WO2024057998A1 - 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュール、化合物および赤外線吸収剤 - Google Patents

組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュール、化合物および赤外線吸収剤 Download PDF

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WO2024057998A1
WO2024057998A1 PCT/JP2023/032323 JP2023032323W WO2024057998A1 WO 2024057998 A1 WO2024057998 A1 WO 2024057998A1 JP 2023032323 W JP2023032323 W JP 2023032323W WO 2024057998 A1 WO2024057998 A1 WO 2024057998A1
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group
compound
compounds
atom
composition
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有次 吉田
恭平 荒山
Original Assignee
富士フイルム株式会社
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Publication date
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D309/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings
    • C07D309/34—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B23/00—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes
    • C09B23/02—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes the polymethine chain containing an odd number of >CH- or >C[alkyl]- groups
    • C09B23/08—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes the polymethine chain containing an odd number of >CH- or >C[alkyl]- groups more than three >CH- groups, e.g. polycarbocyanines

Definitions

  • the present invention relates to a polymethine compound, a composition containing the same, and an infrared absorber.
  • the present invention also relates to a film, an optical filter, a solid-state image sensor, an image display device, an infrared sensor, and a camera module using a composition containing a polymethine compound.
  • CCDs charge-coupled devices
  • CMOSs complementary metal oxide semiconductors
  • These solid-state image sensors use silicon photodiodes sensitive to infrared rays in their light receiving portions. For this reason, an infrared cut filter may be provided to correct visibility.
  • Infrared cut filters are manufactured using a composition containing an infrared absorber.
  • Polymethine compounds and the like are known as infrared absorbers.
  • Patent Document 1 describes that an infrared cut filter or the like is manufactured using a composition containing a specific polymethine compound or the like.
  • polymethine compounds tend to have low light resistance. Therefore, there is room for further improvement in the light resistance of films obtained using compositions containing these compounds.
  • compositions containing polymethine compounds tend to aggregate and precipitate aggregates during storage of the composition, and when a film is formed using the composition after storage, foreign substances etc. may be present in the film. It was easy to occur. Therefore, there is room for further improvement in the storage stability of compositions containing polymethine compounds.
  • an object of the present invention is to provide a composition that can form a film that has excellent storage stability and excellent light resistance. Further, the present invention provides a film, an optical filter, a solid-state image sensor, an image display device, an infrared sensor, a camera module, a compound, and an infrared absorber.
  • X 1 and X 2 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, a tellurium atom or -NR X1 -
  • R X1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group or an acyl group
  • R 1 and R 2 are each independently an alkyl group, an alkoxy group, an acyl group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryl group, a heterocyclic group, -SR 41 , -SO 2 R 42 , -OSO 2 R 43 , or represents -NR 44 R 45
  • R 41 to R 43 each independently represent an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group
  • R 44 and R 45 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom,
  • R 3 to R 5 , R 11 to R 14 , R 21 to R 24 , R 31 and R 32 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxy group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group , represents a phosphoric acid group, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an acyloxy group, -SR 51 , -SO 2 R 52 , -OSO 2 R 53 , or -NR 54 R 55 , R 51 to R 53 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, R 54 and R 55 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, or an alkoxycarbonyl group, and R 54 and R 55 are connected to form
  • R 3 to R 5 , R 11 to R 14 , and R 21 to R 24 may be connected to each other to form a ring having 5 to 8 members
  • R 31 and R 32 may be connected to form a ring having 5 to 8 members
  • R 11 and R 31 may be connected to form a ring having 5 to 8 members
  • R 21 and R 32 may be connected to form a ring having 5 to 8 members
  • m and n each independently represent an integer from 1 to 10
  • a ⁇ represents an anion.
  • ⁇ 2> The composition according to ⁇ 1>, wherein m and n in the formula (1) are each independently 2 or 3.
  • ⁇ 3> The composition according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein m and n in the above formula (1) are the same integer.
  • X 1 and X 2 in the above formula (1) are each independently an oxygen atom or a sulfur atom.
  • ⁇ 6> The composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, further comprising an infrared absorber other than the compound represented by the above formula (1).
  • ⁇ 7> A film obtained using the composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>.
  • ⁇ 8> An optical filter having the film according to ⁇ 7>.
  • a solid-state imaging device having the film according to ⁇ 7>.
  • An image display device comprising the film according to ⁇ 7>.
  • An infrared sensor having the film according to ⁇ 7>.
  • a camera module having the film according to ⁇ 7>.
  • X 1 and X 2 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, a tellurium atom or -NR X1 -
  • R X1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group or an acyl group
  • R 1 and R 2 are each independently an alkyl group, an alkoxy group, an acyl group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryl group, a heterocyclic group, -SR 41 , -SO 2 R 42 , -OSO 2 R 43 , or represents -NR 44 R 45
  • R 41 to R 43 each independently represent an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group
  • R 44 and R 45 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group,
  • R 3 to R 5 , R 11 to R 14 , R 21 to R 24 , R 31 and R 32 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxy group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group , represents a phosphoric acid group, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an acyloxy group, -SR 51 , -SO 2 R 52 , -OSO 2 R 53 , or -NR 54 R 55 , R 51 to R 53 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, R 54 and R 55 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, or an alkoxycarbonyl group, and R 54 and R 55 are connected to form
  • R 3 to R 5 , R 11 to R 14 , and R 21 to R 24 may be connected to each other to form a ring having 5 to 8 members
  • R 31 and R 32 may be connected to form a ring having 5 to 8 members
  • R 11 and R 31 may be connected to form a ring having 5 to 8 members
  • R 21 and R 32 may be connected to form a ring having 5 to 8 members
  • m and n each independently represent an integer from 1 to 10
  • a ⁇ represents an anion.
  • the present invention it is possible to provide a composition that can form a film that has excellent storage stability and excellent light resistance. Further, the present invention can provide a film, an optical filter, a solid-state image sensor, an image display device, an infrared sensor, a camera module, a compound, and an infrared absorber.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing one embodiment of an infrared sensor.
  • an "alkyl group” includes not only an alkyl group that has no substituents (unsubstituted alkyl groups) but also an alkyl group that has a substituent (substituted alkyl group).
  • exposure includes not only exposure using light but also drawing using particle beams such as electron beams and ion beams.
  • Examples of light used for exposure include the bright line spectrum of a mercury lamp, far ultraviolet light represented by an excimer laser, extreme ultraviolet light (EUV light), X-rays, active rays or radiation such as electron beams.
  • (meth)acrylate refers to both or either of acrylate and methacrylate
  • (meth)acrylic refers to both or either of acrylic and methacrylic
  • (meth)acryloyl refers to both or either of acryloyl and methacryloyl.
  • the weight average molecular weight and the number average molecular weight are defined as values calculated in terms of polystyrene as measured by gel permeation chromatography (GPC).
  • GPC gel permeation chromatography
  • Me in the chemical formulae represents a methyl group
  • Et represents an ethyl group
  • Bu represents a butyl group
  • Ph represents a phenyl group.
  • infrared rays refer to light (electromagnetic waves) with a wavelength of 700 to 2500 nm.
  • the total solids content refers to the total mass of all components of the composition excluding the solvent.
  • the term "process” refers not only to an independent process, but also to a process that cannot be clearly distinguished from other processes, as long as the intended effect of the process is achieved.
  • composition of the present invention is characterized by containing a compound represented by formula (1), a curable compound, and a solvent.
  • the composition of the present invention has excellent storage stability and can form a film in which the generation of foreign matter is suppressed even after long-term storage. Further, according to the present invention, a film having excellent light resistance can be formed. It is presumed that the reason why such an effect is obtained is as follows. That is, the compound represented by formula (1) contained in the composition of the present invention has good compatibility with the solvent and curable compound contained in the composition, and as a result, the composition has excellent storage stability. It is assumed that he was able to do so.
  • R 1 and R 2 in formula (1) are an alkyl group, an alkoxy group, an acyl group, an acyloxy group, an aryl group, a heterocyclic group, or -NR 41 R 42 , it is presumed that the steric hindrance of the methine site increases, and cleavage of the methine site by light irradiation can be suppressed. Therefore, by using the composition of the present invention, a film with excellent light resistance can be formed.
  • the composition of the present invention can be used as a composition for optical filters.
  • Types of optical filters include infrared cut filters and infrared transmission filters. Since the compound represented by formula (1) has excellent visible light transmittance and infrared shielding properties, the composition of the present invention is particularly preferably used as a composition for an infrared cut filter.
  • composition of the present invention contains a compound represented by formula (1).
  • the compound represented by formula (1) is also a compound of the present invention.
  • the compound represented by formula (1) will also be referred to as a specific compound.
  • X 1 and X 2 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, a tellurium atom or -NR X1 -
  • R X1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group or an acyl group
  • R 1 and R 2 are each independently an alkyl group, an alkoxy group, an acyl group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryl group, a heterocyclic group, -SR 41 , -SO 2 R 42 , -OSO 2 R 43 , or represents -NR 44 R 45
  • R 41 to R 43 each independently represent an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group
  • R 44 and R 45 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group
  • R 3 to R 5 , R 11 to R 14 , R 21 to R 24 , R 31 and R 32 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxy group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group , represents a phosphoric acid group, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an acyloxy group, -SR 51 , -SO 2 R 52 , -OSO 2 R 53 or -NR 54 R 55 , R 51 to R 53 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, R 54 and R 55 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, or an alkoxycarbonyl group, and R 54 and R 55 are connected to form a
  • R 3 to R 5 , R 11 to R 14 , and R 21 to R 24 may be connected to each other to form a ring having 5 to 8 members
  • R 31 and R 32 may be connected to form a ring having 5 to 8 members
  • R 11 and R 31 may be connected to form a ring having 5 to 8 members
  • R 21 and R 32 may be connected to form a ring having 5 to 8 members
  • m and n each independently represent an integer from 1 to 10
  • a ⁇ represents an anion.
  • X 1 and X 2 in formula (1) are each independently an oxygen atom or a sulfur atom, and more preferably an oxygen atom. According to this aspect, light resistance and storage stability can be further improved. Furthermore, visible transparency and infrared shielding properties can be further improved.
  • R X1 in -NR X1 - represented by X 1 and X 2 in formula (1) is preferably a hydrogen atom or an alkyl group.
  • R 1 and R 2 in formula (1) each independently represent an alkyl group, an alkoxy group, an acyl group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryl group, a heterocyclic group, -SR 41 , -SO 2 R 42 , -OSO 2 R 43 or -NR 44 R 45 , R 41 to R 43 each independently represent an alkyl group, aryl group, or heterocyclic group, and R 44 and R 45 each independently represent , represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, or an alkoxycarbonyl group.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1 to 30.
  • the lower limit is preferably 2 or more, more preferably 3 or more.
  • the upper limit is preferably 20 or less.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, but is preferably branched or cyclic. Further, the cyclic alkyl group may be a monocyclic cyclic alkyl group or a polycyclic cyclic alkyl group.
  • alkyl group examples include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, n-heptadecyl group, n-octadecyl group, n-nonadecyl group, n-eicosyl group, cyclopentyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group,
  • the number of carbon atoms in the alkoxy group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, and even more preferably 1 to 8.
  • the alkoxy group is preferably linear or branched.
  • the alkoxy groups represented by R 1 and R 2 may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the groups listed below for substituent T, and preferably a halogen atom, an aryl group, or an alkoxy group.
  • the number of carbon atoms in the above acyl group, acyloxy group and alkoxycarbonyl group is preferably 2 to 30, more preferably 2 to 15, and even more preferably 2 to 8.
  • the acyl group, acyloxy group and alkoxycarbonyl group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the groups listed below for substituent T, and preferably a halogen atom, an aryl group, or an alkoxy group.
  • the number of carbon atoms in the aryl group is preferably 6 to 30, more preferably 2 to 20, and even more preferably 6 to 12.
  • the aryl group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the groups listed below for substituent T, and preferably a halogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group.
  • the above heterocyclic group is preferably a 5-membered or 6-membered ring heterocyclic group. Further, the heterocyclic group is preferably a monocyclic heterocyclic group or a fused ring heterocyclic group having 2 to 8 condensed rings; More preferably, it is a heterocyclic group.
  • the heteroatom constituting the ring of the heterocyclic group is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2.
  • the number of carbon atoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 18, even more preferably 1 to 12.
  • the heterocyclic group represented by R 1 and R 2 may have a substituent or may be unsubstituted.
  • substituents include the groups listed below for substituent T, and preferably a halogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group.
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • R 44 and R 45 of the group represented by -NR 44 R 45 may be connected to form a ring.
  • the ring formed is preferably a ring with 5 to 8 members, more preferably a ring with 5 or 6 members.
  • R 1 and R 2 in formula (1) are each independently preferably an alkyl group or an aryl group because the light resistance can be further improved, and the visible transparency can be further improved.
  • An alkyl group is more preferable because it can be used as an alkyl group.
  • R 3 to R 5 , R 11 to R 14 , R 21 to R 24 , R 31 and R 32 in formula (1) each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxy group, a cyano group, Nitro group, carboxy group, phosphoric acid group, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, acyloxy group, -SR 51 , -SO 2 R 52 , -OSO 2 R 53 , or -NR 54
  • R 55 represents, R 51 to R 53 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, R 54 and R 55 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, or an alkoxycarbonyl group.
  • R 3 to R 5 , R 11 to R 14 , R 21 to R 24 , R 31 and R 32 include those explained as these groups represented by R 1 and R 2 , and the preferred range is The same is true.
  • R 54 and R 55 of the group represented by -NR 54 R 55 may be connected to form a ring.
  • the ring formed is preferably a ring with 5 to 8 members, more preferably a ring with 5 or 6 members.
  • R 3 to R 5 in formula (1) are each independently preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom.
  • R 11 to R 14 and R 21 to R 24 in formula (1) are preferably each independently a hydrogen atom or an alkyl group.
  • R 31 and R 32 in formula (1) are each independently preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom.
  • R 3 to R 5 , R 11 to R 14 , and R 21 to R 24 may be connected to each other to form a ring having 5 to 8 members, and R 31 and R 32 may be linked to form a ring having 5 to 8 members.
  • the ring formed is preferably a 5 or 6 member ring.
  • the ring formed may be an aliphatic ring or an aromatic ring.
  • the ring formed is preferably an aromatic ring, more preferably a benzene ring.
  • the formed ring may have a substituent. Examples of the substituent include the groups listed below for substituent T, and preferably a halogen atom, an alkyl group, or an aryl group.
  • R 11 and R 31 may be connected to form a ring with 5 to 8 members, and R 21 and R 32 may be connected to form a ring with 5 to 8 members. good.
  • the ring formed is preferably a 5 or 6 member ring.
  • the formed ring may have a substituent. Examples of the substituent include the groups listed below for substituent T, and preferably a halogen atom, an alkyl group, or an aryl group.
  • R 11 to R 14 and R 21 to R 24 in formula (1) are each independently an alkyl group, and R 11 , R 14 , Examples include embodiments in which R 21 and R 24 are hydrogen atoms.
  • R 11 to R 14 and R 21 to R 24 in formula (1) is that R 11 and R 21 are hydrogen atoms, R 12 and R 22 are each independently an alkyl group, and R 13 and R 14 are linked to form a benzene ring, and R 23 and R 24 are linked to form a benzene ring.
  • R 11 to R 14 and R 21 to R 24 in formula (1) is that R 14 and R 24 are hydrogen atoms, R 13 and R 23 are each independently an alkyl group, and R 11 and R 12 are linked to form a benzene ring, and R 21 and R 22 are linked to form a benzene ring.
  • n and n in formula (1) each independently represent an integer of 1 to 10, preferably an integer of 1 to 3, more preferably 2 or 3, and even more preferably 2. Moreover, m and n in formula (1) are preferably the same integer because storage stability and light resistance can be further improved.
  • a ⁇ in formula (1) represents an anion.
  • anion There are no particular restrictions on the anion. It may be an organic anion or an inorganic anion.
  • anions include the anion represented by formula (AN1), the anion represented by formula (AN2), the anion represented by formula (AN3), the anion represented by formula (AN4), and the anion represented by formula (AN5).
  • examples include fluorine anions, chlorine anions, bromine anions, iodine anions, cyanide ions, perchlorate anions, carboxylate anions, sulfonate anions, phosphate anions, and the like.
  • R AN1 and R AN2 each independently represent a halogen atom or an alkyl group, and R AN1 and R AN2 may be combined to form a ring;
  • R AN3 to R AN5 each independently represent a halogen atom or an alkyl group, and R AN3 and R AN4 , R AN4 and R AN5 , or R AN3 and R AN5 are bonded together.
  • R AN6 to R AN9 each independently represent a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, or a cyano group
  • RAN10 represents a halogenated hydrocarbon group which may be connected by a linking group having a nitrogen atom or an oxygen atom
  • R AN11 to R AN16 each independently represent a halogen atom or a halogenated hydrocarbon group.
  • the halogen atoms represented by R AN1 and R AN2 in formula (AN1), the halogen atoms represented by R AN3 to R AN5 in formula (AN2), and the halogen atoms represented by R AN6 to R AN9 in formula (AN3) include fluorine. Atom, chlorine atom, bromine atom, and iodine atom are mentioned, and fluorine atom is preferable.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group represented by R AN1 and R AN2 in formula (AN1), the alkyl group represented by R AN3 to R AN5 in formula (AN2), and the alkyl group represented by R AN6 to R AN9 in formula (AN3) is , 1 to 10 are preferred, 1 to 6 are more preferred, and 1 to 3 are still more preferred.
  • the alkyl group may be linear, branched, or cyclic, preferably linear or branched, and more preferably linear.
  • the alkyl group may have a substituent or may be unsubstituted.
  • the alkyl group is preferably an alkyl group having a halogen atom as a substituent, and more preferably an alkyl group having a fluorine atom as a substituent (fluoroalkyl group). Further, the fluoroalkyl group is preferably a perfluoroalkyl group.
  • the number of carbon atoms in the aryl group represented by R AN6 to R AN9 in formula (AN3) is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 12, and even more preferably 6.
  • the aryl group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of substituents include halogen atoms and alkyl groups.
  • the halogen atom is preferably a fluorine atom.
  • the alkyl group is preferably a fluoroalkyl group.
  • the number of carbon atoms in the alkoxy group represented by R AN6 to R AN9 in formula (AN3) is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, and even more preferably 1 to 3.
  • the alkoxy group may be linear, branched, or cyclic, preferably linear or branched, and more preferably linear.
  • the alkoxy group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of substituents include halogen atoms and alkyl groups.
  • the halogen atom is preferably a fluorine atom.
  • the alkyl group is preferably a fluoroalkyl group.
  • the number of carbon atoms in the aryloxy group represented by R AN6 to R AN9 in formula (AN3) is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 12, and even more preferably 6.
  • the aryloxy group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of substituents include halogen atoms and alkyl groups.
  • the halogen atom is preferably a fluorine atom.
  • the alkyl group is preferably a fluoroalkyl group.
  • R AN1 and R AN2 in formula (AN1) may be combined to form a ring.
  • RAN3 and RAN4 , RAN4 and RAN5 , or RAN3 and RAN5 in formula (AN2) may be bonded to form a ring.
  • RAN10 in formula (AN4) represents a halogenated hydrocarbon group which may be connected by a linking group having a nitrogen atom or an oxygen atom.
  • the halogenated hydrocarbon group refers to a monovalent hydrocarbon group substituted with a halogen atom, and is preferably a monovalent hydrocarbon group substituted with a fluorine atom.
  • the hydrocarbon group include an alkyl group and an aryl group.
  • the monovalent hydrocarbon group substituted with a halogen atom may further have a substituent.
  • the linking group having a nitrogen atom or an oxygen atom include -O-, -CO-, -COO-, -CO-NH-, and the like.
  • R AN11 to R AN16 in formula (AN5) each independently represent a halogen atom or a halogenated hydrocarbon group.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, with a fluorine atom being preferred.
  • the halogenated hydrocarbon group is preferably an alkyl group having a halogen atom as a substituent, and more preferably an alkyl group having a fluorine atom as a substituent.
  • substituent T examples include the following groups.
  • Halogen atom e.g. fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom
  • alkyl group preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms
  • alkenyl group preferably an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms
  • alkynyl group preferably an alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms
  • an aryl group preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms
  • a heterocyclic group preferably a heterocyclic group having 1 to 30 carbon atoms
  • an amino group preferably an amino group having 0 to 30 carbon atoms
  • an alkoxy group preferably an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms
  • an aryloxy group preferably an aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms
  • a heterocyclic oxy group preferably a carbon Heterocyclic oxy group having 1 to 30 carbon atoms
  • Specific examples of the specific compound include compounds with the structures shown below. Resonance structures of these compounds are also mentioned as specific examples of specific compounds.
  • Me in the structural formula shown below is a methyl group
  • Et is an ethyl group
  • nPr is an n-propyl group
  • iPr is an isopropyl group
  • nBu is an n-butyl group
  • tBu is a It is a tert-butyl group
  • Hex is a hexyl group
  • Cy is a cyclohexyl group
  • Ad is an adamantyl group
  • Ph is a phenyl group
  • Ac is an acetyl group.
  • the maximum absorption wavelength of the specific compound is preferably in the wavelength range of 650 to 1,500 nm, more preferably in the wavelength range of 680 to 1,200 nm, and more preferably in the wavelength range of 700 to 100 nm. It is more preferable that it exists in the range of 0 nm.
  • the specific compound is preferably used as an infrared absorber.
  • the content of the specific compound (compound represented by formula (1)) in the total solid content of the composition is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.5% by mass or more. , more preferably 3% by mass or more, particularly preferably 5% by mass or more.
  • the upper limit of the content of the infrared absorber is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, and even more preferably 30% by mass or less.
  • the composition of the present invention may contain only one type of specific compound, or may contain two or more types of specific compounds. When two or more types are included, it is preferable that their total amount falls within the above range.
  • the composition of the invention contains a curable compound.
  • the curable compound include polymerizable compounds, resins, and the like.
  • the resin may be a non-polymerizable resin (resin that does not have a polymerizable group) or a polymerizable resin (resin that has a polymerizable group).
  • the polymerizable group include ethylenically unsaturated bond-containing groups, cyclic ether groups, methylol groups, and alkoxymethyl groups.
  • Examples of the ethylenically unsaturated bond-containing group include a vinyl group, vinylphenyl group, (meth)allyl group, (meth)acryloyl group, (meth)acryloyloxy group, (meth)acryloylamide group, etc. Allyl group, (meth)acryloyl group and (meth)acryloyloxy group are preferred, and (meth)acryloyloxy group is more preferred.
  • Examples of the cyclic ether group include an epoxy group and an oxetanyl group, with an epoxy group being preferred.
  • the curable compound it is preferable to use one containing at least a resin.
  • a resin and a polymerizable compound preferably a polymerizable monomer that is a monomer-type polymerizable compound
  • the curable compound is preferable, and it is more preferable to use a resin and a polymerizable monomer (monomer type polymerizable compound) having an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • polymerizable compound examples include a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group, a compound having a cyclic ether group, a compound having a methylol group, a compound having an alkoxymethyl group, and the like.
  • a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group can be preferably used as a radically polymerizable compound.
  • a compound having a cyclic ether group can be preferably used as a cationically polymerizable compound.
  • resin-type polymerizable compounds include resins containing repeating units having polymerizable groups.
  • the molecular weight of the monomer-type polymerizable compound is preferably less than 2,000, more preferably 1,500 or less.
  • the lower limit of the molecular weight of the polymerizable monomer is preferably 100 or more, more preferably 200 or more.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the resin type polymerizable compound is preferably 2,000 to 2,000,000.
  • the upper limit of the weight average molecular weight is preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less.
  • the lower limit of the weight average molecular weight is preferably 3,000 or more, more preferably 5,000 or more.
  • the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group as a polymerizable monomer is preferably a 3- to 15-functional (meth)acrylate compound, more preferably a 3- to 6-functional (meth)acrylate compound.
  • Specific examples include paragraph numbers 0095 to 0108 of JP 2009-288705, paragraph 0227 of JP 2013-029760, paragraph 0254 to 0257 of JP 2008-292970, and JP 2013-253224. Described in paragraph numbers 0034 to 0038 of the publication, paragraph number 0477 of JP 2012-208494, JP 2017-048367, JP 6057891, JP 6031807, JP 2017-194662. , the contents of which are incorporated herein.
  • Examples of compounds having an ethylenically unsaturated bond-containing group include dipentaerythritol tri(meth)acrylate (commercially available product: KAYARAD D-330; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol tetra(meth)acrylate (commercially available)
  • Examples of commercially available products include KAYARAD D-320 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol penta(meth)acrylate (commercially available products are KAYARAD D-310; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and dipentaerythritol hexa (meth) ) acrylate (commercially available products are KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.; NK ester A-DPH-12E; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), and the (meth)acryloyl group
  • diglycerin EO (ethylene oxide) modified (meth)acrylate commercially available product is M-460; manufactured by Toagosei
  • pentaerythritol tetraacrylate Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • NK ester A-TMMT 1,6-hexanediol diacrylate
  • RP-1040 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • Aronix TO-2349 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • NK Oligo UA-7200 Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • 8UH-1006, 8UH-1012 Taisei Fine Chemical Co., Ltd.
  • examples of compounds having an ethylenically unsaturated bond-containing group include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, trimethylolpropanepropylene oxide-modified tri(meth)acrylate, trimethylolpropaneethylene oxide-modified tri(meth)acrylate, and isocyanuric acid ethylene oxide. It is also preferable to use trifunctional (meth)acrylate compounds such as modified tri(meth)acrylate and pentaerythritol tri(meth)acrylate. Commercially available trifunctional (meth)acrylate compounds include Aronix M-309, M-310, M-321, M-350, M-360, M-313, M-315, M-306, M-305.
