成の変形例を示す図である。上述した実施形態では、投影装置１０を制御する制御装置４は、投影装置１０の本体部１０１内に設けられていたが、これに限定されない。制御装置４は、例えば、投影装置１０の外部にあるパーソナルコンピュータ２００に搭載されたプロセッサ２０１（図１３参照）であってもよい。プロセッサ２０１は、投影装置１０における制御装置４の機能の全部を備えるものであってもよいし、一部を備えるものであってもよい。パーソナルコンピュータ２００は、信号線１０ａを介して投影装置１０と通信可能に接続されている。パーソナルコンピュータ２００は、投影装置１０と無線通信可能に接続されていてもよい。

＜パーソナルコンピュータ２００のハードウェア構成＞
　図２２は、パーソナルコンピュータ２００のハードウェア構成の一例を示す図である。図２１に示したパーソナルコンピュータ２００は、図２２に示すように、プロセッサ２０１と、メモリ２０２と、通信インタフェース２０３と、ユーザインタフェース２０４と、を備える。プロセッサ２０１、メモリ２０２、通信インタフェース２０３、及びユーザインタフェース２０４は、例えばバス２０９によって接続される。

　プロセッサ２０１は、信号処理を行う回路であり、例えばパーソナルコンピュータ２００の全体の制御を司るＣＰＵである。なお、プロセッサ２０１は、ＦＰＧＡやＤＳＰ（Ｄｉｇｉｔａｌ　Ｓｉｇｎａｌ　Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ）などの他のデジタル回路により実現されてもよい。また、プロセッサ２０１は、複数のデジタル回路を組み合わせて実現されてもよい。

　メモリ２０２には、例えばメインメモリ及び補助メモリが含まれる。メインメモリは、例えばＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ　Ａｃｃｅｓｓ　Ｍｅｍｏｒｙ）である。メインメモリは、プロセッサ２０１のワークエリアとして使用される。

　補助メモリは、例えば磁気ディスク、光ディスク、フラッシュメモリなどの不揮発性メモリである。補助メモリには、パーソナルコンピュータ２００を動作させる各種のプログラムが記憶されている。補助メモリに記憶されたプログラムは、メインメモリにロードされてプロセッサ２０１によって実行される。

　また、補助メモリは、パーソナルコンピュータ２００から取り外し可能な可搬型のメモリを含んでもよい。可搬型のメモリには、ＵＳＢ（Ｕｎｉｖｅｒｓａｌ　Ｓｅｒｉａｌ　Ｂｕｓ）フラッシュドライブやＳＤ（Ｓｅｃｕｒｅ　Ｄｉｇｉｔａｌ）メモリカードなどのメモリカードや、外付けハードディスクドライブなどがある。

　通信インタフェース２０３は、パーソナルコンピュータ２００の外部（例えば投影装置１０の外部通信部）との間で通信を行う通信インタフェースである。通信インタフェース２０３は、プロセッサ２０１によって制御される。通信インタフェース２０３は、有線通信を行う有線通信インタフェースであってもよいし、無線通信を行う無線通信インタフェースであってもよいし、有線通信インタフェース及び無線通信インタフェースの両方を含んでもよい。

　ユーザインタフェース２０４は、例えば、ユーザからの操作入力を受け付ける入力デバイスや、ユーザへ情報を出力する出力デバイスなどを含む。入力デバイスは、例えばポインティングデバイス（例えばマウス）、キー（例えばキーボード）やリモコンなどにより実現することができる。出力デバイスは、例えばディスプレイやスピーカなどにより実現することができる。また、タッチパネルなどによって入力デバイス及び出力デバイスを実現してもよい。ユーザインタフェース２０４は、プロセッサ２０１によって制御される。

　なお、前述した実施形態で説明した制御方法は、予め用意された制御プログラムをコンピュータで実行することにより実現できる。本制御プログラムは、コンピュータが読み取り可能な記憶媒体に記録され、記憶媒体から読み出されることによって実行される。また、本制御プログラムは、フラッシュメモリ等の非一過性の記憶媒体に記憶された形で提供されてもよいし、インターネット等のネットワークを介して提供されてもよい。本制御プログラムを実行するコンピュータは、制御装置に含まれるものであってもよいし、制御装置と通信可能なスマートフォン、タブレット端末、又はパーソナルコンピュータ等の電子機器に含まれるものでもあってもよいし、これら制御装置及び電子機器と通信可能なサーバ装置に含まれるものであってもよい。

＜変形例＞
　投影装置１０やパーソナルコンピュータ２００が投影装置１０の設置状態に応じて投影像のシフトに制限をかける制御について説明したが、投影装置１０やパーソナルコンピュータ２００は、投影像のシフトに代えて、又は投影像のシフトに加えて、投影装置１０の設置状態に応じて投影像の拡大に制限をかける制御を行ってもよい。

　以上、各種の実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例又は修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。また、発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上記実施の形態における各構成要素を任意に組み合わせてもよい。

