WO2024075714A1 - 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物およびプリント配線板 - Google Patents

感光性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物およびプリント配線板 Download PDF

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WO2024075714A1
WO2024075714A1 PCT/JP2023/036002 JP2023036002W WO2024075714A1 WO 2024075714 A1 WO2024075714 A1 WO 2024075714A1 JP 2023036002 W JP2023036002 W JP 2023036002W WO 2024075714 A1 WO2024075714 A1 WO 2024075714A1
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photosensitive resin
mass
carboxyl group
compound
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PCT/JP2023/036002
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紗季 齋藤
正樹 佐々木
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太陽ホールディングス株式会社
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings

Definitions

  • the present invention relates to a photosensitive resin composition, and in particular to a photosensitive resin composition that is suitable for use in forming a solder resist layer. Furthermore, the present invention relates to a dry film having a resin layer made of the photosensitive resin composition, a cured product of the photosensitive resin composition or the resin layer of the dry film, and a printed wiring board having the cured product.
  • biometric authentication has been used as a personal authentication tool in various fields.
  • fingerprint authentication has been used in many mobile terminals, and as a result, mobile terminals equipped with fingerprint detection devices have become mainstream.
  • mobile terminals that store personal information e.g., smartphones, etc.
  • require a high level of fingerprint authentication accuracy and in most cases, such mobile terminals use a capacitive fingerprint detection device (fingerprint authentication sensor).
  • FC-BGA Flip Chip-Ball Grid Array
  • Patent Document 1 proposes that at least two types of perovskite-type compounds are blended in the resin composition for forming the solder resist, one of which is barium titanate, in order to improve the resolution and dielectric constant while maintaining the reliability of the solder resist layer, such as the HAST resistance.
  • the resin components contained in the resin composition may soften and flow before hardening due to the heat applied during thermal curing, causing problems such as blocking the openings or collapsing the pattern of the photosensitive resin composition, resulting in reduced resolution (image forming properties) after thermal curing.
  • the object of the present invention is therefore to provide a photosensitive resin composition capable of forming a cured product that has both a high dielectric constant and good resolution (image formability) after development and before and after thermal curing, a dry film having a resin layer made of the photosensitive resin composition, a cured product of the photosensitive resin composition or the resin layer of the dry film, and a printed wiring board comprising the cured product.
  • the inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by adjusting the content of the perovskite compound (D) in a photosensitive resin composition containing (A) a carboxyl group-containing resin, (B) a photocurable compound not containing a carboxyl group, (C) a photopolymerization initiator, (D) a perovskite compound, (E) silica, and (F) a thermosetting component to 55 to 90 mass% on a solids basis relative to the total mass of the photosensitive resin composition.
  • the present invention is based on this finding. That is, the gist of the present invention is as follows.
  • a photosensitive resin composition comprising (A) a carboxyl group-containing resin, (B) a photocurable compound not containing a carboxyl group, (C) a photopolymerization initiator, (D) a perovskite compound, (E) silica, and (F) a thermosetting component, A photosensitive resin composition, wherein the content of the perovskite compound (D) is 55 to 90 mass% on a solid content basis with respect to the total mass of the photosensitive resin composition.
  • a dry film comprising a first film and a resin layer formed on at least one surface of the first film and comprising the photosensitive resin composition according to any one of [1] to [5].
  • a cured product obtained by curing the photosensitive resin composition according to any one of [1] to [5] or the resin layer of the dry film according to [6].
  • a printed wiring board comprising the cured product according to [7].
  • the present invention can provide a photosensitive resin composition capable of forming a cured product that has both a high dielectric constant and good resolution (image formability) after development and before and after thermal curing, a dry film having a resin layer made of the photosensitive resin composition, a cured product of the photosensitive resin composition or the resin layer of the dry film, and a printed wiring board including the cured product and a method for manufacturing the same.
  • the present invention can provide both a high dielectric constant and good resolution (image formability) in the cured product, which was previously considered difficult to achieve with photosensitive resin compositions containing large amounts of inorganic filler.
  • the photosensitive resin composition of the present invention contains (A) a carboxyl group-containing resin, (B) a photocurable compound not containing a carboxyl group, (C) a photopolymerization initiator, (D) a perovskite type compound, (E) silica, and (F) a thermosetting component as essential components, and is characterized in that the content of the perovskite type compound (D) is adjusted to 55 to 90 mass% on a solid content basis with respect to the total mass of the photosensitive resin composition.
  • the photosensitive resin composition of the present invention can achieve both a high dielectric constant of the cured product and good resolution (image formability) after development and before and after heat curing, which have been considered difficult to achieve with photosensitive resin compositions containing a large amount of inorganic filler, by using the perovskite type compound (D) and (E) silica in combination as fillers, and further adjusting the content of the perovskite type compound (D) to 55 to 90 mass% on a solid content basis with respect to the total mass of the photosensitive resin composition.
  • Each component of the photosensitive resin composition of the present invention will be described in detail below. Each component may be commercially available or may be appropriately synthesized.
  • the (A) carboxyl group-containing resin may be any of various conventional resins having a carboxyl group in the molecule.
  • the photosensitive resin composition may be provided with alkali developability by including a carboxyl group-containing resin in the photosensitive resin composition.
  • a carboxyl group-containing resin having an ethylenically unsaturated double bond in the molecule is preferred in terms of photocurability and development resistance.
  • the ethylenically unsaturated double bond in the molecule is preferably derived from acrylic acid or methacrylic acid or a derivative thereof.
  • the carboxyl group-containing resin may be used alone or in combination of two or more.
  • the photosensitive resin composition is made photocurable by using a compound having a plurality of ethylenically unsaturated groups in the molecule as described later, that is, a photopolymerizable monomer as described later.
  • Specific examples of the carboxyl group-containing resin include the following compounds (which may be either oligomers or polymers).
  • a carboxyl group-containing resin obtained by copolymerizing an unsaturated carboxylic acid such as (meth)acrylic acid with an unsaturated group-containing compound such as styrene, ⁇ -methylstyrene, lower alkyl (meth)acrylate, or isobutylene.
  • Carboxyl group-containing urethane resins obtained by polyaddition reaction of diisocyanates such as aliphatic diisocyanates, branched aliphatic diisocyanates, alicyclic diisocyanates, and aromatic diisocyanates with carboxyl group-containing dialcohol compounds such as dimethylolpropionic acid and dimethylolbutanoic acid, and diol compounds such as polycarbonate polyols, polyether polyols, polyester polyols, polyolefin polyols, acrylic polyols, bisphenol A alkylene oxide adduct diols, and compounds having phenolic hydroxyl groups and alcoholic hydroxyl groups.
  • diisocyanates such as aliphatic diisocyanates, branched aliphatic diisocyanates, alicyclic diisocyanates, and aromatic diisocyanates with carboxyl group-containing dialcohol compounds such as dimethylolpropionic acid and dimethylolbut
  • Carboxylic acid-containing photosensitive urethane resins obtained by polyaddition reaction of diisocyanates with bifunctional epoxy resins such as bisphenol A epoxy resins, hydrogenated bisphenol A epoxy resins, bisphenol F epoxy resins, bisphenol S epoxy resins, bixylenol epoxy resins, and biphenol epoxy resins, and monocarboxylic acid compounds having ethylenically unsaturated double bonds such as (meth)acrylic acid, partially acid anhydride-modified products, carboxyl group-containing dialcohol compounds, and diol compounds.
  • bifunctional epoxy resins such as bisphenol A epoxy resins, hydrogenated bisphenol A epoxy resins, bisphenol F epoxy resins, bisphenol S epoxy resins, bixylenol epoxy resins, and biphenol epoxy resins
  • monocarboxylic acid compounds having ethylenically unsaturated double bonds such as (meth)acrylic acid, partially acid anhydride-modified products, carboxyl group-containing dialcohol compounds, and dio
  • a photosensitive urethane resin containing a carboxyl group which is terminated with (meth)acrylation by adding a compound having one hydroxyl group and one or more (meth)acryloyl groups in the molecule, such as hydroxyalkyl (meth)acrylate, during the synthesis of the resin (2) or (3) described above.
  • a carboxyl group-containing photosensitive urethane resin that has been (meth)acrylated at the end by adding a compound having one isocyanate group and one or more (meth)acryloyl groups in the molecule, such as an equimolar reactant of isophorone diisocyanate and pentaerythritol triacrylate, during the synthesis of the resin (2) or (3) described above.
  • a carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting a difunctional or more polyfunctional (solid) epoxy resin with (meth)acrylic acid and adding a dibasic acid anhydride to the hydroxyl groups present in the side chains.
  • a carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting a polyfunctional epoxy resin in which the hydroxyl groups of a bifunctional (solid) epoxy resin have been further epoxidized with epichlorohydrin, with (meth)acrylic acid, and then adding a dibasic acid anhydride to the resulting hydroxyl groups.
  • a carboxyl group-containing polyester resin obtained by reacting a dicarboxylic acid such as adipic acid, phthalic acid, or hexahydrophthalic acid with a bifunctional oxetane resin, and then adding a dibasic acid anhydride such as phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, or hexahydrophthalic anhydride to the resulting primary hydroxyl groups.
  • a carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting an epoxy compound having multiple epoxy groups in one molecule with a compound having at least one alcoholic hydroxyl group and one phenolic hydroxyl group in one molecule, such as p-hydroxyphenethyl alcohol, and an unsaturated group-containing monocarboxylic acid, such as (meth)acrylic acid, and then reacting the alcoholic hydroxyl group of the resulting reaction product with a polybasic acid anhydride, such as maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, or adipic acid.
  • a polybasic acid anhydride such as maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, or adipic acid.
  • a carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting a compound having multiple phenolic hydroxyl groups in one molecule with an alkylene oxide such as ethylene oxide or propylene oxide, reacting the reaction product obtained with an unsaturated group-containing monocarboxylic acid, and then reacting the resulting reaction product with a polybasic acid anhydride.
  • an alkylene oxide such as ethylene oxide or propylene oxide
  • a carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting a compound having multiple phenolic hydroxyl groups in one molecule with a cyclic carbonate compound such as ethylene carbonate or propylene carbonate, reacting the reaction product obtained with an unsaturated group-containing monocarboxylic acid, and then reacting the resulting reaction product with a polybasic acid anhydride.
  • a cyclic carbonate compound such as ethylene carbonate or propylene carbonate
  • a carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by adding a compound having one epoxy group and one or more (meth)acryloyl groups in one molecule to the resins (1) to (11).
  • (meth)acrylate is a general term for acrylate, methacrylate, and mixtures thereof, and the same applies to other similar expressions.
  • the acid value of the carboxyl group-containing resin is preferably 30 to 150 mgKOH/g, and more preferably 50 to 120 mgKOH/g.
  • the acid value of the carboxyl group-containing resin is 30 mgKOH/g or more, the alkaline developability of the photosensitive resin composition is improved.
  • the acid value of the carboxyl group-containing resin is 150 mgKOH/g or less, dissolution of the exposed area by the developer and the resulting dissolution and peeling without distinction between the exposed area and the unexposed area can be suppressed, making it easier to draw a good resist pattern.
  • the weight average molecular weight of the carboxyl group-containing resin varies depending on the resin skeleton, but is generally preferably 2,000 to 150,000, and more preferably 5,000 to 100,000.
  • the weight average molecular weight of the carboxyl group-containing resin be 2,000 or more, it is possible to suppress the film loss during development that accompanies the decrease in moisture resistance of the coating film of the photosensitive resin composition after exposure to light, and as a result, it is possible to suppress the decrease in resolution.
  • the weight average molecular weight of the carboxyl group-containing resin be 150,000 or less, it is possible to improve the developability and storage stability of the photosensitive resin composition.
  • the weight average molecular weight of the carboxyl group-containing resin can be measured by gel permeation chromatography (GPC).
  • the amount of the carboxyl group-containing resin in the photosensitive resin composition is preferably 5 to 30 mass %, more preferably 5 to 20 mass %, and even more preferably 5 to 10 mass %, based on the solid content, relative to the total mass of the photosensitive resin composition.
  • the amount of the carboxyl group-containing resin is 5 mass % or more, the exposed area is exposed to light and sufficient development resistance is obtained, so that the image forming properties of the photosensitive resin composition can be made good.
  • the amount of the carboxyl group-containing resin is 30 mass % or less, the perovskite compound can be sufficiently blended into the photosensitive resin composition, so that the dielectric constant of the photosensitive resin composition can be made good.
  • the photocurable compound (B) that does not contain a carboxyl group is not particularly limited as long as it is a photocurable resin having a chemical structure that does not contain a carboxyl group, and for example, a compound having a plurality of ethylenically unsaturated groups in the molecule is used.
  • the photocurable compound that does not contain a carboxyl group for example, a photopolymerizable oligomer, a photopolymerizable monomer, etc. can be used.
  • an oligomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used.
  • photopolymerizable oligomers include unsaturated polyester oligomers and (meth)acrylate oligomers.
  • (meth)acrylate oligomers include epoxy (meth)acrylates such as phenol novolac epoxy (meth)acrylate, cresol novolac epoxy (meth)acrylate, and bisphenol-type epoxy (meth)acrylate, urethane (meth)acrylate, epoxy urethane (meth)acrylate, polyester (meth)acrylate, polyether (meth)acrylate, and polybutadiene-modified (meth)acrylate.
  • One type of photopolymerizable oligomer may be used alone, or two or more types may be used in combination.
  • photopolymerizable monomer a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used.
  • photopolymerizable monomers include commonly known polyester (meth)acrylates, polyether (meth)acrylates, urethane (meth)acrylates, carbonate (meth)acrylates, epoxy (meth)acrylates, etc.