  • M-303, M-452, M-450 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), NK ester A9300, A-GLY-9E, A-GLY-20E, A-TMM-3, A-TMM-3L, A -TMM-3LM-N, A-TMPT, TMPT (manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.), KAYARAD GPO-303, TMPTA, THE-330, TPA-330, PET-30 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) Examples include.
  • the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group may further have an acid group such as a carboxy group, a sulfo group, or a phosphoric acid group.
  • an acid group such as a carboxy group, a sulfo group, or a phosphoric acid group.
  • Commercially available products of such compounds include Aronix M-305, M-510, M-520, Aronix TO-2349 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), and the like.
  • a compound having a caprolactone structure can also be used.
  • the description in paragraphs 0042 to 0045 of JP-A No. 2013-253224 can be referred to, the contents of which are incorporated herein.
  • Examples of compounds having a caprolactone structure include DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, and DPCA-120, which are commercially available as a series from Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group and an alkyleneoxy group can also be used.
  • Such a compound is preferably a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group and an ethyleneoxy group and/or a propyleneoxy group, and preferably a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group and an ethyleneoxy group. More preferably, it is a 3- to 6-functional (meth)acrylate compound having 4 to 20 ethyleneoxy groups.
  • SR-494 a tetrafunctional (meth)acrylate having four ethyleneoxy groups manufactured by Sartomer, and trifunctional (meth)acrylate having three isobutyleneoxy groups manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • examples include KAYARAD TPA-330.
  • a polymerizable compound having a fluorene skeleton can also be used.
  • Commercially available products include Ogsol EA-0200 and EA-0300 (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd., (meth)acrylate monomer having a fluorene skeleton).
  • the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group it is also preferable to use a compound substantially free of environmentally regulated substances such as toluene.
  • Commercially available products of such compounds include KAYARAD DPHA LT, KAYARAD DPEA-12 LT (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and the like.
  • Examples of the compound having a cyclic ether group include a compound having an epoxy group, a compound having an oxetanyl group, etc., and a compound having an epoxy group is preferable.
  • Examples of compounds having epoxy groups include compounds having 1 to 100 epoxy groups in one molecule.
  • the upper limit of the number of epoxy groups can be, for example, 10 or less, or 5 or less.
  • the lower limit of the number of epoxy groups is preferably 2 or more.
  • the compound having a cyclic ether group may be a low molecular weight compound (e.g., molecular weight less than 1000) or a high molecular weight compound (macromolecule) (e.g., molecular weight 1000 or more, in the case of a polymer, weight average molecular weight 1000 or more).
  • the weight average molecular weight of the cyclic ether group is preferably 200 to 100,000, more preferably 500 to 50,000.
  • the upper limit of the weight average molecular weight is preferably 10,000 or less, more preferably 5,000 or less, and even more preferably 3,000 or less.
  • Examples of compounds having a cyclic ether group include compounds described in paragraph numbers 0034 to 0036 of JP-A No. 2013-011869, compounds described in paragraph numbers 0147 to 0156 of JP-A-2014-043556, and JP-A No. 2014. Compounds described in paragraph numbers 0085 to 0092 of JP-A-089408 and compounds described in JP-A-2017-179172 can also be used.
  • Examples of compounds having a methylol group include compounds in which a methylol group is bonded to a nitrogen atom or a carbon atom forming an aromatic ring.
  • Examples of compounds having an alkoxymethyl group include compounds in which an alkoxymethyl group is bonded to a nitrogen atom or a carbon atom forming an aromatic ring.
  • Compounds in which an alkoxymethyl group or a methylol group is bonded to a nitrogen atom include alkoxymethylated melamine, methylolated melamine, alkoxymethylated benzoguanamine, methylolated benzoguanamine, alkoxymethylated glycoluril, methylolated glycoluril, alkoxymethylated Preferred are urea and methylolated urea. Further, compounds described in paragraphs 0134 to 0147 of JP-A No. 2004-295116 and paragraphs 0095 to 0126 of JP-A No. 2014-089408 can also be used.
  • the composition of the present invention can use a resin as a curable compound. It is preferable to use a curable compound containing at least a resin.
  • the resin is blended, for example, for dispersing pigments and the like in the composition or for use as a binder.
  • a resin used mainly for dispersing pigments and the like in a composition is also referred to as a dispersant.
  • this use of the resin is just an example, and the resin can also be used for purposes other than this use.
  • the resin having a polymerizable group also corresponds to a polymerizable compound.
  • the weight average molecular weight of the resin is preferably 3,000 to 2,000,000.
  • the upper limit is preferably 1,000,000 or less, and more preferably 500,000 or less.
  • the lower limit is preferably 4,000 or more, and more preferably 5,000 or more.
  • resins include (meth)acrylic resin, epoxy resin, ene thiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylene resin, polyarylene ether phosphine oxide resin, polyimide resin, Examples include polyamide resin, polyamideimide resin, polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyester resin, styrene resin, vinyl acetate resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, polyurethane resin, and polyurea resin. One type of these resins may be used alone, or two or more types may be used in combination.
  • norbornene resin is preferable from the viewpoint of improving heat resistance.
  • Commercially available norbornene resins include, for example, the ARTON series manufactured by JSR Corporation (eg, ARTON F4520).
  • examples of the resin include resins described in paragraph numbers 0091 to 0099 of International Publication No. 2022/065215, block polyisocyanate resins described in JP2016-222891A, and resins described in JP2020-122052A.
  • the resin represented by formula 1 described in JP-A No. 2021-134350 It is also possible to use other resins. Further, as the resin, a resin having a fluorene skeleton can also be preferably used. Examples of the resin having a fluorene skeleton include resins described in US Patent Application Publication No. 2017/0102610.
  • a resin having acid groups examples include a carboxy group, a phosphoric acid group, a sulfo group, and a phenolic hydroxy group. The number of these acid groups may be one, or two or more.
  • a resin having an acid group can also be used as a dispersant.
  • the acid value of the resin having acid groups is preferably 30 to 500 mgKOH/g.
  • the lower limit is preferably 50 mgKOH/g or more, more preferably 70 mgKOH/g or more.
  • the upper limit is preferably 400 mgKOH/g or less, more preferably 200 mgKOH/g or less, even more preferably 150 mgKOH/g or less, and most preferably 120 mgKOH/g or less.
  • the resin it is also preferable to use a resin having a polymerizable group.
  • the polymerizable group is preferably an ethylenically unsaturated bond-containing group and a cyclic ether group, and more preferably an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • the resin includes a resin as a dispersant.
  • the dispersant include acidic dispersants (acidic resins) and basic dispersants (basic resins).
  • the acidic dispersant (acidic resin) refers to a resin in which the amount of acid groups is greater than the amount of basic groups.
  • the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a resin in which the amount of acid groups is 70 mol % or more when the total amount of acid groups and basic groups is 100 mol %.
  • the acid group that the acidic dispersant (acidic resin) has is preferably a carboxy group.
  • the acid value of the acidic dispersant (acidic resin) is preferably 10 to 105 mgKOH/g.
  • the basic dispersant refers to a resin in which the amount of basic groups is greater than the amount of acid groups.
  • the basic dispersant (basic resin) is preferably a resin in which the amount of basic groups exceeds 50 mol% when the total amount of acid groups and basic groups is 100 mol%.
  • the basic group that the basic dispersant has is preferably an amino group.
  • the resin used as a dispersant is a graft resin.
  • the descriptions in paragraphs 0025 to 0094 of JP-A No. 2012-255128 can be referred to, the contents of which are incorporated herein.
  • the resin used as a dispersant is a polyimine-based dispersant containing a nitrogen atom in at least one of the main chain and the side chain.
  • the polyimine dispersant has a main chain having a partial structure having a functional group with a pKa of 14 or less, a side chain having 40 to 10,000 atoms, and a basic nitrogen atom in at least one of the main chain and the side chain.
  • the resin has The basic nitrogen atom is not particularly limited as long as it exhibits basicity.
  • the description in paragraphs 0102 to 0166 of JP-A-2012-255128 can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
  • the resin used as the dispersant has a structure in which a plurality of polymer chains are bonded to the core portion.
  • resins include dendrimers (including star-shaped polymers).
  • specific examples of dendrimers include polymer compounds C-1 to C-31 described in paragraph numbers 0196 to 0209 of JP-A No. 2013-043962.
  • the resin used as a dispersant is also preferably a resin containing a repeating unit having an ethylenically unsaturated bond-containing group in its side chain.
  • the content of the repeating unit having an ethylenically unsaturated bond-containing group in its side chain is preferably 10 mol% or more, more preferably 10 to 80 mol%, and more preferably 20 to 70 mol% of the total repeating units of the resin. More preferably, it is mol%.
  • Dispersants are also available as commercial products, and specific examples include the DISPERBYK series manufactured by BYK Chemie, the SOLSPERSE series manufactured by Japan Lubrizol, the Efka series manufactured by BASF, and Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd. Examples include the Ajisper series manufactured by Manufacturer. Further, the product described in paragraph number 0129 of JP 2012-137564A and the product described in paragraph number 0235 of JP 2017-194662A can also be used as a dispersant.
  • the content of the curable compound in the total solid content of the composition is preferably 1 to 95% by mass.
  • the lower limit is preferably 2% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, even more preferably 7% by mass or more, and particularly preferably 10% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 94% by mass or less, more preferably 90% by mass or less, even more preferably 85% by mass or less, and particularly preferably 80% by mass or less.
  • the content of the polymerizable compound in the total solid content of the composition is preferably 1 to 85% by mass.
  • the lower limit is preferably 2% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and even more preferably 5% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 80% by mass or less, more preferably 70% by mass or less.
  • the content of the polymerizable monomer in the total solid content of the composition is preferably 1 to 50% by mass.
  • the lower limit is preferably 2% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and even more preferably 5% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less.
  • the content of the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group in the total solid content of the composition is 1 to 70%.
  • Mass % is preferred.
  • the lower limit is preferably 2% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and even more preferably 5% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 65% by mass or less, more preferably 60% by mass or less.
  • the content of the compound having a cyclic ether group in the total solid content of the composition is preferably 1 to 95% by mass.
  • the lower limit is preferably 2% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and even more preferably 5% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 80% by mass or less, more preferably 70% by mass or less, and even more preferably 60% by mass or less.
  • the content of the resin in the total solid content of the composition is preferably 1 to 85% by mass.
  • the lower limit is preferably 2% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, even more preferably 7% by mass or more, and particularly preferably 10% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 80% by mass or less, more preferably 75% by mass or less, even more preferably 70% by mass or less, and particularly preferably 40% by mass or less.
  • the content of the resin as a dispersant in the total solid content of the composition is preferably 0.1 to 40% by mass.
  • the upper limit is preferably 25% by mass or less, more preferably 20% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more.
  • the content of the resin as a dispersant is preferably 1 to 100 parts by weight per 100 parts by weight of the pigment.
  • the upper limit is preferably 80 parts by mass or less, more preferably 75 parts by mass or less.
  • the lower limit is preferably 2.5 parts by mass or more, more preferably 5 parts by mass or more.
  • composition of the present invention may contain only one type of curable compound, or may contain two or more types. When two or more types of curable compounds are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the composition of the invention contains a solvent.
  • the solvent include water and organic solvents, with organic solvents being preferred.
  • the organic solvent include ester solvents, ketone solvents, alcohol solvents, amide solvents, ether solvents, and hydrocarbon solvents.
  • paragraph number 0223 of International Publication No. 2015/166779 can be referred to, the contents of which are incorporated herein.
  • Ester solvents substituted with a cyclic alkyl group and ketone solvents substituted with a cyclic alkyl group can also be preferably used.
  • organic solvents include polyethylene glycol monomethyl ether, dichloromethane, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2 -Heptanone, 2-pentanone, 3-pentanone, 4-heptanone, cyclohexanone, 2-methylcyclohexanone, 3-methylcyclohexanone, 4-methylcyclohexanone, cycloheptanone, cyclooctanone, cyclohexyl acetate, cyclopentanone, ethyl carbitol Acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxy-N,N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N
  • aromatic hydrocarbons benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc.
  • organic solvents for environmental reasons (for example, 50 mass ppm (parts) based on the total amount of organic solvents). per million), 10 mass ppm or less, and 1 mass ppm or less).
  • an organic solvent with a low metal content it is preferable to use an organic solvent with a low metal content, and the metal content of the organic solvent is preferably 10 mass ppb (parts per billion) or less, for example. If necessary, an organic solvent at a mass ppt (parts per trillion) level may be used, and such an organic solvent is provided by Toyo Gosei Co., Ltd. (Kagaku Kogyo Nippo, November 13, 2015).
  • Examples of methods for removing impurities such as metals from organic solvents include distillation (molecular distillation, thin film distillation, etc.) and filtration using a filter.
  • the filter pore diameter of the filter used for filtration is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 5 ⁇ m or less, and even more preferably 3 ⁇ m or less.
  • the material of the filter is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene, or nylon.
  • the organic solvent may contain isomers (compounds with the same number of atoms but different structures). Moreover, only one type of isomer may be included, or multiple types may be included.
  • the content of peroxide in the organic solvent is 0.8 mmol/L or less, and it is more preferable that the organic solvent contains substantially no peroxide.
  • the content of the solvent in the composition is preferably 10 to 97% by mass.
  • the lower limit is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, even more preferably 50% by mass or more, even more preferably 60% by mass or more, and 70% by mass. It is particularly preferable that it is above.
  • the upper limit is preferably 96% by mass or less, more preferably 95% by mass or less.
  • the composition may contain only one kind of solvent, or may contain two or more kinds. When two or more types are included, it is preferable that their total amount falls within the above range.
  • the composition of the present invention can contain infrared absorbers (other infrared absorbers) other than the above-mentioned specific compounds. Furthermore, by containing other infrared absorbers, it is possible to form a film that can block infrared rays in a wider wavelength range.
  • Other infrared absorbers may be dyes or pigments (particles).
  • infrared absorbers include pyrrolopyrrole compounds, polymethine compounds, squarylium compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, quaterylene compounds, merocyanine compounds, croconium compounds, oxonol compounds, iminium compounds, dithiol compounds, triarylmethane compounds, and pyrromethene compounds. , azomethine compounds, anthraquinone compounds, dibenzofuranone compounds, dithiolene metal complexes, metal oxides, metal borides, etc., and preferably at least one selected from squarylium compounds and phthalocyanine compounds.
  • Examples of pyrrolopyrrole compounds include compounds described in paragraph numbers 0016 to 0058 of JP2009-263614A, compounds described in paragraphs 0037 to 0052 of JP2011-068731A, and compounds described in WO2015/166873A. Examples include compounds described in paragraph numbers 0010 to 0033. Examples of squarylium compounds include compounds described in paragraph numbers 0044 to 0049 of JP-A No. 2011-208101, compounds described in paragraph numbers 0060 to 0061 of Japanese Patent No. 6065169, and paragraph number 0040 of International Publication No. 2016/181987.
  • Examples of phthalocyanine compounds include compounds described in paragraph number 0093 of JP-A No. 2012-077153, oxytitanium phthalocyanine described in JP-A 2006-343631, and paragraphs 0013 to 0029 of JP-A 2013-195480. , the vanadium phthalocyanine compound described in Patent No. 6081771, and the compound described in International Publication No. 2020/071470.
  • Examples of naphthalocyanine compounds include compounds described in paragraph number 0093 of JP-A No. 2012-077153.
  • Examples of the dithiolene metal complex include compounds described in Japanese Patent No. 5733804.
  • metal oxide examples include indium tin oxide, antimony tin oxide, zinc oxide, Al-doped zinc oxide, fluorine-doped tin dioxide, niobium-doped titanium dioxide, and tungsten oxide.
  • metal borides include lanthanum boride.
  • Commercially available lanthanum boride products include LaB 6 -F (manufactured by Nippon Shinkinzoku Co., Ltd.).
  • a metal boride the compound described in International Publication No. 2017/119394 can also be used.
  • commercially available indium tin oxide products include F-ITO (manufactured by DOWA Hitech Co., Ltd.).
  • infrared absorbers examples include squarylium compounds described in JP 2017-197437, squarylium compounds described in JP 2017-025311, squarylium compounds described in International Publication No. 2016/154782, and Japanese Patent No. 5884953.
  • squarylium compounds described in Japanese Patent No. 6036689 examples include squarylium compounds described in Japanese Patent No. 5810604, squarylium compounds described in paragraphs 0090 to 0107 of International Publication No. 2017/213047, Japanese Patent Publication No.
  • tungsten oxide represented by the following formula described in paragraph number 0025 of European Patent No. 3,628,645 can also be used.
  • M 1 and M 2 represent ammonium cations or metal cations, a is 0.01 to 0.5, b is 0 to 0.5, c is 1, and d is 2.5 to 3.
  • e is 0.01 to 0.75, n is 1, 2 or 3, m is 1, 2 or 3, and R represents a hydrocarbon group which may have a substituent. represent.
  • the content of other infrared absorbers is preferably 1 to 100 parts by weight, more preferably 3 to 60 parts by weight, and 5 to 40 parts by weight based on 100 parts by weight of the above-mentioned specific compound. is even more preferable.
  • the total content of the above-mentioned specific compound and other infrared absorbers is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and 5% by mass or more based on the total solid content of the composition. It is more preferable that The upper limit of the total content is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, and even more preferably 30% by mass or less.
  • the composition of the invention may contain pigment derivatives.
  • Pigment derivatives are used as dispersion aids.
  • a dispersion aid is a material for improving the dispersibility of pigments in a composition.
  • Examples of the pigment derivative include compounds having at least one structure selected from the group consisting of a pigment structure and a triazine structure, and an acid group or a basic group.
  • the above dye structures include squarylium dye structure, pyrrolopyrrole dye structure, diketopyrrolopyrrole dye structure, quinacridone dye structure, anthraquinone dye structure, dianthraquinone dye structure, benzisoindole dye structure, thiazine indigo dye structure, and azo dye structure.
  • quinophthalone dye structure phthalocyanine dye structure, naphthalocyanine dye structure, dioxazine dye structure, perylene dye structure, perinone dye structure, benzimidazolone dye structure, benzothiazole dye structure, benzimidazole dye structure and benzoxazole dye structure
  • Squarylium dye structures pyrrolopyrrole dye structures, diketopyrrolopyrrole dye structures, phthalocyanine dye structures, quinacridone dye structures and benzimidazolone dye structures are preferred, and squarylium dye structures and pyrrolopyrrole dye structures are more preferred.
  • Examples of the acid group that the pigment derivative has include a carboxyl group, a sulfo group, a phosphoric acid group, a boronic acid group, a carboxylic acid amide group, a sulfonic acid amide group, an imide acid group, and salts thereof.
  • Atoms or atomic groups constituting the salt include alkali metal ions (Li + , Na + , K + , etc.), alkaline earth metal ions (Ca 2+ , Mg 2+ , etc.), ammonium ions, imidazolium ions, pyridinium ions, Examples include phosphonium ions.
  • As the carboxylic acid amide group a group represented by -NHCOR y1 is preferable.
  • a group represented by -NHSO 2 R y2 is preferable.
  • the imide acid group is preferably a group represented by -SO 2 NHSO 2 R y3 , -CONHSO 2 R y4 , -CONHCOR y5 or -SO 2 NHCOR y6 , and -SO 2 NHSO 2 R y3 is more preferred.
  • R y1 to R y6 each independently represent an alkyl group or an aryl group.
  • the alkyl group and aryl group represented by R y1 to R y6 may have a substituent.
  • the substituent is preferably a halogen atom, more preferably a fluorine atom.
  • Examples of the basic group that the pigment derivative has include an amino group, a pyridinyl group and its salts, an ammonium group salt, and a phthalimidomethyl group.
  • Examples of atoms or atomic groups constituting the salt include hydroxide ions, halogen ions, carboxylate ions, sulfonate ions, and phenoxide ions.
  • pigment derivatives include compounds described in paragraph numbers 0037 to 0054 of International Publication No. 2016/035695, compounds described in paragraph numbers 0061 to 0086 of International Publication No. 2017/146092, and compounds described in International Publication No. 2018/230387.
  • Compounds described in paragraph numbers 0017 to 0068 of WO 2020/054718, compounds described in paragraph numbers 0099 of WO 2020/054718, WO 2022 /085485, paragraph 0124, benzimidazolone compounds or their salts described in JP 2018-168244, compounds having an isoindoline skeleton described in general formula (1) of Patent No. 6996282, etc. can be mentioned.
  • the content of the pigment derivative is preferably 1 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the pigment.
  • the lower limit is preferably 3 parts by mass or more, more preferably 5 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 40 parts by mass or less, more preferably 30 parts by mass or less. Only one type of pigment derivative may be used, or two or more types may be used. When two or more types are used, it is preferable that the total amount falls within the above range.
  • the composition of the present invention contains a polymerizable compound
  • the photopolymerization initiator is not particularly limited and can be appropriately selected from known photopolymerization initiators. For example, compounds having photosensitivity to light in the ultraviolet to visible range are preferred.
  • the photopolymerization initiator is preferably a radical photopolymerization initiator.
  • photopolymerization initiators include halogenated hydrocarbon derivatives (e.g., compounds with a triazine skeleton, compounds with an oxadiazole skeleton, etc.), acylphosphine compounds, hexaarylbiimidazole compounds, oxime compounds, organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds, and the like.
  • halogenated hydrocarbon derivatives e.g., compounds with a triazine skeleton, compounds with an oxadiazole skeleton, etc.
  • acylphosphine compounds e.g., acylphosphine compounds, hexaarylbiimidazole compounds, oxime compounds, organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds, and the like.
  • photopolymerization initiators include trihalomethyltriazine compounds, benzyl dimethyl ketal compounds, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds, acylphosphine compounds, phosphine oxide compounds, metallocene compounds, oxime compounds, and hexaarylbylene compounds.
  • imidazole compounds onium compounds, benzothiazole compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds, cyclopentadiene-benzene-iron complexes, halomethyloxadiazole compounds and 3-aryl substituted coumarin compounds, oxime compounds, ⁇ -hydroxyketones
  • the compound is more preferably a compound selected from a compound, an ⁇ -aminoketone compound, and an acylphosphine compound, and even more preferably an oxime compound.
  • photopolymerization initiators compounds described in paragraphs 0065 to 0111 of JP-A-2014-130173, compounds described in Japanese Patent No. 6301489, MATERIAL STAGE 37 to 60p, vol. 19, No.
  • hexaarylbiimidazole compounds include 2,2',4-tris(2-chlorophenyl)-5-(3,4-dimethoxyphenyl)-4,5-diphenyl-1,1'-biimidazole, etc. can be mentioned.
  • ⁇ -hydroxyketone compounds include Omnirad 184, Omnirad 1173, Omnirad 2959, Omnirad 127 (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 184, and Irgacure 117. 3, Irgacure 2959, Irgacure 127 (all BASF (manufactured by a company).
  • Commercially available ⁇ -aminoketone compounds include Omnirad 907, Omnirad 369, Omnirad 369E, Omnirad 379EG (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 907, and Irgacure 36.
  • Irgacure 369E Irgacure 379EG (all manufactured by BASF) (manufactured by).
  • Commercially available acylphosphine compounds include Omnirad 819, Omnirad TPO (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 819, Irgacure TPO (manufactured by BASF), and the like.
  • Examples of oxime compounds include the compound described in paragraph number 0142 of International Publication No. 2022/085485, the compound described in Patent No. 5430746, the compound described in Patent No. 5647738, and the general formula ( Examples include the compound represented by 1), the compound described in paragraphs 0022 to 0024, the compound represented by general formula (1) and the compound described in paragraphs 0117 to 0120 of JP-A-2021-170089.
  • oxime compounds include 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one, 3-propionyloxyiminobutan-2-one, 2-acetoxyiminopentan-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3-(4-toluenesulfonyloxy)iminobutan-2-one, 2-ethoxycarbonyloxyimino -1-phenylpropan-1-one, 1-[4-(phenylthio)phenyl]-3-cyclohexyl-propane-1,2-dione-2-(O-acetyloxime), and the like.
  • photopolymerization initiators include oxime compounds having a fluorene ring, oxime compounds having a skeleton in which at least one benzene ring of a carbazole ring is a naphthalene ring, oxime compounds having a fluorine atom, oxime compounds having a nitro group, and benzofuran skeleton.
  • An oxime compound having a carbazole skeleton bonded with a substituent having a hydroxy group, and compounds described in paragraphs 0143 to 0149 of International Publication No. 2022/085485 can also be used.
  • oxime compounds preferably used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
  • the oxime compound is preferably a compound having a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 350 to 500 nm, more preferably a compound having a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 360 to 480 nm.
  • the molar extinction coefficient of the oxime compound at a wavelength of 365 nm or 405 nm is preferably high, more preferably from 1000 to 300,000, even more preferably from 2000 to 300,000, and even more preferably from 5000 to 200,000. It is particularly preferable that there be.
  • the molar extinction coefficient of a compound can be measured using a known method. For example, it is preferable to measure with a spectrophotometer (Cary-5 spectrophotometer manufactured by Varian) using an ethyl acetate solvent at a concentration of 0.01 g/L.
  • a difunctional, trifunctional or more functional photoradical polymerization initiator may be used as the photopolymerization initiator.
  • a radical photopolymerization initiator two or more radicals are generated from one molecule of the radical photopolymerization initiator, so that good sensitivity can be obtained.
  • the crystallinity decreases and the solubility in solvents and the like improves, making it difficult to precipitate over time, thereby improving the stability of the composition over time.
  • Specific examples of bifunctional or trifunctional or more functional photoradical polymerization initiators include compounds described in paragraph 0148 of International Publication No. 2022/065215.
  • the content of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 to 40% by weight, more preferably 0.5 to 35% by weight, and even more preferably 1 to 30% by weight based on the total solid content of the composition.
  • the composition may contain only one type of photopolymerization initiator, or may contain two or more types of photopolymerization initiators. When two or more types are included, it is preferable that their total amount falls within the above range.