　なお、本出願は、２０２３年４月２４日出願の日本特許出願（特願２０２３－０７０６０８）に基づくものであり、その内容は本出願の中に参照として援用される。

　１　投影部
　２　操作受付部
　２Ａ，３Ａ　中空部
　２ａ，２ｂ，３ａ，３ｃ，１５ａ　開口
　４　制御装置
　４ａ，２０２　メモリ
　６　被投影物
　１０　投影装置
　１０ａ　信号線
　１１　投影範囲
　１２　光変調ユニット
　１５　筐体
　２１　光源
　２２　光変調部
　２３　投影光学系
　２４　制御回路
　３１　第２光学系
　３２，１２２　反射部材
　３３　第３光学系
　３４　レンズ
　５０　物体
　５１　ゴースト
　５２　投影部屋
　５３　床
　５４　位置
　５５　下端部
　５６　領域
　６１，６３，８１　シフト制限テーブル
　６２　黒帯領域
　７１，７２　出力値制限テーブル
　１０１　本体部
　１０２　第１部材
　１０３　第２部材
　１０４　投影方向変更機構
　１０５　シフト機構
　１０６　光学ユニット
　１２１　第１光学系
　２００　パーソナルコンピュータ
　２０１　プロセッサ
　２０３　通信インタフェース
　２０４　ユーザインタフェース
　２０９　バス
　Ｇ１　投影画像

Claims (19)

1. 　投影レンズ及びプロセッサを備え、投影像をシフト可能な投影装置であって、
   　前記プロセッサは、
   　前記投影装置の設置状態に関する情報を取得し、
   　前記設置状態に応じて、前記投影像のシフトに制限をかける制御を行う、
   　投影装置。
2. 　請求項１に記載の投影装置であって、
   　前記設置状態は、前記投影レンズと、前記投影装置の設置対象の物体と、の位置関係に関する状態である、
   　投影装置。
3. 　請求項１に記載の投影装置であって、
   　前記設置状態は、前記投影装置の設置対象の物体に前記投影装置の少なくとも一部が埋め込まれた埋め込み状態を含む、
   　投影装置。
4. 　請求項３に記載の投影装置であって、
   　前記プロセッサは、前記埋め込み状態において、前記埋め込み状態と異なる前記設置状態よりも前記シフトに強い制限をかける、
   　投影装置。
5. 　請求項１に記載の投影装置であって、
   　前記設置状態に関する情報は、前記投影レンズと、前記投影装置以外の前記投影レンズと最も近い物体と、の距離に関する情報を含み、
   　前記プロセッサは、前記距離に応じて前記シフトに制限をかける、
   　投影装置。
6. 　請求項１に記載の投影装置であって、
   　前記設置状態に関する情報は、前記投影レンズと、前記投影装置の設置対象の物体と、の距離に関する情報を含み、
   　前記プロセッサは、前記距離に応じて前記シフトに制限をかける、
   　投影装置。
7. 　請求項１に記載の投影装置であって、
   　前記プロセッサは、前記投影レンズと、前記投影装置の設置対象の物体と、の位置関係に応じた方向における前記シフトに制限をかける、
   　投影装置。
8. 　請求項１に記載の投影装置であって、
   　前記プロセッサは、前記設置状態と、前記投影装置の光源の状態と、に応じて前記シフトに制限をかける制御を行う、
   　投影装置。
9. 　請求項８に記載の投影装置であって、
   　前記光源の状態は、前記光源の出力値の状態を含む、
   　投影装置。
10. 　請求項９に記載の投影装置であって、
    　前記プロセッサは、前記出力値が第１出力値である場合に、前記出力値が前記第１出力値より低い第２出力値である場合よりも前記シフトに強い制限をかける、
    　投影装置。
11. 　請求項１に記載の投影装置であって、
    　前記プロセッサは、前記シフトの状態に基づいて前記投影装置の光源の出力値を制御する、
    　投影装置。
12. 　請求項１に記載の投影装置であって、
    　前記プロセッサは、前記設置状態と、前記投影像の画像コンテンツと、に応じて前記シフトに制限をかける制御を行う、
    　投影装置。
13. 　請求項１２に記載の投影装置であって、
    　前記プロセッサは、前記設置状態と、前記投影像の画像コンテンツの明るさと、に応じて前記シフトに制限をかける制御を行う、
    　投影装置。
14. 　請求項１３に記載の投影装置であって、
    　前記プロセッサは、前記投影像の画像コンテンツにおける複数の端部領域の明るさに応じた方向における前記シフトに制限をかける、
    　投影装置。
15. 　請求項１に記載の投影装置であって、
    　前記プロセッサは、前記投影像の投影中に前記シフトの制限に関する情報が変化した場合、前記シフトの状態を維持する、
    　投影装置。
16. 　請求項１５に記載の投影装置であって、
    　前記プロセッサは、前記シフトの状態を維持している状態において前記シフトに関するユーザ操作があった場合は、前記シフトの制限に関する情報に応じて前記シフトの状態を変化させる、
    　投影装置。
17. 　請求項１から１６のいずれか１項に記載の投影装置であって、
    　前記シフトは、前記投影レンズの光軸方向に対して垂直な方向へのシフトである、
    　投影装置。
18. 　投影レンズ及びプロセッサを備え、投影像をシフト可能な投影装置の制御方法であって、
    　前記プロセッサが、
    　前記投影装置の設置状態に関する情報を取得し、
    　前記設置状態に応じて、前記投影像のシフトに制限をかける制御を行う、
    　制御方法。
19. 　投影レンズ及びプロセッサを備え、投影像をシフト可能な投影装置の制御プログラムであって、
    　前記プロセッサに、
    　前記投影装置の設置状態に関する情報を取得し、
    　前記設置状態に応じて、前記投影像のシフトに制限をかける制御を行う、
    　処理を実行させるための制御プログラム。

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