  • alkyl acrylate examples include alkyl acrylates such as 2-ethylhexyl acrylate and cyclohexyl acrylate; hydroxyalkyl acrylates such as 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxypropyl acrylate; mono- or diacrylates of alkylene oxide derivatives such as ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, and dipropylene glycol; acrylamides such as N,N-dimethylacrylamide, N-methylolacrylamide, and N,N-dimethylaminopropylacrylamide; aminoalkyl acrylates such as N,N-dimethylaminoethyl acrylate and N,N-dimethylaminopropyl acrylate; hexanediol, trimethylolpropane, pentaerythritol, ditrimethylolpropane, dipentaerythritol, and trishydroxyethyl isocyanur
  • Polyhydric alcohols such as polyhydric alcohols, their alkylene oxide adducts, or their ⁇ -caprolactone adducts; phenols such as phenoxy acrylate and bisphenol A diacrylate, and their alkylene oxide adducts; glycidyl ether acrylates such as glycerin diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, and triglycidyl isocyanurate; and acrylates obtained by directly acrylate polyols such as polyether polyols, polycarbonate diols, hydroxyl-terminated polybutadienes, and polyester polyols, or by urethane acrylate via diisocyanates, melamine acrylates, and at least one of the methacrylates corresponding to the acrylates can be appropriately selected and used.
  • Such photopolymerizable monomers can also be used as reactive diluents.
  • Photopolymerizable oligomers and photopolymerizable monomers are effective when a non-photosensitive carboxyl group-containing resin that does not have an ethylenically unsaturated double bond is used as the above-mentioned carboxyl group-containing resin, since it is necessary to use a photopolymerizable monomer in combination to make the photosensitive resin composition photocurable.
  • the amount of the photocurable compound not containing a carboxyl group in the photosensitive resin composition is preferably 10 to 100 parts by mass per 100 parts by mass of the carboxyl group-containing resin.
  • the amount of the photocurable compound not containing a carboxyl group is 10 parts by mass or more, the photocurability of the photosensitive resin composition is good, and pattern formation is easy in alkaline development after irradiation with active energy rays.
  • the amount is 100 parts by mass or less, halation is less likely to occur and good resolution can be obtained.
  • photopolymerization initiator In the photosensitive resin composition of the present invention, any known photopolymerization initiator (C) can be used.
  • the photopolymerization initiator include bis-(2,6-dichlorobenzoyl)phenylphosphine oxide, bis-(2,6-dichlorobenzoyl)-2,5-dimethylphenylphosphine oxide, bis-(2,6-dichlorobenzoyl)-4-propylphenylphosphine oxide, bis-(2,6-dichlorobenzoyl)-1-naphthylphosphine oxide, bis-(2,6-dimethoxybenzoyl)phenylphosphine oxide, and bis-(2,6-dimethoxybenzoyl)-2,4,4-trimethylphenylphosphine oxide.
  • bisacylphosphine oxides such as 2,6-dimethoxybenzoyldiphenylphosphine oxide, bis-(2,6-dimethoxybenzoyl)-2,5-dimethylphenylphosphine oxide, and bis-(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide; 2,6-dimethoxybenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,6-dichlorobenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoylphenylphosphine acid methyl ester, and 2-methylbenzoyldiphenylphosphine oxide.
  • monoacylphosphine oxides such as phenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphinate, ethyl phenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphinate, 1-hydroxy-cyclohexyl phenyl ketone, 1-[4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl]-2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1- ⁇ 4-[4-(2-hydroxy-2-methyl-propionyl)-benzyl]phenyl ⁇ benzoins such as benzoin, benzil, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin n-propyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin n-butyl ether; benzoin alkyl ethers; benzophenone, p-methylbenzophenone, Michler's ketone, methylbenzophenone, 4,4'-dichlorobenzoph
  • the photopolymerization initiator may be used alone or in combination of two or more.
  • oxime esters i.e., oxime ester-based photopolymerization initiators
  • commercially available products of oxime ester-based polymerization initiators include, for example, Irgacure OXE04 manufactured by BASF Japan Ltd.
  • the amount of the photopolymerization initiator in the photosensitive resin composition is preferably 0.1 to 5 parts by mass, more preferably 0.5 to 4 parts by mass, and even more preferably 1 to 3 parts by mass, based on the solid content, relative to 100 parts by mass of the carboxyl group-containing resin.
  • the amount is 0.1 parts by mass or more, the photocurability of the photosensitive resin composition is good, and the coating properties such as heat resistance and chemical resistance are also good.
  • the amount is 0.8 parts by mass or less, the light absorption of the cured coating is good, and the deep curing property is less likely to decrease.
  • the amount is preferably 1 to 20 parts by mass, more preferably 2 to 15 parts by mass, based on the solid content, relative to 100 parts by mass of the carboxyl group-containing resin.
  • the amount is 1 part by mass or more, the photocurability of the photosensitive resin composition is good, the coating is less likely to peel off, and the coating properties such as chemical resistance are also good.
  • the blending amount is 20 parts by mass or less, the effect of reducing outgassing is achieved, and light absorption at the surface of the cured coating is improved, making it difficult for deep curing to decrease.
  • the photosensitive resin composition of the present invention may contain a photoinitiator assistant or sensitizer in addition to the above-mentioned photopolymerization initiator.
  • a photoinitiator assistant or sensitizer examples include benzoin compounds, anthraquinone compounds, thioxanthone compounds, ketal compounds, benzophenone compounds, tertiary amine compounds, and xanthone compounds.
  • thioxanthone compounds such as 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, and 4-isopropylthioxanthone.
  • thioxanthone compound As the photoinitiator assistant or sensitizer, it is particularly preferable to use thioxanthone compounds such as 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, and 4-isopropylthioxanthone.
  • thioxanthone compound such as 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, and 4-isopropylthioxan
  • the photosensitive resin composition of the present invention contains (D) a perovskite type compound and (E) silica as fillers.
  • D a perovskite type compound
  • E silica
  • the dielectric constant of the cured product formed by the photosensitive resin composition can be increased.
  • the deterioration of the deep curing property of the cured product caused by adding a large amount of filler to the photosensitive resin composition can be suppressed, and the decrease in resolution (image formability) after development and before and after heat curing can be suppressed.
  • a photosensitive resin composition contains a large amount of filler with low transparency (i.e., high absorption or high refractive index)
  • the deep curing property of the cured product is thought to be deteriorated due to the blocking or diffusion of light during exposure by such a large amount of filler.
  • the refractive index of light is particularly large, the perovskite type compound is likely to deteriorate the deep curing property of the cured product.
  • the perovskite compound constituting the (D) perovskite compound contained in the photosensitive resin composition is represented by the general formula ABO 3 (A and B are divalent and tetravalent metal ions, respectively, and O is an oxygen ion), and is not particularly limited as long as it has the same crystal structure as perovskite (perovskite), and a compound with any element composition can be used.
  • perovskite compounds include barium titanate, calcium titanate, strontium titanate, barium zirconate, calcium zirconate, strontium zirconate, and composite oxides mainly composed of these.
  • One type of perovskite compound may be used alone, or two or more types may be used in combination.
  • perovskite compound barium titanate and calcium titanate are preferably used.
  • examples of commercially available perovskite compounds include the BT series, CT series, ST series, CZ series, SZ series, and CZ series manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.
  • the perovskite compound is preferably surface-treated.
  • the surface treatment of the perovskite compound is not particularly limited as long as it is a treatment that imparts reactive functional groups to the surface of the perovskite compound, and conventionally known surface treatment of fillers can be performed.
  • Examples of reactive functional groups imparted to the surface of the perovskite compound include methacryl groups, carboxyl groups, hydroxyl groups, sulfonic acid groups, amino groups, epoxy groups, vinyl groups, mercapto groups, and acid anhydrides.
  • the surface-treated perovskite compound may have one type of reactive functional group, or may have two or more types of reactive functional groups.
  • surface-treated perovskite compounds when two or more types are used, they may have the same reactive functional groups or different reactive functional groups.
  • a perovskite compound having methacryl groups on its surface is preferably used.
  • a method for obtaining a surface-treated perovskite compound i.e., a method for imparting reactive functional groups to the surface of a perovskite compound
  • a method for bonding a perovskite compound to various coupling agents having reactive functional groups e.g., silane compounds (so-called silane coupling agents), titanate coupling agents (titanium coupling agents), etc.
  • bonding a perovskite compound to a reactive functional group via a coupling agent can be mentioned.
  • the "bond" between a coupling agent and a perovskite compound is a concept that includes not only bonds that involve a chemical reaction between the coupling agent and the perovskite compound (chemical adsorption), but also bonds that do not involve such a chemical reaction (physical adsorption).
  • Coupling agents include, for example, silane-based, titanate-based, aluminate-based, and zircoaluminate-based agents. Of these, silane-based or titanate-based coupling agents are preferably used, and silane-based coupling agents are particularly preferably used.
  • silane-based coupling agents include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, N-(2-aminomethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-anilinopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and 3-mercaptopropyltrimethoxysilane.
  • Coupling agents may be used alone or in combination of two or more.
  • the method includes a method of dispersing a powdered perovskite compound in a solvent in which a coupling agent having a reactive functional group is dissolved (removing the solvent as necessary) and contacting the two, and a method of directly adding a powdered perovskite compound to a coupling agent having a reactive functional group, mixing, and contacting the two. If necessary, a step of heating after contacting the coupling agent having a reactive functional group with the powdered perovskite compound may be included.
  • the amount of the coupling agent having a reactive functional group to be contacted with the powdered perovskite compound can be appropriately set depending on the method of bonding the coupling agent having a reactive functional group with the perovskite compound, the type of reactive functional group, the type of coupling agent, etc.
  • the particle size of the perovskite compound is not particularly limited and can be set appropriately, but can be, for example, 0.3 to 1.0 ⁇ m.
  • the average particle size of the perovskite compound is the average particle size before being mixed into the photosensitive resin composition, and is the D50 value measured by laser diffraction.
  • the device used to measure the average particle size (D50) by laser diffraction is the Microtrac MT3300EXII manufactured by Microtrac Bell Co., Ltd.
  • the amount of the perovskite compound in the photosensitive resin composition is 55 to 90 mass % based on the solid content, preferably 70 to 90 mass %, and more preferably 70 to 85 mass %, based on the total mass of the photosensitive resin composition.
  • the amount of the perovskite compound is 55 mass % or more, the dielectric constant of the cured product can be made good.
  • the amount of the perovskite compound is 90 mass % or less, good image formability can be imparted.
  • any of amorphous silica, non-crystalline silica, crystalline silica, fused silica, spherical silica, etc. can be used.
  • Silica may be used alone or in combination of two or more types.
  • Commercially available silica products include, for example, SC2500-SMJ manufactured by Admatechs Co., Ltd.
  • the particle size of the silica is not particularly limited and can be set appropriately, but can be, for example, 0.4 to 0.65 ⁇ m.
  • the silica may or may not be surface-treated. There are no particular limitations on the type and method of surface treatment of the silica, and it can be, for example, the same as the surface treatment of the perovskite-type compound described above.
  • the photosensitive resin composition may further contain other fillers in addition to the above-mentioned perovskite type compound and silica.
  • other fillers known inorganic or organic fillers can be used, for example, hydrotalcite, talc, and further, metal oxides such as titanium oxide for obtaining a white appearance and flame retardancy, metal hydroxides such as aluminum hydroxide, etc.
  • the amount of silica in the photosensitive resin composition is preferably 0.5 to 5 mass %, more preferably 0.6 to 4.5 mass %, based on the total mass of the photosensitive resin composition, on a solids basis.
  • silica amount of 0.5 mass % or more the deep curing properties of the cured product can be made good.
  • silica amount of 0.5 mass % or less the dielectric constant of the perovskite compound can be made sufficient, and the dielectric constant of the cured product can be made good.
  • the (F) thermosetting component may be a known or commonly used one such as an isocyanate compound, a blocked isocyanate compound, an amino resin, a maleimide compound, a benzoxazine resin, a carbodiimide resin, a cyclocarbonate compound, an epoxy compound, an oxetane compound, or an episulfide resin.
  • the thermosetting component may be used alone or in combination of two or more.
  • the thermosetting component is preferably an epoxy compound (epoxy resin).
  • epoxy resin any form of epoxy resin, such as solid epoxy resin or liquid epoxy resin, can be used, but solid epoxy resin is preferably used.
  • epoxy resins include bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, hydrogenated bisphenol A type epoxy resins, brominated bisphenol A type epoxy resins, bisphenol S type epoxy resins, novolac type epoxy resins, phenol novolac type epoxy resins, cresol novolac type epoxy resins, bisphenol A novolac type epoxy resins, biphenyl type epoxy resins, naphthalene type epoxy resins, dicyclopentadiene type epoxy resins, triphenylmethane type epoxy resins, glycidylamine type epoxy resins, alicyclic epoxy resins, trihydroxyphenylmethane type epoxy resins, bixylenol type or biphenol type epoxy resins, tetraphenylolethane type epoxy resins, heterocyclic epoxy resins, diglycidyl phthalate resins, tetrag
  • epoxy resins include, for example, jER (registered trademark) 828, 806, 807, YX8000, YX8034, and 834 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, YD-128, YDF-170, ZX-1059, and ST-3000 manufactured by Nippon Steel Chemical & Material Co., Ltd., EPICLON (registered trademark) 830, 835, 840, 850, N-730A, N-695, and HP-7200L-CA85 manufactured by DIC Corporation, and RE-306 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • the amount of thermosetting component in the photosensitive resin composition is preferably 0.3 to 3.0 mol, more preferably 0.5 to 2.5 mol, of the functional groups of the thermosetting component that reacts with each mol of carboxyl groups contained in the above-mentioned carboxyl group-containing resin.