  • the composition of the present invention contains a compound having a cyclic ether group
  • the composition further contains a curing agent.
  • the curing agent include amine compounds, acid anhydride compounds, amide compounds, phenol compounds, polyhydric carboxylic acids, and thiol compounds.
  • Specific examples of the curing agent include succinic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, N,N-dimethyl-4-aminopyridine, pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), and the like.
  • the curing agent compounds described in paragraph numbers 0072 to 0078 of JP-A No. 2016-075720 and compounds described in JP-A No.
  • the content of the curing agent is preferably 0.01 to 20 parts by weight, more preferably 0.01 to 10 parts by weight, and 0.1 to 6.0 parts by weight per 100 parts by weight of the compound having a cyclic ether group. is even more preferable.
  • the compositions of the invention can contain chromatic colorants.
  • Chromatic colorants include red colorants, green colorants, blue colorants, yellow colorants, purple colorants, and orange colorants.
  • the chromatic colorant may be a pigment or a dye. Pigments and dyes may be used together. Further, the pigment may be either an inorganic pigment or an organic pigment. Further, as the pigment, an inorganic pigment or an organic-inorganic pigment partially substituted with an organic chromophore can also be used. By replacing inorganic pigments or organic-inorganic pigments with organic chromophores, hue design can be facilitated.
  • the average primary particle diameter of the pigment is preferably 1 to 200 nm.
  • the lower limit is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more.
  • the upper limit is preferably 180 nm or less, more preferably 150 nm or less, and even more preferably 100 nm or less.
  • the primary particle diameter of a pigment can be calculated
  • the average primary particle diameter in this specification is the arithmetic mean value of the primary particle diameters of 400 pigment primary particles.
  • the primary particles of pigment refer to independent particles without agglomeration.
  • the chromatic colorant preferably contains a pigment.
  • the content of pigment in the chromatic colorant is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, even more preferably 80% by mass or more, and even more preferably 90% by mass or more. It is particularly preferable. Examples of pigments include those shown below.
  • red pigments C. I. Pigment Green 7, 10, 36, 37, 58, 59, 62, 63, 64 (phthalocyanine type), 65 (phthalocyanine type), 66 (phthalocyanine type), etc.
  • green pigments C. I. Pigment Violet 1, 19, 23, 27, 32, 37, 42, 60 (triarylmethane type), 61 (xanthene type), etc.
  • purple pigments C. I. Pigment Blue 1,2,15,15:1,15:2,15:3,15:4,15:6,16,22,29,60,64,66,79,80,87 (monoazo type), 88 (methine type), etc. (the above are blue pigments).
  • a halogenated zinc phthalocyanine pigment having an average number of halogen atoms in one molecule of 10 to 14, an average of 8 to 12 bromine atoms, and an average of 2 to 5 chlorine atoms is used. It can also be used. Specific examples include compounds described in International Publication No. 2015/118720. In addition, as green colorants, compounds described in paragraph number 0029 of International Publication No. 2022/085485, aluminum phthalocyanine compounds described in JP-A-2020-070426, diarylmethane compounds described in Japanese Patent Publication No. 2020-504758, etc. You can also use
  • An aluminum phthalocyanine compound having a phosphorus atom can also be used as a blue colorant.
  • Specific examples include compounds described in paragraph numbers 0022 to 0030 of JP-A No. 2012-247591 and paragraph number 0047 of JP-A No. 2011-157478.
  • the compound described in paragraph number 0034 of International Publication No. 2022/085485 and the brominated diketopyrrolopyrrole compound described in JP 2020-085947 can also be used.
  • Dyes can also be used as chromatic colorants. There are no particular restrictions on the dye, and any known dye can be used. For example, pyrazole azo dyes, anilinoazo dyes, triarylmethane dyes, anthraquinone dyes, anthrapyridone dyes, benzylidene dyes, oxonol dyes, pyrazolotriazole azo dyes, pyridone azo dyes, cyanine dyes, and phenothiazines.
  • any known dye can be used.
  • pyrazole azo dyes anilinoazo dyes, triarylmethane dyes, anthraquinone dyes, anthrapyridone dyes, benzylidene dyes, oxonol dyes, pyrazolotriazole azo dyes, pyridone azo dyes, cyanine dyes, and phenothiazines.
  • Examples include pyrrolopyrazole azomethine dyes, xanthene dyes, phthalocyanine dyes, benzopyran dyes, indigo dyes, pyrromethene dyes, and the like. Further, as the dye, a thiazole compound described in JP 2012-158649, an azo compound described in JP 2011-184493, and an azo compound described in JP 2011-145540 can also be used.
  • triarylmethane dye polymers described in Korean Patent Publication No. 10-2020-0028160, xanthene compounds described in JP 2020-117638, and International Publication No. 2020/174991 are used.
  • 10-2020-0069062 a halogenated zinc phthalocyanine pigment described in Patent No. 6809649, JP 2020-180176 Isoindoline compounds described in the publication, phenothiazine compounds described in JP2021-187913A, halogenated zinc phthalocyanine described in International Publication No. 2022/004261, zinc halide described in International Publication No. 2021/250883 Phthalocyanine, quinophthalone compound represented by formula 1 of Korean Patent Publication No. 10-2020-0030759, polymer dye described in Korean Publication Patent No. 10-2020-0061793, described in Japanese Patent Application Publication No. 2022-029701 colorant, isoindoline compound described in International Publication No.
  • the chromatic colorant may be a rotaxane, and the dye skeleton may be used in the cyclic structure of the rotaxane, the rod-like structure, or both structures.
  • the content of the chromatic colorant in the total solid content of the composition is preferably 1 to 50% by mass.
  • the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the composition of the present invention does not substantially contain a chromatic colorant.
  • the composition of the present invention does not substantially contain a chromatic colorant, it means that the content of the chromatic colorant in the total solid content of the composition is 0.5% by mass or less. However, it is preferably 0.1% by mass or less, and more preferably does not contain a chromatic colorant.
  • the composition of the present invention can also contain a coloring material that transmits infrared rays and blocks visible light (hereinafter also referred to as a coloring material that blocks visible light).
  • a composition containing a coloring material that blocks visible light is preferably used as a composition for forming an infrared transmission filter.
  • the coloring material that blocks visible light is preferably a coloring material that absorbs light in the wavelength range from violet to red. Further, the coloring material that blocks visible light is preferably a coloring material that blocks light in a wavelength range of 450 to 650 nm. Further, the coloring material that blocks visible light is preferably a coloring material that transmits light with a wavelength of 900 to 1500 nm.
  • the coloring material that blocks visible light preferably satisfies at least one of the following requirements (A) and (B).
  • B Contains an organic black colorant.
  • Examples of the chromatic colorant include those mentioned above.
  • Examples of the organic black colorant include bisbenzofuranone compounds, azomethine compounds, perylene compounds, and azo compounds, with bisbenzofuranone compounds and perylene compounds being preferred.
  • Examples of bisbenzofuranone compounds include compounds described in Japanese Patent Application Publication No. 2010-534726, Japanese Patent Application Publication No. 2012-515233, and Japanese Patent Application Publication No. 2012-515234, and for example, as "Irgaphor Black" manufactured by BASF. available.
  • Examples of perylene compounds include compounds described in paragraph numbers 0016 to 0020 of JP-A No. 2017-226821, C.I. I. Pigment Black 31, 32, etc.
  • Examples of the azomethine compound include compounds described in JP-A-01-170601 and JP-A-02-034664, and are available as "Chromofine Black A1103" manufactured by Dainichiseika Kaisha, Ltd., for example.
  • examples of the combination of chromatic colorants include the following embodiments (1) to (8).
  • An embodiment containing a green colorant, a blue colorant, a purple colorant, and a red colorant An embodiment containing a green colorant, a blue colorant, a purple colorant, and a red colorant.
  • Embodiment containing a purple colorant and an orange colorant Embodiment containing a green colorant, a purple colorant, and a red colorant.
  • Embodiment containing a green colorant and a red colorant Embodiment containing a green colorant and a red colorant.
  • the content of the colorant that blocks visible light in the total solid content of the composition is preferably 1 to 50% by mass.
  • the lower limit is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, even more preferably 20% by mass or more, and particularly preferably 30% by mass or more.
  • the composition of the present invention does not substantially contain a coloring material that blocks visible light.
  • the content of the colorant that blocks visible light in the total solid content of the composition is 0.5% by mass. It is preferably 0.1% by mass or less, and more preferably does not contain a coloring material that blocks visible light.
  • compositions of the invention may contain surfactants.
  • surfactant various surfactants such as fluorine surfactants, nonionic surfactants, cationic surfactants, anionic surfactants, and silicone surfactants can be used.
  • the surfactant is preferably a silicone surfactant or a fluorine surfactant.
  • fluorosurfactant compounds described in paragraph numbers 0167 to 0173 of International Publication No. 2022/085485 can be used.
  • nonionic surfactants examples include compounds described in paragraph 0174 of International Publication No. 2022/085485.
  • silicone surfactants examples include SH8400, SH8400 FLUID, FZ-2122, 67 Additive, 74 Additive, M Additive, SF 8419 OIL (manufactured by Dow Toray Industries, Inc.), TSF-4440, and TSF-4300.
  • TSF-4445, TSF-4460, TSF-4452 manufactured by Momentive Performance Materials
  • KP-341, KF-6000, KF-6001, KF-6002, KF-6003 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Co., Ltd.
  • BYK-307, BYK-322, BYK-323, BYK-330, BYK-3760, BYK-UV3510 manufactured by BYK-Chemie Co., Ltd.
  • Compounds having the following structure can also be used as silicone surfactants.
  • the content of the surfactant in the total solid content of the composition is preferably 0.001 to 1% by mass, more preferably 0.001 to 0.5% by mass, and even more preferably 0.001 to 0.2% by mass. preferable.
  • the composition may contain only one kind of surfactant, or may contain two or more kinds of surfactants. When two or more types are included, it is preferable that their total amount falls within the above range.
  • the composition of the present invention may contain a polymerization inhibitor.
  • Polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, tert-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis(3-methyl-6-tert-butylphenol), Examples include 2,2'-methylenebis(4-methyl-6-t-butylphenol) and N-nitrosophenylhydroxyamine salts (ammonium salts, cerous salts, etc.), with p-methoxyphenol being preferred.
  • the content of the polymerization inhibitor in the total solid content of the composition is preferably 0.0001 to 5% by mass.
  • the composition may contain only one kind of polymerization inhibitor, or may contain two or more kinds of polymerization inhibitors. When two or more types are included, it is preferable that their total amount falls within the above range.
  • the composition of the present invention may contain a silane coupling agent.
  • the silane coupling agent is preferably a silane compound having a hydrolyzable group, more preferably a silane compound having a hydrolyzable group and other functional groups.
  • the hydrolyzable group refers to a substituent that is directly bonded to a silicon atom and can form a siloxane bond through at least one of a hydrolysis reaction and a condensation reaction. Examples of the hydrolyzable group include a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group, and an alkoxy group is preferred.
  • the silane coupling agent is preferably a compound having an alkoxysilyl group.
  • Examples of functional groups other than hydrolyzable groups include vinyl groups, styryl groups, (meth)acryloyl groups, mercapto groups, epoxy groups, oxetanyl groups, amino groups, ureido groups, sulfide groups, isocyanate groups, and phenyl groups. etc., with (meth)acryloyl groups and epoxy groups being preferred.
  • Examples of the silane coupling agent include compounds described in paragraph numbers 0018 to 0036 of JP-A No. 2009-288703 and compounds described in paragraph numbers 0056 to 0066 of JP-A No. 2009-242604.
  • the content of the silane coupling agent in the total solid content of the composition is preferably 0.01 to 15.0% by mass, more preferably 0.05 to 10.0% by mass.
  • the composition may contain only one type of silane coupling agent, or may contain two or more types. When two or more types are included, it is preferable that their total amount falls within the above range.
  • the composition of the present invention can contain a UV absorber.
  • the ultraviolet absorber include conjugated diene compounds, aminodiene compounds, salicylate compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, acrylonitrile compounds, hydroxyphenyltriazine compounds, indole compounds, triazine compounds, dibenzoyl compounds, and the like. Specific examples of such compounds include paragraph numbers 0038 to 0052 of JP2009-217221A, paragraphs 0052 to 0072 of JP2012-208374A, and paragraphs 0317 to 0317 of JP2013-068814A.
  • UV absorbers include the Tinuvin series and Uvinul series manufactured by BASF.
  • examples of the benzotriazole compound include the MYUA series manufactured by Miyoshi Yushi (Kagaku Kogyo Nippo, February 1, 2016).
  • the ultraviolet absorber compounds described in the Examples described later, paragraph numbers 0049 to 0059 of Patent No. 6268967, and compounds described in paragraph numbers 0059 to 0076 of International Publication No.
  • the content of the ultraviolet absorber in the total solid content of the composition is preferably 0.01 to 30% by mass, more preferably 0.05 to 25% by mass.
  • the composition may contain only one type of ultraviolet absorber, or may contain two or more types. When two or more types are included, it is preferable that their total amount falls within the above range.
  • the composition of the present invention may contain an antioxidant.
  • the antioxidant include phenol-based antioxidants, amine-based antioxidants, phosphorus-based antioxidants, and sulfur-based antioxidants.
  • the phenol-based antioxidant include hindered phenol compounds.
  • the phenol-based antioxidant is preferably a compound having a substituent at the site (ortho position) adjacent to the phenolic hydroxy group.
  • the aforementioned substituent is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms.
  • the antioxidant is also preferably a compound having a phenol group and a phosphite ester group in the same molecule.
  • phosphorus-based antioxidants include tris[2-[[2,4,8,10-tetrakis(1,1-dimethylethyl)dibenzo[d,f][1,3,2]dioxaphosphepin-6-yl]oxy]ethyl]amine, tris[2-[(4,6,9,11-tetra-tert-butyldibenzo[d,f][1,3,2]dioxaphosphepin-2-yl)oxy]ethyl]amine, ethyl bis(2,4-di-tert-butyl-6-methylphenyl)phosphite, and tris(2,4-di-tert-butylphenyl)phosphite.
  • antioxidants examples include ADK STAB AO-20, ADK STAB AO-30, ADK STAB AO-40, ADK STAB AO-50, ADK STAB AO-50F, ADK STAB AO-60, ADK STAB AO-60G, ADK STAB AO-80, ADK STAB AO-330, ADK STAB AO-412S, ADK STAB 2112, ADK STAB PEP-36, ADK STAB HP-10 (all manufactured by ADEKA CORPORATION), and JP-650 (manufactured by Johoku Chemical Industry Co., Ltd.).
  • the antioxidant may be a compound described in paragraphs 0023 to 0048 of Japanese Patent No. 6268967, a compound described in International Publication No.
  • the content of the antioxidant in the total solid content of the composition is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.3 to 15% by mass.
  • the composition may contain only one type of antioxidant, or may contain two or more types. When two or more types are contained, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • composition of the present invention may optionally contain sensitizers, fillers, thermosetting accelerators, plasticizers, and other auxiliary agents (e.g., conductive particles, antifoaming agents, flame retardants, leveling agents, exfoliation promoters, etc.). agents, fragrances, surface tension modifiers, chain transfer agents, latent antioxidants, etc.).
  • sensitizers e.g., fillers, thermosetting accelerators, plasticizers, and other auxiliary agents
  • auxiliary agents e.g., conductive particles, antifoaming agents, flame retardants, leveling agents, exfoliation promoters, etc.
  • agents e.g., fragrances, surface tension modifiers, chain transfer agents, latent antioxidants, etc.
  • properties such as film physical properties can be adjusted.
  • the compounds described in paragraph 0182 of International Publication No. 2022/085485 can be used.
  • the container for storing the composition of the present invention is not particularly limited, and any known container can be used. Further, as the storage container, the container described in paragraph 0187 of International Publication No. 2022/085485 can be used.
  • composition of the present invention can be prepared by mixing the components described above.
  • the composition may be prepared by dissolving or dispersing all the components in a solvent at the same time, or if necessary, two or more solutions or dispersions in which each component is appropriately blended may be prepared in advance.
  • the composition may be prepared by mixing these at the time of use (at the time of application).
  • the preparation of the composition may include a process of dispersing the pigment.
  • mechanical forces used for dispersing pigments include compression, squeezing, impact, shearing, cavitation, and the like.
  • Specific examples of these processes include bead mills, sand mills, roll mills, ball mills, paint shakers, microfluidizers, high speed impellers, sand grinders, flow jet mixers, high pressure wet atomization, ultrasonic dispersion, and the like.
  • pulverizing pigments in a sand mill (bead mill) it is preferable to use small-diameter beads or increase the filling rate of the beads, thereby increasing the pulverizing efficiency.
  • the process and dispersion machine for dispersing pigments are described in ⁇ Complete Works of Dispersion Technology, Published by Information Technology Corporation, July 15, 2005'' and ⁇ Dispersion technology centered on suspension (solid/liquid dispersion system) and industrial
  • the process and dispersion machine described in Paragraph No. 0022 of JP 2015-157893 A, "Practical Application Comprehensive Data Collection, Published by Management Development Center Publishing Department, October 10, 1978" can be suitably used.
  • the pigment may be subjected to a finer treatment in a salt milling step. For the materials, equipment, processing conditions, etc.
  • Bead materials used for dispersion include zirconia, agate, quartz, titania, tungsten carbide, silicon nitride, alumina, stainless steel, and glass.
  • an inorganic compound having a Mohs hardness of 2 or more can also be used for the beads.
  • the composition may contain 1 to 10,000 ppm of the beads.
  • the composition When preparing the composition, it is preferable to filter the composition with a filter for the purpose of removing foreign substances and reducing defects.
  • a filter for the purpose of removing foreign substances and reducing defects.
  • Examples of the type of filter and filtration method used for filtration include the filters and filtration methods described in paragraph numbers 0196 to 0199 of International Publication No. 2022/085485.
  • the membrane of the present invention is obtained from the composition of the present invention described above.
  • the film of the present invention can be preferably used as an optical filter.
  • Applications of the optical filter are not particularly limited, but include infrared cut filters, infrared transmission filters, and the like.
  • Examples of the infrared cut filter include an infrared cut filter on the light receiving side of the solid-state image sensor (for example, an infrared cut filter for a wafer level lens, etc.), and an infrared cut filter on the back side of the solid-state image sensor (opposite side to the light receiving side).
  • infrared cut filters for environmental light sensors (for example, illuminance sensors that detect the illuminance and color tone of the environment in which the information terminal device is placed and adjust the color tone of the display, and color correction sensors that adjust the color tone). It will be done. In particular, it can be preferably used as an infrared cut filter on the light receiving side of a solid-state image sensor. Examples of the infrared transmission filter include a filter that can block visible light and selectively transmit infrared rays having a specific wavelength or more.
  • the film of the present invention may have a pattern or may be a film without a pattern (flat film). Further, the membrane of the present invention may be used by being laminated on a support, or the membrane of the present invention may be used by being peeled off from the support. Examples of the support include semiconductor base materials such as silicon substrates and transparent base materials.
  • a charge coupled device (CCD), complementary metal oxide semiconductor (CMOS), transparent conductive film, etc. may be formed on the semiconductor substrate used as the support. Further, a black matrix may be formed on the semiconductor substrate to isolate each pixel. Further, an undercoat layer may be provided on the semiconductor substrate, if necessary, for improving adhesion with the upper layer, preventing substance diffusion, or flattening the substrate surface.
  • CCD charge coupled device
  • CMOS complementary metal oxide semiconductor
  • transparent conductive film etc.
  • a black matrix may be formed on the semiconductor substrate to isolate each pixel.
  • an undercoat layer may be provided on the semiconductor substrate, if necessary, for improving adhesion with the upper layer, preventing substance diffusion, or flattening the substrate surface.
  • the transparent substrate used as the support is not particularly limited as long as it is made of a material that can transmit at least visible light.
  • Examples include base materials made of materials such as glass and resin.
  • resins include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, and ethylene vinyl acetate copolymers, acrylic resins such as norbornene resins, polyacrylates, and polymethyl methacrylates, urethane resins, and vinyl chloride resins. , fluororesin, polycarbonate resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl alcohol resin, and the like.
  • glass examples include soda lime glass, borosilicate glass, alkali-free glass, quartz glass, and glass containing copper.
  • glass containing copper examples include phosphate glass containing copper, fluorophosphate glass containing copper, and the like.
  • a commercially available glass containing copper can also be used. Examples of commercially available glass containing copper include NF-50 (manufactured by AGC Techno Glass Co., Ltd.).
  • the thickness of the film of the present invention can be adjusted as appropriate depending on the purpose.
  • the thickness of the film can be 200 ⁇ m or less, 150 ⁇ m or less, 120 ⁇ m or less, 20 ⁇ m or less, 10 ⁇ m or less, and 5 ⁇ m or less. You can also do it.
  • the lower limit of the film thickness is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more.
  • the film of the present invention has a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 650 to 1500 nm (preferably a wavelength of 660 to 1200 nm, more preferably a wavelength of 660 to 1000 nm).
  • the average transmittance in the wavelength range of 700 to 720 nm is preferably 10% or less, more preferably 7% or less, even more preferably 4% or less, and especially 2% or less.
  • the average transmittance in the wavelength range of 420 to 550 nm is preferably 86% or more, more preferably 89% or more, even more preferably 92% or more, and especially 95% or more. preferable.
  • the transmittance over the entire wavelength range of 420 to 550 nm is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, and even more preferably 80% or more.
  • the transmittance at at least one point in the wavelength range of 650 to 1500 nm is preferably 10% or less, more preferably 7% or less. It is preferably 4% or less, more preferably 2% or less, and particularly preferably 2% or less.
  • the average absorbance in the wavelength range of 420 to 550 nm is preferably less than 0.030, more preferably less than 0.025.
  • the film of the present invention preferably has, for example, any one of the following spectral properties (i1) to (i3).
  • a film having such spectral characteristics can block light in a wavelength range of 400 to 850 nm and transmit light with a wavelength exceeding 950 nm.
  • the maximum value of transmittance in the wavelength range of 400 to 950 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of transmittance in the wavelength range of 1100 to 1500 nm is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • a film having such spectral characteristics can block light in the wavelength range of 400 to 950 nm and transmit light with a wavelength exceeding 1050 nm.
  • the maximum value of transmittance in the wavelength range of 400 to 1050 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of transmittance in the wavelength range of 1200 to 1500 nm is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • a film having such spectral characteristics can block light in the wavelength range of 400 to 1050 nm and transmit light with a wavelength exceeding 1150 nm.
  • the film of the present invention can also be used in combination with a color filter containing a chromatic colorant.
  • a color filter can be manufactured using a coloring composition containing a chromatic colorant.
  • the color filter is preferably disposed on the optical path of the film of the present invention.
  • the film of the present invention may be formed on a support different from the support on which the color filter is formed, and the film of the present invention may be formed on a support different from the support on which the color filter is formed.
  • Other members for example, microlenses, flattening layers, etc. constituting the solid-state imaging device may be interposed between the film and the color filter.
  • the film of the present invention can be used in various devices such as solid-state imaging devices such as CCDs (charge-coupled devices) and CMOSs (complementary metal oxide semiconductors), infrared sensors, and image display devices.
  • solid-state imaging devices such as CCDs (charge-coupled devices) and CMOSs (complementary metal oxide semiconductors)
  • infrared sensors and image display devices.
  • the membrane of the present invention can be manufactured through a step of applying the composition of the present invention.
  • Examples of the support include those mentioned above.
  • a method for applying the composition a known method such as a spin coating method can be used.
  • the coating method described in paragraph number 0207 of International Publication No. 2022/085485 can be used.
  • the composition layer formed by applying the composition may be dried (prebaked).
  • the prebaking temperature is preferably 150°C or lower, more preferably 120°C or lower, and even more preferably 110°C or lower.
  • the lower limit can be, for example, 50°C or higher, or 80°C or higher.
  • the prebake time is preferably 10 seconds to 3000 seconds, more preferably 40 to 2500 seconds, and even more preferably 80 to 220 seconds. Drying can be performed using a hot plate, oven, or the like.
  • the film manufacturing method may further include a step of forming a pattern.
  • the pattern forming method include a pattern forming method using a photolithography method and a pattern forming method using a dry etching method, and a pattern forming method using a photolithography method is preferable. Note that when the film of the present invention is used as a flat film, the step of forming a pattern may not be performed. Hereinafter, the process of forming a pattern will be explained in detail.
  • the pattern forming method using the photolithography method includes a step of exposing a composition layer formed by applying the composition of the present invention to light in a pattern (exposure step), and developing and removing the unexposed portions of the composition layer. It is preferable to include a step of forming a pattern (developing step). If necessary, a step of baking the developed pattern (post-bake step) may be provided. Each step will be explained below.
  • the composition layer is exposed in a pattern.
  • the composition layer can be exposed in a pattern by exposing the composition layer to light through a mask having a predetermined mask pattern using a stepper exposure machine, a scanner exposure machine, or the like. This allows the exposed portion to be cured.
  • Radiation (light) that can be used during exposure includes g-line, i-line, etc. Furthermore, light with a wavelength of 300 nm or less (preferably light with a wavelength of 180 to 300 nm) can also be used. Examples of light with a wavelength of 300 nm or less include KrF rays (wavelength 248 nm), ArF rays (wavelength 193 nm), and KrF rays (wavelength 248 nm). Furthermore, a long-wave light source of 300 nm or more can also be used.
  • pulse exposure is an exposure method in which exposure is performed by repeating light irradiation and pauses in short cycles (for example, on the millisecond level or less).
  • the irradiation amount is, for example, preferably 0.03 to 2.5 J/cm 2 , more preferably 0.05 to 1.0 J/cm 2 .
  • the oxygen concentration at the time of exposure can be appropriately selected, and in addition to being carried out in the atmosphere, for example, in a low oxygen atmosphere with an oxygen concentration of 19% by volume or less (for example, 15% by volume, 5% by volume, or substantially
  • the exposure may be performed in an oxygen-free environment (in the absence of oxygen), or in a high oxygen atmosphere with an oxygen concentration of more than 21 volume % (for example, 22 volume %, 30 volume %, or 50 volume %).