  • the equivalent weight of the epoxy group of the epoxy resin in the photosensitive resin composition is preferably 0.3 to 3.0 equivalents per equivalent weight of the carboxyl group of the carboxyl group-containing resin, based on the solid content.
  • the epoxy group of the epoxy resin 0.3 equivalents or more, it is possible to prevent the carboxyl group from remaining in the cured coating, and to obtain good heat resistance, alkali resistance, electrical insulation, etc.
  • the epoxy group of the epoxy resin 3.0 equivalents or less it is possible to prevent low molecular weight cyclic (thio)ether groups from remaining in the dried coating, and to ensure good strength of the cured coating, etc.
  • thermosetting catalyst As required. By containing a thermosetting catalyst in the photosensitive resin composition, the thermosetting property of the above-mentioned thermosetting component can be improved.
  • thermosetting catalysts include imidazole derivatives such as imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 4-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, and 1-(2-cyanoethyl)-2-ethyl-4-methylimidazole; amine compounds such as dicyandiamide, benzyldimethylamine, 4-(dimethylamino)-N,N-dimethylbenzylamine, 4-methoxy-N,N-dimethylbenzylamine, and 4-methyl-N,N-dimethylbenzylamine; hydrazine compounds such as adipic dihydrazide and sebacic dihydrazide; and phosphorus compounds such as triphenylphosphine.
  • imidazole derivatives such as imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylim
  • thermosetting catalysts examples include 2MZ-A, 2MZ-OK, 2PHZ, 2P4BHZ, and 2P4MHZ (all trade names of imidazole-based compounds) manufactured by Shikoku Chemical Industry Co., Ltd., and U-CAT 3513N (a trade name of a dimethylamine-based compound), DBU, DBN, and U-CAT SA 102 (all bicyclic amidine compounds and their salts) manufactured by San-Apro Co., Ltd.
  • the thermosetting catalyst is not particularly limited to these, and may be a thermosetting catalyst for epoxy resins or oxetane compounds, or one that promotes the reaction of at least one of an epoxy group and an oxetanyl group with a carboxyl group.
  • S-triazine derivatives such as guanamine, acetoguanamine, benzoguanamine, melamine, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-S-triazine, 2-vinyl-2,4-diamino-S-triazine, 2-vinyl-4,6-diamino-S-triazine-isocyanuric acid adduct, and 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-S-triazine-isocyanuric acid adduct can also be used, and preferably these compounds that also function as adhesion-imparting agents are used in combination with the heat curing catalyst.
  • the heat curing catalyst may be used alone or in combination of two or more types.
  • the amount of the thermosetting catalyst in the photosensitive resin composition is preferably 1 to 20 parts by mass, and more preferably 2 to 15 parts by mass, per 100 parts by mass of the carboxyl group-containing resin.
  • the amount of the thermosetting catalyst is 1 part by mass or more, the cured product of the photosensitive resin composition has excellent heat resistance.
  • the amount of the thermosetting catalyst is 20 parts by mass or less, the storage stability of the photosensitive resin composition is improved.
  • the photosensitive resin composition of the present invention may contain an organic solvent for the purpose of adjusting the viscosity during preparation or when applied to a substrate or film.
  • organic solvent include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and tetramethylbenzene; glycol ethers such as cellosolve, methyl cellosolve, butyl cellosolve, carbitol, methyl carbitol, butyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether acetate, and tripropylene glycol monomethyl ether; esters such as ethyl acetate, butyl acetate, butyl lactate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol a
  • organic solvents can be used.
  • the organic solvent may be used alone or in combination of two or more.
  • ethyl acetate diukisol diethylene glycol monoethyl ether acetate
  • diukisol CA diukisol CA manufactured by Dow Chemical Japan, etc.
  • the amount of organic solvent in the photosensitive resin composition is preferably changed appropriately depending on the components constituting the photosensitive resin composition and their amounts, but can be, for example, 50 to 300 parts by mass per 100 parts by mass of the carboxyl group-containing resin (solid content).
  • the volatilization and drying of the organic solvent can be carried out using a hot air circulation drying oven, an IR oven, a hot plate, a convection oven, etc. (a method in which hot air in the dryer is brought into countercurrent contact with the substrate using a heat source that uses steam for air heating, or a method in which hot air is blown onto the substrate from a nozzle).
  • the photosensitive resin composition of the present invention may further contain, as necessary, colorants, photoinitiator assistants, cyanate compounds, elastomers, mercapto compounds, urethanization catalysts, thixotropic agents, adhesion promoters, block copolymers, chain transfer agents, polymerization inhibitors, copper inhibitors, antioxidants, rust inhibitors, thickeners such as organic bentonite and montmorillonite, at least one of silicone-based, fluorine-based, and polymer-based defoamers and leveling agents, silane coupling agents such as imidazole-based, thiazole-based, and triazole-based, and flame retardants such as phosphorus compounds such as phosphinates, phosphate ester derivatives, and phosphazene compounds. These may be known in the field of electronic materials.
  • the photosensitive resin composition of the present invention may be used in liquid form, or may be used in the form of a dry film as described below. When used in liquid form, it may be a one-component type or a two-component or more type.
  • the photosensitive resin composition of the present invention can also be in the form of a dry film comprising a first film and a resin layer made of the photosensitive resin composition formed on the first film.
  • the first film in the present invention refers to a film that is at least adhered to the resin layer when a base material such as a substrate and a layer (resin layer) made of the photosensitive resin composition formed on the dry film are laminated by heating or the like so that they are in contact with each other to form an integral mold.
  • the first film may be peeled off from the resin layer in a process after lamination. In particular, in the present invention, it is preferable to peel off from the resin layer in a process after exposure.
  • the photosensitive resin composition of the present invention is diluted with the organic solvent to adjust the viscosity to an appropriate level, and applied to a uniform thickness on the first film using a comma coater, blade coater, lip coater, rod coater, squeeze coater, reverse coater, transfer roll coater, gravure coater, spray coater, or the like, and usually dried at a temperature of 50 to 130 ° C. for 1 to 30 minutes to obtain a film.
  • a comma coater, blade coater, lip coater, rod coater, squeeze coater, reverse coater, transfer roll coater, gravure coater, spray coater, or the like and usually dried at a temperature of 50 to 130 ° C. for 1 to 30 minutes to obtain a film.
  • the coating thickness is generally selected appropriately in the range of 1 to 150 ⁇ m, preferably 10 to 60 ⁇ m, in terms of the thickness after drying.
  • the first film can be any known film without particular limitations.
  • polyester films such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate
  • films made of thermoplastic resins such as polyimide films, polyamideimide films, polypropylene films, and polystyrene films can be suitably used.
  • polyester films are preferred from the standpoints of heat resistance, mechanical strength, and ease of handling.
  • a laminate of these films can also be used as the first film.
  • thermoplastic resin film as described above is a film that has been oriented uniaxially or biaxially.
  • the thickness of the first film is not particularly limited, but can be, for example, 10 ⁇ m to 150 ⁇ m.
  • the second film refers to a film that is peeled off from the resin layer before lamination when laminating a base material such as a substrate and a layer (resin layer) made of the photosensitive resin composition formed on a dry film by heating or the like so that they are in contact with each other to form an integrated structure.
  • a base material such as a substrate
  • the peelable second film that can be used include polyethylene film, polytetrafluoroethylene film, polypropylene film, and surface-treated paper.
  • the second film may be one in which the adhesive strength between the resin layer and the second film is smaller than the adhesive strength between the resin layer and the first film when the second film is peeled off.
  • the thickness of the second film is not particularly limited, but can be, for example, 10 ⁇ m to 150 ⁇ m.
  • the dry film may be prepared by applying the photosensitive resin composition of the present invention onto the second film, drying it to form a resin layer, and then laminating the first film on the surface of the resin layer.
  • either the first film or the second film may be used as the film onto which the photosensitive resin composition of the present invention is applied.
  • the cured product of the present invention is obtained by curing the resin layer of the photosensitive resin composition or dry film of the present invention described above, and has high dielectric properties and good resolution. Therefore, the cured product of the present invention is suitably used for forming a solder resist layer in an FC-BGA substrate used in a capacitive fingerprint detection device that requires a particularly high dielectric constant.
  • the printed wiring board of the present invention has a cured product obtained from the resin layer of the photosensitive resin composition or dry film of the present invention.
  • the photosensitive resin composition of the present invention is adjusted to a viscosity suitable for the coating method using the organic solvent described above, and coated on a substrate by a method such as dip coating, flow coating, roll coating, bar coating, screen printing, or curtain coating, and then the organic solvent contained in the composition is evaporated and dried (temporarily dried) at a temperature of 60 to 100 ° C. to form a tack-free resin layer.
  • the resin layer is attached to the substrate by a laminator or the like so that the resin layer contacts the substrate, and then the first film is peeled off to form a resin layer on the substrate.
  • the substrate for printed wiring boards includes printed wiring boards and flexible printed wiring boards with circuits already formed using copper, etc., as well as materials such as paper phenol, paper epoxy, glass cloth epoxy, glass polyimide, glass cloth/non-woven cloth epoxy, glass cloth/paper epoxy, synthetic fiber epoxy, copper-clad laminates for high-frequency circuits using fluororesin, polyethylene, polyphenylene ether, polyphenylene oxide, cyanate, etc., including copper-clad laminates of all grades (FR-4, etc.), as well as metal substrates, polyimide films, polyethylene terephthalate films, polyethylene naphthalate (PEN) films, glass substrates, ceramic substrates, wafer plates, etc.
  • materials such as paper phenol, paper epoxy, glass cloth epoxy, glass polyimide, glass cloth/non-woven cloth epoxy, glass cloth/paper epoxy, synthetic fiber epoxy, copper-clad laminates for high-frequency circuits using fluororesin, polyethylene, polyphenylene ether, polyphenylene oxide, cyanate, etc.
  • the dry film is preferably bonded to the substrate using a vacuum laminator or the like under pressure and heat.
  • a vacuum laminator By using such a vacuum laminator, when a circuit-formed board is used, the dry film adheres closely to the circuit board even if the circuit board surface is uneven, preventing the inclusion of air bubbles and improving the filling of recesses in the board surface.
  • the pressure conditions are preferably around 0.1 to 2.0 MPa, and the heating conditions are preferably 40 to 120°C.
  • the volatilization drying carried out after application of the photosensitive resin composition of the present invention can be carried out using a hot air circulation drying oven, an IR oven, a hot plate, a convection oven, etc. (a method in which hot air in the dryer is brought into countercurrent contact using a heat source that uses steam for air heating, or a method in which hot air is blown onto the support from a nozzle).
  • the resin layer is selectively exposed to active energy rays through a photomask with a predetermined pattern, and the unexposed portions are developed with a dilute alkaline aqueous solution (e.g., 0.3 to 3% by weight aqueous solution of sodium carbonate) to form a pattern of the cured product.
  • a dilute alkaline aqueous solution e.g., 0.3 to 3% by weight aqueous solution of sodium carbonate
  • the first film may be peeled off from the dry film after exposure and development may be performed to form a patterned cured product on the substrate, or the first film may be peeled off from the dry film before exposure and the exposed resin layer may be exposed and developed to form a patterned cured product on the substrate.
  • the cured product may be irradiated with active energy rays and then heat-cured (e.g., 100 to 220°C), or irradiated with active energy rays after heat-curing, or heat-cured only to perform final finishing curing (main curing), thereby forming a cured film with excellent properties such as adhesion and hardness.
  • the above-mentioned exposure and development form an exposed portion (circular opening) of the conductor on the substrate.
  • the diameter of the opening is not particularly limited, but may be, for example, 100 to 350 ⁇ m or 100 to 200 ⁇ m.
  • the exposure machine used for the active energy ray irradiation may be a machine equipped with a high pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a mercury short arc lamp, or the like, and capable of irradiating ultraviolet rays in the range of 350 to 450 nm, and further, a direct imaging machine (for example, a laser direct imaging machine that draws an image directly with a laser based on CAD data from a computer) may also be used.
  • the lamp light source or laser light source of the direct imaging machine may have a maximum wavelength in the range of 350 to 450 nm.
  • the exposure dose for forming an image varies depending on the film thickness, etc., but can generally be within the range of 10 to 1000 mJ/cm 2 , preferably 20 to 800 mJ/cm 2 .
  • the development method can be a dipping method, a shower method, a spray method, a brush method, etc.
  • the developer can be an alkaline aqueous solution of potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium phosphate, sodium silicate, ammonia, amines, etc.
  • UV light may be irradiated to promote further curing (post-UV), or heat curing may be promoted by heating (post-cure).
  • post-UV and post-cure By carrying out post-UV and post-cure, the heat resistance, chemical resistance, moisture absorption resistance, adhesion, electrical properties, and other properties of the cured product of the photosensitive resin composition can be further improved.
  • Post-UV can be carried out, for example, by irradiating UV with an integrated exposure amount of 1000 mJ/cm 2 using a UV conveyor or the like.
  • post-cure can be carried out, for example, by heating at 150 ° C. for 60 minutes using the above-mentioned various dryers.
  • the photosensitive resin composition and dry film of the present invention are both suitable for use in the manufacture of electronic components such as printed wiring boards, and are more preferably used to form permanent coatings (cured products).
  • the photosensitive resin composition and dry film of the present invention can form cured products with high dielectric constants, and therefore can contribute to the miniaturization and thinning of antennas in electronic devices in particular.
  • the photosensitive resin composition or dry film of the present invention is used to form a cured product by the above-mentioned method or the like.
  • the resin layer formed by the photosensitive resin composition or dry film of the present invention is insulating, it is preferably used to form a solder resist, coverlay, or interlayer insulating layer.
  • the photosensitive resin composition and dry film of the present invention can also be used to form a solder dam.
  • t-butylperoxy 2-ethylhexanoate manufactured by NOF Corporation, Perbutyl (registered trademark) O
  • the resulting resin solution was cooled, and then 289.0 parts by mass of Cyclomer M100 (3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate) manufactured by Daicel Corporation, 3.0 parts by mass of triphenylphosphine, and 1.3 parts by mass of hydroquinone monomethyl ether were added and stirred at 100° C. to carry out a ring-opening addition reaction of the epoxy groups, thereby obtaining a carboxyl group-containing resin.
  • the resulting carboxyl group-containing resin had a solid content of 45.5% by mass and an acid value of the solid content of 79.8 mgKOH/g.
  • the perovskite compound used in this example was prepared according to the procedure described below. First, a mixture of 2,000 parts by mass of barium titanate manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., 100 parts of a silane coupling agent KBM503 (methacrylic silane) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., and 200 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate (PMA) manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. was prepared and stirred at room temperature for 30 minutes using a mixer to obtain a perovskite-type compound having methacryl groups attached to the surface.
  • a silane coupling agent KBM503 methacrylic silane
  • PMA propylene glycol monomethyl ether acetate
  • Perovskite type compound Perovskite type compound obtained by the above-mentioned synthesis example of perovskite type compound
  • E Silica: SC2500-SMJ manufactured by Admatechs Co., Ltd.
  • F Thermosetting component 1: EPICLON (registered trademark) HP-7200L-CA85 manufactured by DIC Corporation
  • Thermosetting component 2 jER (registered trademark) 828 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation Organic solvent: Jukisol CA manufactured by Dow Chemical Japan
  • the amount of each component is shown in “parts by mass", and the amount of each component other than the organic solvent is shown as parts by mass based on the solid content.
  • the "content of the perovskite type compound” indicates the mass % of the perovskite type compound when the "total solid content of the photosensitive resin composition" is taken as 100 mass %.
  • a laminate structure (dry film) corresponding to each of the photosensitive resin compositions was prepared according to the procedure described below.
  • first film polyethylene terephthalate (PET) film
  • PET polyethylene terephthalate
  • the film was dried at 100° C. for 5 to 10 minutes in a hot air circulation drying oven to form a resin layer on the film.
  • a second film polypropylene (PP) film
  • PP polypropylene
  • a double-sided copper-clad laminate (copper foil thickness 35 ⁇ m, substrate thickness 1.6 mm, substrate size 150 mm ⁇ 95 mm) manufactured by Showa Denko Materials Co., Ltd. was subjected to CZ treatment (roughening treatment) at an etching rate of 1 ⁇ m / m 2 using MEC Etch Bond CZ-8101 manufactured by MEC Co., Ltd. to obtain a roughened substrate.
  • the second film was peeled off from each laminated structure obtained according to the above-mentioned procedure, and then laminated so that the resin layer was in contact with the roughened surface of the roughened substrate, and the resin layer and the first film were laminated on the roughened substrate.
  • the lamination was performed in a chamber at 100 ° C. under conditions of vacuum pressure 3 hPa, vacuum time 30 seconds, pressure time 30 seconds, and press pressure 0.4 MPa.
  • the first film was peeled off from the resin layer laminated on the roughened substrate, and exposed to an integrated exposure of 200 mJ/ cm2 using an exposure device EXP-2960 (light source: short arc lamp, parallel light exposure device) manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd. to form a micropore pattern with an opening diameter of ⁇ 150 ⁇ m.
  • EXP-2960 light source: short arc lamp, parallel light exposure device
  • development was performed for 60 seconds using a 1 wt % sodium carbonate aqueous solution under conditions of 30°C and a spray pressure of 0.2 MPa, and after development, each sample substrate was provided with a cured product (solder resist layer) having a micropore pattern.
  • the opening diameter of the micropore pattern of the cured product on each sample substrate was measured, and the image forming properties of the cured product after development and before thermal curing were evaluated according to the following evaluation criteria.
  • the evaluation results are shown in Table 2.
  • Openings with a diameter of ⁇ 150 ⁇ m were well formed.
  • An opening having a diameter of ⁇ 150 ⁇ m was formed, but the shape of the opening was irregular.
  • An opening having a diameter of ⁇ 150 ⁇ m was not formed.
  • each sample substrate provided with a cured material (solder resist layer) having a pore pattern was irradiated with ultraviolet light at an integrated exposure amount of 1000 mJ/ cm2 using a UV conveyor furnace, and then heated at 150°C for 60 minutes using a hot air circulation drying furnace to fully cure the cured material on each sample substrate.
  • the opening diameter of the microhole pattern of the cured product on each sample substrate was measured, and the image forming properties after thermal curing were evaluated according to the following evaluation criteria.
  • the evaluation results are shown in Table 2.
  • The opening diameter ⁇ 150 ⁇ m was maintained, and the amount of undercut on one side was less than 10 ⁇ m.
  • The opening diameter ⁇ 150 ⁇ m was maintained, but the amount of undercut on one side was 10 ⁇ m or more.
  • the opening diameter of ⁇ 150 ⁇ m was not maintained, and the opening diameter was significantly reduced.
  • the first film was peeled off from the resin layer laminated on the surface of the electrolytic copper foil, and the entire surface of the resin layer was exposed to light with an integrated exposure amount of 200 mJ/ cm2 using an exposure device EXP-2960 (light source: short arc lamp, parallel light exposure device) manufactured by ORC Manufacturing Co., Ltd.
  • EXP-2960 light source: short arc lamp, parallel light exposure device
  • the resin layer (thickness 25 ⁇ m) of the laminated structure was further laminated on the resin layer (thickness 25 ⁇ m) after exposure to form a resin layer of 50 ⁇ m thickness on the electrolytic copper foil, and then the first film was peeled off, and the resin layer was exposed to an integrated exposure of 200 mJ/cm 2 using an exposure device EXP-2960 (light source: short arc lamp, parallel light exposure machine) manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd., to obtain an electrolytic copper foil having a cured product (solder resist layer).
  • the lamination was performed in a 100 ° C. chamber under conditions of vacuum pressure 3 hPa, vacuum time 30 seconds, pressure time 30 seconds, and press pressure 0.4 MPa.
  • the resin layer (thickness 50 ⁇ m) laminated on the electrolytic copper foil was irradiated with ultraviolet light of an integrated exposure of 1000 mJ/cm 2 using a UV conveyor furnace, and then heated at 150 ° C. for 60 minutes to fully cure the cured product on the surface of each electrolytic copper foil.
  • the copper foil was etched away from each of the electrolytic copper foils with the cured material using an etching solution with a composition of 340 g/L of cupric chloride and a free hydrochloric acid concentration of 51.3 g/L, and the foil was thoroughly washed with water and dried to obtain each sample of electrolytic copper foil with a cured material having a thickness of 50 ⁇ m.
  • the dielectric constant of each sample electrolytic copper foil was measured at 10 GHz by the SPDR method using an SPDR dielectric resonator and a network analyzer Agilent E4991A (RF impedance/material analyzer) manufactured by Agilent Technologies, Inc., and evaluated according to the following evaluation criteria based on the measured values. The evaluation results are shown in Table 2.