  • the exposure illuminance can be set as appropriate, and is usually selected from the range of 1000W/m 2 to 100000W/m 2 (for example, 5000W/m 2 , 15000W/m 2 , or 35000W/m 2 ). Can be done.
  • the oxygen concentration and the exposure illuminance may be appropriately combined.
  • the illumination intensity may be 10,000 W/m 2 at an oxygen concentration of 10% by volume, or 20,000 W/m 2 at an oxygen concentration of 35% by volume.
  • the unexposed portions of the composition layer after exposure are removed by development to form a pattern.
  • the composition layer in the unexposed area can be removed by development using a developer.
  • the temperature of the developer is preferably 20 to 30°C, for example.
  • the development time is preferably 20 to 180 seconds.
  • the process of shaking off the developer every 60 seconds and supplying a new developer may be repeated several times.
  • Examples of the developer include organic solvents, alkaline developers, and alkaline developers are preferably used.
  • the developer and cleaning method after development the developer and cleaning method described in paragraph number 0214 of International Publication No. 2022/085485 can be used.
  • Additional exposure processing and post-bake are post-development curing processing to complete curing.
  • the heating temperature in post-baking is, for example, preferably 100 to 240°C, more preferably 200 to 240°C.
  • Post-baking can be carried out in a continuous or batch manner using a heating means such as a hot plate, convection oven (hot air circulation dryer), or high-frequency heater to maintain the developed film under the above conditions.
  • the light used for exposure is preferably light with a wavelength of 400 nm or less. Further, the additional exposure process may be performed by the method described in Korean Patent Publication No. 10-2017-0122130.
  • Pattern formation by the dry etching method involves applying the above composition onto a support and curing the composition layer to form a cured product layer, and then forming a patterned photoresist layer on this cured product layer. This can be carried out by forming a patterned photoresist layer as a mask, and dry etching the cured material layer using an etching gas. In forming the photoresist layer, it is preferable to perform a prebaking process. Regarding pattern formation by the dry etching method, the descriptions in paragraphs 0010 to 0067 of JP-A No. 2013-064993 can be referred to, and the contents thereof are incorporated into the present specification.
  • optical filter of the present invention has the film of the present invention described above.
  • Types of optical filters include infrared cut filters and infrared transmission filters.
  • the optical filter of the invention may further include a copper-containing layer, a dielectric multilayer film, an ultraviolet absorbing layer, and the like.
  • the ultraviolet absorbing layer include the absorbing layers described in paragraph numbers 0040 to 0070 and 0119 to 0145 of International Publication No. 2015/099060.
  • the dielectric multilayer film include the dielectric multilayer films described in paragraph numbers 0255 to 0259 of JP-A No. 2014-041318.
  • a glass substrate made of glass containing copper (copper-containing glass substrate) or a layer containing a copper complex (copper complex-containing layer) can also be used.
  • Examples of the copper-containing glass substrate include phosphate glass containing copper, fluorophosphate glass containing copper, and the like.
  • Commercially available copper-containing glasses include NF-50 (manufactured by AGC Techno Glass Co., Ltd.), BG-60, BG-61 (all manufactured by Schott Co., Ltd.), and CD5000 (manufactured by HOYA Co., Ltd.).
  • the solid-state imaging device of the present invention has the film of the present invention described above.
  • the structure of the solid-state image sensor is not particularly limited as long as it has the film of the present invention and functions as a solid-state image sensor. For example, the following configurations may be mentioned.
  • the device On the support, there is a transfer electrode made of polysilicon or the like and a plurality of photodiodes that constitute the light-receiving area of the solid-state image sensor, and a light-shielding material made of tungsten or the like with only the light-receiving part of the photodiode opened above the photodiode and the transfer electrode.
  • the device has a device protective film made of silicon nitride or the like formed to cover the entire surface of the light shielding film and the photodiode light receiving part on the light shielding film, and has the film of the present invention on the device protective film. be.
  • the color filter may have a structure in which a film forming each pixel is embedded in a space partitioned into, for example, a lattice shape by partition walls.
  • the partition wall preferably has a lower refractive index than each pixel. Examples of imaging devices having such a structure include devices described in Japanese Patent Application Laid-open Nos. 2012-227478 and 2014-179577.
  • the image display device of the present invention includes the film of the present invention.
  • Examples of the image display device include a liquid crystal display device and an organic electroluminescence (organic EL) display device.
  • organic EL organic electroluminescence
  • image display devices see, for example, “Electronic Display Devices (written by Akio Sasaki, published by Industrial Research Association Co., Ltd., 1990)” and “Display Devices (written by Junaki Ibuki, published by Sangyo Tosho Co., Ltd., published in 1989). Publication)” etc.
  • liquid crystal display devices are described, for example, in “Next Generation Liquid Crystal Display Technology (edited by Tatsuo Uchida, Kogyo Chosenkai Co., Ltd., published in 1994)”.
  • the image display device may include a white organic EL element.
  • the white organic EL element preferably has a tandem structure.
  • Japanese Patent Application Laid-open No. 2003-045676 supervised by Akiyoshi Mikami, "The forefront of organic EL technology development - High brightness, high precision, long life, collection of know-how", Technical Information Association, It is described in pages 326-328, 2008, etc.
  • the spectrum of white light emitted by the organic EL element preferably has strong maximum emission peaks in the blue region (430 to 485 nm), green region (530 to 580 nm), and yellow region (580 to 620 nm). In addition to these emission peaks, it is more preferable to have a maximum emission peak in the red region (650 to 700 nm).
  • the infrared sensor of the present invention has the film of the present invention described above.
  • the configuration of the infrared sensor is not particularly limited as long as it functions as an infrared sensor. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, one embodiment of the infrared sensor of this invention is described using drawings.
  • numeral 110 is a solid-state image sensor.
  • An infrared cut filter 111 and an infrared transmission filter 114 are arranged on the imaging area of the solid-state image sensor 110.
  • a color filter 112 is arranged on the infrared cut filter 111.
  • a microlens 115 is arranged on the incident light hv side of the color filter 112 and the infrared transmission filter 114.
  • a flattening layer 116 is formed to cover the microlens 115.
  • the infrared cut filter 111 can be formed using the composition of the present invention.
  • the color filter 112 is a color filter in which pixels that transmit and absorb light of a specific wavelength in the visible region are formed, and there is no particular limitation, and a conventionally known color filter for forming pixels can be used. For example, a color filter in which red (R), green (G), and blue (B) pixels are formed is used. For example, the descriptions in paragraph numbers 0214 to 0263 of JP-A No. 2014-043556 can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
  • the characteristics of the infrared transmission filter 114 are selected depending on the emission wavelength of the infrared LED used.
  • the infrared transmission filter 114 can be formed using the composition of the present invention.
  • an infrared cut filter other than the infrared cut filter 111 may be further disposed on the flattening layer 116.
  • Other infrared cut filters include those having a layer containing copper and/or a dielectric multilayer film. Details of these are mentioned above.
  • a dual band pass filter may be used as another infrared cut filter.
  • the camera module of the present invention has the membrane of the present invention described above.
  • the configuration of the camera module is not particularly limited as long as it has the membrane of the present invention and functions as a camera module.
  • the camera module includes a configuration including a solid-state image sensor, a lens, and a circuit that processes images obtained from the solid-state image sensor.
  • Known lenses can be used as the lens used in the camera module and the circuit that processes the image obtained from the solid-state image sensor.
  • camera modules described in JP-A No. 2016-006476 and JP-A No. 2014-197190 can be referred to, and the contents thereof are incorporated into this specification.
  • the compound of the present invention is a compound (specific compound) represented by the above-mentioned formula (1).
  • the infrared absorber of the present invention contains the compound (specific compound) represented by the above-mentioned formula (1).
  • the infrared absorber of the present invention may contain only one type of compound represented by the above-mentioned formula (1), or may contain two or more types.
  • Me is a methyl group
  • Et is an ethyl group
  • iPr is an isopropyl group.
  • Step 3 Compound 1 (17.8 g, 2 mmol) obtained in step 1 and compound 3 (9.2 g, 4 mmol) obtained in step 2 were placed in a 300 ml eggplant flask, dissolved in 100 ml of pyridine, and a small amount of triethylamine was added. was added and heated under reflux for 1 hour. After the reaction was completed, the solvent was concentrated and purified by column chromatography (ethyl acetate/dichloromethane) to obtain a solid. The obtained solid was reprecipitated with hexane/dichloromethane to isolate a brown solid (1.0 g, 0.8 mmol, yield 41%).
  • composition ⁇ Manufacture of composition> The components listed in the table below were mixed in the parts by mass listed in the table below, stirred, and then filtered through a nylon filter (manufactured by Nippon Pall Co., Ltd.) with a pore size of 0.45 ⁇ m to produce a composition. .
  • A-1 to A-4 Compounds with the following structure (squarylium compounds)
  • (resin) C-1 Resin with the following structure synthesized by the method described in Resin Synthesis Example 1 of JP 2021-134350 A (weight average molecular weight 137,000, number average molecular weight 32,000, glass transition temperature 165 ° C.)
  • C-2 Resin with the following structure synthesized by the method described in Resin Synthesis Example 2 of JP 2021-134350 A (weight average molecular weight 188,000, number average molecular weight 75,000, glass transition temperature 285 ° C.)
  • C-3 Resin with the following structure synthesized by the method described in Resin Synthesis Example 3 of JP-A-2021-134350 (The numerical value appended to the main chain represents the molar ratio of the repeating unit. Glass transition temperature 310 ° C.
  • C-4 Acryviewer (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., acrylic resin)
  • C-5 Resin with the following structure (the numbers appended to the main chain represent the mass ratio of repeating units. Weight average molecular weight 26100, number average molecular weight 8600, epoxy equivalent 355 g/eq, acid value 163 mg KOH/g, glass transition temperature 133 °C)
  • C-6 Resin with the following structure (the numbers appended to the main chain represent the mass ratio of repeating units.
  • C-8 Resin with the following structure (the numbers appended to the main chain represent the mass ratio of repeating units.
  • Weight average molecular weight 9500, number average molecular weight 5800) C-11 Resin with the following structure (the numbers appended to the main chain represent the mass ratio of repeating units.
  • C-12 EPICLON N-695 (manufactured by DIC Corporation, novolac type epoxy resin)
  • C-13 Resin with the following structure (the numbers appended to the main chain represent the molar ratio of repeating units.
  • C-14 Resin with the following structure (the numbers appended to the main chain represent the weight ratio of repeating units.
  • Weight average molecular weight 9700, number average molecular weight 5700, acid value 130 mgKOH/g) C-15 Resin with the following structure (the numbers appended to the main chain represent the weight ratio of repeating units.
  • Weight average molecular weight 15100, number average molecular weight 7000, acid value 136 mgKOH/g) C-16 Resin with the following structure (the numbers appended to the main chain represent the weight ratio of repeating units.
  • Weight average molecular weight 17000, number average molecular weight 7700, acid value 32 mgKOH/g) C-17 Resin with the following structure (the numbers appended to the main chain represent the weight ratio of repeating units.
  • D-1 Compound with the following structure (maximum absorption wavelength in dichloromethane: 394 nm)
  • D-2 Uvinul3050 (manufactured by BASF, compound with the following structure)
  • D-3 Tinuvin477 (manufactured by BASF, hydroxyphenyltriazine-based ultraviolet absorber)
  • D-4 Tinuvin326 (manufactured by BASF, compound with the following structure)
  • D-5 Compound (2)-22 described in International Publication No. 2021/131355 (compound with the following structure)
  • D-6 Compound (1)-46 described in International Publication No.
  • D-7 Compound A-1 (compound with the following structure) described in International Publication No. 2021/132247
  • D-8 NeoHeliopan357 (manufactured by Symrise, compound with the following structure)
  • D-9 Compound with the following structure
  • E-1 ADEKA STAB AO-60 (manufactured by ADEKA Co., Ltd., compound with the following structure)
  • E-2 ADEKA STAB AO-80 (manufactured by ADEKA Co., Ltd., compound with the following structure)
  • E-3 Compound with the following structure
  • E-4 ADEKA STAB 2112 (manufactured by ADEKA Co., Ltd., compound with the following structure)
  • E-5 ADEKA STAB PEP-36 (manufactured by ADEKA Co., Ltd., compound with the following structure)
  • E-6 ADEKA STAB HP-10 (manufactured by ADEKA Co., Ltd., compound with the following structure)
  • E-7 ADEKA STAB AO-412S (manufactured by ADEKA Co., Ltd., compound with the following structure)
  • G-1 FTX-218D (manufactured by Neos, fluorine-based surfactant)
  • G-2 Megafac F-554 (manufactured by DIC Corporation, fluorine-based surfactant)
  • G-3 KF-6001 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., silicone surfactant)
  • G-4 Compound with the following structure (weight average molecular weight 14,000, the numerical value of % indicating the proportion of repeating units is mol%)
  • H-1 Trimellitic acid
  • H-2 2-ethyl-4-methylimidazole
  • H-3 Methyltetrahydrophthalic anhydride
  • J-1 Irgacure OXE01 (manufactured by BASF, oxime ester compound)
  • J-2 Compound No. described in International Publication No. 2017/169819. 1 (compound with the following structure)
  • J-3 Compound No. described in International Publication No. 2017/169819. 10
  • J-4 Compound No. described in JP-A No. 2019-168654. 5 (compound with the following structure)
  • J-5 Compound No. described in JP-A No. 2019-168654. 73 (compound with the following structure)
  • ⁇ Performance evaluation> Evaluation of infrared shielding properties
  • a spectrophotometer U-4100 manufactured by Hitachi High-Tech Corporation
  • the absorbance and transmittance of the obtained film in the wavelength range of 400 to 1100 nm were measured, and the wavelength ( ⁇ max) showing the maximum absorbance (Abs ⁇ max) was determined. was measured, and the infrared shielding properties were evaluated using the following criteria.
  • A Average transmittance in the range of ⁇ max ⁇ 10 nm ⁇ 2%
  • B Average transmittance in the range of 2% ⁇ max ⁇ 10nm ⁇ 4%
  • C Average transmittance in the range of 4% ⁇ max ⁇ 10nm ⁇ 7%
  • D Average transmittance in the range of 7% ⁇ max ⁇ 10nm ⁇ 10%
  • E Average transmittance in the range of 10% ⁇ max ⁇ 10nm
  • the average transmittance of the obtained film in the wavelength range of 420 to 550 nm was measured using a spectrophotometer U-4100 (manufactured by Hitachi High-Tech Corporation), and the visible light transmittance was evaluated according to the following criteria.
  • A Average transmittance in the wavelength range of 420 nm to 550 nm ⁇ 95%
  • B 92% ⁇ average transmittance in the wavelength range of 420 nm to 550 nm ⁇ 95%
  • C 89% ⁇ average transmittance in the wavelength range of 420 nm to 550 nm ⁇ 92%
  • D 86% ⁇ average transmittance in the wavelength range of 420 nm to 550 nm ⁇ 89%
  • E Average transmittance in the wavelength range of 420 nm to 550 nm ⁇ 86%
  • the obtained film was subjected to a light resistance test by irradiating it with 50,000 lux light for 20 hours through an ultraviolet cut filter using a Xe lamp, and was tested using a color meter MCPD-1000 (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.).