  • The dielectric constant was 15 or more.
  • A The dielectric constant was 10 or more and less than 15.
  • The dielectric constant was less than 10.
  • the evaluation results shown in Table 2 show that the solder resist layers formed using the photosensitive resin compositions of Examples 1 to 3 have both good image forming properties after development and before and after heat curing, and a high dielectric constant.
  • the solder resist layers formed using the photosensitive resin compositions of Comparative Examples 1 to 3 do not have both good image forming properties after development and before and/or after heat curing, and a high dielectric constant.

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Abstract

[課題]高い誘電率と、現像後かつ熱硬化前および熱硬化後における良好な解像性(画像形成性)とを両立した硬化物を形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。 [解決手段]カルボキシル基含有樹脂と、カルボキシル基を含有しない光硬化性化合物と、光重合開始剤と、熱硬化性成分とを含有する感光性樹脂組成物において、ペロブスカイト型化合物とシリカとを配合し、ペロブスカイト型化合物の含有量を、感光性樹脂組成物の全質量に対して、固形分基準で55~90質量%に調整する。

Description

感光性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物およびプリント配線板
 本発明は、感光性樹脂組成物に関し、特にソルダーレジスト層の形成に好適に用いられる感光性樹脂組成物に関する。さらに、本発明は、該感光性樹脂組成物からなる樹脂層を有するドライフィルム、該感光性樹脂組成物または該ドライフィルムの樹脂層の硬化物、および該硬化物を備えるプリント配線板に関する。
 従来、様々な分野において、本人認証ツールとして生体認証が利用されている。特に近年では、多くの携帯端末等において指紋認証が利用されており、そのため指紋検出装置を備える携帯端末が主流となっている。特に、個人情報が集積している携帯端末(例えば、スマートフォン等)では高度な指紋認証精度が求められ、そのような携帯端末では、ほとんどの場合において静電容量方式の指紋検出装置(指紋認証センサー)が採用されている。
 静電容量方式の指紋検出装置の動作原理は、指紋の凹凸によって装置内に発生した電荷の差を電極で読み取り、指紋を認識するというものである。現在、指紋検出装置としては、一般的にFC-BGA(Flip Chip-Ball Grid Array)基板が用いられており、このFC-BGA基板は、コア層を挟んで両側にビルドアップ層を備え、指紋検出装置の外面側(トップサイド)のビルドアップ層がセンサーを構成し、指紋検出装置の内面側(ボトムサイド)のビルドアップ層にICチップ等の電子部品が実装されるとともにはんだボールが配置されている。そして、トップサイドおよびボトムサイドのそれぞれのビルドアップ層には、ソルダーレジスト層が形成されている。
 このような指紋検出装置には高度な指紋認証精度が求められることから、従来、センサー部の指紋読み取り性を向上させるために、FC-BGA基板のトップサイドおよびボトムサイドのそれぞれのビルドアップ層に形成されるソルダーレジスト層の解像性や誘電率を向上させる試みがなされている。一般的には、ソルダーレジスト層の解像性や誘電率を向上させるために、ソルダーレジスト層を形成するための樹脂組成物において、カルボキシル基含有樹脂、カルボキシル基を含有しない光硬化性化合物および/または光重合開始剤等の種類や含有量を調整することが行われている。例えば、特許文献1では、ソルダーレジスト層のHAST耐性等の信頼性を維持しつつ、解像性および誘電率を向上させるために、該ソルダーレジストを形成するための樹脂組成物に少なくとも2種のペロブスカイト型化合物を配合し、該ペロブスカイト型化合物の1種をチタン酸バリウムとすることが提案されている。
 しかしながら、このようにソルダーレジスト層の誘電率を上昇させるためには、チタン酸バリウム等の導電性の無機フィラーを比較的多量に樹脂組成物に配合する必要がある。そして、樹脂組成物における無機フィラーの含有量が増大すると、形成されるソルダーレジスト層の深部硬化性が悪化し、それに起因して現像後のソルダーレジスト層の断面形状が逆テーパー状となり、解像性を向上させづらいということが知られている。すなわち、ソルダーレジスト層において、導電性の無機フィラーの含有量を増大させることによる誘電率の上昇と解像性の向上とはトレードオフの関係にあるという問題がある。
 さらに、樹脂組成物の組成によっては、現像直後は画像形成性が良好であるものの、熱硬化時の加熱によって樹脂組成物に含まれる樹脂成分が硬化するよりも先に軟化、流動して、開口部を塞いだり、感光性樹脂組成物のパターンが崩れて熱硬化後の解像性(画像形成性)が低下したりするという問題もある。
特開2017-37287号公報
 このような状況下、無機フィラーを多量に含む感光性樹脂組成物であって、高い誘電率と、現像後かつ熱硬化前および熱硬化後における良好な解像性(画像形成性)とを両立した硬化物を形成することができる感光性樹脂組成物を提供することが継続的な技術的課題として存在する。
 したがって、本発明の目的は、高い誘電率と、現像後かつ熱硬化前および熱硬化後における良好な解像性(画像形成性)とを両立した硬化物を形成することができる感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物からなる樹脂層を有するドライフィルム、該感光性樹脂組成物または該ドライフィルムの樹脂層の硬化物、および該硬化物を備えるプリント配線板を提供することである。
 本発明者らは、鋭意研究した結果、(A)カルボキシル基含有樹脂と、(B)カルボキシル基を含有しない光硬化性化合物と、(C)光重合開始剤と、(D)ペロブスカイト型化合物と、(E)シリカと、(F)熱硬化性成分と、を含有する感光性樹脂組成物において、(D)ペロブスカイト型化合物の含有量を、感光性樹脂組成物の全質量に対して、固形分基準で55~90質量%に調整することにより、上述した課題を解決できるとの知見を得た。本発明はかかる知見によるものである。すなわち、本発明の要旨は以下の通りである。
[1](A)カルボキシル基含有樹脂と、(B)カルボキシル基を含有しない光硬化性化合物と、(C)光重合開始剤と、(D)ペロブスカイト型化合物と、(E)シリカと、(F)熱硬化性成分と、を含有する感光性樹脂組成物であって、
 前記(D)ペロブスカイト型化合物の含有量が、前記感光性樹脂組成物の全質量に対して、固形分基準で55~90質量%であることを特徴とする、感光性樹脂組成物。
[2]前記(D)ペロブスカイト型化合物の含有量が、前記感光性樹脂組成物の全質量に対して、固形分基準で70~90質量%である、[1]に記載の感光性樹脂組成物。
[3]前記(E)シリカの含有量が、前記感光性樹脂組成物の全質量に対して、固形分基準で0.5~5質量%である、[1]または[2]に記載の感光性樹脂組成物。
[4]前記(D)ペロブスカイト型化合物が、チタン酸バリウムおよびチタン酸カルシウムからなる群から選択される少なくとも1つを含む、[1]~[3]いずれかに記載の感光性樹脂組成物。
[5]前記(D)ペロブスカイト型化合物が、シランカップリング剤またはチタネートカップリング剤により表面処理されている、[1]~[4]のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
[6]第一のフィルムと、該第一のフィルムの少なくとも一方の面に形成された[1]~[5]のいずれかに記載の感光性樹脂組成物からなる樹脂層とを有する、ドライフィルム。
[7][1]~[5]のいずれかに記載の感光性樹脂組成物、または[6]に記載のドライフィルムの樹脂層を硬化させた硬化物。
[8][7]に記載の硬化物を備える、プリント配線板。
 本発明によれば、高い誘電率と、現像後かつ熱硬化前および熱硬化後における良好な解像性(画像形成性)とを両立した硬化物を形成することができる感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物からなる樹脂層を有するドライフィルム、該感光性樹脂組成物または該ドライフィルムの樹脂層の硬化物、ならびに該硬化物を備えるプリント配線板およびその製造方法を提供することができる。特に、本発明によれば、無機フィラーが多量に配合された感光性樹脂組成物では両立させることが難しいとされていた、硬化物の高い誘電率と良好な解像性(画像形成性)とを両立させることができる。
[感光性樹脂組成物]
 本発明の感光性樹脂組成物は、(A)カルボキシル基含有樹脂と、(B)カルボキシル基を含有しない光硬化性化合物と、(C)光重合開始剤と、(D)ペロブスカイト型化合物と、(E)シリカと、(F)熱硬化性成分とを必須成分として含み、(D)ペロブスカイト型化合物の含有量が、感光性樹脂組成物の全質量に対して、固形分基準で55~90質量%に調整されていることを特徴とする。本発明の感光性樹脂組成物は、特にフィラーとして(D)ペロブスカイト型化合物と(E)シリカとを組み合わせて用いること、さらに(D)ペロブスカイト型化合物の含有量を、感光性樹脂組成物の全質量に対して、固形分基準で55~90質量%に調整することにより、無機フィラーが多量に配合された感光性樹脂組成物では両立させることが難しいとされていた、硬化物の高い誘電率と現像後かつ熱硬化前および熱硬化後における良好な解像性(画像形成性)とを両立させることができる。
 以下、本発明の感光性樹脂組成物の各成分について詳細に説明する。なお、各成分は市販のものを用いてもよく、適宜合成されたものを用いてもよい。
(カルボキシル基含有樹脂)
 本発明の感光性樹脂組成物において、(A)カルボキシル基含有樹脂としては、分子中にカルボキシル基を有している従来公知の各種樹脂を用いることができる。感光性樹脂組成物がカルボキシル基含有樹脂を含むことにより、感光性樹脂組成物に対しアルカリ現像性を付与することができる。特に、分子中にエチレン性不飽和二重結合を有するカルボキシル基含有樹脂が、光硬化性や耐現像性の面から好ましい。分子中のエチレン性不飽和二重結合は、アクリル酸もしくはメタクリル酸またはそれらの誘導体由来であることが好ましい。カルボキシル基含有樹脂は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。なお、カルボキシル基含有樹脂としてエチレン性不飽和二重結合を有さないカルボキシル基含有樹脂のみを用いる場合には、後述するような分子中に複数のエチレン性不飽和基を有する化合物、すなわち後述する光重合性モノマーを併用することで、感光性樹脂組成物を光硬化性とする。カルボキシル基含有樹脂の具体例としては、以下のような化合物(オリゴマーおよびポリマーのいずれでもよい)を挙げることができる。
 (1)(メタ)アクリル酸等の不飽和カルボン酸と、スチレン、α-メチルスチレン、低級アルキル(メタ)アクリレート、イソブチレン等の不飽和基含有化合物との共重合により得られるカルボキシル基含有樹脂。
 (2)脂肪族ジイソシアネート、分岐脂肪族ジイソシアネート、脂環式ジイソシアネート、芳香族ジイソシアネート等のジイソシアネートと、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸等のカルボキシル基含有ジアルコール化合物およびポリカーボネート系ポリオール、ポリエーテル系ポリオール、ポリエステル系ポリオール、ポリオレフィン系ポリオール、アクリル系ポリオール、ビスフェノールA系アルキレンオキサイド付加体ジオール、フェノール性ヒドロキシル基およびアルコール性ヒドロキシル基を有する化合物等のジオール化合物の重付加反応によるカルボキシル基含有ウレタン樹脂。
 (3)ジイソシアネートと、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビキシレノール型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂等の2官能エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸等のエチレン性不飽和二重結合を有するモノカルボン酸化合物との反応物の部分酸無水物変性物、カルボキシル基含有ジアルコール化合物およびジオール化合物の重付加反応によるカルボキシル基含有感光性ウレタン樹脂。
 (4)上述した(2)または(3)の樹脂の合成中に、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート等の分子内に1つの水酸基と1つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物を加え、末端(メタ)アクリル化したカルボキシル基含有感光性ウレタン樹脂。
 (5)上述した(2)または(3)の樹脂の合成中に、イソホロンジイソシアネートとペンタエリスリトールトリアクリレートの等モル反応物など、分子内に1つのイソシアネート基と1つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物を加え末端(メタ)アクリル化したカルボキシル基含有感光性ウレタン樹脂。
 (6)2官能またはそれ以上の多官能(固形)エポキシ樹脂に(メタ)アクリル酸を反応させ、側鎖に存在する水酸基に2塩基酸無水物を付加させたカルボキシル基含有感光性樹脂。
 (7)2官能(固形)エポキシ樹脂の水酸基をさらにエピクロロヒドリンでエポキシ化した多官能エポキシ樹脂に(メタ)アクリル酸を反応させ、生じた水酸基に2塩基酸無水物を付加させたカルボキシル基含有感光性樹脂。
 (8)2官能オキセタン樹脂にアジピン酸、フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸等のジカルボン酸を反応させ、生じた1級の水酸基に無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸等の2塩基酸無水物を付加させたカルボキシル基含有ポリエステル樹脂。
 (9)1分子中に複数のエポキシ基を有するエポキシ化合物に、p-ヒドロキシフェネチルアルコール等の1分子中に少なくとも1つのアルコール性水酸基と1つのフェノール性水酸基を有する化合物と、(メタ)アクリル酸等の不飽和基含有モノカルボン酸とを反応させ、得られた反応生成物のアルコール性水酸基に対して、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、アジピン酸等の多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂。
 (10)1分子中に複数のフェノール性水酸基を有する化合物とエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド等のアルキレンオキサイドとを反応させて得られる反応生成物に不飽和基含有モノカルボン酸を反応させ、得られる反応生成物に多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂。
 (11)1分子中に複数のフェノール性水酸基を有する化合物とエチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等の環状カーボネート化合物とを反応させて得られる反応生成物に不飽和基含有モノカルボン酸を反応させ、得られる反応生成物に多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂。
 (12)前記(1)~(11)の樹脂にさらに1分子内に1つのエポキシ基と1つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物を付加してなるカルボキシル基含有感光性樹脂。なお、本明細書において、(メタ)アクリレートとは、アクリレート、メタクリレートおよびそれらの混合物を総称する用語で、他の類似の表現についても同様である。
 カルボキシル基含有樹脂の酸価は、好ましくは30~150mgKOH/gであり、より好ましくは50~120mgKOH/gである。カルボキシル基含有樹脂の酸価が30mgKOH/g以上であることにより、感光性樹脂組成物のアルカリ現像性が良好になる。一方、カルボキシル基含有樹脂の酸価が150mgKOH/g以下であることにより、現像液による露光部の溶解、さらにそれによる露光部と未露光部との区別ない溶解剥離を抑制することができ、良好なレジストパターンの描画をし易くできる。