  • the ⁇ Eab value of the color difference before and after irradiation was measured. A smaller ⁇ Eab value indicates better light resistance.
  • the ⁇ Eab value is a value obtained from the following color difference formula based on the CIE1976 (L*, a*, b*) space color system (edited by the Color Society of Japan, New Edition Color Science Handbook (1985) p. 266) .
  • ⁇ Eab ⁇ ( ⁇ L*) 2 + ( ⁇ a*) 2 + ( ⁇ b*) 2 ⁇ 1/2
  • the Examples were better than the Comparative Examples in terms of visible light transmittance, infrared shielding properties, light resistance, and storage stability.
  • 110 solid-state image sensor
  • 111 infrared cut filter
  • 112 color filter
  • 114 infrared transmission filter
  • 115 microlens
  • 116 flattening layer

Landscapes

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Abstract

式（１）で表される化合物と、硬化性化合物と、溶剤と、を含む組成物。前述の組成物を用いた膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびカメラモジュール。式（１）で表される化合物およびそれを含む赤外線吸収剤。

Description

組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュール、化合物および赤外線吸収剤
　本発明は、ポリメチン化合物、ならびに、それを含む組成物および赤外線吸収剤に関する。また、本発明は、ポリメチン化合物を含む組成物を用いた膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびカメラモジュールに関する。
　ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などには、カラー画像の固体撮像素子である、ＣＣＤ（電荷結合素子）や、ＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）が用いられている。これら固体撮像素子は、その受光部において赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードを使用している。このため、赤外線カットフィルタを設けて視感度補正を行うことがある。
　赤外線カットフィルタは、赤外線吸収剤を含む組成物を用いて製造されている。赤外線吸収剤としては、ポリメチン化合物などが知られている。
　特許文献１には、特定のポリメチン化合物などを含む組成物を用いて赤外線カットフィルタなどを製造することが記載されている。
国際公開第２０２１／０８５３７２号
　しかしながら、ポリメチン化合物は、耐光性が低い傾向にある。このため、これらの化合物を含む組成物を用いて得られる膜の耐光性について、更なる改善の余地があった。
　また、ポリメチン化合物を含む組成物については、組成物の保管中にポリメチン化合物が凝集して凝集物が析出し易く、保管後の組成物を用いて膜を形成した場合、膜中に異物などが発生し易かった。このため、ポリメチン化合物を含む組成物の保存安定性について、更なる改善の余地があった。
　よって、本発明の目的は、保存安定性に優れ、かつ、耐光性に優れた膜を形成できる組成物を提供することにある。また、本発明は、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュール、化合物および赤外線吸収剤を提供することにある。
　本発明は以下を提供する。
　＜１＞　式（１）で表される化合物と、硬化性化合物と、溶剤と、を含む組成物；
　式（１）中、Ｘ１およびＸ２は、それぞれ独立して酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子または－ＮＲＸ１－を表し、
　ＲＸ１は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基またはアシル基を表し、
　Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、複素環基、－ＳＲ４１、－ＳＯ２Ｒ４２、－ＯＳＯ２Ｒ４３、または、－ＮＲ４４Ｒ４５を表し、
　Ｒ４１～Ｒ４３は、それぞれ独立してアルキル基、アリール基または複素環基を表し、
　Ｒ４４およびＲ４５は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アシル基またはアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ４４とＲ４５は連結して環を形成していてもよく、
　Ｒ３～Ｒ５、Ｒ１１～Ｒ１４、Ｒ２１～Ｒ２４、Ｒ３１およびＲ３２は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシルオキシ基、－ＳＲ５１、－ＳＯ２Ｒ５２、－ＯＳＯ２Ｒ５３、または、－ＮＲ５４Ｒ５５を表し、
　Ｒ５１～Ｒ５３は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、
　Ｒ５４およびＲ５５は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アシル基またはアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ５４とＲ５５は連結して環を形成していてもよく、
　Ｒ３～Ｒ５、Ｒ１１～Ｒ１４、Ｒ２１～Ｒ２４は、隣り合う２つが互いに連結して員数５～８の環を形成していてもよく、
　Ｒ３１とＲ３２は連結して員数５～８の環を形成していてもよく、
　Ｒ１１とＲ３１は連結して員数５～８の環を形成していてもよく、
　Ｒ２１とＲ３２は連結して員数５～８の環を形成していてもよく、
　ｍおよびｎはそれぞれ独立して１～１０の整数を表し、
　Ａ－はアニオンを表す。
　＜２＞　上記式（１）のｍおよびｎは、それぞれ独立して２または３である、＜１＞に記載の組成物。
　＜３＞　上記式（１）のｍとｎは同じ整数である、＜１＞または＜２＞に記載の組成物。
　＜４＞　上記式（１）のＸ１およびＸ２は、それぞれ独立して酸素原子または硫黄原子である、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の組成物。
　＜５＞　上記式（１）のＸ１およびＸ２は酸素原子である、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の組成物。
　＜６＞　更に、上記式（１）で表される化合物以外の赤外線吸収剤を含む、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の組成物。
　＜７＞　＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の組成物を用いて得られる膜。
　＜８＞　＜７＞に記載の膜を有する光学フィルタ。
　＜９＞　＜７＞に記載の膜を有する固体撮像素子。
　＜１０＞　＜７＞に記載の膜を有する画像表示装置。
　＜１１＞　＜７＞に記載の膜を有する赤外線センサ。
　＜１２＞　＜７＞に記載の膜を有するカメラモジュール。
　＜１３＞　式（１）で表される化合物；
　式（１）中、Ｘ１およびＸ２は、それぞれ独立して酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子または－ＮＲＸ１－を表し、
　ＲＸ１は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基またはアシル基を表し、
　Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、複素環基、－ＳＲ４１、－ＳＯ２Ｒ４２、－ＯＳＯ２Ｒ４３、または、－ＮＲ４４Ｒ４５を表し、
　Ｒ４１～Ｒ４３は、それぞれ独立してアルキル基、アリール基または複素環基を表し、
　Ｒ４４およびＲ４５は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アシル基またはアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ４４とＲ４５は連結して環を形成していてもよく、
　Ｒ３～Ｒ５、Ｒ１１～Ｒ１４、Ｒ２１～Ｒ２４、Ｒ３１およびＲ３２は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシルオキシ基、－ＳＲ５１、－ＳＯ２Ｒ５２、－ＯＳＯ２Ｒ５３、または、－ＮＲ５４Ｒ５５を表し、
　Ｒ５１～Ｒ５３は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、
　Ｒ５４およびＲ５５は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アシル基またはアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ５４とＲ５５は連結して環を形成していてもよく、
　Ｒ３～Ｒ５、Ｒ１１～Ｒ１４、Ｒ２１～Ｒ２４は、隣り合う２つが互いに連結して員数５～８の環を形成していてもよく、
　Ｒ３１とＲ３２は連結して員数５～８の環を形成していてもよく、
　Ｒ１１とＲ３１は連結して員数５～８の環を形成していてもよく、
　Ｒ２１とＲ３２は連結して員数５～８の環を形成していてもよく、
　ｍおよびｎはそれぞれ独立して１～１０の整数を表し、
　Ａ－はアニオンを表す。
　＜１４＞　＜１３＞に記載の化合物を含む赤外線吸収剤。
　本発明によれば、保存安定性に優れ、かつ、耐光性に優れた膜を形成できる組成物を提供することができる。また、本発明は、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュール、化合物および赤外線吸収剤を提供することができる。
赤外線センサの一実施形態を示す概略図である。
　以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
　本明細書において、「～」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
　本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
　本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
　本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
　本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）測定でのポリスチレン換算値として定義される。
　本明細書において、化学式中のＭｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｂｕはブチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
　本明細書において、赤外線とは、波長７００～２５００ｎｍの光（電磁波）をいう。
　本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
　本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
＜組成物＞
　本発明の組成物は、式（１）で表される化合物と、硬化性化合物と、溶剤と、を含むことを特徴とする。
　本発明の組成物は、保存安定性に優れ、長期保管後も異物などの発生の抑制された膜を形成することができる。また、本発明は、耐光性に優れた膜を形成することができる。このような効果が得られる理由は以下によるものであると推測される。
　すなわち、本発明の組成物に含まれる式（１）で表される化合物は、組成物に含まれる溶剤や硬化性化合物との相溶性が良好であり、その結果、保存安定性に優れた組成物することができたと推測される。また、式（１）で表される化合物は、式（１）中のＲ１およびＲ２がアルキル基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アリール基、複素環基、または、－ＮＲ４１Ｒ４２であることにより、メチン部位の立体障害が高くなり、光照射によってメチン部位の切断などを抑制することができると推測される。このため、本発明の組成物を用いることにより、耐光性に優れた膜を形成することができる。
　本発明の組成物は、光学フィルタ用の組成物として用いることができる。光学フィルタの種類としては、赤外線カットフィルタおよび赤外線透過フィルタなどが挙げられる。式（１）で表される化合物は、可視光透過性および赤外線遮蔽性に優れているので、本発明の組成物は、赤外線カットフィルタ用の組成物として特に好ましく用いられる。
　以下、本発明の組成物に用いられる各成分について説明する。
＜＜特定化合物（式（１）で表される化合物＞＞
　本発明の組成物は、式（１）で表される化合物を含む。式（１）で表される化合物は、本発明の化合物でもある。以下、式（１）で表される化合物を特定化合物ともいう。
　式（１）中、Ｘ１およびＸ２は、それぞれ独立して酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子または－ＮＲＸ１－を表し、
　ＲＸ１は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基またはアシル基を表し、
　Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、複素環基、－ＳＲ４１、－ＳＯ２Ｒ４２、－ＯＳＯ２Ｒ４３、または、－ＮＲ４４Ｒ４５を表し、
　Ｒ４１～Ｒ４３は、それぞれ独立してアルキル基、アリール基または複素環基を表し、
　Ｒ４４およびＲ４５は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アシル基またはアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ４４とＲ４５は連結して環を形成していてもよく、
　Ｒ３～Ｒ５、Ｒ１１～Ｒ１４、Ｒ２１～Ｒ２４、Ｒ３１およびＲ３２は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシルオキシ基、－ＳＲ５１、－ＳＯ２Ｒ５２、－ＯＳＯ２Ｒ５３、または、－ＮＲ５４Ｒ５５を表し、
　Ｒ５１～Ｒ５３は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、
　Ｒ５４およびＲ５５は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アシル基またはアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ５４とＲ５５は連結して環を形成していてもよく、
　Ｒ３～Ｒ５、Ｒ１１～Ｒ１４、Ｒ２１～Ｒ２４は、隣り合う２つが互いに連結して員数５～８の環を形成していてもよく、
　Ｒ３１とＲ３２は連結して員数５～８の環を形成していてもよく、
　Ｒ１１とＲ３１は連結して員数５～８の環を形成していてもよく、
　Ｒ２１とＲ３２は連結して員数５～８の環を形成していてもよく、
　ｍおよびｎはそれぞれ独立して１～１０の整数を表し、
　Ａ－はアニオンを表す。
　式（１）のＸ１およびＸ２は、それぞれ独立して酸素原子または硫黄原子であることが好ましく、酸素原子であることがより好ましい。この態様によれば、耐光性及び保存安定性をより向上させることができる。更には可視透明性および赤外線遮蔽性もより向上させることができる。
　式（１）のＸ１およびＸ２が表す－ＮＲＸ１－のＲＸ１は、水素原子またはアルキル基であることが好ましい。
　式（１）のＲ１およびＲ２は、それぞれ独立して、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、複素環基、－ＳＲ４１、－ＳＯ２Ｒ４２、－ＯＳＯ２Ｒ４３、または、－ＮＲ４４Ｒ４５を表し、Ｒ４１～Ｒ４３は、それぞれ独立してアルキル基、アリール基または複素環基を表し、Ｒ４４およびＲ４５は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アシル基またはアルコキシカルボニル基を表す。
　上記アルキル基の炭素数は、１～３０が好ましい。下限は、２以上が好ましく、３以上がより好ましい。上限は、２０以下であることが好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐および環状のいずれでもよいが、分岐または環状であることが好ましい。また、環状アルキル基は、単環の環状アルキル基であってもよく、多環の環状アルキル基であってもよい。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ウンデシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－トリデシル基、ｎ－テトラデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－ヘキサデシル基、ｎ－ヘプタデシル基、ｎ－オクタデシル基、ｎ－ノナデシル基、ｎ－エイコシル基、シクロペンチル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、トリシクロデカニル基、テトラシクロドデシル基、アダマンチル基、メチルアダマンチル基、エチルアダマンチル基、ブチルアダマンチル基などが挙げられる。上記アルキル基は置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられ、ハロゲン原子、アリール基またはアルコキシ基であることが好ましい。
　上記アルコキシ基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルコキシ基は、直鎖または分岐が好ましい。Ｒ１およびＲ２が表すアルコキシ基は置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられ、ハロゲン原子、アリール基またはアルコキシ基であることが好ましい。
　上記アシル基、アシルオキシ基およびアルコキシカルボニル基の炭素数は、２～３０が好ましく、２～１５がより好ましく、２～８が更に好ましい。アシル基、アシルオキシ基およびアルコキシカルボニル基は置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられ、ハロゲン原子、アリール基またはアルコキシ基であることが好ましい。
　上記アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、２～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。アリール基は置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基であることが好ましい。
　上記複素環基は、５員環または６員環の複素環基であることが好ましい。また、複素環基は、単環の複素環基または縮合数が２～８の縮合環の複素環基であることが好ましく、単環の複素環基または縮合数が２～４の縮合環の複素環基であることがより好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は、１～３が好ましく、１～２がより好ましい。複素環基の環を構成する炭素原子の数は１～３０が好ましく、１～１８がより好ましく、１～１２が更に好ましい。Ｒ１およびＲ２が表す複素環基は置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基であることが好ましい。
　上記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
　－ＮＲ４４Ｒ４５で表される基のＲ４４およびＲ４５は、連結して環を形成していてもよい。形成される環は、員数５～８の環であることが好ましく、員数５または６の環であることがより好ましい。
　耐光性をより向上させることができるという理由から、式（１）のＲ１およびＲ２は、それぞれ独立して、アルキル基またはアリール基であることが好ましく、可視透明性をより向上させることができるという理由からアルキル基であることがより好ましい。
　式（１）のＲ３～Ｒ５、Ｒ１１～Ｒ１４、Ｒ２１～Ｒ２４、Ｒ３１およびＲ３２は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシルオキシ基、－ＳＲ５１、－ＳＯ２Ｒ５２、－ＯＳＯ２Ｒ５３、または、－ＮＲ５４Ｒ５５を表し、
　Ｒ５１～Ｒ５３は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基を表し、
　Ｒ５４およびＲ５５は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アシル基またはアルコキシカルボニル基を表す。
　Ｒ３～Ｒ５、Ｒ１１～Ｒ１４、Ｒ２１～Ｒ２４、Ｒ３１およびＲ３２が表す上記の基は、Ｒ１およびＲ２が表すこれらの基として説明したものが挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　－ＮＲ５４Ｒ５５で表される基のＲ５４およびＲ５５は、連結して環を形成していてもよい。形成される環は、員数５～８の環であることが好ましく、員数５または６の環であることがより好ましい。
　式（１）のＲ３～Ｒ５は、それぞれ独立して、水素原子またはアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
　式（１）のＲ１１～Ｒ１４、Ｒ２１～Ｒ２４は、それぞれ独立して、水素原子またはアルキル基であることが好ましい。
　式（１）のＲ３１およびＲ３２は、それぞれ独立して、水素原子またはアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
　式（１）において、Ｒ３～Ｒ５、Ｒ１１～Ｒ１４、Ｒ２１～Ｒ２４は、隣り合う２つが互いに連結して員数５～８の環を形成していてもよく、Ｒ３１とＲ３２は連結して員数５～８の環を形成していてもよい。形成される環は、員数５または６の環であることが好ましい。形成される環は、脂肪族環であってもよく、芳香族環であってもよい。形成される環は、芳香族環であることが好ましく、ベンゼン環であることがより好ましい。形成される環は、置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基またはアリール基であることが好ましい。
　式（１）において、Ｒ１１とＲ３１は連結して員数５～８の環を形成していてもよく、Ｒ２１とＲ３２は連結して員数５～８の環を形成していてもよい。形成される環は、員数５または６の環であることが好ましい。形成される環は、置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基またはアリール基であることが好ましい。
　式（１）におけるＲ１１～Ｒ１４、Ｒ２１～Ｒ２４の好ましい一態様として、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ２２およびＲ２３がそれぞれ独立して、アルキル基であり、Ｒ１１、Ｒ１４、Ｒ２１およびＲ２４が水素原子である態様が挙げられる。
　式（１）におけるＲ１１～Ｒ１４、Ｒ２１～Ｒ２４の別の好ましい一態様として、Ｒ１１およびＲ２１が水素原子で、Ｒ１２およびＲ２２がそれぞれ独立してアルキル基で、Ｒ１３とＲ１４とが連結してベンゼン環を形成しており、Ｒ２３とＲ２４とが連結してベンゼン環を形成している態様が挙げられる。
　式（１）におけるＲ１１～Ｒ１４、Ｒ２１～Ｒ２４の別の好ましい一態様として、Ｒ１４およびＲ２４が水素原子で、Ｒ１３およびＲ２３がそれぞれ独立してアルキル基で、Ｒ１１とＲ１２とが連結してベンゼン環を形成しており、Ｒ２１とＲ２２とが連結してベンゼン環を形成している態様が挙げられる。
　式（１）のｍおよびｎはそれぞれ独立して１～１０の整数を表し、１～３の整数であることが好ましく、２または３であることがより好ましく、２であることが更に好ましい。
　また、保存安定性及び耐光性をより向上させることができるという理由から、式（１）のｍとｎは同じ整数であることが好ましい。
　式（１）のＡ－はアニオンを表す。アニオンとしては、特に制限は無い。有機アニオンであってもよく、無機アニオンであってもよい。アニオンとしては、式（ＡＮ１）で表されるアニオン、式（ＡＮ２）で表されるアニオン、式（ＡＮ３）で表されるアニオン、式（ＡＮ４）で表されるアニオン、式（ＡＮ５）で表されるアニオン、フッ素アニオン、塩素アニオン、臭素アニオン、ヨウ素アニオン、シアン化物イオン、過塩素酸アニオン、カルボン酸アニオン、スルホン酸アニオン、リン酸アニオン等が挙げられる。
　式（ＡＮ１）中、ＲＡＮ１およびＲＡＮ２は、それぞれ独立してハロゲン原子またはアルキル基を表し、ＲＡＮ１とＲＡＮ２は、結合して環を形成していてもよい；
　式（ＡＮ２）中、ＲＡＮ３～ＲＡＮ５は、それぞれ独立して、ハロゲン原子またはアルキル基を表し、ＲＡＮ３とＲＡＮ４、ＲＡＮ４とＲＡＮ５、または、ＲＡＮ３とＲＡＮ５は、結合して環を形成していてもよい；
　式（ＡＮ３）中、ＲＡＮ６～ＲＡＮ９は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基またはシアノ基を表す；
　式（ＡＮ４）中、ＲＡＮ１０は、窒素原子または酸素原子を有する連結基により連結されていても良いハロゲン化炭化水素基を表す；
　式（ＡＮ５）中、ＲＡＮ１１～ＲＡＮ１６は、それぞれ独立してハロゲン原子またはハロゲン化炭化水素基を表す。
　式（ＡＮ１）のＲＡＮ１およびＲＡＮ２が表すハロゲン原子、式（ＡＮ２）のＲＡＮ３～ＲＡＮ５が表すハロゲン原子、および、式（ＡＮ３）のＲＡＮ６～ＲＡＮ９が表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子であることが好ましい。
　式（ＡＮ１）のＲＡＮ１およびＲＡＮ２が表すアルキル基、式（ＡＮ２）のＲＡＮ３～ＲＡＮ５が表すアルキル基、および、式（ＡＮ３）のＲＡＮ６～ＲＡＮ９が表すアルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～３が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状が挙げられ、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。アルキル基は、ハロゲン原子を置換基として有するアルキル基であることが好ましく、フッ素原子を置換基として有するアルキル基（フルオロアルキル基）であることがより好ましい。また、フルオロアルキル基は、パーフルオロアルキル基であることが好ましい。
　式（ＡＮ３）のＲＡＮ６～ＲＡＮ９が表すアリール基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましく、６が更に好ましい。アリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、ハロゲン原子およびアルキル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子であることが好ましい。アルキル基としては、フルオロアルキル基であることが好ましい。
　式（ＡＮ３）のＲＡＮ６～ＲＡＮ９が表すアルコキシ基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～３が更に好ましい。アルコキシ基は、直鎖、分岐、環状が挙げられ、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アルコキシ基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、ハロゲン原子およびアルキル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子であることが好ましい。アルキル基としては、フルオロアルキル基であることが好ましい。
　式（ＡＮ３）のＲＡＮ６～ＲＡＮ９が表すアリールオキシ基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましく、６が更に好ましい。アリールオキシ基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、ハロゲン原子およびアルキル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子であることが好ましい。アルキル基としては、フルオロアルキル基であることが好ましい。
　式（ＡＮ１）のＲＡＮ１とＲＡＮ２は結合して環を形成していてもよい。式（ＡＮ２）のＲＡＮ３とＲＡＮ４、ＲＡＮ４とＲＡＮ５、または、ＲＡＮ３とＲＡＮ５は、結合して環を形成していてもよい。
　式（ＡＮ４）のＲＡＮ１０は、窒素原子または酸素原子を有する連結基により連結されていても良いハロゲン化炭化水素基を表す。ハロゲン化炭化水素基とは、ハロゲン原子で置換された１価の炭化水素基を指し、フッ素原子で置換された１価の炭化水素基であることが好ましい。炭化水素基としては、アルキル基、アリール基などが挙げられる。ハロゲン原子で置換された１価の炭化水素基はさらに置換基を有していてもよい。窒素原子または酸素原子を有する連結基としては、－Ｏ－、―ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－ＮＨ－などが挙げられる。
　式（ＡＮ５）のＲＡＮ１１～ＲＡＮ１６は、それぞれ独立してハロゲン原子またはハロゲン化炭化水素基を表す。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素基としては、ハロゲン原子を置換基として有するアルキル基であることが好ましく、フッ素原子を置換基として有するアルキル基であることがより好ましい。
　－置換基Ｔについて－
　置換基Ｔとしては、次の基が挙げられる。ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキル基）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルケニル基）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルキニル基）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０のアリール基）、複素環基（好ましくは炭素数１～３０の複素環基）、アミノ基（好ましくは炭素数０～３０のアミノ基）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～３０のアルコキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールオキシ基）、複素環オキシ基（好ましくは炭素数１～３０の複素環オキシ基）、アシル基（好ましくは炭素数２～３０のアシル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニル基）、複素環オキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～３０の複素環オキシカルボニル基）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルオキシ基）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアミノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニルアミノ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～３０のスルファモイル基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは炭素数０～３０のスルファモイルアミノ基）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～３０のカルバモイル基）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールチオ基）、複素環チオ基（好ましくは炭素数１～３０の複素環チオ基）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルスルホニル基）、アルキルスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルスルホニルアミノ基）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６～３０のアリールスルホニル基）、アリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールスルホニルアミノ基）、複素環スルホニル基（好ましくは炭素数１～３０の複素環スルホニル基）、複素環スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～３０の複素環スルホニルアミノ基）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルスルフィニル基）、アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６～３０のアリールスルフィニル基）、複素環スルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０の複素環スルフィニル基）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～３０のウレイド基）、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、カルボン酸アミド基、スルホン酸アミド基、イミド基、ホスフィノ基、メルカプト基、シアノ基、アルキルスルフィノ基、アリールスルフィノ基、アリールアゾ基、複素環アゾ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、ヒドラジノ基、イミノ基。これらの基は、更に置換可能な基である場合、更に置換基を有してもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔで説明した基が挙げられる。
　特定化合物の具体例としては、以下に示す構造の化合物が挙げられる。これらの化合物の共鳴構造体も特定化合物の具体例として挙げられる。なお、以下に示す構造式中のＭｅはメチル基であり、Ｅｔはエチル基であり、ｎＰｒはｎ－プロピル基であり、ｉＰｒはイソプロピル基であり、ｎＢｕはｎ－ブチル基であり、ｔＢｕはｔｅｒｔ－ブチル基であり、Ｈｅｘはヘキシル基であり、Ｃｙはシクロヘキシル基であり、Ａｄはアダマンチル基であり、Ｐｈはフェニル基であり、Ａｃはアセチル基である。
　特定化合物の極大吸収波長は、波長６５０～１５００ｎｍの範囲に存在することが好ましく、波長６８０～１２００の範囲に存在することがより好ましく、波長７００～１００
０ｎｍの範囲に存在することが更に好ましい。
　特定化合物は、赤外線吸収剤として好ましく用いられる。
　組成物の全固形分中における特定化合物（式（１）で表される化合物）の含有量は、０．１質量％以上であることが好ましく、０．５質量％以上であることがより好ましく、３質量％以上であることが更に好ましく、５質量％以上であることが特に好ましい。また、赤外線吸収剤の含有量の上限は、５０質量％以下であることが好ましく、４０質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以下であることが更に好ましい。本発明の組成物は特定化合物を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜硬化性化合物＞＞
　本発明の組成物は硬化性化合物を含有する。硬化性化合物としては、重合性化合物、樹脂等が挙げられる。樹脂は、非重合性の樹脂（重合性基を有さない樹脂）であってもよく、重合性の樹脂（重合性基を有する樹脂）であってもよい。重合性基としては、エチレン性不飽和結合含有基、環状エーテル基、メチロール基、アルコキシメチル基などが挙げられる。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、ビニルフェニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルアミド基などが挙げられ、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基および（メタ）アクリロイルオキシ基が好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基がより好ましい。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられ、エポキシ基が好ましい。
　硬化性化合物としては、樹脂を少なくとも含むものを用いることが好ましい。また、本発明の組成物をフォトリソグラフィ用の組成物とする場合には、硬化性化合物として樹脂と、重合性化合物（好ましくは、モノマータイプの重合性化合物である重合性モノマー）とを用いることが好ましく、樹脂と、エチレン性不飽和結合含有基を有する重合性モノマー（モノマータイプの重合性化合物）とを用いることがより好ましい。
（重合性化合物）
　重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物、環状エーテル基を有する化合物、メチロール基を有する化合物、アルコキシメチル基を有する化合物等が挙げられる。エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物はラジカル重合性化合物として好ましく用いることができる。また、環状エーテル基を有する化合物は、カチオン重合性化合物として好ましく用いることができる。
　樹脂タイプの重合性化合物としては、重合性基を有する繰り返し単位を含む樹脂などが挙げられる。
　モノマータイプの重合性化合物（重合性モノマー）の分子量は、２０００未満であることが好ましく、１５００以下であることがより好ましい。重合性モノマーの分子量の下限は１００以上であることが好ましく、２００以上であることがより好ましい。樹脂タイプの重合性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２０００～２００００００であることが好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００００以下であることが好ましく、５０００００以下であることがより好ましい。重量平均分子量の下限は、３０００以上であることが好ましく、５０００以上であることがより好ましい。
　重合性モノマーとしてのエチレン性不飽和結合含有基を有する化合物は、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。具体例としては、特開２００９－２８８７０５号公報の段落番号００９５～０１０８、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落０２２７、特開２００８－２９２９７０号公報の段落番号０２５４～０２５７、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３４～００３８、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０４７７、特開２０１７－０４８３６７号公報、特許第６０５７８９１号公報、特許第６０３１８０７号公報、特開２０１７－１９４６６２号公報に記載されている化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、およびこれらの化合物の（メタ）アクリロイル基がエチレングリコールおよび／またはプロピレングリコール残基を介して結合している構造の化合物（例えば、サートマー社から市販されている、ＳＲ４５４、ＳＲ４９９）などが挙げられる。また、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ－４６０；東亞合成製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＨＤＤＡ）、ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製）、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、ＮＫオリゴＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（大成ファインケミカル（株）製）、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ０（共栄社化学（株）製）などを用いることもできる。
　また、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどの３官能の（メタ）アクリレート化合物を用いることも好ましい。３官能の（メタ）アクリレート化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０９、Ｍ－３１０、Ｍ－３２１、Ｍ－３５０、Ｍ－３６０、Ｍ－３１３、Ｍ－３１５、Ｍ－３０６、Ｍ－３０５、Ｍ－３０３、Ｍ－４５２、Ｍ－４５０（東亞合成（株）製）、ＮＫエステル　Ａ９３００、Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、Ａ－ＴＭＭ－３、Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ、Ａ－ＴＭＭ－３ＬＭ－Ｎ、Ａ－ＴＭＰＴ、ＴＭＰＴ（新中村化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＧＰＯ－３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ－３３０、ＴＰＡ－３３０、ＰＥＴ－３０（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物は、更に、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。このような化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０５、Ｍ－５１０、Ｍ－５２０、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）等が挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、カプロラクトン構造を有する化合物を用いることもできる。カプロラクトン構造を有する化合物については、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落００４２～００４５の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。カプロラクトン構造を有する化合物は、例えば、日本化薬（株）からシリーズとして市販されている、ＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０、ＤＰＣＡ－１２０等が挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、エチレン性不飽和結合含有基とアルキレンオキシ基を有する化合物を用いることもできる。このような化合物は、エチレン性不飽和結合含有基と、エチレンオキシ基および／またはプロピレンオキシ基とを有する化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和結合含有基とエチレンオキシ基とを有する化合物であることがより好ましく、エチレンオキシ基を４～２０個有する３～６官能（メタ）アクリレート化合物であることがさらに好ましい。市販品としては、例えばサートマー社製のエチレンオキシ基を４個有する４官能（メタ）アクリレートであるＳＲ－４９４、日本化薬（株）製のイソブチレンオキシ基を３個有する３官能（メタ）アクリレートであるＫＡＹＡＲＡＤ　ＴＰＡ－３３０などが挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、フルオレン骨格を有する重合性化合物を用いることもできる。市販品としては、オグソールＥＡ－０２００、ＥＡ－０３００（大阪ガスケミカル（株）製、フルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートモノマー）などが挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、トルエンなどの環境規制物質を実質的に含まない化合物を用いることも好ましい。このような化合物の市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ　ＬＴ、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＥＡ－１２　ＬＴ（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　環状エーテル基を有する化合物としては、エポキシ基を有する化合物、オキセタニル基を有する化合物などが挙げられ、エポキシ基を有する化合物であることが好ましい。エポキシ基を有する化合物としては、１分子内にエポキシ基を１～１００個有する化合物が挙げられる。エポキシ基の数の上限は、例えば、１０個以下とすることもでき、５個以下とすることもできる。エポキシ基の数の下限は、２個以上が好ましい。
　環状エーテル基を有する化合物は、低分子化合物（例えば分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）でもよい。環状エーテル基の重量平均分子量は、２００～１０００００が好ましく、５００～５００００がより好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００以下が好ましく、５０００以下がより好ましく、３０００以下が更に好ましい。
　環状エーテル基を有する化合物としては、特開２０１３－０１１８６９号公報の段落番号００３４～００３６に記載された化合物、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０１４７～０１５６に記載された化合物、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落番号００８５～００９２に記載された化合物、特開２０１７－１７９１７２号公報に記載された化合物を用いることもできる。
　環状エーテル基を有する化合物の市販品としては、デナコール　ＥＸ－２１２Ｌ、ＥＸ－２１２、ＥＸ－２１４Ｌ、ＥＸ－２１４、ＥＸ－２１６Ｌ、ＥＸ－２１６、ＥＸ－３２１Ｌ、ＥＸ－３２１、ＥＸ－８５０Ｌ、ＥＸ－８５０（以上、ナガセケムテックス（株）製）、ＡＤＥＫＡ　ＲＥＳＩＮ　ＥＰ－４０００Ｓ、ＥＰ－４００３Ｓ、ＥＰ－４０１０Ｓ、ＥＰ－４０１１Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＮＣ－２０００、ＮＣ－３０００、ＮＣ－７３００、ＸＤ－１０００、ＥＰＰＮ－５０１、ＥＰＰＮ－５０２（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、ＥＨＰＥ３１５０、ＥＰＯＬＥＡＤ　ＰＢ　３６００、ＰＢ　４７００（以上、（株）ダイセル製）、サイクロマーＰ　ＡＣＡ　２００Ｍ、ＡＣＡ　２３０ＡＡ、ＡＣＡ　Ｚ２５０、ＡＣＡ　Ｚ２５１、ＡＣＡ　Ｚ３００、ＡＣＡ　Ｚ３２０（以上、（株）ダイセル製）、ｊＥＲ１０３１Ｓ、ｊＥＲ１５７Ｓ６５、ｊＥＲ１５２、ｊＥＲ１５４、ｊＥＲ１５７Ｓ７０（以上、三菱ケミカル（株）製）、アロンオキセタンＯＸＴ－１２１、ＯＸＴ－２２１、ＯＸ－ＳＱ、ＰＮＯＸ（以上、東亞合成（株）製）、アデカグリシロール　ＥＤ－５０５（（株）ＡＤＥＫＡ製、エポキシ基含有モノマー）、マープルーフＧ－０１５０Ｍ、Ｇ－０１０５ＳＡ、Ｇ－０１３０ＳＰ、Ｇ－０２５０ＳＰ、Ｇ－１００５Ｓ、Ｇ－１００５ＳＡ、Ｇ－１０１０Ｓ、Ｇ－２０５０Ｍ、Ｇ－０１１００、Ｇ－０１７５８（日油（株）製、エポキシ基含有ポリマー）、ＯＸＴ－１０１、ＯＸＴ－１２１、ＯＸＴ－２１２、ＯＸＴ－２２１（以上、東亞合成（株）製、オキセタニル基含有モノマー）、ＯＸＥ－１０、ＯＸＥ－３０（以上、大阪有機化学工業（株）製、オキセタニル基含有モノマー）などが挙げられる。
　メチロール基を有する化合物（以下、メチロール化合物ともいう）としては、メチロール基が窒素原子または芳香族環を形成する炭素原子に結合している化合物が挙げられる。また、アルコキシメチル基を有する化合物（以下、アルコキシメチル化合物ともいう）としては、アルコキシメチル基が窒素原子または芳香族環を形成する炭素原子に結合している化合物が挙げられる。アルコキシメチル基またはメチロール基が窒素原子に結合している化合物としては、アルコキシメチル化メラミン、メチロール化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、メチロール化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリル、メチロール化グリコールウリル、アルコキシメチル化尿素およびメチロール化尿素等が好ましい。また、特開２００４－２９５１１６号公報の段落０１３４～０１４７、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落００９５～０１２６に記載された化合物を用いることもできる。
（樹脂）
　本発明の組成物は、硬化性化合物として樹脂を用いることができる。硬化性化合物は、樹脂を少なくとも含むものを用いることが好ましい。樹脂は、例えば、顔料等を組成物中で分散させる用途や、バインダーの用途で配合される。なお、主に顔料等を組成物中で分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外を目的として樹脂を使用することもできる。なお、重合性基を有する樹脂は、重合性化合物にも該当する。
　樹脂の重量平均分子量は、３０００～２００００００が好ましい。上限は、１００００００以下が好ましく、５０００００以下がより好ましい。下限は、４０００以上が好ましく、５０００以上がより好ましい。
　樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂などが挙げられる。これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。環状オレフィン樹脂としては、耐熱性向上の観点からノルボルネン樹脂が好ましい。ノルボルネン樹脂の市販品としては、例えば、ＪＳＲ（株）製のＡＲＴＯＮシリーズ（例えば、ＡＲＴＯＮ　Ｆ４５２０）などが挙げられる。また、樹脂としては、国際公開第２０２２／０６５２１５号の段落番号００９１～００９９に記載の樹脂、特開２０１６－２２２８９１号公報に記載されたブロックポリイソシアネート樹脂、特開２０２０－１２２０５２号公報に記載された樹脂、特開２０２０－１１１６５６号公報に記載された樹脂、特開２０２０－１３９０２１号公報に記載された樹脂、特開２０１７－１３８５０３号公報に記載の主鎖に環構造を有する構成単位と側鎖にビフェニル基を有する構成単位とを含む樹脂、特開２０２０－１８６３７３号公報の段落０１９９～０２３３に記載の樹脂、特開２０２０－１８６３２５号公報に記載のアルカリ可溶性樹脂、韓国公開特許第１０－２０２０－００７８３３９号公報に記載の式１で表される樹脂、国際公開第２０２２／０３０４４５号に記載のエポキシ基と酸基を含む共重合体、特開２０２０－１８６３７３号公報の段落０１９９～０２３３に記載の樹脂、特開２０２０－１８６３２５号公報に記載のアルカリ可溶性樹脂、韓国公開特許第１０－２０２０－００７８３３９号公報に記載の式１で表される樹脂、特開２０２１－１３４３５０号公報に記載された樹脂を用いることもできる。また、樹脂としては、フルオレン骨格を有する樹脂を好ましく用いることもできる。フルオレン骨格を有する樹脂としては、米国特許出願公開第２０１７／０１０２６１０号明細書の記載された樹脂が挙げられる。
　樹脂として、酸基を有する樹脂を用いることが好ましい。酸基としては、例えば、カルボキシ基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられる。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。酸基を有する樹脂は分散剤として用いることもできる。酸基を有する樹脂の酸価は、３０～５００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、４００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が最も好ましい。
　樹脂としては、重合性基を有する樹脂を用いることも好ましい。重合性基は、エチレン性不飽和結合含有基および環状エーテル基であることが好ましく、エチレン性不飽和結合含有基であることがより好ましい。
　樹脂は、分散剤としての樹脂を含むことも好ましい。分散剤としては、酸性分散剤（酸性樹脂）、塩基性分散剤（塩基性樹脂）が挙げられる。ここで、酸性分散剤（酸性樹脂）とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性分散剤（酸性樹脂）としては、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、酸基の量が７０モル％以上である樹脂が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）が有する酸基は、カルボキシ基が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）の酸価は、１０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。また、塩基性分散剤（塩基性樹脂）とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基性分散剤（塩基性樹脂）としては、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、塩基性基の量が５０モル％を超える樹脂が好ましい。塩基性分散剤が有する塩基性基は、アミノ基が好ましい。
　分散剤として用いる樹脂は、グラフト樹脂であることも好ましい。グラフト樹脂の詳細については、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号００２５～００９４の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　分散剤として用いる樹脂は、主鎖及び側鎖の少なくとも一方に窒素原子を含むポリイミン系分散剤であることも好ましい。ポリイミン系分散剤としては、ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造を有する主鎖と、原子数４０～１００００の側鎖とを有し、かつ主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂が好ましい。塩基性窒素原子は、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はない。ポリイミン系分散剤については、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号０１０２～０１６６の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　分散剤として用いる樹脂は、コア部に複数個のポリマー鎖が結合した構造の樹脂であることも好ましい。このような樹脂としては、例えば、デンドリマー（星型ポリマーを含む）が挙げられる。また、デンドリマーの具体例としては、特開２０１３－０４３９６２号公報の段落番号０１９６～０２０９に記載された高分子化合物Ｃ－１～Ｃ－３１などが挙げられる。
　分散剤として用いる樹脂は、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する繰り返し単位を含む樹脂であることも好ましい。エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する繰り返し単位の含有量は、樹脂の全繰り返し単位中１０モル％以上であることが好ましく、１０～８０モル％であることがより好ましく、２０～７０モル％であることが更に好ましい。
　分散剤として、特開２０１８－０８７９３９号公報に記載された樹脂、特許第６４３２０７７号公報の段落番号０２１９～０２２１に記載されたブロック共重合体（ＥＢ－１）～（ＥＢ－９）、国際公開第２０１６／１０４８０３号に記載のポリエステル側鎖を有するポリエチレンイミン、国際公開第２０１９／１２５９４０号に記載のブロック共重合体、特開２０２０－０６６６８７号公報に記載のアクリルアミド構造単位を有するブロックポリマー、特開２０２０－０６６６８８号公報に記載のアクリルアミド構造単位を有するブロックポリマーなどを用いることもできる。
　分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、ビックケミー社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫシリーズ、日本ルーブリゾール社製のＳＯＬＳＰＥＲＳＥシリーズ、ＢＡＳＦ社製のＥｆｋａシリーズ、味の素ファインテクノ（株）製のアジスパーシリーズ等が挙げられる。また、特開２０１２－１３７５６４号公報の段落番号０１２９に記載された製品、特開２０１７－１９４６６２号公報の段落番号０２３５に記載された製品を分散剤として用いることもできる。
　組成物の全固形分中における硬化性化合物の含有量は、１～９５質量％が好ましい。下限は２質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましく、７質量％以上が更に好ましく、１０質量％以上が特に好ましい。上限は、９４質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、８５質量％以下が更に好ましく、８０質量％以下が特に好ましい。
　本発明の組成物が硬化性化合物として重合性化合物を含む場合、組成物の全固形分中における重合性化合物の含有量は、１～８５質量％が好ましい。下限は、２質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましい。上限は、８０質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましい。
　本発明の組成物が硬化性化合物として重合性モノマーを含む場合、組成物の全固形分中における重合性モノマーの含有量は、１～５０質量％が好ましい。下限は、２質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましい。上限は、３０質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましい。
　本発明の組成物が硬化性化合物としてエチレン性不飽和結合含有基を有する化合物を含む場合、組成物の全固形分中におけるエチレン性不飽和結合含有基を有する化合物の含有量は、１～７０質量％が好ましい。下限は、２質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましい。上限は、６５質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましい。
　本発明の組成物が硬化性化合物として環状エーテル基を有する化合物を含む場合、組成物の全固形分中における環状エーテル基を有する化合物の含有量は、１～９５質量％が好ましい。下限は、２質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましい。上限は、８０質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましく、６０質量％以下が更に好ましい。
　本発明の組成物が硬化性化合物として樹脂を含む場合、組成物の全固形分中における樹脂の含有量は、１～８５質量％が好ましい。下限は２質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましく、７質量％以上が更に好ましく、１０質量％以上が特に好ましい。上限は、８０質量％以下が好ましく、７５質量％以下がより好ましく、７０質量％以下が更に好ましく、４０質量％以下が特に好ましい。
　本発明の組成物が分散剤としての樹脂を含有する場合、組成物の全固形分中における分散剤としての樹脂の含有量は、０．１～４０質量％が好ましい。上限は、２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下が更に好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上が更に好ましい。また、分散剤としての樹脂の含有量は、顔料１００質量部に対して、１～１００質量部が好ましい。上限は、８０質量部以下が好ましく、７５質量部以下がより好ましい。下限は、２．５質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。
　本発明の組成物は、硬化性化合物を１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。硬化性化合物を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜溶剤＞＞
　本発明の組成物は溶剤を含有する。溶剤としては、水、有機溶剤が挙げられ、有機溶剤であることが好ましい。有機溶剤としては、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２２３を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤も好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジクロロメタン、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、２－ペンタノン、３－ペンタノン、４－ヘプタノン、シクロヘキサノン、２－メチルシクロヘキサノン、３－メチルシクロヘキサノン、４－メチルシクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、プロピレングリコールジアセテート、３－メトキシブタノール、メチルエチルケトン、ガンマブチロラクトン、スルホラン、アニソール、１，４－ジアセトキシブタン、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、二酢酸ブタン－１，３－ジイル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセタート、ジアセトンアルコール（別名としてダイアセトンアルコール、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン）、２－メトキシプロピルアセテート、２－メトキシ－１－プロパノール、イソプロピルアルコールなどが挙げられる。ただし有機溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、有機溶剤全量に対して、５０質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｍｉｌｌｉｏｎ）以下とすることもでき、１０質量ｐｐｍ以下とすることもでき、１質量ｐｐｍ以下とすることもできる）。
　本発明においては、金属含有量の少ない有機溶剤を用いることが好ましく、有機溶剤の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの有機溶剤を用いてもよく、そのような有機溶剤は例えば東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。
　有機溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフロロエチレン、ポリエチレンまたはナイロンが好ましい。
　有機溶剤は、異性体（原子数が同じであるが構造が異なる化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
　有機溶剤中の過酸化物の含有率が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
　組成物中における溶剤の含有量は、１０～９７質量％であることが好ましい。下限は、３０質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、５０質量％以上であることが更に好ましく、６０質量％以上であることがより一層好ましく、７０質量％以上であることが特に好ましい。上限は、９６質量％以下であることが好ましく、９５質量％以下であることがより好ましい。組成物は溶剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜他の赤外線吸収剤＞＞
　本発明の組成物は、上述した特定化合物以外の赤外線吸収剤（他の赤外線吸収剤）を含有することができる。更に他の赤外線吸収剤を含有することで、より幅広い波長範囲の赤外線を遮蔽できる膜を形成することができる。他の赤外線吸収剤は、染料であってもよく、顔料（粒子）であってもよい。他の赤外線吸収剤としては、ピロロピロール化合物、ポリメチン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、クアテリレン化合物、メロシアニン化合物、クロコニウム化合物、オキソノール化合物、イミニウム化合物、ジチオール化合物、トリアリールメタン化合物、ピロメテン化合物、アゾメチン化合物、アントラキノン化合物、ジベンゾフラノン化合物、ジチオレン金属錯体、金属酸化物、金属ホウ化物等が挙げられ、スクアリリウム化合物およびフタロシアニン化合物から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
　ピロロピロール化合物としては、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００１６～００５８に記載の化合物、特開２０１１－０６８７３１号公報の段落番号００３７～００５２に記載の化合物、国際公開第２０１５／１６６８７３号の段落番号００１０～００３３に記載の化合物などが挙げられる。スクアリリウム化合物としては、特開２０１１－２０８１０１号公報の段落番号００４４～００４９に記載の化合物、特許第６０６５１６９号公報の段落番号００６０～００６１に記載の化合物、国際公開第２０１６／１８１９８７号の段落番号００４０に記載の化合物、特開２０１５－１７６０４６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１９０１６２号の段落番号００７２に記載の化合物、特開２０１６－０７４６４９号公報の段落番号０１９６～０２２８に記載の化合物、特開２０１７－０６７９６３号公報の段落番号０１２４に記載の化合物、国際公開第２０１７／１３５３５９号に記載の化合物、特開２０１７－１１４９５６号公報に記載の化合物、特許６１９７９４０号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１２０１６６号に記載の化合物などが挙げられる。ポリメチン化合物としては、特開２００９－１０８２６７号公報の段落番号００４４～００４５に記載の化合物、特開２００２－１９４０４０号公報の段落番号００２６～００３０に記載の化合物、特開２０１５－１７２００４号公報に記載の化合物、特開２０１５－１７２１０２号公報に記載の化合物、特開２００８－０８８４２６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１９０１６２号の段落番号００９０に記載の化合物、特開２０１７－０３１３９４号公報に記載の化合物、特開２０２１－１３４３５０号公報に記載の化合物、国際公開第２０２１／０８５３７２号に記載の化合物などが挙げられる。クロコニウム化合物としては、特開２０１７－０８２０２９号公報に記載の化合物が挙げられる。イミニウム化合物としては、例えば、特表２００８－５２８７０６号公報に記載の化合物、特開２０１２－０１２３９９号公報に記載の化合物、特開２００７－０９２０６０号公報に記載の化合物、国際公開第２０１８／０４３５６４号の段落番号００４８～００６３に記載の化合物が挙げられる。フタロシアニン化合物としては、特開２０１２－０７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物、特開２００６－３４３６３１号公報に記載のオキシチタニウムフタロシアニン、特開２０１３－１９５４８０号公報の段落番号００１３～００２９に記載の化合物、特許第６０８１７７１号公報に記載のバナジウムフタロシアニン化合物、国際公開第２０２０／０７１４７０号に記載の化合物が挙げられる。ナフタロシアニン化合物としては、特開２０１２－０７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物が挙げられる。ジチオレン金属錯体としては、特許第５７３３８０４号公報に記載の化合物が挙げられる。金属酸化物としては、例えば、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ、酸化亜鉛、Ａｌドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ二酸化スズ、ニオブドープ二酸化チタン、酸化タングステンなどが挙げられる。酸化タングステンの詳細については、特開２０１６－００６４７６号公報の段落番号００８０を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。金属ホウ化物としては、ホウ化ランタンなどが挙げられる。ホウ化ランタンの市販品としては、ＬａＢ６－Ｆ（日本新金属（株）製）などが挙げられる。また、金属ホウ化物としては、国際公開第２０１７／１１９３９４号に記載の化合物を用いることもできる。酸化インジウムスズの市販品としては、Ｆ－ＩＴＯ（ＤＯＷＡハイテック（株）製）などが挙げられる。
　赤外線吸収剤としては、特開２０１７－１９７４３７号公報に記載のスクアリリウム化合物、特開２０１７－０２５３１１号公報に記載のスクアリリウム化合物、国際公開第２０１６／１５４７８２号に記載のスクアリリウム化合物、特許第５８８４９５３号公報に記載のスクアリリウム化合物、特許第６０３６６８９号公報に記載のスクアリリウム化合物、特許第５８１０６０４号公報に記載のスクアリリウム化合物、国際公開第２０１７／２１３０４７号の段落番号００９０～０１０７に記載のスクアリリウム化合物、特開２０１８－０５４７６０号公報の段落番号００１９～００７５に記載のピロール環含有化合物、特開２０１８－０４０９５５号公報の段落番号００７８～００８２に記載のピロール環含有化合物、特開２０１８－００２７７３号公報の段落番号００４３～００６９に記載のピロール環含有化合物、特開２０１８－０４１０４７号公報の段落番号００２４～００８６に記載のアミドα位に芳香環を有するスクアリリウム化合物、特開２０１７－１７９１３１号公報に記載のアミド連結型スクアリリウム化合物、特開２０１７－１４１２１５号公報に記載のピロールビス型スクアリリウム骨格又はクロコニウム骨格を有する化合物、特開２０１７－０８２０２９号公報に記載されたジヒドロカルバゾールビス型のスクアリリウム化合物、特開２０１７－０６８１２０号公報の段落番号００２７～０１１４に記載の非対称型の化合物、特開２０１７－０６７９６３号公報に記載されたピロール環含有化合物（カルバゾール型）、特許第６２５１５３０号公報に記載されたフタロシアニン化合物などを用いることもできる。
　他の赤外線吸収剤として、欧州特許第３６２８６４５号明細書の段落番号００２５に記載の下記式で表される酸化タングステンを用いることもできる。
　Ｍ１ ａＭ２ ｂＷｃＯｄ（Ｐ（Ｏ）ｎＲｍ）ｅ
　Ｍ１、Ｍ２はアンモニウムカチオンまたは金属カチオンを表し、ａは０．０１～０．５であり、ｂは０～０．５であり、ｃは１であり、ｄは２．５～３であり、ｅは０．０１～０．７５であり、ｎは１、２または３であり、ｍは１、２または３であり、Ｒは、置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
　他の赤外線吸収剤の含有量は、上述した特定化合物１００質量部に対し１～１００質量部であることが好ましく、３～６０質量部であることがより好ましく、５～４０質量部であることが更に好ましい。
　上述した特定化合物と他の赤外線吸収剤との合計の含有量は、組成物の全固形分中１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上であることがより好ましく、５質量％以上であることが更に好ましい。上記合計の含有量の上限は、５０質量％以下であることが好ましく、４０質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以下であることが更に好ましい。
＜＜顔料誘導体＞＞
　本発明の組成物は、顔料誘導体を含有することができる。顔料誘導体は分散助剤として用いられる。分散助剤とは、組成物中において顔料の分散性を高めるための素材のことである。
　顔料誘導体としては、色素構造およびトリアジン構造からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造と、酸基または塩基性基とを有する化合物が挙げられる。
　上記色素構造としては、スクアリリウム色素構造、ピロロピロール色素構造、ジケトピロロピロール色素構造、キナクリドン色素構造、アントラキノン色素構造、ジアントラキノン色素構造、ベンゾイソインドール色素構造、チアジンインジゴ色素構造、アゾ色素構造、キノフタロン色素構造、フタロシアニン色素構造、ナフタロシアニン色素構造、ジオキサジン色素構造、ペリレン色素構造、ペリノン色素構造、ベンゾイミダゾロン色素構造、ベンゾチアゾール色素構造、ベンゾイミダゾール色素構造およびベンゾオキサゾール色素構造が挙げられ、スクアリリウム色素構造、ピロロピロール色素構造、ジケトピロロピロール色素構造、フタロシアニン色素構造、キナクリドン色素構造およびベンゾイミダゾロン色素構造が好ましく、スクアリリウム色素構造およびピロロピロール色素構造がより好ましい。
　顔料誘導体が有する酸基としては、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、ボロン酸基、カルボン酸アミド基、スルホン酸アミド基、イミド酸基及びこれらの塩等が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋など）、アルカリ土類金属イオン（Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋など）、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。カルボン酸アミド基としては、－ＮＨＣＯＲｙ１で表される基が好ましい。スルホン酸アミド基としては、－ＮＨＳＯ２Ｒｙ２で表される基が好ましい。イミド酸基としては、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２Ｒｙ３、－ＣＯＮＨＳＯ２Ｒｙ４、－ＣＯＮＨＣＯＲｙ５または－ＳＯ２ＮＨＣＯＲｙ６で表される基が好ましく、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２Ｒｙ３がより好ましい。Ｒｙ１～Ｒｙ６は、それぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒｙ１～Ｒｙ６が表すアルキル基及びアリール基は、置換基を有してもよい。置換基としてはハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。
　顔料誘導体が有する塩基性基としては、アミノ基、ピリジニル基およびその塩、アンモニウム基の塩、並びにフタルイミドメチル基が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、水酸化物イオン、ハロゲンイオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオンなどが挙げられる。
　顔料誘導体の具体例としては、国際公開第２０１６／０３５６９５号の段落番号００３７～００５４に記載の化合物、国際公開第２０１７／１４６０９２号の段落番号００６１～００８６に記載の化合物、国際公開第２０１８／２３０３８７号の段落番号００１７～００６８に記載の化合物、国際公開第２０２０／０５４７１８号の段落番号００８５～００９９に記載の化合物、国際公開第２０２０／０５４７１８号の段落番号００９９に記載の化合物、国際公開第２０２２／０８５４８５号の段落０１２４に記載の化合物、特開２０１８－１６８２４４号公報に記載のベンゾイミダゾロン化合物又はそれらの塩、特許第６９９６２８２号の一般式（１）に記載のイソインドリン骨格を有する化合物などが挙げられる。