 カルボキシル基含有樹脂の重量平均分子量は、その樹脂骨格により異なるが、一般的に、好ましくは2,000~150,000、より好ましくは5,000~100,000である。カルボキシル基含有樹脂の重量平均分子量が2,000以上であることにより、感光性樹脂組成物の露光後における塗膜の耐湿性の低下に伴う現像時の膜減りを抑制することができ、その結果、解像性の低下を抑制することができる。一方、カルボキシル基含有樹脂の重量平均分子量が150,000以下であることにより、感光性樹脂組成物の現像性や貯蔵安定性を向上させることができる。なお、カルボキシル基含有樹脂の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により測定することができる。
 感光性樹脂組成物におけるカルボキシル基含有樹脂の配合量は、感光性樹脂組成物の全質量に対して、固形分基準で、好ましくは5~30質量%、より好ましくは5~20質量%、さらに好ましくは5~10質量%である。カルボキシル基含有樹脂の配合量が5質量%以上であることにより、露光部が感光して十分な耐現像性が得られるため、感光性樹脂組成物の画像形成性を良好なものとすることができる。一方、カルボキシル基含有樹脂の配合量が30質量%以下であることにより、感光性樹脂組成物にペロブスカイト型化合物を十分に配合することができるため、感光性樹脂組成物の誘電率を良好なものとすることができる。
(カルボキシル基を含有しない光硬化性化合物)
 本発明の感光性樹脂組成物において、(B)カルボキシル基を含有しない光硬化性化合物は、カルボキシル基を有しない化学構造を有する光硬化性樹脂であれば特に限定されず、例えば、分子中に複数のエチレン性不飽和基を有する化合物が用いられる。カルボキシル基を含有しない光硬化性化合物としては、例えば、光重合性オリゴマー、光重合性モノマー等を用いることができる。この中でも、硬化塗膜の架橋性や硬化性をより付与できる点において、光重合性モノマーを用いることが好ましい。
 光重合性オリゴマーとしては、好ましくはエチレン性不飽和二重結合を有するオリゴマーが用いられる。そのような光重合性オリゴマーとしては、例えば、不飽和ポリエステル系オリゴマー、(メタ)アクリレート系オリゴマー等が挙げられる。(メタ)アクリレート系オリゴマーとしては、フェノールノボラックエポキシ(メタ)アクリレート、クレゾールノボラックエポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリレート等のエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリブタジエン変性(メタ)アクリレート等が挙げられる。光重合性オリゴマーは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
 光重合性モノマーとしては、好ましくはエチレン性不飽和二重結合を有するモノマーが用いられる。そのような光重合性モノマーとしては、例えば、慣用公知のポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、カーボネート(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。具体的には、2-エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート等のアルキルアクリレート類;2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート等のヒドロキシアルキルアクリレート類;エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール等のアルキレンオキサイド誘導体のモノまたはジアクリレート類;N,N-ジメチルアクリルアミド、N-メチロールアクリルアミド、N,N-ジメチルアミノプロピルアクリルアミドなどのアクリルアミド類;N,N-ジメチルアミノエチルアクリレート、N,N-ジメチルアミノプロピルアクリレート等のアミノアルキルアクリレート類;ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール、トリスヒドロキシエチルイソシアヌレート等の多価アルコールまたはこれらのアルキレンオキサイド付加物あるいはε-カプロラクトン付加物等の多価アクリレート類;フェノキシアクリレート、ビスフェノールAジアクリレート等のフェノール類またはこれらのアルキレンオキサイド付加物等の多価アクリレート類;グリセリンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート等のグリシジルエーテルのアクリレート類;前記に限らず、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートジオール、水酸基末端ポリブタジエン、ポリエステルポリオール等のポリオールを直接アクリレート化、もしくは、ジイソシアネートを介してウレタンアクリレート化したアクリレート類およびメラミンアクリレート、および前記アクリレートに対応する各メタクリレート類の少なくともいずれか1種から適宜選択して用いることができる。このような光重合性モノマーは、反応性希釈剤としても用いることができる。光重合性モノマーは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
 光重合性オリゴマーおよび光重合性モノマーは、上述したカルボキシル基含有樹脂として特にエチレン性不飽和二重結合を有さない非感光性のカルボキシル基含有樹脂を用いる場合、感光性樹脂組成物を光硬化性とするために光重合性モノマーを併用する必要があるため、有効である。
 感光性樹脂組成物におけるカルボキシル基を含有しない光硬化性化合物の配合量は、カルボキシル基含有樹脂100質量部に対して、好ましくは10~100質量部の割合である。カルボキシル基を含有しない光硬化性化合物の配合量が10質量部以上である場合、感光性樹脂組成物の光硬化性が良好であり、活性エネルギー線照射後のアルカリ現像においてパターン形成がしやすい。一方、配合量が100質量部以下である場合、ハレーションが生じにくく良好な解像性が得られる。
(光重合開始剤)
 本発明の感光性樹脂組成物において、(C)光重合開始剤としては、公知のものをいずれも用いることができる。光重合開始剤としては、例えば、ビス-(2,6-ジクロロベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイド、ビス-(2,6-ジクロロベンゾイル)-2,5-ジメチルフェニルフォスフィンオキサイド、ビス-(2,6-ジクロロベンゾイル)-4-プロピルフェニルフォスフィンオキサイド、ビス-(2,6-ジクロロベンゾイル)-1-ナフチルフォスフィンオキサイド、ビス-(2,6-ジメトキシベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイド、ビス-(2,6-ジメトキシベンゾイル)-2,4,4-トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド、ビス-(2,6-ジメトキシベンゾイル)-2,5-ジメチルフェニルフォスフィンオキサイド、ビス-(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイド等のビスアシルフォスフィンオキサイド類;2,6-ジメトキシベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、2,6-ジクロロベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルフォスフィン酸メチルエステル、2-メチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ピバロイルフェニルフォスフィン酸イソプロピルエステル、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等のモノアシルフォスフィンオキサイド類;フェニル(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フォスフィン酸エチル、1-ヒドロキシ-シクロヘキシルフェニルケトン、1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、2-ヒドロキシ-1-{4-[4-(2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニル)-ベンジル]フェニル}-2-メチル-プロパン-1-オン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン等のヒドロキシアセトフェノン類;ベンゾイン、ベンジル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインn-プロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインn-ブチルエーテル等のベンゾイン類;ベンゾインアルキルエーテル類;ベンゾフェノン、p-メチルベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、メチルベンゾフェノン、4,4’-ジクロロベンゾフェノン、4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類;アセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2,2-ジエトキシ-2-フェニルアセトフェノン、1,1-ジクロロアセトフェノン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノ-1-プロパノン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-ブタノン-1、2-(ジメチルアミノ)-2-[(4-メチルフェニル)メチル)-1-[4-(4-モルフォリニル)フェニル]-1-ブタノン、N,N-ジメチルアミノアセトフェノン等のアセトフェノン類;チオキサントン、2-エチルチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン、2,4-ジメチルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2-クロロチオキサントン、2,4-ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類;アントラキノン、クロロアントラキノン、2-メチルアントラキノン、2-エチルアントラキノン、2-tert-ブチルアントラキノン、1-クロロアントラキノン、2-アミルアントラキノン、2-アミノアントラキノン等のアントラキノン類;アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類;エチル-4-ジメチルアミノベンゾエート、2-(ジメチルアミノ)エチルベンゾエート、p-ジメチル安息香酸エチルエステル等の安息香酸エステル類;1,2-オクタンジオン,1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-,2-(O-ベンゾイルオキシム)、エタノン,1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]-,1-(O-アセチルオキシム)等のオキシムエステル類;ビス(η5-2,4-シクロペンタジエン-1-イル)-ビス(2,6-ジフルオロ-3-(1H-ピロール-1-イル)フェニル)チタニウム、ビス(シクロペンタジエニル)-ビス[2,6-ジフルオロ-3-(2-(1-ピル-1-イル)エチル)フェニル]チタニウム等のチタノセン類;フェニルジスルフィド2-ニトロフルオレン、ブチロイン、アニソインエチルエーテル、アゾビスイソブチロニトリル、テトラメチルチウラムジスルフィド等を挙げることができる。光重合開始剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。光重合開始剤としては、好ましくはオキシムエステル類(すなわち、オキシムエステル系光重合開始剤)が用いられる。オキシムエステル系重合開始剤の市販品としては、例えば、BASFジャパン株式会社製のIrgacure OXE04等が挙げられる。
 感光性樹脂組成物における光重合開始剤の配合量は、オキシムエステル系光重合開始剤の場合、感光性樹脂組成物におけるその配合量は、カルボキシル基含有樹脂100質量部に対して、固形分基準で、好ましくは0.1~5質量部、より好ましくは0.5~4質量部、さらに好ましくは1~3質量部である。配合量が0.1質量部以上である場合、感光性樹脂組成物の光硬化性が良好となり、耐熱性、耐薬品性等の被膜特性も良好となる。一方、配合量が0.8質量部以下の場合、硬化被膜の光吸収が良好となり、深部硬化性が低下しにくい。また、オキシムエステル系光重合開始剤を以外の光重合開始剤の場合、カルボキシル基含有樹脂100質量部に対して、固形分基準で、好ましくは1~20質量部、より好ましくは2~15質量部である。配合量が1質量部以上である場合、感光性樹脂組成物の光硬化性が良好となり、被膜が剥離しにくく、耐薬品性等の被膜特性も良好となる。一方、配合量が20質量部以下である場合、アウトガスの低減効果が得られ、さらに硬化被膜表面での光吸収が良好となり、深部硬化性が低下しにくい。
 本発明の感光性樹脂組成物は、上述した光重合開始剤に加えて、光開始助剤または増感剤を含んでもよい。光開始助剤または増感剤としては、例えば、ベンゾイン化合物、アントラキノン化合物、チオキサントン化合物、ケタール化合物、ベンゾフェノン化合物、3級アミン化合物、キサントン化合物等が挙げられる。光開始助剤または増感剤としては、特に、2,4-ジメチルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2-クロロチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン、4-イソプロピルチオキサントン等のチオキサントン化合物を用いることが好ましい。光開始助剤または増感剤としてチオキサントン化合物を用いることにより、深部硬化性を向上させることができる。これらの化合物は、単独で光重合開始剤として用いることもできるが、好ましくは上述した光重合開始剤と組み合わせて光開始助剤または増感剤として用いられる。光開始助剤または増感剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(フィラー)
 本発明の感光性樹脂組成物は、フィラーとして(D)ペロブスカイト型化合物および(E)シリカを含む。これらのフィラーを組み合わせて、感光性樹脂組成物に多量に配合することにより、該感光性樹脂組成物により形成される硬化物の誘電率を上昇させることができる。さらに、感光性樹脂組成物にフィラーを多量に配合した場合に生じる硬化物の深部硬化性の悪化を抑制し、現像後かつ熱硬化前および熱硬化後における解像性(画像形成性)の低下を抑制することができる。このように、感光性樹脂組成物において、フィラーとしてペロブスカイト型化合物およびシリカを組み合わせて多量に配合した場合に、硬化物の誘電率の上昇と、現像後かつ熱硬化前および熱硬化後における解像性(画像形成性)の低下の抑制とを両立することができる理由は定かではないが、以下のように推論される。すなわち、フィラーとして導電性であるペロブスカイト型化合物を感光性樹脂組成物に多量に配合することにより、該感光性樹脂組成物により形成される硬化物の誘電率を上昇させることができる。一方で、感光性樹脂組成物に透過性が低い(すなわち、吸収性が高い、または屈折率大きい)フィラーを多量に配合すると、そのような多量のフィラーによる露光時の光の遮断や拡散に起因して、硬化物の深部硬化性が悪化すると考えられる。そして、ペロブスカイト型化合物は光の屈折率が特に大きいことから、硬化物の深部硬化性を悪化させやすい。そこで、ペロブスカイト型化合物と光の屈折率が比較的小さいシリカとを組み合わせて配合することにより露光時の光の遮断や拡散を抑制して多量のフィラーの配合に起因する硬化物の深部硬化性の悪化を抑制し、現像後かつ熱硬化前および熱硬化後のいずれにおいても解像性(画像形成性)の低下を抑制することができると考えられる。
 感光性樹脂組成物に含まれる(D)ペロブスカイト型化合物を構成するペロブスカイト型化合物としては、ペロブスカイト型化合物とは、一般式ABO(AおよびBはそれぞれ2価および4価の金属イオン、Oは酸素イオン)で表され、ペロブスカイト(灰チタン石)と同じ結晶構造を有する化合物であれば特に制限されず、任意の元素組成の化合物を用いることができる。ペロブスカイト型化合物としては、例えば、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウム、ジルコン酸ストロンチウム、およびこれらを主成分とする複合酸化物が挙げられる。ペロブスカイト型化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。ペロブスカイト型化合物としては、好ましくはチタン酸バリウム、チタン酸カルシウムが用いられる。ペロブスカイト型化合物の市販品としては、例えば、堺化学工業株式会社製のBTシリーズ、CTシリーズ、STシリーズ、CZシリーズ、SZシリーズ、CZシリーズ等が挙げられる。
 (D)ペロブスカイト型化合物は表面処理されていることが好ましい。ペロブスカイト型化合物の表面処理としては、ペロブスカイト型化合物の表面に反応性官能基を付与する処理であれば特に限定されず、従来公知のフィラーの表面処理を行うことができる。ペロブスカイト型化合物の表面に付与される反応性官能基としては、例えば、メタクリル基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、アミノ基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基、酸無水物等が挙げられる。表面処理されたペロブスカイト型化合物は、1種の反応性官能基を有していてもよく、2種以上の反応性官能基を有していてもよい。また、表面処理されたペロブスカイト型化合物を2種以上用いる場合、それらは互いに同じ反応性官能基を有していてもよく、異なる反応性官能基を有していてもよい。表面処理されたペロブスカイト型化合物としては、好ましくはその表面にメタクリル基を有するペロブスカイト型化合物が用いられる。ペロブスカイト型化合物が表面処理されていることにより、現像後かつ熱硬化前および熱硬化後における解像性(画像形成性)の低下を特に抑制することができるとともに、感光性樹脂組成物および/またはその硬化物の機械特性やハンドリング性を向上させることができる。