　顔料誘導体の含有量は、顔料１００質量部に対し、１～５０質量部が好ましい。下限値は、３質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。上限値は、４０質量部以下が好ましく、３０質量部以下がより好ましい。顔料誘導体は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜光重合開始剤＞＞
　本発明の組成物が重合性化合物を含む場合、本発明の組成物は更に光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
　光重合開始剤としては、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など）、アシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物などが挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物および３－アリール置換クマリン化合物であることが好ましく、オキシム化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、および、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物であることがより好ましく、オキシム化合物であることが更に好ましい。また、光重合開始剤としては、特開２０１４－１３０１７３号公報の段落００６５～０１１１に記載された化合物、特許第６３０１４８９号公報に記載された化合物、ＭＡＴＥＲＩＡＬ　ＳＴＡＧＥ　３７～６０ｐ，ｖｏｌ．１９，Ｎｏ．３，２０１９に記載されたパーオキサイド系光重合開始剤、国際公開第２０１８／２２１１７７号に記載の光重合開始剤、国際公開第２０１８／１１０１７９号に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４３８６４号公報に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４４０３０号公報に記載の光重合開始剤、特開２０１９－１６７３１３号公報に記載の過酸化物系開始剤、特開２０２０－０５５９９２号公報に記載のオキサゾリジン基を有するアミノアセトフェノン系開始剤、特開２０１３－１９０４５９号公報に記載のオキシム系光重合開始剤、特開２０２０－１７２６１９号公報に記載の重合体、国際公開第２０２０／１５２１２０号に記載の式１で表される化合物、特開２０２１－１８１４０６号公報に記載の化合物、特開２０２２－０１３３７９号公報に記載の光重合開始剤、特開２０２２－０１５７４７号公報に記載の式（１）で表される化合物、特表２０２１－５０７０５８号公報に記載のフッ素含有フルオレンオキシムエステル系光開始剤、中国特許出願公開第１１０７６４３６７号明細書に記載の開始剤、特表２０２２－５１８５３５号公報に記載の開始剤、国際公開第２０２１／１７５８５５号に記載の開始剤などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　ヘキサアリールビイミダゾール化合物の具体例としては、２，２’，４－トリス（２－クロロフェニル）－５－（３，４－ジメトキシフェニル）－４，５－ジフェニル－１，１’－ビイミダゾールなどが挙げられる。
　α－ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　１８４、Ｏｍｎｉｒａｄ　１１７３、Ｏｍｎｉｒａｄ　２９５９、Ｏｍｎｉｒａｄ　１２７（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１１７３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　２９５９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。α－アミノケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　９０７、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９Ｅ、Ｏｍｎｉｒａｄ　３７９ＥＧ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　９０７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９Ｅ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　８１９、Ｏｍｎｉｒａｄ　ＴＰＯ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　８１９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
　オキシム化合物としては、国際公開第２０２２／０８５４８５号の段落番号０１４２に記載の化合物、特許第５４３０７４６号に記載の化合物、特許第５６４７７３８号に記載の化合物、特開２０２１－１７３８５８号公報の一般式（１）で表される化合物や段落００２２から００２４に記載の化合物、特開２０２１－１７００８９号公報の一般式（１）で表される化合物や段落０１１７から０１２０に記載の化合物などが挙げられる。オキシム化合物の具体例としては、３－ベンゾイルオキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－３－シクロヘキシル－プロパン－１，２－ジオン－２－（Ｏ－アセチルオキシム）などが挙げられる。市販品としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０２、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０１、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４、ＴＲ－ＰＢＧ－３２７（ＴＲＯＮＬＹ社製）、アデカオプトマーＮ－１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２－０１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）が挙げられる。また、オキシム化合物としては、着色性が無い化合物や、透明性が高く変色し難い化合物を用いることも好ましい。市販品としては、アデカアークルズＮＣＩ－７３０、ＮＣＩ－８３１、ＮＣＩ－９３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。
　光重合開始剤としては、フルオレン環を有するオキシム化合物、カルバゾール環の少なくとも１つのベンゼン環がナフタレン環となった骨格を有するオキシム化合物、フッ素原子を有するオキシム化合物、ニトロ基を有するオキシム化合物、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物、カルバゾール骨格にヒドロキシ基を有する置換基が結合したオキシム化合物、国際公開第２０２２／０８５４８５号の段落０１４３～０１４９に記載の化合物を用いることもできる。
　本発明において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
　オキシム化合物は、波長３５０～５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、波長３６０～４８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物の波長３６５ｎｍ又は波長４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、高いことが好ましく、１０００～３０００００であることがより好ましく、２０００～３０００００であることが更に好ましく、５０００～２０００００であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ－５　ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。
　光重合開始剤としては、２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤を用いてもよい。そのような光ラジカル重合開始剤を用いることにより、光ラジカル重合開始剤の１分子から２つ以上のラジカルが発生するため、良好な感度が得られる。また、非対称構造の化合物を用いた場合においては、結晶性が低下して溶剤などへの溶解性が向上して、経時で析出しにくくなり、組成物の経時安定性を向上させることができる。２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤の具体例としては、国際公開第２０２２／０６５２１５号の段落０１４８に記載の化合物が挙げられる。
　光重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分中０．１～４０質量％が好ましく、０．５～３５質量％がより好ましく、１～３０質量％が更に好ましい。組成物は光重合開始剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜硬化剤＞＞
　本発明の組成物が環状エーテル基を有する化合物を含む場合、硬化剤をさらに含むことが好ましい。硬化剤としては、例えばアミン系化合物、酸無水物系化合物、アミド系化合物、フェノール化合物、多価カルボン酸、チオール化合物などが挙げられる。硬化剤の具体例としては、コハク酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、Ｎ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）などが挙げられる。硬化剤は、特開２０１６－０７５７２０号公報の段落番号００７２～００７８に記載の化合物、特開２０１７－０３６３７９号公報に記載の化合物を用いることもできる。硬化剤の含有量は、環状エーテル基を有する化合物の１００質量部に対し、０．０１～２０質量部が好ましく、０．０１～１０質量部がより好ましく、０．１～６．０質量部がさらに好ましい。
＜＜有彩色着色剤＞＞
　本発明の組成物は、有彩色着色剤を含有することができる。有彩色着色剤としては、赤色着色剤、緑色着色剤、青色着色剤、黄色着色剤、紫色着色剤およびオレンジ色着色剤が挙げられる。有彩色着色剤は、顔料であってもよく、染料であってもよい。顔料と染料とを併用してもよい。また、顔料は、無機顔料、有機顔料のいずれでもよい。また、顔料には、無機顔料または有機－無機顔料の一部を有機発色団で置換した材料を用いることもできる。無機顔料や有機－無機顔料を有機発色団で置換することで、色相設計をしやすくできる。
　顔料の平均一次粒子径は、１～２００ｎｍが好ましい。下限は５ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましい。上限は、１８０ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以下が更に好ましい。なお、本明細書において、顔料の一次粒子径は、顔料の一次粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた画像写真から求めることができる。具体的には、顔料の一次粒子の投影面積を求め、それに対応する円相当径を顔料の一次粒子径として算出する。また、本明細書における平均一次粒子径は、４００個の顔料の一次粒子についての一次粒子径の算術平均値とする。また、顔料の一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
　有彩色着色剤は、顔料を含むものであることが好ましい。有彩色着色剤中における顔料の含有量は、５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上であることが更に好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。顔料としては以下に示すものが挙げられる。
　カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１，２，３，４，５，６，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２０，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，８６，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２５，１２６，１２７，１２８，１２９，１３７，１３８，１３９，１４７，１４８，１５０，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９３，１９４，１９９，２１３，２１４，２１５，２２８，２３１，２３２（メチン系），２３３（キノリン系），２３４（アミノケトン系），２３５（アミノケトン系），２３６（アミノケトン系）等（以上、黄色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｏｒａｎｇｅ　２，５，１３，１６，１７：１，３１，３４，３６，３８，４３，４６，４８，４９，５１，５２，５５，５９，６０，６１，６２，６４，７１，７３等（以上、オレンジ色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　１，２，３，４，５，６，７，９，１０，１４，１７，２２，２３，３１，３８，４１，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５２：１，５２：２，５３：１，５７：１，６０：１，６３：１，６６，６７，８１：１，８１：２，８１：３，８３，８８，９０，１０５，１１２，１１９，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１５０，１５５，１６６，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１６，２２０，２２４，２２６，２４２，２４６，２５４，２５５，２６４，２６９，２７０，２７２，２７９，２９１，２９４（キサンテン系、Ｏｒｇａｎｏ　Ｕｌｔｒａｍａｒｉｎｅ、Ｂｌｕｉｓｈ　Ｒｅｄ），２９５（モノアゾ系），２９６（ジアゾ系），２９７（アミノケトン系）等（以上、赤色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　７，１０，３６，３７，５８，５９，６２，６３，６４（フタロシアニン系），６５（フタロシアニン系），６６（フタロシアニン系）等（以上、緑色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　１，１９，２３，２７，３２，３７，４２，６０（トリアリールメタン系），６１（キサンテン系）等（以上、紫色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１，２，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，２２，２９，６０，６４，６６，７９，８０，８７（モノアゾ系），８８（メチン系）等（以上、青色顔料）。
　緑色着色剤として、１分子中のハロゲン原子数が平均１０～１４個であり、臭素原子数が平均８～１２個であり、塩素原子数が平均２～５個であるハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／１１８７２０号に記載の化合物が挙げられる。また、緑色着色剤として国際公開第２０２２／０８５４８５号の段落番号００２９に記載の化合物、特開２０２０－０７０４２６号公報に記載のアルミニウムフタロシアニン化合物、特表２０２０－５０４７５８号公報に記載のジアリールメタン化合物などを用いることもできる。
　青色着色剤として、リン原子を有するアルミニウムフタロシアニン化合物を用いることもできる。具体例としては、特開２０１２－２４７５９１号公報の段落番号００２２～００３０、特開２０１１－１５７４７８号公報の段落番号００４７に記載の化合物が挙げられる。
　黄色着色剤として、国際公開第２０２２／０８５４８５号の段落番号００３１～００３３に記載の化合物、特開２０１９－０７３６９５号公報に記載のメチン染料、特開２０１９－０７３６９６号公報に記載のメチン染料を用いることができる。
　赤色着色剤として、国際公開第２０２２／０８５４８５号の段落番号００３４に記載の化合物、特開２０２０－０８５９４７号公報に記載の臭素化ジケトピロロピロール化合物を用いることもできる。
　有彩色着色剤には染料を用いることもできる。染料としては特に制限はなく、公知の染料を使用できる。例えば、ピラゾールアゾ系染料、アニリノアゾ系染料、トリアリールメタン系染料、アントラキノン系染料、アントラピリドン系染料、ベンジリデン系染料、オキソノール系染料、ピラゾロトリアゾールアゾ系染料、ピリドンアゾ系染料、シアニン系染料、フェノチアジン系染料、ピロロピラゾールアゾメチン系染料、キサンテン系染料、フタロシアニン系染料、ベンゾピラン系染料、インジゴ系染料、ピロメテン系染料等が挙げられる。また、染料には、特開２０１２－１５８６４９号公報に記載のチアゾール化合物、特開２０１１－１８４４９３号公報に記載のアゾ化合物、特開２０１１－１４５５４０号公報に記載のアゾ化合物を用いることもできる。
　有彩色着色剤として、韓国公開特許第１０－２０２０－００２８１６０号公報に記載されたトリアリールメタン染料ポリマー、特開２０２０－１１７６３８号公報に記載のキサンテン化合物、国際公開第２０２０／１７４９９１号に記載のフタロシアニン化合物、特開２０２０－１６０２７９号公報に記載のイソインドリン化合物又はそれらの塩、韓国公開特許第１０－２０２０－００６９４４２号公報に記載の式１で表される化合物、韓国公開特許第１０－２０２０－００６９７３０号公報に記載の式１で表される化合物、韓国公開特許第１０－２０２０－００６９０７０号公報に記載の式１で表される化合物、韓国公開特許第１０－２０２０－００６９０６７号公報に記載の式１で表される化合物、韓国公開特許第１０－２０２０－００６９０６２号公報に記載の式１で表される化合物、特許第６８０９６４９号に記載のハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料、特開２０２０－１８０１７６号公報に記載のイソインドリン化合物、特開２０２１－１８７９１３号公報に記載のフェノチアジン系化合物、国際公開第２０２２／００４２６１号に記載のハロゲン化亜鉛フタロシアニン、国際公開第２０２１／２５０８８３号に記載のハロゲン化亜鉛フタロシアニン、韓国公開特許第１０－２０２０－００３０７５９号公報の式１で表されるキノフタロン化合物、韓国公開特許第１０－２０２０－００６１７９３号公報に記載の高分子染料、特開２０２２－０２９７０１号公報に記載の着色剤、国際公開第２０２２／０１４６３５号に記載のイソインドリン化合物、国際公開第２０２２／０２４９２６号に記載のアルミニウムフタロシアニン化合物、特開２０２２－０４５８９５号公報に記載の化合物、国際公開第２０２２／０５００５１号に記載の化合物を用いることもできる。有彩色着色剤は、ロタキサンであってもよく、色素骨格はロタキサンの環状構造に使用されていてもよく、棒状構造に使用されていてもよく、両方の構造に使用されていてもよい。
　本発明の組成物が、有彩色着色剤を含有する場合、組成物の全固形分中における有彩色着色剤の含有量は、１～５０質量％が好ましい。本発明の組成物が、有彩色着色剤を２種以上含む場合、それらの合計量が上記範囲内であることが好ましい。
　本発明の組成物を赤外線カットフィルタ用として用いる場合には、本発明の組成物は有彩色着色剤を実質的に含有しないことが好ましい。なお、本発明の組成物が有彩色着色剤を実質的に含有しない場合とは、組成物の全固形分中における有彩色着色剤の含有量が、０．５質量％以下であることを意味し、０．１質量％以下であることが好ましく、有彩色着色剤を含有しないことがより好ましい。
＜＜赤外線を透過させて可視光を遮光する色材＞＞
　本発明の組成物は、赤外線を透過させて可視光を遮光する色材（以下、可視光を遮光する色材ともいう）を含有することもできる。可視光を遮光する色材を含む組成物は、赤外線透過フィルタ形成用の組成物として好ましく用いられる。
　可視光を遮光する色材は、紫色から赤色の波長領域の光を吸収する色材であることが好ましい。また、可視光を遮光する色材は、波長４５０～６５０ｎｍの波長領域の光を遮光する色材であることが好ましい。また、可視光を遮光する色材は、波長９００～１５００ｎｍの光を透過させる色材であることが好ましい。可視光を遮光する色材は、以下の（Ａ）および（Ｂ）の少なくとも一方の要件を満たすことが好ましい。
（Ａ）：２種類以上の有彩色着色剤を含み、２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成している。
（Ｂ）：有機系黒色着色剤を含む。
　有彩色着色剤としては、上述したものが挙げられる。有機系黒色着色剤としては、例えば、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、アゾ化合物などが挙げられ、ビスベンゾフラノン化合物、ペリレン化合物が好ましい。ビスベンゾフラノン化合物としては、特表２０１０－５３４７２６号公報、特表２０１２－５１５２３３号公報、特表２０１２－５１５２３４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、ＢＡＳＦ社製の「Ｉｒｇａｐｈｏｒ　Ｂｌａｃｋ」として入手可能である。ペリレン化合物としては、特開２０１７－２２６８２１号公報の段落番号００１６～００２０に記載の化合物、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌａｃｋ　３１、３２などが挙げられる。アゾメチン化合物としては、特開平０１－１７０６０１号公報、特開平０２－０３４６６４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、大日精化社製の「クロモファインブラックＡ１１０３」として入手できる。
　２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成する場合の、有彩色着色剤の組み合わせとしては、例えば以下の（１）～（８）の態様が挙げられる。
（１）黄色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（２）黄色着色剤、青色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（３）黄色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（４）黄色着色剤および紫色着色剤を含有する態様。
（５）緑色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（６）紫色着色剤およびオレンジ色着色剤を含有する態様。
（７）緑色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（８）緑色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
　本発明の組成物が可視光を遮光する色材を含有する場合、組成物の全固形分中における可視光を遮光する色材の含有量は、１～５０質量％が好ましい。下限は５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましく、２０質量％以上であることが更に好ましく、３０質量％以上であることが特に好ましい。
　本発明の組成物を赤外線カットフィルタ用として用いる場合には、本発明の組成物は可視光を遮光する色材を実質的に含有しないことが好ましい。なお、本発明の組成物が可視光を遮光する色材を実質的に含有しない場合とは、組成物の全固形分中における可視光を遮光する色材の含有量が、０．５質量％以下であることを意味し、０．１質量％以下であることが好ましく、可視光を遮光する色材を含有しないことがより好ましい。
＜＜界面活性剤＞＞
　本発明の組成物は界面活性剤を含有することができる。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用することができる。界面活性剤はシリコーン系界面活性剤またはフッ素系界面活性剤であることが好ましい。界面活性剤については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２３８～０２４５に記載された界面活性剤を参照することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　フッ素系界面活性剤としては、国際公開第２０２２／０８５４８５号の段落番号０１６７～０１７３に記載の化合物を用いることができる。
　ノニオン系界面活性剤としては、国際公開第２０２２／０８５４８５号の段落０１７４に記載の化合物が挙げられる。
　シリコーン系界面活性剤としては、例えば、ＳＨ８４００、ＳＨ８４００　ＦＬＵＩＤ、ＦＺ－２１２２、６７　Ａｄｄｉｔｉｖｅ、７４　Ａｄｄｉｔｉｖｅ、Ｍ　Ａｄｄｉｔｉｖｅ、ＳＦ　８４１９　ＯＩＬ（以上、ダウ・東レ（株）製）、ＴＳＦ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６０００、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２、ＫＦ－６００３（以上、信越化学工業（株）製）、ＢＹＫ－３０７、ＢＹＫ－３２２、ＢＹＫ－３２３、ＢＹＫ－３３０、ＢＹＫ－３７６０、ＢＹＫ－ＵＶ３５１０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。シリコーン系界面活性剤には下記構造の化合物を用いることもできる。
　組成物の全固形分中における界面活性剤の含有量は、０．００１～１質量％が好ましく、０．００１～０．５質量％がより好ましく、０．００１～０．２質量％が更に好ましい。組成物は界面活性剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜重合禁止剤＞＞
　本発明の組成物は重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）が挙げられ、ｐ－メトキシフェノールが好ましい。組成物の全固形分中における重合禁止剤の含有量は、０．０００１～５質量％が好ましい。組成物は重合禁止剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜シランカップリング剤＞＞
　本発明の組成物はシランカップリング剤を含有することができる。シランカップリング剤は、加水分解性基を有するシラン化合物であることが好ましく、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物であることがより好ましい。加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応および縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物であることが好ましい。また、加水分解性基以外の官能基としては、例えば、ビニル基、スチリル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、フェニル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基およびエポキシ基が好ましい。シランカップリング剤は、特開２００９－２８８７０３号公報の段落番号００１８～００３６に記載の化合物、特開２００９－２４２６０４号公報の段落番号００５６～００６６に記載の化合物が挙げられる。組成物の全固形分中におけるシランカップリング剤の含有量は、０．０１～１５．０質量％が好ましく、０．０５～１０．０質量％がより好ましい。組成物はシランカップリング剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜紫外線吸収剤＞＞
　本発明の組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、共役ジエン化合物、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物、インドール化合物、トリアジン化合物、ジベンゾイル化合物などが挙げられる。このような化合物の具体例としては、特開２００９－２１７２２１号公報の段落番号００３８～００５２、特開２０１２－２０８３７４号公報の段落番号００５２～００７２、特開２０１３－０６８８１４号公報の段落番号０３１７～０３３４、特開２０１６－１６２９４６号公報の段落番号００６１～００８０、国際公開第２０２１／１３１３５５号の段落番号００５２、００７４、国際公開第２０２１／１３２２４７号の段落番号００２２～００２４に記載された化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。紫外線吸収剤の市販品としては、ＢＡＳＦ社製のＴｉｎｕｖｉｎシリーズ、Ｕｖｉｎｕｌ（ユビナール）シリーズなどが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としては、ミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）が挙げられる。紫外線吸収剤は、後述する実施例に記載の化合物、特許第６２６８９６７号公報の段落番号００４９～００５９、国際公開第２０１６／１８１９８７号の段落番号００５９～００７６に記載された化合物を用いることもできる。組成物の全固形分中における紫外線吸収剤の含有量は、０．０１～３０質量％が好ましく、０．０５～２５質量％がより好ましい。組成物は紫外線吸収剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜酸化防止剤＞＞
　本発明の組成物は、酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤などが挙げられる。フェノール系酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。フェノール系酸化防止剤は、フェノール性ヒドロキシ基に隣接する部位（オルト位）に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数１～２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましい。酸化防止剤は、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。リン系酸化防止剤としては、トリス［２－［［２，４，８，１０－テトラキス（１，１－ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－６－イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２－［（４，６，９，１１－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－２－イル）オキシ］エチル］アミン、亜リン酸エチルビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－６－メチルフェニル）、トリス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ホスファイトなどが挙げられる。酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブＡＯ－２０、アデカスタブＡＯ－３０、アデカスタブＡＯ－４０、アデカスタブＡＯ－５０、アデカスタブＡＯ－５０Ｆ、アデカスタブＡＯ－６０、アデカスタブＡＯ－６０Ｇ、アデカスタブＡＯ－８０、アデカスタブＡＯ－３３０、アデカスタブＡＯ－４１２Ｓ、アデカスタブ２１１２、アデカスタブＰＥＰ－３６、アデカスタブＨＰ－１０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＪＰ－６５０（城北化学工業（株）製）などが挙げられる。酸化防止剤は、特許第６２６８９６７号公報の段落番号００２３～００４８に記載された化合物、国際公開第２０１７／００６６００号に記載された化合物、国際公開第２０１７／１６４０２４号に記載された化合物、韓国公開特許第１０－２０１９－００５９３７１号公報に記載された化合物を使用することもできる。組成物の全固形分中における酸化防止剤の含有量は、０．０１～２０質量％であることが好ましく、０．３～１５質量％であることがより好ましい。組成物は酸化防止剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜その他成分＞＞
　本発明の組成物は、必要に応じて、増感剤、フィラー、熱硬化促進剤、可塑剤及びその他の助剤類（例えば、導電性粒子、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤、潜在酸化防止剤など）を含有してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、膜物性などの性質を調整することができる。これらの成分は、国際公開第２０２２／０８５４８５号の段落０１８２に記載の化合物を用いることができる。
＜収容容器＞
　本発明の組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収容容器として、国際公開第２０２２／０８５４８５号の段落０１８７に記載の容器を用いることができる。
＜組成物の調製方法＞
　本発明の組成物は、前述の成分を混合して調製できる。組成物の調製に際しては、全成分を同時に溶剤に溶解または分散して組成物を調製してもよいし、必要に応じては、各成分を適宜配合した２つ以上の溶液または分散液をあらかじめ調製し、使用時（塗布時）にこれらを混合して組成物として調製してもよい。
　組成物の調製に際して、顔料を分散させるプロセスを含んでいてもよい。顔料を分散させるプロセスにおいて、顔料の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、キャビテーションなどが挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、超音波分散などが挙げられる。またサンドミル（ビーズミル）における顔料の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくする事等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。また、粉砕処理後にろ過、遠心分離などで粗粒子を除去することが好ましい。また、顔料を分散させるプロセスおよび分散機は、「分散技術大全集、株式会社情報機構発行、２００５年７月１５日」や「サスペンション（固／液分散系）を中心とした分散技術と工業的応用の実際　総合資料集、経営開発センター出版部発行、１９７８年１０月１０日」、特開２０１５－１５７８９３号公報の段落番号００２２に記載のプロセス及び分散機を好適に使用出来る。また顔料を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて顔料の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、処理条件等は、例えば特開２０１５－１９４５２１号公報、特開２０１２－０４６６２９号公報の記載を参酌できる。分散に使用するビーズの素材としては、ジルコニア、メノウ、石英、チタニア、タングステンカーバイト、窒化ケイ素、アルミナ、ステンレス鋼およびガラスが挙げられる。また、ビーズには、モース硬度が２以上の無機化合物を使用することもできる。組成物中に上記ビーズが１～１００００ｐｐｍ含まれていてもよい。
　組成物の調製にあたり、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、組成物をフィルタでろ過することが好ましい。ろ過に用いるフィルタの種類およびろ過方法としては、国際公開第２０２２／０８５４８５号の段落番号０１９６～０１９９に記載のフィルタおよびろ過方法が挙げられる。
＜膜＞
　次に、本発明の膜について説明する。本発明の膜は、上述した本発明の組成物から得られるものである。本発明の膜は、光学フィルタとして好ましく用いることができる。光学フィルタの用途は、特に限定されないが、赤外線カットフィルタ、赤外線透過フィルタなどが挙げられる。赤外線カットフィルタとしては、例えば、固体撮像素子の受光側における赤外線カットフィルタ（例えば、ウエハーレベルレンズに対する赤外線カットフィルタ用など）、固体撮像素子の裏面側（受光側とは反対側）における赤外線カットフィルタ、環境光センサー用の赤外線カットフィルタ（例えば、情報端末装置が置かれた環境の照度や色調を感知してディスプレイの色調を調整する照度センサーや、色調を調整する色補正用センサー）などが挙げられる。特に、固体撮像素子の受光側における赤外線カットフィルタとして好ましく用いることができる。赤外線透過フィルタとしては、可視光を遮光し、特定の波長以上の赤外線を選択的に透過可能なフィルタが挙げられる。
　本発明の膜は、パターンを有していてもよく、パターンを有さない膜（平坦膜）であってもよい。また、本発明の膜は、支持体上に積層して用いてもよく、本発明の膜を支持体から剥離して用いてもよい。支持体としては、シリコン基板などの半導体基材や、透明基材が挙げられる。
　支持体として用いられる半導体基材上には、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、半導体基材上には、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されていてもよい。また、半導体基材上には、必要により、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下塗り層が設けられていてもよい。
　支持体として用いられる透明基材としては、少なくとも可視光を透過できる材料で構成されたものであれば特に限定されない。例えば、ガラス、樹脂などの材質で構成された基材が挙げられる。樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂等が挙げられる。ガラスとしては、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、銅を含有するガラスなどが挙げられる。銅を含有するガラスとしては、銅を含有する燐酸塩ガラス、銅を含有する弗燐酸塩ガラスなどが挙げられる。銅を含有するガラスは、市販品を用いることもできる。銅を含有するガラスの市販品としては、ＮＦ－５０（ＡＧＣテクノグラス（株）製）等が挙げられる。
　本発明の膜の厚さは、目的に応じて適宜調整できる。膜の厚さは２００μｍ以下とすることができ、１５０μｍ以下とすることもでき、１２０μｍ以下とすることもでき、２０μｍ以下とすることもでき、１０μｍ以下とすることもでき、５μｍ以下とすることもできる。膜の厚さの下限は０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましい。
　本発明の膜を赤外線カットフィルタとして用いる場合、本発明の膜は、波長６５０～１５００ｎｍ（好ましくは波長６６０～１２００ｎｍ、より好ましくは波長６６０～１０００ｎｍ）の範囲に極大吸収波長が存在することが好ましい。
　また、波長７００～７２０ｎｍの範囲における平均透過率は１０％以下であることが好ましく、７％以下であることがより好ましく、４％以下であることが更に好ましく、２％以下であることが特に好ましい。
　また、波長４２０～５５０ｎｍの範囲における平均透過率が８６％以上であることが好ましく、８９％以上であることがより好ましく、９２％以上であることが更に好ましく、９５％以上であることが特に好ましい。また、波長４２０～５５０ｎｍの全ての範囲での透過率は５０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることが更に好ましい。
　また、波長６５０～１５００ｎｍ（好ましくは波長６６０～１２００ｎｍ、より好ましくは波長６６０～１０００ｎｍ）の範囲の少なくとも１点での透過率が１０％以下であることが好ましく、７％以下であることがより好ましく、４％以下であることが更に好ましく、２％以下であることが特に好ましい。
　また、本発明の膜は、極大吸収波長における吸光度を１とした時、波長４２０～５５０ｎｍの範囲における平均吸光度が０．０３０未満であることが好ましく、０．０２５未満であることがより好ましい。
　本発明の膜を赤外線透過フィルタとして用いる場合、本発明の膜は、例えば、以下の（ｉ１）～（ｉ３）のいずれかの分光特性を有することが好ましい。
　（ｉ１）：波長４００～８５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１０００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。このような分光特性を有する膜は、波長４００～８５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長９５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　（ｉ２）：波長４００～９５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１１００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。このような分光特性を有する膜は、波長４００～９５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長１０５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　（ｉ３）：波長４００～１０５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１２００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。このような分光特性を有する膜は、波長４００～１０５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長１１５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　本発明の膜は、有彩色着色剤を含むカラーフィルタと組み合わせて用いることもできる。カラーフィルタは、有彩色着色剤を含む着色組成物を用いて製造できる。本発明の膜を赤外線カットフィルタとして用い、かつ、本発明の膜とカラーフィルタと組み合わせて用いる場合、本発明の膜の光路上にカラーフィルタが配置されていることが好ましい。例えば、本発明の膜とカラーフィルタとを積層して積層体として用いることが好ましい。積層体においては、本発明の膜とカラーフィルタとは、両者が厚み方向で隣接していてもよく、隣接していなくてもよい。本発明の膜とカラーフィルタとが厚み方向で隣接していない場合は、カラーフィルタが形成された支持体とは別の支持体上に、本発明の膜が形成されていてもよく、本発明の膜とカラーフィルタとの間に、固体撮像素子を構成する他の部材（例えば、マイクロレンズ、平坦化層など）が介在していてもよい。
　本発明の膜は、ＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）などの固体撮像素子や、赤外線センサ、画像表示装置などの各種装置に用いることができる。
＜膜の製造方法＞
　本発明の膜は、本発明の組成物を塗布する工程を経て製造できる。
　支持体としては、上述したものが挙げられる。組成物の塗布方法としては、スピンコート法などの公知の方法を用いることができる。例えば、国際公開第２０２２／０８５４８５号の段落番号０２０７に記載の塗布方法を用いることができる。
　組成物を塗布して形成した組成物層は、乾燥（プリベーク）してもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１１０℃以下が更に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができ、８０℃以上とすることもできる。プリベーク時間は、１０秒～３０００秒が好ましく、４０～２５００秒がより好ましく、８０～２２０秒が更に好ましい。乾燥は、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。
　膜の製造方法においては、更にパターンを形成する工程を含んでいてもよい。パターン形成方法としては、フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成方法や、ドライエッチング法を用いたパターン形成方法が挙げられ、フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成方法が好ましい。なお、本発明の膜を平坦膜として用いる場合には、パターンを形成する工程を行わなくてもよい。以下、パターンを形成する工程について詳細に説明する。
（フォトリソグラフィ法でパターン形成する場合）
　フォトリソグラフィ法でのパターン形成方法は、本発明の組成物を塗布して形成した組成物層に対しパターン状に露光する工程（露光工程）と、未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する工程（現像工程）と、を含むことが好ましい。必要に応じて、現像されたパターンをベークする工程（ポストベーク工程）を設けてもよい。以下、各工程について説明する。
　露光工程では組成物層をパターン状に露光する。例えば、組成物層に対し、ステッパー露光機やスキャナ露光機などを用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、パターン状に露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。
　露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等が挙げられる。また、波長３００ｎｍ以下の光（好ましくは波長１８０～３００ｎｍの光）を用いることもできる。波長３００ｎｍ以下の光としては、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ線（波長１９３ｎｍ）などが挙げられ、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）が好ましい。また、３００ｎｍ以上の長波な光源も利用できる。
　また、露光に際して、光を連続的に照射して露光してもよく、パルス的に照射して露光（パルス露光）してもよい。なお、パルス露光とは、短時間（例えば、ミリ秒レベル以下）のサイクルで光の照射と休止を繰り返して露光する方式の露光方法のことである。
　照射量（露光量）は、例えば、０．０３～２．５Ｊ／ｃｍ２が好ましく、０．０５～１．０Ｊ／ｃｍ２がより好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、または、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、または、５０体積％）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常１０００Ｗ／ｍ２～１０００００Ｗ／ｍ２（例えば、５０００Ｗ／ｍ２、１５０００Ｗ／ｍ２、または、３５０００Ｗ／ｍ２）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１００００Ｗ／ｍ２、酸素濃度３５体積％で照度２００００Ｗ／ｍ２などとすることができる。
　次に、露光後の組成物層における未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する。未露光部の組成物層の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが支持体上に残る。現像液の温度は、例えば、２０～３０℃が好ましい。現像時間は、２０～１８０秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、更に新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。
　現像液は、有機溶剤、アルカリ現像液などが挙げられ、アルカリ現像液が好ましく用いられる。現像液、および、現像後の洗浄（リンス）方法については、国際公開第２０２２／０８５４８５号の段落番号０２１４に記載の現像液や洗浄方法を用いることができる。
　現像後、乾燥を施した後に追加露光処理や加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。追加露光処理やポストベークは、硬化を完全なものとするための現像後の硬化処理である。ポストベークにおける加熱温度は、例えば１００～２４０℃が好ましく、２００～２４０℃がより好ましい。ポストベークは、現像後の膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。追加露光処理を行う場合、露光に用いられる光は、波長４００ｎｍ以下の光であることが好ましい。また、追加露光処理は、韓国公開特許第１０－２０１７－０１２２１３０号公報に記載された方法で行ってもよい。
（ドライエッチング法でパターン形成する場合）
　ドライエッチング法でのパターン形成は、上記組成物を支持体上に塗布して形成した組成物層を硬化して硬化物層を形成し、次いで、この硬化物層上にパターニングされたフォトレジスト層を形成し、次いで、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとして硬化物層に対してエッチングガスを用いてドライエッチングするなどの方法で行うことができる。フォトレジスト層の形成においては、プリベーク処理を施すことが好ましい。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開２０１３－０６４９９３号公報の段落番号００１０～００６７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
＜光学フィルタ＞
　本発明の光学フィルタは、上述した本発明の膜を有する。光学フィルタの種類としては、赤外線カットフィルタおよび赤外線透過フィルタなどが挙げられる。
　本発明の光学フィルタは、上述した本発明の膜の他に、更に、銅を含有する層、誘電体多層膜、紫外線吸収層などを有していてもよい。紫外線吸収層としては、例えば、国際公開第２０１５／０９９０６０号の段落番号００４０～００７０、０１１９～０１４５に記載された吸収層が挙げられる。誘電体多層膜としては、特開２０１４－０４１３１８号公報の段落番号０２５５～０２５９に記載された誘電体多層膜が挙げられる。銅を含有する層としては、銅を含有するガラスで構成されたガラス基板（銅含有ガラス基板）や、銅錯体を含む層（銅錯体含有層）を用いることもできる。銅含有ガラス基板としては、銅を含有する燐酸塩ガラス、銅を含有する弗燐酸塩ガラスなどが挙げられる。銅含有ガラスの市販品としては、ＮＦ－５０（ＡＧＣテクノグラス（株）製）、ＢＧ－６０、ＢＧ－６１（以上、ショット社製）、ＣＤ５０００（ＨＯＹＡ（株）製）等が挙げられる。
＜固体撮像素子＞
　本発明の固体撮像素子は、上述した本発明の膜を有する。固体撮像素子の構成としては、本発明の膜を有する構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はない。例えば、以下のような構成が挙げられる。
　支持体上に、固体撮像素子の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本発明の膜を有する構成である。更に、デバイス保護膜上であって、本発明の膜の下（支持体に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、本発明の膜上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、カラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各画素を形成する膜が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は各画素よりも低屈折率であることが好ましい。このような構造を有する撮像装置の例としては、特開２０１２－２２７４７８号公報、特開２０１４－１７９５７７号公報に記載された装置が挙げられる。
＜画像表示装置＞
　本発明の画像表示装置は、本発明の膜を有する。画像表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木昭夫著、（株）工業調査会、１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男編集、（株）工業調査会、１９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。画像表示装置は、白色有機ＥＬ素子を有するものであってもよい。白色有機ＥＬ素子としては、タンデム構造であることが好ましい。有機ＥＬ素子のタンデム構造については、特開２００３－０４５６７６号公報、三上明義監修、「有機ＥＬ技術開発の最前線－高輝度・高精度・長寿命化・ノウハウ集－」、技術情報協会、３２６～３２８ページ、２００８年などに記載されている。有機ＥＬ素子が発光する白色光のスペクトルは、青色領域（４３０～４８５ｎｍ）、緑色領域（５３０～５８０ｎｍ）及び黄色領域（５８０～６２０ｎｍ）に強い極大発光ピークを有するものが好ましい。これらの発光ピークに加え更に赤色領域（６５０～７００ｎｍ）に極大発光ピークを有するものがより好ましい。
＜赤外線センサ＞
　本発明の赤外線センサは、上述した本発明の膜を有する。赤外線センサの構成としては、赤外線センサとして機能する構成であれば特に限定はない。以下、本発明の赤外線センサの一実施形態について、図面を用いて説明する。
　図１において、符号１１０は、固体撮像素子である。固体撮像素子１１０の撮像領域上には、赤外線カットフィルタ１１１と、赤外線透過フィルタ１１４とが配置されている。また、赤外線カットフィルタ１１１上には、カラーフィルタ１１２が配置されている。カラーフィルタ１１２および赤外線透過フィルタ１１４の入射光ｈν側には、マイクロレンズ１１５が配置されている。マイクロレンズ１１５を覆うように平坦化層１１６が形成されている。
　赤外線カットフィルタ１１１は本発明の組成物を用いて形成することができる。カラーフィルタ１１２は、可視領域における特定波長の光を透過及び吸収する画素が形成されたカラーフィルタであって、特に限定はなく、従来公知の画素形成用のカラーフィルタを用いることができる。例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の画素が形成されたカラーフィルタなどが用いられる。例えば、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０２１４～０２６３の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。赤外線透過フィルタ１１４は、使用する赤外ＬＥＤの発光波長に応じてその特性が選択される。赤外線透過フィルタ１１４は本発明の組成物を用いて形成することができる。
　図１に示す赤外線センサにおいて、平坦化層１１６上には、赤外線カットフィルタ１１１とは別の赤外線カットフィルタ（他の赤外線カットフィルタ）が更に配置されていてもよい。他の赤外線カットフィルタとしては、銅を含有する層および／または誘電体多層膜を有するものなどが挙げられる。これらの詳細については、上述したものが挙げられる。また、他の赤外線カットフィルタとしては、デュアルバンドパスフィルタを用いてもよい。
＜カメラモジュール＞
　本発明のカメラモジュールは、上述した本発明の膜を有する。カメラモジュールの構成としては、本発明の膜を有する構成であり、カメラモジュールとして機能する構成であれば特に限定はない。例えば、カメラモジュールとしては、固体撮像素子、レンズ、及び、固体撮像素子から得られる撮像を処理する回路を有する構成が挙げられる。カメラモジュールに用いられるレンズ、及び、上記固体撮像素子から得られる撮像を処理する回路としては、公知のものを用いることができる。カメラモジュールの例としては、特開２０１６－００６４７６号公報、及び、特開２０１４－１９７１９０号公報に記載のカメラモジュールを参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
＜化合物、赤外線吸収剤＞
　本発明の化合物は上述した式（１）で表される化合物（特定化合物）である。また、本発明の赤外線吸収剤は、上述した式（１）で表される化合物（特定化合物）を含むものである。本発明の赤外線吸収剤は、上述した式（１）で表される化合物を１種のみ含むものであってもよく、２種以上含んでいてもよい。
　以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。なお、以下に示す構造式中、Ｍｅはメチル基であり、Ｅｔはエチル基であり、ｉＰｒはイソプロピル基である。
＜合成例＞
（合成例１）　化合物ＰＭ－ａ－４の合成
［ステップ１］
　特開２００９－０１９１４５号公報の段落番号０１１３～０１２１の記載を参考にして化合物１を合成した。
［ステップ２］
　国際公開第２０１２／０５４３６７号に記載の方法を参考にして、以下のスキームに従い化合物３を合成した。なお、ＤＭＦは、ジメチルホルムアミドである。
［ステップ３］
　ステップ１で得た化合物１（１７．８ｇ、２ｍｍｏｌ）と、ステップ２で得た化合物３（９．２ｇ、４ｍｍｏｌ）を３００ｍｌのナスフラスコに入れ、１００ｍｌのピリジンに溶解させた後、少量のトリエチルアミンを加え１時間加熱還流させた。反応終了後、溶媒を濃縮した後、カラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ジクロロメタン）にて精製し固体を得た。得られた固体をヘキサン／ジクロロメタンにて再沈殿し、褐色固体（１．０ｇ、０．８ｍｍｏｌ、収率４１％）を単離した。
　得られた褐色固体をＭＳおよび１９Ｆ　ＮＭＲ（核磁気共鳴分析）により同定し、化合物ＰＭ－ａ－４であることを確認した。
　ＭＳ（Ｍａｓｓ　ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）：ｍ／ｚ＝６０９．４７［Ｍ－Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４）］＋
　１９Ｆ－ＮＭＲ（フッ素１９核磁気共鳴）にて、Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４）由来の以下のピークを確認した。
　－１３２．４ｐｐｍ（２Ｆ），－１６３．２ｐｐｍ（１Ｆ），－１６６．８ｐｐｍ（２Ｆ）
＜組成物の製造＞
　下記表に記載の成分を、それぞれ下記表に記載の質量部で混合し、撹拌したのち、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、組成物を製造した。 
　上記表に記載の素材の詳細は以下の通りである。
（赤外線吸収剤）
　ＰＭ－ａ－１～ＰＭ－ａ－２５、ＰＭ－ｂ－１～ＰＭ－ｂ－１５、ＰＭ－ｃ－１～ＰＭ－ｃ－１５、ＰＭ－ｄ－１～ＰＭ－ｄ－１５、ＰＭ－ｅ－１～ＰＭ－ｅ－１５：上述した特定化合物の具体例で示した化合物ＰＭ－ａ－１～ＰＭ－ａ－２５、ＰＭ－ｂ－１～ＰＭ－ｂ－１５、ＰＭ－ｃ－１～ＰＭ－ｃ－１５、ＰＭ－ｄ－１～ＰＭ－ｄ－１５、ＰＭ－ｅ－１～ＰＭ－ｅ－１５
　ＰＭ－ｘ－１：下記構造の化合物（比較化合物）
　Ａ－１～Ａ－４：下記構造の化合物（スクアリリウム化合物）
　Ｂ－１～Ｂ－３：下記構造の化合物（フタロシアニン化合物）
（樹脂）
　Ｃ－１：特開２０２１－１３４３５０号公報の樹脂合成例１に記載の方法で合成した下記構造の樹脂（重量平均分子量１３７０００、数平均分子量３２０００、ガラス転移温度１６５℃）
　Ｃ－２：特開２０２１－１３４３５０号公報の樹脂合成例２に記載の方法で合成した下記構造の樹脂（重量平均分子量１８８０００、数平均分子量７５０００、ガラス転移温度２８５℃）
　Ｃ－３：特開２０２１－１３４３５０号公報の樹脂合成例３に記載の方法で合成した下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表す。ガラス転移温度３１０℃。対数粘度０．８７）
　Ｃ－４：アクリビュア（（株）日本触媒製、アクリル樹脂）
　Ｃ－５：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位の質量比を表す。重量平均分子量２６１００、数平均分子量８６００、エポキシ当量３５５ｇ／ｅｑ、酸価１６３ｍｇＫＯＨ／ｇ、ガラス転移温度１３３℃）
　Ｃ－６：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位の質量比を表す。重量平均分子量２２９００、数平均分子量８８００、エポキシ当量３１６ｇ／ｅｑ、酸価１３０ｍｇＫＯＨ／ｇ、ガラス転移温度１２４℃）
　Ｃ－７：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位の質量比を表す。重量平均分子量１８３００、数平均分子量９１００、エポキシ当量２８４ｇ／ｅｑ、酸価９８ｍｇＫＯＨ／ｇ、ガラス転移温度１３４℃）
　Ｃ－８：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位の質量比を表す。重量平均分子量２００００、数平均分子量８３００、エポキシ当量２８４ｇ／ｅｑ、酸価１３０ｍｇＫＯＨ／ｇ、ガラス転移温度１３６℃）
　Ｃ－９：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位の質量比を表す。重量平均分子量２１１００、数平均分子量８５００、エポキシ当量３５５ｇ／ｅｑ、酸価１５７ｍｇＫＯＨ／ｇ、ガラス転移温度１５７℃）
　Ｃ－１０：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位の質量比を表す。重量平均分子量９５００、数平均分子量５８００）
　Ｃ－１１：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位の質量比を表す。重量平均分子量２３７００、数平均分子量１０３００、エポキシ当量２８４ｇ／ｅｑ、ガラス転移温度８３℃）
　Ｃ－１２：ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５（ＤＩＣ（株）製、ノボラック型エポキシ樹脂）
　Ｃ－１３：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表す。重量平均分子量３００００、数平均分子量１５１００、酸価１１３ｍｇＫＯＨ／ｇ）
　Ｃ－１４：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位の重量比を表す。重量平均分子量９７００、数平均分子量５７００、酸価１３０ｍｇＫＯＨ／ｇ）
　Ｃ－１５：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位の重量比を表す。重量平均分子量１５１００、数平均分子量７０００、酸価１３６ｍｇＫＯＨ／ｇ）
　Ｃ－１６：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位の重量比を表す。重量平均分子量１７０００、数平均分子量７７００、酸価３２ｍｇＫＯＨ／ｇ）
　Ｃ－１７：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位の重量比を表す。重量平均分子量１６０００、数平均分子量５８００、酸価１０１ｍｇＫＯＨ／ｇ）
　Ｃ－１８：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表す。重量平均分子量１００００、数平均分子量３９００、酸価６９ｍｇＫＯＨ／ｇ）
（紫外線吸収剤）
　Ｄ－１：下記構造の化合物（ジクロロメタン中での吸収極大波長３９４ｎｍ）
　Ｄ－２：Ｕｖｉｎｕｌ３０５０（ＢＡＳＦ社製、下記構造の化合物）
　Ｄ－３：Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７（ＢＡＳＦ社製、ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤）
　Ｄ－４：Ｔｉｎｕｖｉｎ３２６（ＢＡＳＦ社製、下記構造の化合物）
　Ｄ－５：国際公開第２０２１／１３１３５５号に記載された化合物（２）－２２（下記構造の化合物）
　Ｄ－６：国際公開第２０２１／１３１３５５号に記載された化合物（１）－４６（下記構造の化合物）
　Ｄ－７：国際公開第２０２１／１３２２４７号に記載された化合物Ａ－１（下記構造の化合物）
　Ｄ－８：ＮｅｏＨｅｌｉｏｐａｎ３５７（Ｓｙｍｒｉｓｅ社製、下記構造の化合物）
　Ｄ－９：下記構造の化合物
（酸化防止剤）
　Ｅ－１：アデカスタブＡＯ－６０（（株）ＡＤＥＫＡ製、下記構造の化合物）
　Ｅ－２：アデカスタブＡＯ－８０（（株）ＡＤＥＫＡ製、下記構造の化合物）
　Ｅ－３：下記構造の化合物
　Ｅ－４：アデカスタブ２１１２（（株）ＡＤＥＫＡ製、下記構造の化合物）
　Ｅ－５：アデカスタブＰＥＰ－３６（（株）ＡＤＥＫＡ製、下記構造の化合物）
　Ｅ－６：アデカスタブＨＰ－１０（（株）ＡＤＥＫＡ製、下記構造の化合物）
　Ｅ－７：アデカスタブＡＯ－４１２Ｓ（（株）ＡＤＥＫＡ製、下記構造の化合物）
（溶剤）
　Ｆ－１：ジクロロメタン
　Ｆ－２：Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド
　Ｆ－３：シクロヘキサン
　Ｆ－４：キシレン
　Ｆ－５：シクロペンタノン
　Ｆ－６：シクロヘキサノン
　Ｆ－７：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
　Ｆ－８：プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）
（界面活性剤）
　Ｇ－１：ＦＴＸ－２１８Ｄ（ネオス社製、フッ素系界面活性剤）
　Ｇ－２：メガファックＦ－５５４（ＤＩＣ（株）製、フッ素系界面活性剤）
　Ｇ－３：ＫＦ－６００１（信越化学工業（株）製、シリコーン系界面活性剤）
　Ｇ－４：下記構造の化合物（重量平均分子量１４０００、繰り返し単位の割合を示す％の数値はモル％である）
（硬化剤）
　Ｈ－１：トリメリット酸
　Ｈ－２：２－エチル－４－メチルイミダゾール
　Ｈ－３：メチルテトラヒドロ無水フタル酸
（重合性化合物）
　Ｉ－１：ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物）
　Ｉ－２：ＫＡＹＡＲＡＤ　ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート）
　Ｉ－３：アロニックスＭ－５１０（東亞合成（株）製、多塩基酸変性アクリルオリゴマー）
（光重合開始剤）
　Ｊ－１：Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製、オキシムエステル化合物）
　Ｊ－２：国際公開第２０１７／１６９８１９号に記載された化合物Ｎｏ．１（下記構造の化合物）
　Ｊ－３：国際公開第２０１７／１６９８１９号に記載された化合物Ｎｏ．１０（下記構造の化合物）
　Ｊ－４：特開２０１９－１６８６５４号公報に記載された化合物Ｎｏ．５（下記構造の化合物）
　Ｊ－５：特開２０１９－１６８６５４号公報に記載された化合物Ｎｏ．７３（下記構造の化合物）
（重合禁止剤）
　Ｋ－１：ｐ－メトキシフェノール
（シランカップリング剤）
　Ｌ－１、Ｌ－２：下記構造の化合物
＜膜の製造＞
（製造例１）　実施例１～１１３、比較例１の組成物を用いた膜の製造方法
　各組成物を、ガラス基板上にキャストし、２０℃８時間乾燥した後、ガラス基板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの膜を得た。
（製造例２）　実施例２０１～３２３、比較例２の組成物を用いた膜の製造方法
　各組成物を、ガラス基板上にスピンコート法で塗布し、その後ホットプレートを用いて１００℃で２分間加熱し、次いで、２００℃で８分間加熱して硬化処理を行い、厚さ１０μｍの膜を得た。
（製造例３）　実施例４０１～５２８、比較例３の組成物を用いた膜の製造方法
　各組成物を、ガラス基板上にスピンコート法で塗布し、その後ホットプレートを用いて１００℃で２分間加熱して組成物層を得た。得られた組成物層を、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を用いて、５００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で全面露光した。次いで、露光後の組成物層に対してホットプレートを用いて２００℃で５分間加熱して硬化処理を行い、厚さ１．０μｍの膜を得た。
＜性能評価＞
（赤外線遮蔽性の評価）
　分光光度計Ｕ－４１００（（株）日立ハイテク製）を用いて、得られた膜の波長４００～１１００ｎｍの範囲における吸光度及び透過率を測定して、最大吸光度（Ａｂｓλｍａｘ）を示す波長（λｍａｘ）を測定し、以下の基準で赤外線遮蔽性を評価した。
　Ａ：λｍａｘ±１０ｎｍの範囲における平均透過率≦２％
　Ｂ：２％＜λｍａｘ±１０ｎｍの範囲における平均透過率≦４％
　Ｃ：４％＜λｍａｘ±１０ｎｍの範囲における平均透過率≦７％
　Ｄ：７％＜λｍａｘ±１０ｎｍの範囲における平均透過率≦１０％
　Ｅ：１０％＜λｍａｘ±１０ｎｍの範囲における平均透過率
（可視光透過性の評価）
　得られた膜の、波長４２０～５５０ｎｍの範囲における平均透過率を分光光度計Ｕ－４１００（（株）日立ハイテク製）を用いて測定し、以下の基準で可視光透過性を評価した。
　Ａ：波長４２０ｎｍ～５５０ｎｍの範囲における平均透過率≧９５％
　Ｂ：９２％≦波長４２０ｎｍ～５５０ｎｍの範囲における平均透過率＜９５％
　Ｃ：８９％≦波長４２０ｎｍ～５５０ｎｍの範囲における平均透過率＜９２％
　Ｄ：８６％≦波長４２０ｎｍ～５５０ｎｍの範囲における平均透過率＜８９％
　Ｅ：波長４２０ｎｍ～５５０ｎｍの範囲における平均透過率＜８６％
（耐光性の評価）
　得られた膜に対し、Ｘｅランプにて紫外線カットフィルタを通して５万ルクスの光を２０時間照射して耐光性試験を行い、色度計ＭＣＰＤ－１０００（大塚電子（株）製）にて、光の照射前後の色差のΔＥａｂ値を測定した。ΔＥａｂ値の小さい方が耐光性が良好であることを示す。なお、ΔＥａｂ値は、ＣＩＥ１９７６（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）空間表色系による以下の色差公式から求められる値である（日本色彩学会編　新編色彩科学ハンドブック（昭和６０年）ｐ．２６６）。
　ΔＥａｂ＝｛（ΔＬ＊）２＋（Δａ＊）２＋（Δｂ＊）２｝１／２
　Ａ：ΔＥａｂ値＜２．５
　Ｂ：２．５≦ΔＥａｂ値＜５
　Ｃ：５≦ΔＥａｂ値＜１０
　Ｄ：１０≦ΔＥａｂ値＜１５
　Ｅ：１５≦ΔＥａｂ値
（保存安定性の評価）
　各組成物を４５℃の恒温器で３日間保管した後、上記の膜の製造方法に従い膜を製造した。得られた膜について、走査型電子顕微鏡を用いて観察（測定倍率＝１００００倍）し、１０μｍ×１５μｍの範囲に存在する異物の数を測定して、以下の基準で保存安定性を評価した。
　Ａ：１０μｍ×１５μｍの範囲に異物が存在しない
　Ｂ：１０μｍ×１５μｍの範囲に存在する異物が０個を超え５０個以下
　Ｃ：１０μｍ×１５μｍの範囲に存在する異物が５０個を超え１００個以下
　Ｄ：１０μｍ×１５μｍの範囲に存在する異物が１００個を超え２００個以下
　Ｅ：１０μｍ×１５μｍの範囲に存在する異物が２００個を超える
　上記表に示すように、実施例は、比較例よりも可視光透過性、赤外線遮蔽性、耐光性および保存安定性の評価が優れていた。
　１１０：固体撮像素子、１１１：赤外線カットフィルタ、１１２：カラーフィルタ、１１４：赤外線透過フィルタ、１１５：マイクロレンズ、１１６：平坦化層

Claims (14)

  1. 　式（１）で表される化合物と、硬化性化合物と、溶剤と、を含む組成物；
    　式（１）中、Ｘ１およびＸ２は、それぞれ独立して酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子または－ＮＲＸ１－を表し、
    　ＲＸ１は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基またはアシル基を表し、
    　Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、複素環基、－ＳＲ４１、－ＳＯ２Ｒ４２、－ＯＳＯ２Ｒ４３、または、－ＮＲ４４Ｒ４５を表し、
    　Ｒ４１～Ｒ４３は、それぞれ独立してアルキル基、アリール基または複素環基を表し、
    　Ｒ４４およびＲ４５は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アシル基またはアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ４４とＲ４５は連結して環を形成していてもよく、
    　Ｒ３～Ｒ５、Ｒ１１～Ｒ１４、Ｒ２１～Ｒ２４、Ｒ３１およびＲ３２は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシルオキシ基、－ＳＲ５１、－ＳＯ２Ｒ５２、－ＯＳＯ２Ｒ５３、または、－ＮＲ５４Ｒ５５を表し、
    　Ｒ５１～Ｒ５３は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、
    　Ｒ５４およびＲ５５は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アシル基またはアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ５４とＲ５５は連結して環を形成していてもよく、
    　Ｒ３～Ｒ５、Ｒ１１～Ｒ１４、Ｒ２１～Ｒ２４は、隣り合う２つが互いに連結して員数５～８の環を形成していてもよく、
    　Ｒ３１とＲ３２は連結して員数５～８の環を形成していてもよく、
    　Ｒ１１とＲ３１は連結して員数５～８の環を形成していてもよく、
    　Ｒ２１とＲ３２は連結して員数５～８の環を形成していてもよく、
    　ｍおよびｎはそれぞれ独立して１～１０の整数を表し、
    　Ａ－はアニオンを表す。
  2. 　前記式（１）のｍおよびｎは、それぞれ独立して２または３である、請求項１に記載の組成物。
  3. 　前記式（１）のｍとｎは同じ整数である、請求項１または２に記載の組成物。
  4. 　前記式（１）のＸ１およびＸ２は、それぞれ独立して酸素原子または硫黄原子である、請求項１または２に記載の組成物。
  5. 　前記式（１）のＸ１およびＸ２は酸素原子である、請求項１または２に記載の組成物。
  6. 　更に、前記式（１）で表される化合物以外の赤外線吸収剤を含む、請求項１または２に記載の組成物。
  7. 　請求項１または２に記載の組成物を用いて得られる膜。
  8. 　請求項７に記載の膜を有する光学フィルタ。
  9. 　請求項７に記載の膜を有する固体撮像素子。
  10. 　請求項７に記載の膜を有する画像表示装置。
  11. 　請求項７に記載の膜を有する赤外線センサ。
  12. 　請求項７に記載の膜を有するカメラモジュール。
  13. 　式（１）で表される化合物；
    　式（１）中、Ｘ１およびＸ２は、それぞれ独立して酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子または－ＮＲＸ１－を表し、
    　ＲＸ１は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基またはアシル基を表し、
    　Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、複素環基、－ＳＲ４１、－ＳＯ２Ｒ４２、－ＯＳＯ２Ｒ４３、または、－ＮＲ４４Ｒ４５を表し、
    　Ｒ４１～Ｒ４３は、それぞれ独立してアルキル基、アリール基または複素環基を表し、
    　Ｒ４４およびＲ４５は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アシル基またはアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ４４とＲ４５は連結して環を形成していてもよく、
    　Ｒ３～Ｒ５、Ｒ１１～Ｒ１４、Ｒ２１～Ｒ２４、Ｒ３１およびＲ３２は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシルオキシ基、－ＳＲ５１、－ＳＯ２Ｒ５２、－ＯＳＯ２Ｒ５３、または、－ＮＲ５４Ｒ５５を表し、
    　Ｒ５１～Ｒ５３は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、
    　Ｒ５４およびＲ５５は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アシル基またはアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ５４とＲ５５は連結して環を形成していてもよく、
    　Ｒ３～Ｒ５、Ｒ１１～Ｒ１４、Ｒ２１～Ｒ２４は、隣り合う２つが互いに連結して員数５～８の環を形成していてもよく、
    　Ｒ３１とＲ３２は連結して員数５～８の環を形成していてもよく、
    　Ｒ１１とＲ３１は連結して員数５～８の環を形成していてもよく、
    　Ｒ２１とＲ３２は連結して員数５～８の環を形成していてもよく、
    　ｍおよびｎはそれぞれ独立して１～１０の整数を表し、
    　Ａ－はアニオンを表す。
  14. 　請求項１３に記載の化合物を含む赤外線吸収剤。
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