 表面処理されたペロブスカイト型化合物を得るための方法、すなわちペロブスカイト型化合物の表面に反応性官能基を付与する方法としては、従来公知の方法を用いることができる。例えば、反応性官能基を有する各種カップリング剤(例えば、シラン化合物(いわゆるシラン系カップリング剤)、チタネートカップリング剤(チタンカップリング剤)等)とペロブスカイト型化合物とを結合させる(カップリング剤を介してペロブスカイト型化合物と反応性官能基とを結合させる)方法等が挙げられる。なお、本明細書において、カップリング剤とペロブスカイト型化合物との「結合」とは、カップリング剤とペロブスカイト型化合物との間の化学反応を伴う結合(化学吸着)だけでなく、そのような化学反応を伴わない結合(物理吸着)のいずれも含む概念である。
 カップリング剤としては、例えば、シラン系、チタネート系、アルミネート系、ジルコアルミネート系等が挙げられる。これらのうち、好ましくはシラン系カップリング剤またはチタネート系カップリング剤、特に好ましくはシラン系カップリング剤が用いられる。シラン系カップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、N-(2-アミノメチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アニリノプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。カップリング剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
 表面処理されたペロブスカイト型化合物が、反応性官能基を有するカップリング剤とペロブスカイト型化合物とを結合させる方法によって得られるものである場合、その方法としては、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、反応性官能基を有するカップリング剤を溶解した溶媒中に粉体のペロブスカイト型化合物を分散させて(必要に応じて溶媒を除去して)両者を接触させる方法、反応性官能基を有するカップリング剤に粉体のペロブスカイト型化合物を直接添加、混合して両者を接触させる方法等が挙げられる。また、必要に応じて、反応性官能基を有するカップリング剤と粉体のペロブスカイト型化合物とを接触させた後に加熱する工程を含んでもよい。粉体のペロブスカイト型化合物と接触させる反応性官能基を有するカップリング剤の量(カップリング剤の処理量)は、反応性官能基を有するカップリング剤とペロブスカイト型化合物とを結合させる方法、反応性官能基の種類、カップリング剤の種類等に応じて適宜設定することができる。
 ペロブスカイト型化合物の粒子径は特に制限されず、適宜設定することができるが、例えば、0.3~1.0μmとすることができる。ペロブスカイト型化合物の平均粒子径をこのような範囲とすることにより、露光時の光の透過率の低下を抑制して硬化物の深部硬化性を良好なものとすることができるとともに、感光性樹脂組成物における分散性を良好なものとすることができる。なお、本明細書において、フィラーの平均粒子径とは、感光性樹脂組成物に配合される前の平均粒子径であり、レーザー回折法により測定されるD50の値である。レーザー回折法による平均粒子径(D50)の測定装置としては、マイクロトラック・ベル株式会社製のMicrotrac MT3300EXIIが用いられる。
 感光性樹脂組成物におけるペロブスカイト型化合物の配合量は、感光性樹脂組成物の全質量に対して、固形分基準で55~90質量%であり、好ましくは70~90質量%、より好ましくは70~85質量%である。ペロブスカイト型化合物の配合量が55質量%以上であることにより、硬化物の誘電率を良好なものとすることができる。一方、ペロブスカイト型化合物の配合量が90質量%以下であることにより、良好な画像形成性を付与することができる。
 感光性樹脂組成物に含まれる(E)シリカとしては、無定形シリカ、非晶質シリカ、結晶質シリカ、溶融シリカ、球状シリカ等のいずれのシリカも用いることができる。シリカは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。シリカの市販品としては、例えば、株式会社アドマテックス製のSC2500-SMJ等が挙げられる。
 シリカの粒子径は特に制限されず、適宜設定することができるが、例えば、0.4~0.65μmとすることができる。
 シリカは表面されていてもよく、表面処理されていなくてもよい。シリカの表面処理の種類およびその方法は特に制限されず、例えば、上述したペロブスカイト型化合物の表面処理と同様とすることができる。
 感光性樹脂組成物は、上述したペロブスカイト型化合物およびシリカに加えて、他のフィラーをさらに含んでもよい。他のフィラーとしては、公知の無機または有機フィラーを用いることができ、例えば、ハイドロタルサイト、タルク、さらに、白色の外観や難燃性を得るための酸化チタン等の金属酸化物、水酸化アルミ等の金属水酸化物等が挙げられる。
 感光性樹脂組成物におけるシリカの配合量は、感光性樹脂組成物の全質量に対して、固形分基準で、好ましくは0.5~5質量%であり、より好ましくは0.6~4.5質量%である。シリカの配合量が0.5質量%以上であることにより、硬化物の深部硬化性を良好なものとすることができる。一方、シリカの配合量が0.5質量%以下であることにより、ペロブスカイト型化合物による誘電率を十分なものとし、硬化物の誘電率を良好なものとすることができる。
(熱硬化性成分)
 本発明の感光性樹脂組成物において、(F)熱硬化性成分としては、イソシアネート化合物、ブロックイソシアネート化合物、アミノ樹脂、マレイミド化合物、ベンゾオキサジン樹脂、カルボジイミド樹脂、シクロカーボネート化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物、エピスルフィド樹脂等の公知慣用のものが挙げられる。熱硬化性成分は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。熱硬化性成分としては、好ましくはエポキシ化合物(エポキシ樹脂)が用いられる。
 エポキシ樹脂としては、固形エポキシ樹脂、液状エポキシ樹脂等のいずれの形態のエポキシ樹脂も用いることができるが、好ましくは固形エポキシ樹脂が用いられる。エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAのノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、トリヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ビキシレノール型もしくはビフェノール型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、ジグリシジルフタレート樹脂、テトラグリシジルキシレノイルエタン樹脂、グリシジルメタアクリレート共重合系エポキシ樹脂、シクロヘキシルマレイミドとグリシジルメタアクリレートの共重合エポキシ樹脂、CTBN変性エポキシ樹脂等が挙げられる。
 エポキシ樹脂の市販品としては、例えば、三菱ケミカル株式会社製のjER(登録商標)828、806、807、YX8000、YX8034、834、日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製のYD-128、YDF-170、ZX-1059、ST-3000、DIC株式会社製のEPICLON(登録商標)830、835、840、850、N-730A、N-695、HP-7200L-CA85および日本化薬株式会社製のRE-306等が挙げられる。
 感光性樹脂組成物における熱硬化性成分の配合量は、上述したカルボキシル基含有樹脂の含有するカルボキシル基1molあたりに対し、反応する熱硬化性成分の官能基数が0.3~3.0molが好ましく、より好ましくは0.5~2.5molである。
 特に、熱硬化性成分としてエポキシ樹脂が用いられる場合、感光性樹脂組成物におけるエポキシ樹脂のエポキシ基の当量は、固形分基準で、カルボキシル基含有樹脂のカルボキシル基の当量1に対して0.3~3.0当量であることが好ましい。エポキシ樹脂のエポキシ基を0.3当量以上とすることで、硬化被膜におけるカルボキシル基の残渣を防止して、良好な耐熱性や耐アルカリ性、電気絶縁性等を得ることができる。一方、エポキシ樹脂のエポキシ基を3.0当量以下とすることで、低分子量の環状(チオ)エーテル基が乾燥塗膜に残ることを防止して、硬化被膜の強度等を良好に確保することができる。
(熱硬化触媒)
 本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じて熱硬化触媒を配合することができる。感光性樹脂組成物に熱硬化性触媒を配合することにより、上述した熱硬化性成分の熱硬化性を向上させることができる。
 熱硬化触媒としては、例えば、イミダゾール、2-メチルイミダゾール、2-エチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、4-フェニルイミダゾール、1-シアノエチル-2-フェニルイミダゾール、1-(2-シアノエチル)-2-エチル-4-メチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体;ジシアンジアミド、ベンジルジメチルアミン、4-(ジメチルアミノ)-N,N-ジメチルベンジルアミン、4-メトキシ-N,N-ジメチルベンジルアミン、4-メチル-N,N-ジメチルベンジルアミン等のアミン化合物、アジピン酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジド等のヒドラジン化合物;トリフェニルフォスフィン等のリン化合物等が挙げられる。熱硬化触媒の市販品としては、例えば、四国化成工業株式会社製の2MZ-A、2MZ-OK、2PHZ、2P4BHZ、2P4MHZ(いずれもイミダゾール系化合物の商品名)、サンアプロ株式会社製のU-CAT 3513N(ジメチルアミン系化合物の商品名)、DBU、DBN、U-CAT SA 102(いずれも二環式アミジン化合物およびその塩)等が挙げられる。熱硬化触媒は、特にこれらに限られるものではなく、エポキシ樹脂やオキセタン化合物の熱硬化触媒、もしくはエポキシ基およびオキセタニル基の少なくともいずれか1種とカルボキシル基の反応を促進するものであればよい。また、グアナミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、メラミン、2,4-ジアミノ-6-メタクリロイルオキシエチル-S-トリアジン、2-ビニル-2,4-ジアミノ-S-トリアジン、2-ビニル-4,6-ジアミノ-S-トリアジン・イソシアヌル酸付加物、2,4-ジアミノ-6-メタクリロイルオキシエチル-S-トリアジン・イソシアヌル酸付加物等のS-トリアジン誘導体を用いることもでき、好ましくはこれら密着性付与剤としても機能する化合物を熱硬化触媒と併用する。熱硬化触媒は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
 感光性樹脂組成物における熱硬化触媒の配合量は、カルボキシル基含有樹脂100質量部に対して、好ましくは1~20質量部、より好ましくは2~15質量部である。熱硬化触媒の配合量が1質量部以上である場合、感光性樹脂組成物の硬化物が耐熱性に優れる。一方、熱硬化触媒の配合量が20質量部以下の場合、感光性樹脂組成物の保存安定性向上につながる。
(有機溶剤)
 本発明の感光性樹脂組成物には、その調製や、基板やフィルムに塗布する際の粘度調整等の目的で、有機溶剤を配合することができる。有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類;セロソルブ、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、炭酸プロピレン等のエステル類;オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素類;石油エーテル、石油ナフサ、ソルベントナフサ等の石油系溶剤等、公知慣用の有機溶剤を用いることができる。有機溶剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。有機溶剤としては、好ましくは酢酸エチルジューキゾール(ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート)が用いられる。酢酸エチルジューキゾールの市販品としては、例えば、ダウ・ケミカル日本社製のジューキゾールCA等が挙げられる。
 感光性樹脂組成物における有機溶剤の配合量は、感光性樹脂組成物を構成する成分およびその量に応じ適宜変更することが好ましいが、例えば、カルボキシル基含有樹脂(固形分)100質量部に対して50~300質量部とすることができる。
 本発明において、有機溶剤の揮発乾燥は、熱風循環式乾燥炉、IR炉、ホットプレート、コンベクションオーブン等(蒸気による空気加熱方式の熱源を備えたものを用い乾燥機内の熱風を向流接触せしめる方法およびノズルより支持体に吹き付ける方式)を用いて行うことができる。
(その他の添加成分)
 本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じて着色剤、光開始助剤、シアネート化合物、エラストマー、メルカプト化合物、ウレタン化触媒、チキソ化剤、密着促進剤、ブロック共重合体、連鎖移動剤、重合禁止剤、銅害防止剤、酸化防止剤、防錆剤、有機ベントナイト、モンモリロナイト等の増粘剤、シリコーン系、フッ素系、高分子系等の消泡剤およびレベリング剤の少なくともいずれか1種、イミダゾール系、チアゾール系、トリアゾール系等のシランカップリング剤、フォスフィン酸塩、燐酸エステル誘導体、フォスファゼン化合物等のリン化合物等の難燃剤等の成分をさらに配合することができる。これらは、電子材料の分野において公知の物を用いることができる。
 本発明の感光性樹脂組成物は、液状として用いてもよく、後述するドライフィルム化して用いてもよい。また、液状として用いる場合は、1液性であってもよく、2液性以上であってもよい。
[ドライフィルム]
 本発明の感光性樹脂組成物は、第一のフィルムと、この第一のフィルム上に形成される感光性樹脂組成物からなる樹脂層とを備えたドライフィルムの形態とすることもできる。本発明における第一のフィルムとは、基板等の基材と、ドライフィルム上に形成された感光性樹脂組成物からなる層(樹脂層)側とが接するように加熱等によりラミネートして一体成形する際には、少なくとも樹脂層に接着しているものをいう。第一のフィルムはラミネート後の工程において、樹脂層から剥離しても良い。特に本発明においては露光後の工程において、樹脂層から剥離することが好ましい。ドライフィルム化に際しては、本発明の感光性樹脂組成物を上記有機溶剤で希釈して適切な粘度に調整し、コンマコーター、ブレードコーター、リップコーター、ロッドコーター、スクイズコーター、リバースコーター、トランスファロールコーター、グラビアコーター、スプレーコーター等で第一のフィルム上に均一な厚さに塗布し、通常、50~130℃の温度で1~30分間乾燥して膜を得ることができる。塗布膜厚については特に制限はないが、一般に、乾燥後の膜厚で、1~150μm、好ましくは10~60μmの範囲で適宜選択される。
 第一のフィルムとしては、公知のものであれば特に制限なく用いることができ、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム等の熱可塑性樹脂からなるフィルムを好適に用いることができる。これらの中でも、耐熱性、機械的強度、取扱性等の観点から、ポリエステルフィルムが好ましい。また、これらフィルムの積層体を第一のフィルムとして用いることもできる。
 また、上述したような熱可塑性樹脂フィルムは、機械的強度向上の観点から、一軸方向または二軸方向に延伸されたフィルムであることが好ましい。
 第一のフィルムの厚さは、特に制限されるものではないが、例えば、10μm~150μmとすることができる。
 第一のフィルム上に本発明の感光性樹脂組成物の樹脂層を形成した後、さらに、樹脂層の表面に塵が付着するのを防ぐ等の目的で、樹脂層の表面に剥離可能な第二のフィルムを積層することが好ましい。第二のフィルムとは、基板等の基材と、ドライフィルム上に形成された感光性樹脂組成物からなる層(樹脂層)側とが接するように加熱等によりラミネートして一体成形する際に、ラミネート前に樹脂層から剥離されるものをいう。剥離可能な第二のフィルムとしては、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリテトラフルオロエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、表面処理した紙等を用いることができる。第二のフィルムは、該第二のフィルムを剥離する際の樹脂層と第一のフィルムとの接着力よりも樹脂層と第二のフィルムとの接着力がより小さいものであればよい。
 第二のフィルムの厚さは、特に限定されるものではないが、例えば、10μm~150μmとすることができる。
 なお、ドライフィルムは、上記第二のフィルム上に本発明の感光性樹脂組成物を塗布、乾燥させることにより樹脂層を形成して、その表面に第一のフィルムを積層するものであってもよい。すなわち、本発明においてドライフィルムを製造する際に本発明の感光性樹脂組成物を塗布するフィルムとしては、第一のフィルムおよび第二のフィルムのいずれを用いてもよい。
(硬化物)
 本発明の硬化物は、上述した本発明の感光性樹脂組成物またはドライフィルムの樹脂層を硬化して得られるものであり、高い誘電性と良好な解像性とを有する。したがって、本発明の硬化物は、特に高い誘電率が求められる静電容量方式の指紋検出装置で用いられるようなFC-BGA基板におけるソルダーレジスト層の形成に好適に用いられる。
(プリント配線板)
 本発明のプリント配線板は、本発明の感光性樹脂組成物またはドライフィルムの樹脂層から得られる硬化物を有するものである。本発明のプリント配線板の製造方法としては、例えば、本発明の感光性樹脂組成物を、上述した有機溶剤を用いて塗布方法に適した粘度に調整して、基材上に、ディップコート法、フローコート法、ロールコート法、バーコート法、スクリーン印刷法、カーテンコート法等の方法により塗布した後、60~100℃の温度で組成物中に含まれる有機溶剤を揮発乾燥(仮乾燥)させることで、タックフリーの樹脂層を形成する。また、ドライフィルムの場合、ラミネータ等により樹脂層が基材と接触するように基材上に貼り合わせた後、第一のフィルムを剥がすことにより、基材上に樹脂層を形成する。
 プリント配線板の基材としては、あらかじめ銅等により回路形成されたプリント配線板やフレキシブルプリント配線板の他、紙フェノール、紙エポキシ、ガラス布エポキシ、ガラスポリイミド、ガラス布/不繊布エポキシ、ガラス布/紙エポキシ、合成繊維エポキシ、フッ素樹脂・ポリエチレン・ポリフェニレンエーテル,ポリフェニレンオキサイド・シアネート等を用いた高周波回路用銅張積層板等の材質を用いたもので、全てのグレード(FR-4等)の銅張積層板、その他、金属基板、ポリイミドフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレート(PEN)フィルム、ガラス基板、セラミック基板、ウエハ板等を挙げることができる。
 ドライフィルムの基材上への貼合は、真空ラミネータ等を用いて、加圧および加熱下で行うことが好ましい。このような真空ラミネータを用いることにより、回路形成された基板を用いた場合に、回路基板表面に凹凸があっても、ドライフィルムが回路基板に密着するため、気泡の混入がなく、また、基板表面の凹部の穴埋め性も向上する。加圧条件は、0.1~2.0MPa程度であることが好ましく、また、加熱条件は、40~120℃であることが好ましい。
 本発明の感光性樹脂組成物を塗布した後に行う揮発乾燥は、熱風循環式乾燥炉、IR炉、ホットプレート、コンベクションオーブン等(蒸気による空気加熱方式の熱源を備えたものを用いて乾燥機内の熱風を向流接触せしめる方法およびノズルより支持体に吹き付ける方式)を用いて行うことができる。
 基材上に樹脂層を形成後、所定のパターンを形成したフォトマスクを通して選択的に活性エネルギー線により露光し、未露光部を希アルカリ水溶液(例えば、0.3~3質量%炭酸ソーダ水溶液)により現像して硬化物のパターンを形成する。ドライフィルムの場合には、露光後にドライフィルムから第一のフィルムを剥離して現像を行うことにより、基材上にパターニングされた硬化物を形成してもよく、露光前にドライフィルムから第一のフィルムを剥離して、露出した樹脂層を露光および現像することにより、基材上にパターニングされた硬化物を形成してもよい。さらに、硬化物に活性エネルギー線を照射後に加熱硬化(例えば、100~220℃)、もしくは加熱硬化後に活性エネルギー線を照射、または、加熱硬化のみで最終仕上げ硬化(本硬化)させることにより、密着性、硬度等の諸特性に優れた硬化膜を形成する。一つの実施形態において、上述した露光および現像により、基板上における導電体の露出部(円形の開口部)が形成される。開口部の直径は特に限定されないが、例えば100~350μm、100~200μmとすることができる。
 活性エネルギー線照射に用いられる露光機としては、高圧水銀灯ランプ、超高圧水銀灯ランプ、メタルハライドランプ、水銀ショートアークランプ等を搭載し、350~450nmの範囲で紫外線を照射する装置であればよく、さらに、直接描画装置(例えば、コンピューターからのCADデータにより直接レーザーで画像を描くレーザーダイレクトイメージング装置)も用いることができる。直描機のランプ光源またはレーザー光源としては、最大波長が350~450nmの範囲にあるものでよい。画像形成のための露光量は膜厚等によって異なるが、一般には10~1000mJ/cm、好ましくは20~800mJ/cmの範囲内とすることができる。
 現像方法としては、ディッピング法、シャワー法、スプレー法、ブラシ法等によることができ、現像液としては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、リン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、アンモニア、アミン類等のアルカリ水溶液を用いることができる。
 本発明の感光性樹脂組成物の硬化にあたっては、必要に応じて、上述した活性エネルギー線照射による露光および現像の後に紫外線を照射してさらなる硬化を促進してもよく(ポストUV)、加熱して熱硬化を促進させてもよい(ポストキュア)。ポストUV、ポストキュアを行うことにより、感光性樹脂組成物の硬化物の耐熱性、耐薬品性、耐吸湿性、密着性、電気特性等の諸特性をさらに向上させることができる。ポストUVは、例えば、UVコンベア等を用いて1000mJ/cmの積算露光量でUVを照射することにより行うことができる。また、ポストキュアは、例えば、上述した各種乾燥機を用いて150℃で60分間加熱することにより行うことができる。
 本発明の感光性樹脂組成物およびドライフィルムは、いずれもプリント配線板等の電子部品製造用として好適に用いられ、より好適には、永久被膜(硬化物)を形成するために用いられる。本発明の感光性樹脂組成物およびドライフィルムは、高い誘電率を有する硬化物を形成することができるため、特に電子機器におけるアンテナの小型化・薄膜化に寄与し得る。そのような高い誘電率を有する硬化物を形成する場合、本発明の感光性樹脂組成物またはドライフィルムを用いて、上述した方法等により硬化物が形成される。本発明の感光性樹脂組成物またはドライフィルムにより形成される樹脂層が絶縁性である場合、好適には、ソルダーレジストまたはカバーレイまたは層間絶縁層を形成するために用いられる。なお、本発明の感光性樹脂組成物およびドライフィルムは、ソルダーダムを形成するために用いることもできる。
 以下、実施例を挙げて、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例において、「部」および「%」の記載は、特に断りのない限りいずれも質量基準である。
[感光性樹脂組成物の調製]
(カルボキシル基含有樹脂の合成例)
 感光性樹脂組成物の調製前に、下記に示す手順に従って、本実施例で用いられるカルボキシル基含有樹脂を調製した。
 まず、温度計、撹拌機、滴下ロートおよび還流冷却器を備えたフラスコに、溶媒としてジプロピレングリコールモノメチルエーテル325.0質量部を入れ、110℃まで加熱し、メタクリル酸174.0質量部、ε-カプロラクトン変性メタクリル酸(平均分子量314)174.0質量部、メタクリル酸メチル77.0質量部、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル222.0質量部、および重合触媒としてのt-ブチルパーオキシ2-エチルヘキサノエート(日油株式会社製、パーブチル(登録商標)O)12.0質量部の混合物を3時間かけて滴下し、さらに110℃で3時間撹拌し、重合触媒を失活させて樹脂溶液を得た。得られた樹脂溶液を冷却し、次いで株式会社ダイセル製のサイクロマーM100(3,4-エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート)289.0質量部、トリフェニルフォスフィン3.0質量部、およびハイドロキノンモノメチルエーテル1.3質量部を添加し、100℃で撹拌することによってエポキシ基の開環付加反応を行い、カルボキシル基含有樹脂を得た。得られたカルボキシル基含有樹脂は、固形分が45.5質量%、固形分の酸価が79.8mgKOH/gであった。
(ペロブスカイト型化合物の合成)
 感光性樹脂組成物の調製前に、下記に示す手順に従って、本実施例で用いられるペロブスカイト型化合物を調製した。
 まず、堺化学工業株式会社製のチタン酸バリウム2000質量部、信越化学工業株式会社製のシランカップリング剤KBM503(メタクリルシラン)100部、およびダイセル化学株式会社製のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PMA)200部の混合物を作製し、ミキサーを用いて室温で30分撹拌を行い、表面にメタクリル基が付与されたペロブスカイト型化合物を得た。
 下記表1に示す各成分を、同表に示す量(固形分量)で混合し、撹拌機にて予備混合した後、3本ロールミルを用いて混錬し、実施例1~3および比較例1~3の各感光性樹脂組成物を調製した。なお、表1中の各成分の詳細は以下の通りである。
 (A)カルボキシル基含有樹脂:上述したカルボキシル基含有樹脂の合成例により得られたカルボキシル基含有樹脂
 (B)カルボキシル基を含有しない光硬化性化合物:三洋化成工業株式会社製のネオマーDA-600
 (C)光重合開始剤:BASFジャパン株式会社製のIrgacure OXE04
 (D)ペロブスカイト型化合物:上述したペロブスカイト型化合物の合成例により得られたペロブスカイト型化合物
 (E)シリカ:株式会社アドマテックス製のSC2500-SMJ
 (F)熱硬化性成分1:DIC株式会社製のEPICLON(登録商標)HP-7200L-CA85
    熱硬化性成分2:三菱ケミカル株式会社製のjER(登録商標)828
 有機溶剤:ダウ・ケミカル日本社製のジューキゾールCA
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 表中、各成分の量は「質量部」を示し、有機溶剤以外は固形分基準の質量部を示す。
 また、「ペロブスカイト型化合物の含有量」は、「感光性樹脂組成物の固形分の合計」を100質量%とした場合におけるペロブスカイト型化合物の質量%を示す。
[積層構造体の調製]
 上述した手順に従って得られた各感光性樹脂組成物を用いて、下記に示す手順に従って各感光性樹脂組成物に対応する積層構造体(ドライフィルム)を調製した。
 まず、バーコーターを用いて、各感光性樹脂組成物をそれぞれ異なる第一のフィルム(ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム)の一方の面に、乾燥後の膜厚が25μmになるように塗布した。次いで、熱風循環式乾燥炉にて100℃で5~10分間乾燥させて、フィルム上に樹脂層を形成した。次いで、第一のフィルムが接着している側の反対側の樹脂層の表面に第二のフィルム(ポリプロピレン(PP)フィルム)を貼り合わせて積層して、積層構造体を得た。
[画像形成性の評価]
 昭和電工マテリアルズ株式会社製の両面銅張積層板(銅箔の厚さ35μm、基板厚み1.6mm、基板サイズ150mm×95mm)を、メック株式会社製のメックエッチボンドCZ-8101を用いてエッチングレート1μm/mでCZ処理(粗化処理)して、粗化処理された基板を得た。ニッコー・マテリアルズ社製の真空ラミネータCVP-300を用いて、上述した手順に従って得られた各積層構造体から第二のフィルムを剥離し、次いで、粗化処理された基板の粗化面に樹脂層が接するようにラミネートし、粗化処理された基板上に樹脂層および第一のフィルムを積層した。なお、ラミネートは、100℃のチャンバーにて真空圧3hPa、バキューム時間30秒、加圧時間30秒、プレス圧力0.4MPaの条件下で行った。
 次いで、粗化処理された基板上に積層された樹脂層から第一のフィルムを剥離し、株式会社オーク製作所製の露光装置EXP-2960(光源:ショートアークランプ、平行光露光機)を用いて、200mJ/cmの積算露光量で露光して、開口径Φ150μmの微細孔パターンを形成した。次いで、30℃、スプレー圧0.2MPaの条件で1wt%炭酸ナトリウム水溶液を用いて60秒間現像し、現像後、微細孔パターンを有する硬化物(ソルダーレジスト層)を備える各サンプル基板を得た。
 各サンプル基板上の硬化物の微細孔パターンの開口径を測定し、現像後かつ熱硬化前における硬化物の画像形成性を、下記の評価基準に従って評価した。評価結果を表2に示す。
 ◎:開口径Φ150μmの開口部が良好に形成されていた。
 ○:開口径Φ150μmの開口部が形成されていたが、開口部の形状がいびつであった。
 ×:開口径Φ150μmの開口が形成されなかった。
 さらに、細孔パターンを有する硬化物(ソルダーレジスト層)を備える各サンプル基板に、UVコンベア炉を用いて1000mJ/cmの積算露光量の紫外線を照射し、次いで、熱風循環式乾燥炉を用いて150℃で60分間加熱して、各サンプル基板上の硬化物を本硬化させた。
 各サンプル基板上の硬化物の微細孔パターンの開口径を測定し、熱硬化後における画像形成性を、下記の評価基準に従って評価した。評価結果を表2に示す。
 ◎:開口径Φ150μmの開口部が維持されており、かつ片側アンダーカット量が10μm未満であった。
 ○:開口径Φ150μmの開口部が維持されていたが、片側アンダーカット量が10μm以上であった。
 ×:開口径Φ150μmの開口部が維持されず、開口径が著しく縮小していた。
[誘電率の測定]
 ニッコー・マテリアルズ社製の真空ラミネータCVP-300を用いて、上述した手順に従って得られた各積層構造体から第二のフィルムを剥離し、次いで、古河電気工業株式会社製の厚さ18μmの電解銅箔の表面に樹脂層が接するようにラミネートし、電解銅箔の表面に樹脂層および第一のフィルムを積層した。なお、ラミネートは、100℃のチャンバーにて真空圧3hPa、バキューム時間30秒、加圧時間30秒、プレス圧力0.4MPaの条件下で行った。
 次いで、電解銅箔の表面に積層された樹脂層から第一のフィルムを剥離し、株式会社オーク製作所製の露光装置EXP-2960(光源:ショートアークランプ、平行光露光機)を用いて、200mJ/cmの積算露光量で樹脂層を全面露光した。
 露光後の樹脂層(厚さ25μm)上に積層構造体の樹脂層(厚さ25μm)をさらにラミネートして、電解銅箔上に厚さ50μmの樹脂層を形成し、次いで、第一のフィルムを剥離し、株式会社オーク製作所製の露光装置EXP-2960(光源:ショートアークランプ、平行光露光機)を用いて、200mJ/cmの積算露光量で樹脂層を全面露光して、硬化物(ソルダーレジスト層)を備える電解銅箔を得た。なお、ラミネートは、100℃のチャンバーにて真空圧3hPa、バキューム時間30秒、加圧時間30秒、プレス圧力0.4MPaの条件下で行った。この電解銅箔上にラミネートされた樹脂層(厚さ50μm)に、UVコンベア炉を用いて1000mJ/cmの積算露光量の紫外線を照射し、次いで、150℃で60分間加熱して、各電解銅箔の表面の硬化物を本硬化させた。
 次いで、硬化物を備える各電解銅箔から、塩化第二銅340g/L、遊離塩酸濃度51.3g/Lの組成のエッチング液を用いて銅箔をエッチング除去し、十分に水洗、乾燥して、厚さ50μmの硬化物を備える各サンプル電解銅箔を得た。
 各サンプル電解銅箔について、アジレント・テクノロジー株式会社製のSPDR誘電体共振器およびネットワークアナライザAgilent E4991A(RFインピーダンス/マテリアルアナライザー)を用いて、10GHzにおける誘電率をSPDR法により測定し、測定値に基づいて下記の評価基準に従って評価した。評価結果を表2に示す。
 ◎:誘電率が15以上であった。
 ○:誘電率が10以上15未満であった。
 ×:誘電率が10未満であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 表2に示す評価結果から、実施例1~3の各感光性樹脂組成物により形成されるソルダーレジスト層は、現像後かつ熱硬化前および熱硬化後の良好な画像形成性と、高い誘電率とを両立していることが分かる。一方、比較例1~3の各感光性樹脂組成物により形成されるソルダーレジスト層は、現像後かつ熱硬化前および/または熱硬化後の画像形成性と、高い高誘電率とが両立しないことが分かる。

Claims (8)

  1.  (A)カルボキシル基含有樹脂と、(B)カルボキシル基を含有しない光硬化性化合物と、(C)光重合開始剤と、(D)ペロブスカイト型化合物と、(E)シリカと、(F)熱硬化性成分と、を含有する感光性樹脂組成物であって、
     前記(D)ペロブスカイト型化合物の含有量が、前記感光性樹脂組成物の全質量に対して、固形分基準で55~90質量%であることを特徴とする、感光性樹脂組成物。
  2.  前記(D)ペロブスカイト型化合物の含有量が、前記感光性樹脂組成物の全質量に対して、固形分基準で70~90質量%である、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  3.  前記(E)シリカの含有量が、前記感光性樹脂組成物の全質量に対して、固形分基準で0.5~5質量%である、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  4.  前記(D)ペロブスカイト型化合物が、チタン酸バリウムおよびチタン酸カルシウムからなる群から選択される少なくとも1つを含む、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  5.  前記(D)ペロブスカイト型化合物が、シランカップリング剤またはチタネートカップリング剤により表面処理されている、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  6.  第一のフィルムと、該第一のフィルムの少なくとも一方の面に形成された請求項1に記載の感光性樹脂組成物からなる樹脂層とを有する、ドライフィルム。
  7.  請求項1に記載の感光性樹脂組成物、または請求項6に記載のドライフィルムの樹脂層を硬化させた硬化物。
  8.  請求項7に記載の硬化物を備える、プリント配線板。
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